JP2006007434A - Antireflection film laminate and its manufacturing method - Google Patents

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伸一 茶圓
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film laminate suitable for transfer being a thin film and not necessarily requiring a base material film for a support. <P>SOLUTION: This manufacturing method of the antireflection film laminate is composed of a process for coating a release film (A) with a radical curable composition for an antireflection layer to form a radical curable antireflection layer, a process for coating the antireflection layer with a composition for a hard coat layer to form the hard coat layer and a process for performing the radical curing of the radical curable composition for the antireflection layer. The antireflection film laminate is formed by laminating the hard coat layer under the antireflection layer and constituted so that the non-antireflection layer of the hard coat layer is freely transferred to an article to be subjected to antireflection treatment. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、反射防止膜を転写により形成することができる積層体およびその積層体の製造法に関する。   The present invention relates to a laminate in which an antireflection film can be formed by transfer, and a method for producing the laminate.

反射防止膜はテレビやOA機器のモニター、携帯電話などの移動通信装置の画面、窓、自動車のガラスなどの光の映り込みを防止するために、それらの機器の最外層の膜として形成されており、反射防止膜とその下層のハードコート層の屈折率の差と膜厚により反射防止効果を達成している。   The anti-reflective coating is formed as the outermost layer of these devices in order to prevent the reflection of light on the screens of mobile communication devices such as televisions and office automation equipment, mobile phones, windows, and automobile glass. The antireflection effect is achieved by the difference in refractive index and the film thickness between the antireflection film and the hard coat layer below it.

こうした反射防止膜の形成法は、ガラス基材上に直接ハードコート層、反射防止層を順次形成している方法と、反射防止膜用の積層体を別途作製したフィルムをガラス基材などに転写する方法に大別される。   The antireflection film can be formed by directly forming a hard coat layer and an antireflection layer on the glass substrate, or transferring a film prepared separately for the antireflection film to a glass substrate. It is roughly divided into how to do.

後者の転写法では、通常、最外層表面側から離型フィルム、反射防止層、ハードコート層、基材フィルム(補強層)、さらに要すれば粘着層という積層構造のフィルムをガラス等の基材に密着させ、離型フィルムを剥離することにより反射防止膜を形成している。   In the latter transfer method, a laminated film such as a release film, an antireflection layer, a hard coat layer, a base film (reinforcing layer) and, if necessary, an adhesive layer is usually used from the outermost surface side to a base material such as glass. The antireflection film is formed by closely adhering to the film and peeling the release film.

この場合、反射防止層は低屈折率の樹脂層であり、通常、ラジカル反応により樹脂を硬化させて形成している。場合によっては、ハードコート層もラジカル硬化性の組成物を使用する。   In this case, the antireflection layer is a resin layer having a low refractive index, and is usually formed by curing the resin by a radical reaction. In some cases, the hard coat layer also uses a radical curable composition.

転写用の反射防止膜積層体は、通常、厚さ25〜1000μm程度の基材フィルム(PETフィルム)上にハードコート層を厚さ1〜10μm程度に形成し、ついで反射防止層を厚さ50〜150nmに塗布し、硬化系に応じて紫外線などの活性エネルギー線の照射や加熱をし、反射防止層を硬化させた後、離型フィルムを貼付して製造している。   In the antireflection film laminate for transfer, a hard coat layer is usually formed to a thickness of about 1 to 10 μm on a base film (PET film) having a thickness of about 25 to 1000 μm, and then the antireflection layer is formed to a thickness of 50. The film is applied to ˜150 nm, irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays or heated in accordance with the curing system to cure the antireflection layer, and then a release film is applied to manufacture.

しかし、こうして得られた転写用積層体は全体の膜厚が厚く、細かな凹凸のある面や曲面を有する構造体に貼付することが難しい。さらに、ハードコート層と反射防止層の密着性が不充分であるという課題もある。   However, the transfer laminate obtained in this way has a large overall film thickness, and it is difficult to affix it to a structure having a surface with fine irregularities or a curved surface. Further, there is a problem that the adhesion between the hard coat layer and the antireflection layer is insufficient.

そこで、特許文献1では、離型フィルム上に反射防止層を形成した積層体と、別途、基材フィルム上にハードコート層を形成した積層体を反射防止層とハードコート層とでラミネートし、その後、電離放射線で反射防止層を硬化させる方法が提案されている。   Therefore, in Patent Document 1, a laminate in which an antireflection layer is formed on a release film and a laminate in which a hard coat layer is separately formed on a base film are laminated with an antireflection layer and a hard coat layer, Thereafter, a method of curing the antireflection layer with ionizing radiation has been proposed.

しかし、特許文献1の方法では、ハードコート層を支持するために充分な厚さの基材フィルムが必ず必要であり、膜厚が厚いことによる被転写表面の形状の制限は解消されていない。また、別々に形成した反射防止層とハードコート層のラミネート面の密着性が不充分で、離型フィルムを剥離するときに反射防止層表面が乱れることがある。   However, in the method of Patent Document 1, a substrate film having a sufficient thickness is necessarily required to support the hard coat layer, and the limitation on the shape of the transfer surface due to the large film thickness has not been solved. Further, the adhesion between the laminate surfaces of the antireflection layer and hard coat layer formed separately is insufficient, and the antireflection layer surface may be disturbed when the release film is peeled off.

特許第3369684号明細書Japanese Patent No. 3369684

本発明は、薄膜でかつ支持用の基材フィルムを必ずしも必要としない転写に好適な反射防止膜積層体を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the anti-reflective film laminated body suitable for the transfer which is a thin film and does not necessarily require the support base film.

すなわち本発明は、反射防止層の下にハードコート層が積層され、かつ該ハードコート層の非反射防止層側が、被反射防止処理物に転写自在に構成されてなる反射防止膜積層体に関する。   That is, the present invention relates to an antireflection film laminate in which a hard coat layer is laminated under an antireflection layer, and the non-antireflection layer side of the hard coat layer is configured to be transferred to an antireflection treatment product.

前記反射防止膜の上には、離型フィルム(A)が積層されていてもよいし、あるいは、さらに前記ハードコート層の非反射防止層側に離型フィルム(B)が積層されていてもよい。   A release film (A) may be laminated on the antireflection film, or a release film (B) may be further laminated on the non-reflection layer side of the hard coat layer. Good.

本発明はまた、離型フィルム(A)上に反射防止層用ラジカル硬化性組成物を塗布してラジカル硬化性反射防止層を形成する工程、該反射防止層上にハードコート層用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程、および該反射防止層用ラジカル硬化性組成物のラジカル硬化を行う工程からなる反射防止膜積層体の製造法に関する。   The present invention also includes a step of applying a radical curable composition for an antireflection layer on the release film (A) to form a radical curable antireflection layer, and a composition for a hard coat layer on the antireflection layer. The present invention relates to a method for producing an antireflection film laminate comprising a step of coating to form a hard coat layer and a step of radical curing of the radical curable composition for an antireflection layer.

この製造法において、前記ハードコート層用組成物を塗布する前に、ラジカル硬化性反射防止層を予備硬化させる工程を行うことが好ましい。   In this production method, it is preferable to perform a step of precuring the radical curable antireflection layer before applying the hard coat layer composition.

本発明によれば、細かな凹凸のある面にも貼付可能であり、しかも薄膜でも均質な反射防止膜を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an antireflection film that can be applied to a surface with fine irregularities and that is uniform even with a thin film.

本発明の転写用に好適な反射防止膜積層体は、反射防止層の下にハードコート層が積層され、かつ該ハードコート層の非反射防止層側が、被反射防止処理物に転写自在に構成されている。このように本発明の反射防止膜積層体は、従来、必須の層であった支持層がなく、ハードコート層を直接に被反射防止処理物に転写可能に構成したものである。   The antireflection film laminate suitable for transfer according to the present invention has a hard coat layer laminated under the antireflection layer, and the non-antireflection layer side of the hard coat layer can be transferred to an antireflection treatment object. Has been. As described above, the antireflection film laminate of the present invention does not have a support layer that has been an indispensable layer in the past, and is configured such that the hard coat layer can be directly transferred to an antireflection treatment product.

反射防止層およびハードコート層の材料および膜厚は従来のものが採用できる。これらについては、後述する製造法の中で説明する。   Conventional materials and film thicknesses for the antireflection layer and the hard coat layer can be employed. These will be described later in the manufacturing method.

本発明の積層体は、転写する前の層の表面に離型フィルム(A)、(B)を設けて保護してもよい。離型フィルムについても製造法の説明の中で詳述する。   The laminate of the present invention may be protected by providing release films (A) and (B) on the surface of the layer before transfer. The release film will also be described in detail in the description of the production method.

本発明の製造法は、
(I)離型フィルム(A)上に反射防止層用ラジカル硬化性組成物を塗布してラジカル硬化性反射防止層を形成する工程、
(II)該反射防止層上にハードコート層用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程、および
(III)該反射防止層用ラジカル硬化性組成物のラジカル硬化を行う工程
を含む。
The production method of the present invention comprises:
(I) a step of applying a radical curable composition for an antireflection layer on the release film (A) to form a radical curable antireflection layer;
(II) The process of apply | coating the composition for hard-coat layers on this antireflection layer and forming a hard-coat layer, and the process of performing the radical hardening of the radical curable composition for this (III) antireflection layer.

各工程について説明する。   Each step will be described.

ラジカル硬化性反射防止層形成工程(I)で使用する離型フィルム(A)としては、従来から使用されている樹脂フィルムも使用できるが、後述する低酸素雰囲気下でラジカル硬化反応を行うためには、実質的に酸素を透過しない樹脂フィルムが好ましく採用される。   As the release film (A) used in the radical curable antireflection layer forming step (I), a conventionally used resin film can be used, but in order to perform a radical curing reaction in a low oxygen atmosphere described later. A resin film that does not substantially transmit oxygen is preferably employed.

離型フィルム(A)は剥離後の反射防止層表面を平滑にするために、硬化後の反射防止層と容易に剥離できるものであって、平滑な表面を有するものを使用する。厚さは、通常10〜100μm程度である。離型フィルムの具体例は後述する。   In order to smooth the surface of the antireflection layer after peeling, the release film (A) can be easily peeled off from the cured antireflection layer and has a smooth surface. The thickness is usually about 10 to 100 μm. Specific examples of the release film will be described later.

かかる離型フィルム(A)上に反射防止層用ラジカル硬化性組成物を塗布してラジカル硬化性反射防止層を形成する。   On the release film (A), a radical curable composition for an antireflection layer is applied to form a radical curable antireflection layer.

反射防止層用ラジカル硬化性組成物としては、従来公知のラジカル硬化反応性の組成物が使用できる。その他、特願2003−355455号明細書に記載されている硬化性表面改質剤も使用可能である。   As the radical curable composition for the antireflection layer, a conventionally known radical curing reactive composition can be used. In addition, a curable surface modifier described in Japanese Patent Application No. 2003-355455 can also be used.

ラジカル硬化反応は、紫外線、X線、γ線、電子線などの活性エネルギー線により硬化を開始する活性エネルギー硬化反応であっても、公知のラジカル反応開始剤を用いて加熱により硬化を開始させる加熱硬化反応であってもよいが、基材の選択の幅や層の変性が少ない点から、活性エネルギー線硬化反応系が好ましい。   Even if the radical curing reaction is an active energy curing reaction in which curing is initiated by active energy rays such as ultraviolet rays, X-rays, γ-rays, and electron beams, heating is started by heating using a known radical reaction initiator. Although it may be a curing reaction, an active energy ray curing reaction system is preferable from the viewpoint of less selection of the substrate and less layer modification.

活性エネルギー線硬化反応系のラジカル硬化性組成物としては、活性エネルギー線硬化性樹脂と光硬化促進剤や光増感剤などとの組成物が好ましい。   The radical curable composition of the active energy ray curable reaction system is preferably a composition of an active energy ray curable resin and a photocuring accelerator or a photosensitizer.

活性エネルギー線硬化性樹脂としては、たとえば単官能アクリレート類、2官能アクリレート類、多官能アクリレート類、ポリエステルアクリレート類、ウレタンアクリレート類、エポキシアクリレート類、イミドアクリレート類などがあげられる。   Examples of the active energy ray-curable resin include monofunctional acrylates, bifunctional acrylates, polyfunctional acrylates, polyester acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, and imide acrylates.

光架橋剤としては、たとえばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリアリルイソシアヌレート,トリアリルシアヌレートなどの多官能モノマーのほか、ジペンタエリスリトール、ペンタヘキサアクリレートなどがあげられ、光開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類、アシルフォスフィンオキサイド類、O−アシルオキシム類などがあげられ、光増感剤としてはたとえばn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、メチルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアシル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノンなどがあげられる。   Examples of photocrosslinking agents include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and dipentaerythritol. In addition to polyfunctional monomers such as hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triallyl isocyanurate, triallyl cyanurate, dipentaerythritol, pentahexa Examples of the photoinitiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylthiura. Monosulfides, thioxanthones, acylphosphine oxides, O-acyloximes and the like. Examples of photosensitizers include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, methyldiethanolamine, 4-dimethylaminobenzoate. Examples include ethyl acetate, isoacyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, 4,4′-dimethylaminobenzophenone, and the like.

そのほか、添加剤として従来公知の反射防止膜形成用に用いられる添加剤を配合してもよい。   In addition, a conventionally known additive used for forming an antireflection film may be blended.

これらを有機溶媒に溶解または分散させて塗布用の組成物とし、離型フィルム(A)に塗布する。有機溶媒としては、ケトン系溶剤、酢酸エステル系溶剤、アルコール系溶剤など汎用溶剤が好ましく使用できる。なお、前述の特願2003−355455号明細書に記載されている硬化性表面改質剤はこうした汎用溶剤への溶解性に特に優れ、反射防止膜用の材料として好ましい。   These are dissolved or dispersed in an organic solvent to form a coating composition, which is applied to the release film (A). As the organic solvent, general-purpose solvents such as ketone solvents, acetate solvents and alcohol solvents can be preferably used. The curable surface modifier described in the above-mentioned Japanese Patent Application No. 2003-355455 is particularly excellent in solubility in such general-purpose solvents and is preferable as a material for an antireflection film.

離型フィルム(A)への塗布は、バーコート法、ロールコート法、ディップコート法、スピンコート法、リバースロールコート法、ダイレクトグラビア法、グラビアリバース法、リップコート法、マイクログラビア法などの方法により行うことができる。塗布量は、乾燥後の反射防止層の厚さが50〜150nm、さらには80〜120nmとなる量が好ましい。塗布後に要すれば乾燥工程を行ってもよい。   Application to the release film (A) is a bar coating method, roll coating method, dip coating method, spin coating method, reverse roll coating method, direct gravure method, gravure reverse method, lip coating method, micro gravure method, etc. Can be performed. The coating amount is preferably such that the thickness of the antireflection layer after drying is 50 to 150 nm, more preferably 80 to 120 nm. If necessary after application, a drying step may be performed.

また、ハードコート層形成工程(II)に先立ち、形成された未硬化の反射防止層を予備硬化させる工程(IA)を行ってもよい。この予備硬化工程(IA)を施すことにより、ハードコート層の形成時の影響を受けにくくなり、反射防止層の均質性や表面平滑性が保たれる点で望ましい。この予備硬化は組成物のラジカル硬化反応系に応じた硬化方法で行う。   Further, prior to the hard coat layer forming step (II), a step (IA) of precuring the formed uncured antireflection layer may be performed. By applying this pre-curing step (IA), it is difficult to be affected by the formation of the hard coat layer, and this is desirable in that the antireflection layer is kept homogeneous and surface smooth. This preliminary curing is performed by a curing method according to the radical curing reaction system of the composition.

予備硬化の程度(硬化度)は任意に選定してよいが、目安としては反射防止層が処理中に他の材料に付着したり、膜厚の均一性が損なわれたりしなくなる程度でよく、たとえば反射防止層におけるラジカル硬化性組成物の硬化サイトの5%以上、好ましくは20%以上が消費されるまで行うことが望ましい。ただし完全に硬化させるのは後述する硬化工程(III)であり、したがって硬化サイトは95%以上、好ましくは80%以上は残しておく。   The degree of pre-curing (curing degree) may be arbitrarily selected, but as a guideline, it is sufficient that the antireflection layer does not adhere to other materials during processing or the uniformity of film thickness is not impaired. For example, it is desirable to carry out until 5% or more, preferably 20% or more, of the curing site of the radical curable composition in the antireflection layer is consumed. However, it is the curing step (III) described later that completely cures, and therefore, the curing sites remain at 95% or more, preferably 80% or more.

活性エネルギー線硬化系では、完全硬化に必要な活性エネルギー線の線量の5〜80%、好ましくは10〜20%程度の線量を照射する。   In the active energy ray curing system, a dose of 5 to 80%, preferably about 10 to 20% of the dose of active energy rays necessary for complete curing is irradiated.

なお、硬化の程度は、IR分析において硬化サイトの特性吸収の強度で判断できる。その特性吸収が消失したときが完全硬化した状態である。   The degree of curing can be determined by the intensity of characteristic absorption at the curing site in IR analysis. When the characteristic absorption disappears, it is in a fully cured state.

つぎに、かくして形成された未硬化または不完全に予備硬化された反射防止層上にハードコート層用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程(II)を施す。   Next, the step (II) of forming the hard coat layer by applying the hard coat layer composition onto the thus formed uncured or incompletely precured antireflection layer is performed.

ハードコート層用組成物は、反射防止層の屈折率より高い樹脂からなる組成物であり、従来公知の組成物が使用できる。このハードコート層用組成物もラジカル硬化性であることが、硬度、機械的強度などに優れることから好ましい。具体的には比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコールなどの多官能化合物の(メタ)アクリレート類のオリゴマーまたはプレポリマーに、反応性希釈剤としてエチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドンなどの単官能モノマーを配合した活性エネルギー線硬化性組成物;ラウリルアクリレート、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテルなどが例示できる。活性エネルギー線硬化性組成物には、上記光架橋剤や光開始剤、光増感剤を配合することが好ましい。   The hard coat layer composition is a composition made of a resin having a refractive index higher than that of the antireflection layer, and a conventionally known composition can be used. It is preferable that this hard coat layer composition is also radically curable because of its excellent hardness, mechanical strength, and the like. Specifically, a relatively low molecular weight polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin, polyfunctional compound (meta ) Active energy ray-curable composition in which a monofunctional monomer such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone or the like is blended with an acrylate oligomer or prepolymer as a reactive diluent Examples: lauryl acrylate, 2-hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether and the like. The active energy ray-curable composition is preferably blended with the photocrosslinking agent, photoinitiator, or photosensitizer.

反射防止層への塗布は、バーコート法、ロールコート法、ディップコート法、スピンコート法、リバースロールコート法、ダイレクトグラビア法、グラビアリバース法、リップコート法、マイクログラビア法などの方法により行うことができる。塗布量は、乾燥後のハードコート層の厚さが1〜10μm、さらには4〜6μmとなる量が好ましい。塗布後に要すれば乾燥工程を行ってもよい。   Application to the antireflection layer should be performed by methods such as bar coating, roll coating, dip coating, spin coating, reverse roll coating, direct gravure, gravure reverse, lip coating, and micro gravure. Can do. The coating amount is preferably such that the thickness of the hard coat layer after drying is 1 to 10 μm, more preferably 4 to 6 μm. If necessary after application, a drying step may be performed.

かくして離型フィルム(A)+反射防止層+ハードコート層からなる積層体が形成される。   Thus, a laminate composed of the release film (A) + antireflection layer + hard coat layer is formed.

この構造を基本とする積層体に対して、ラジカル硬化反応を完了させる工程が工程(III)である。   The step of completing the radical curing reaction for the laminate based on this structure is step (III).

ラジカル硬化工程(III)の硬化反応は、前述したように活性エネルギー線硬化でもよいし、加熱処理でもよいが、前述の理由から活性エネルギー線硬化が好ましい。   The curing reaction in the radical curing step (III) may be active energy ray curing as described above, or may be heat treatment, but active energy ray curing is preferred for the reasons described above.

ところで、ラジカル硬化反応は、酸素の存在が硬化反応を阻害することが知られている。そこで、従来でも、硬化雰囲気を酸素濃度が低いものを使用して硬化を行っている。たとえば特開平11−268240号公報では、不活性ガス(実施例では窒素ガス)を充填した雰囲気下で硬化を行っている。   By the way, it is known that in the radical curing reaction, the presence of oxygen inhibits the curing reaction. Therefore, conventionally, curing is performed using a curing atmosphere having a low oxygen concentration. For example, in JP-A-11-268240, curing is performed in an atmosphere filled with an inert gas (nitrogen gas in the embodiment).

本発明では、反射防止層が離型フィルム(A)とハードコート層で挟まれているので、離型フィルム(A)として酸素を実質的に透過させない材料を使用することにより、空気中での硬化反応を行うことができ、工程的にも設備的にも有利である。   In the present invention, since the antireflection layer is sandwiched between the release film (A) and the hard coat layer, by using a material that does not substantially transmit oxygen as the release film (A), A curing reaction can be carried out, which is advantageous both in terms of process and equipment.

酸素を実質的に透過させないとは、硬化させる組成物中の酸素濃度を硬化(架橋)阻害を起こさない程度に保つことができればよく、高度の酸素不透過性までは要求されない。 たとえば、フィルムの形態であれば、酸素透過度(JIS K7126)が50,000cm3/m2・day・1atm(23℃、65%RH。以下同様)以下、また20,000cm3/m2・day・1atm以下、さらには5,000cm3/m2・day・1atm以下、特に1,000cm3/m2・day・1atm以下のものが好適である。下限は低い方がよいが、通常1cm3/m2・day・1atm以上が好ましい。 The fact that oxygen does not substantially permeate is only required to maintain the oxygen concentration in the composition to be cured to an extent that does not cause curing (crosslinking) inhibition, and does not require high oxygen impermeability. For example, in the form of a film, the oxygen permeability (JIS K7126) is 50,000 cm 3 / m 2 · day · 1 atm (23 ° C., 65% RH; the same applies hereinafter) or less, and 20,000 cm 3 / m 2 · Day · 1 atm or less, further 5,000 cm 3 / m 2 · day · 1 atm or less, particularly 1,000 cm 3 / m 2 · day · 1 atm or less are suitable. The lower limit is better, but usually 1 cm 3 / m 2 · day · 1 atm or more is preferable.

そうした酸素を実質的に透過させない離型フィルムの材料としては、具体的にはポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、トリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、(メタ)アクリロニトリル、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、低密度ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリプロピレン、エチレン/アルコール系共重合体などのほか、ポリテトラフルオロエチレン、テチトラフルオロエチレン/パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体、エチレン/テトラフルオロエチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレンなどのフッ素樹脂やフッ素ゴム;加熱硬化系の場合はアルミニウム蒸着フィルム、ポリイミド、尿素樹脂、上記フッ素樹脂などがあげられる。材料自体に離型性がない場合、これらのフィルムにシリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル−メラミン樹脂などの離型剤を塗布またはコーティングして離型性を付与すればよい。   Specific examples of the release film material that does not substantially transmit oxygen include polyester, polycarbonate, polysulfone, polyether, trimethylpentene, polyetherketone, (meth) acrylonitrile, triacetylcellulose, diacetylcellulose, acetate butyrate. Rate cellulose, polyethersulfone, polyacrylic resin, polyurethane resin, low density polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyamide, polypropylene, ethylene / alcohol copolymer, polytetrafluoroethylene, ethylene Trifluoroethylene / perfluoro (alkyl vinyl ether) copolymer, tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer, ethylene / tetrafluoroethylene copolymer, Rifu' fluoride, fluorine resin and fluorine rubber such as polychlorotrifluoroethylene; aluminum deposited film in the case of heat curing type, polyimide, urea resin, etc. The fluorine resin. If the material itself does not have releasability, a release agent such as silicone resin, fluororesin, or acrylic-melamine resin may be applied or coated on these films to impart releasability.

また、ハードコート層がラジカル硬化性の組成物で反射防止層と同時に硬化させるものである場合は、ハードコート層の外側を実質的に酸素を透過させない保護層で覆うことにより、酸素遮断下で硬化反応を行うことができる。   In addition, when the hard coat layer is a radical curable composition and is cured simultaneously with the antireflection layer, the outer surface of the hard coat layer is covered with a protective layer that does not substantially allow oxygen to pass through, thereby blocking oxygen. A curing reaction can be performed.

実質的に酸素を透過させない保護層の1例としては、離型フィルム(B)が例示できる。もちろんその他の樹脂フィルムや樹脂層なども例示でき、従来の基材(支持)フィルムに相当するもののうち、酸素を実質的に透過しないものも含まれるが、厚さは従来よりも大幅に薄くでき、10nm〜75μm程度でよい。もちろん、用途によっては従来のように厚いものでもよい。保護層としての離型フィルム(B)や樹脂フィルム、樹脂層は硬化反応のためだけでなく、補強用や粘着層としての役割を果たさせてもよい。実質的に酸素を透過させない保護層としての離型フィルム(B)や樹脂フィルム、樹脂層としては、上記実質的に酸素を透過させない離型フィルム(A)の材料が適宜使用できる。   A release film (B) can be illustrated as an example of the protective layer that does not substantially allow oxygen to permeate. Of course, other resin films, resin layers, etc. can be exemplified, and those corresponding to the conventional base (support) film include those that do not substantially permeate oxygen, but the thickness can be significantly thinner than before. It may be about 10 nm to 75 μm. Of course, depending on the application, it may be thick as in the prior art. The release film (B), the resin film, and the resin layer as the protective layer may serve not only for the curing reaction but also as a reinforcing layer or an adhesive layer. As the release film (B), the resin film, and the resin layer as a protective layer that does not substantially transmit oxygen, the material of the release film (A) that does not substantially transmit oxygen can be used as appropriate.

また、保護層は液体であってもよい。この場合、硬化反応の際だけに存在させておけばよく、反応後には容易に除去できる物質が好ましい。そうした酸素を実質的に透過させない液体としては、酸素飽和溶解度(溶存酸素質量/溶液質量)が1000ppm(25℃以下)であることが望ましく、たとえばフッ素オイル、ソルベントオイル、流動パラフィン類、高級アルコール類、多糖類、ゼラチンなどがあげられる。   The protective layer may be a liquid. In this case, a substance that can be present only during the curing reaction and can be easily removed after the reaction is preferable. Such a liquid that does not substantially permeate oxygen preferably has an oxygen saturation solubility (dissolved oxygen mass / solution mass) of 1000 ppm (25 ° C. or lower). For example, fluorine oil, solvent oil, liquid paraffins, higher alcohols , Polysaccharides, gelatin and the like.

さらにまた、硬化反応の間の一時的な酸素遮断のためであれば、酸素を実質的に透過させない材料を仮にハードコート層上に載置してもよい。そうした材料としては、酸素吸収剤が配合された各種不織布、織布、フェルト、ウェブなどがあげられる。これらは硬化工程後に取り除かれる。   Furthermore, for the purpose of temporarily blocking oxygen during the curing reaction, a material that does not substantially transmit oxygen may be temporarily placed on the hard coat layer. Examples of such materials include various nonwoven fabrics, woven fabrics, felts, webs, etc., which contain an oxygen absorbent. These are removed after the curing process.

なお、これらの保護層は硬化反応に関与しない材料であることが望ましい。したがって離型フィルム(A)、(B)および保護層は、活性エネルギー線硬化系であれば活性エネルギー線に透明であることが好ましく、加熱硬化系であれば耐熱性であることが好ましい。活性エネルギー線硬化系の場合は、活性エネルギー線の照射は、離型フィルム(A)側からでもハードコート層(離型フィルム(B)や保護層)側からでもよい。   These protective layers are desirably materials that do not participate in the curing reaction. Accordingly, the release films (A), (B) and the protective layer are preferably transparent to the active energy ray if they are active energy ray curable systems, and are preferably heat resistant if they are heat curable systems. In the case of an active energy ray curing system, the irradiation of active energy rays may be from the release film (A) side or from the hard coat layer (release film (B) or protective layer) side.

本発明においては、ハードコート層上または保護層(補強層)上に、粘着剤層、印刷層などを適宜形成してもよい。ハードコート層上または保護層が転写すべき物品の表面材料と親和性(密着性)がある場合は、粘着剤層を設けなくてもしっかりした密着性が得られる。   In the present invention, an adhesive layer, a printing layer, and the like may be appropriately formed on the hard coat layer or the protective layer (reinforcing layer). When the hard coat layer or the protective layer has an affinity (adhesion) with the surface material of the article to be transferred, firm adhesion can be obtained without providing an adhesive layer.

本発明における硬化工程(III)は、転写する前に行ってもよいし、転写後、反射防止膜を形成すべき物品に転写された状態で行ってもよい。   The curing step (III) in the present invention may be performed before the transfer, or may be performed after the transfer, in a state of being transferred to an article on which an antireflection film is to be formed.

なお、本発明の反射防止膜積層体は、上述のような製法に限らず、たとえば離型フィルム(B)上にハードコート層を形成し、該ハードコート層上に反射防止層を形成し、該ハードコート層上に離型フィルム(A)を形成することによって製造してもよい。   The antireflection film laminate of the present invention is not limited to the production method as described above, for example, a hard coat layer is formed on the release film (B), and an antireflection layer is formed on the hard coat layer, You may manufacture by forming a release film (A) on this hard-coat layer.

反射防止膜を形成すべき物品の基材としては、たとえばガラス基板や透明プラスチック基板、シリコンゴム製タッチパネルなどが例示できる。   Examples of the base material of the article on which the antireflection film is to be formed include a glass substrate, a transparent plastic substrate, and a silicon rubber touch panel.

活性エネルギー線硬化の場合の照射線量は、硬化性組成物の種類や層の厚さなどによって適宜選定すればよい。加熱による硬化の場合の条件は、硬化系(パーオキサイド系硬化、カチオン系硬化など)によって適宜選定すればよい。なお、予備硬化を行う場合については上述したとおりである。   What is necessary is just to select the irradiation dose in the case of active energy ray hardening suitably according to the kind of curable composition, the thickness of a layer, etc. The conditions for curing by heating may be appropriately selected depending on the curing system (peroxide curing, cationic curing, etc.). The case of performing preliminary curing is as described above.

転写方法としては、従来公知の転写法、たとえば真空圧縮成形法、カレンダー法などが採用できる。もちろん、技能さえあれば手作業でもよい。特に本発明によれば薄い貼付用の反射防止膜積層体が製造できるので、微細な凹凸がある物品、携帯電話の文字盤、レンズ、各種装置の操作パネルなどに対しても表面追随性が良好であり、反射防止機能はもとより、仕上げの外観にも優れている。   As a transfer method, a conventionally known transfer method such as a vacuum compression molding method or a calendar method can be employed. Of course, if you have the skill, you can do it manually. In particular, according to the present invention, it is possible to produce a thin antireflection film laminate for sticking, so surface followability is good even for articles with fine irregularities, cell phone dials, lenses, operation panels of various devices, etc. In addition to its anti-reflective function, it has an excellent finished appearance.

さらに転写後、離型フィルム(A)を剥離したときに生ずる可能性のある表面乱れは、たとえば前記特願2003−355455号明細書に記載されている硬化性表面改質剤などの表面改質剤を塗布することによって修復することができる。   Further, after the transfer, surface disturbance that may occur when the release film (A) is peeled off is, for example, surface modification such as a curable surface modifier described in Japanese Patent Application No. 2003-355455. It can be repaired by applying an agent.

つぎに本発明の製造法、さらには転写(反射防止膜の形成)までの工程の好ましい実施形態をいくつか示すが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。   Next, several preferred embodiments of the production method of the present invention and further steps up to transfer (formation of an antireflection film) will be shown, but the present invention is not limited to these embodiments.

実施形態1:
(1-1)離型フィルム(A)上に反射防止層を形成する。
(1-2)反射防止層を離型フィルム(A)の反対側から活性エネルギー線を照射して不完全に予備硬化させる。
(1-3)反射防止層上にハードコート層を形成する。
(1-4)ハードコート層上に保護用の離型フィルム(B)を貼付する。
(1-5)離型フィルム(B)側から活性エネルギー線を照射して反射防止層およびハードコート層を完全に硬化させる。
(1-6)離型フィルム(B)を取り除き、ハードコート層上に粘着剤層(要すれば剥離紙をさらに貼付してもよい)を形成して、粘着剤層側で物品(ガラス基材など)に貼り付け、離型フィルム(A)を剥離する。
Embodiment 1:
(1-1) An antireflection layer is formed on the release film (A).
(1-2) The antireflection layer is pre-cured incompletely by irradiating active energy rays from the opposite side of the release film (A).
(1-3) A hard coat layer is formed on the antireflection layer.
(1-4) A protective release film (B) is stuck on the hard coat layer.
(1-5) The active energy ray is irradiated from the release film (B) side to completely cure the antireflection layer and the hard coat layer.
(1-6) The release film (B) is removed, an adhesive layer (a release paper may be further attached if necessary) is formed on the hard coat layer, and an article (glass substrate) is formed on the adhesive layer side. The release film (A) is peeled off.

実施形態2:
(1-1)離型フィルム(B)上にハードコート層を形成する。
(1-2)ハードコート層上に反射防止層を形成する。
(1-3)反射防止層をハードコート層の反対側から活性エネルギー線を照射して不完全に予備硬化させる。
(1-4)反射防止層上に離型フィルム(A)を貼付する。
(1-5)離型フィルム(A)側から活性エネルギー線を照射して反射防止層およびハードコート層を完全に硬化させる。
(1-6)離型フィルム(B)を取り除き、ハードコート層上に粘着剤層(要すれば剥離紙をさらに貼付してもよい)を形成して、粘着剤層側で物品(ガラス基材など)に貼り付け、離型フィルム(A)を剥離する。
Embodiment 2:
(1-1) A hard coat layer is formed on the release film (B).
(1-2) An antireflection layer is formed on the hard coat layer.
(1-3) The antireflection layer is pre-cured incompletely by irradiating active energy rays from the opposite side of the hard coat layer.
(1-4) Affix the release film (A) on the antireflection layer.
(1-5) The active energy ray is irradiated from the release film (A) side to completely cure the antireflection layer and the hard coat layer.
(1-6) The release film (B) is removed, an adhesive layer (a release paper may be further attached if necessary) is formed on the hard coat layer, and an article (glass substrate) is formed on the adhesive layer side. The release film (A) is peeled off.

本発明の貼付用反射防止膜積層体は、たとえばつぎのような物品に反射防止機能や防汚機能を付与することができる。
家電製品:テレビ、電子レンジの窓、家電機器の各種表示板、外板部分の意匠的目的での反射防止など。
OA機器:各種モニター、センサー部分、操作パネル(ボタン)表面、外板部分の意匠的目的での反射防止など。
移動通信機器:携帯電話の液晶画面、操作ボタン表面、外板部分の意匠的目的での反射防止など。
建築関連:窓、看板、ショーウインドウガラス、カーブミラー、信号機レンズなど。
車両関連:自動車・電車のガラス、ドアミラー、メータパネル保護板・表示面など。
インテリア関連:鏡、ショーケース、ブラインド、壁面、天井、床面、家具の表面など。
エクステリア関連:ネオンサイン、門扉、シャッター、各種エクステリアの表面など。
光学機器:眼鏡のレンズ、各種のレンズ、センサー部など。
意匠表示物関連:看板、ネオンサイン、ショーウィンドウなど。
その他:時計の文字盤など。
The antireflection film laminate for sticking of the present invention can impart an antireflection function and an antifouling function to the following articles, for example.
Home appliances: TVs, microwave oven windows, various display boards for home appliances, anti-reflection for design purposes of the outer plate.
OA equipment: various monitors, sensor parts, operation panel (button) surface, antireflection for design purposes of the outer plate part, etc.
Mobile communication equipment: Anti-reflection for design purposes such as LCD screen of mobile phone, operation button surface, outer plate part.
Architectural: windows, signboards, show window glass, curved mirrors, traffic light lenses, etc.
Vehicle-related: Automobile / train glass, door mirrors, meter panel protection plates, display surfaces, etc.
Interior: mirrors, showcases, blinds, walls, ceilings, floors, furniture surfaces, etc.
Exterior related: Neon signs, gates, shutters, various exterior surfaces, etc.
Optical equipment: Eyeglass lenses, various lenses, sensor units, etc.
Design indications: Signboards, neon signs, show windows, etc.
Other: Clock face etc.

つぎに実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。   EXAMPLES Next, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited only to these examples.

実施例1
ポリ塩化ビニリデンフィルム(厚さ20μm、酸素透過度55cm3/m2・day・1atm:23℃−65%RH)に離型剤としてシリコーンオイルを塗布した離型フィルム(A)上に、スピンコーターによりつぎの反射防止層用の紫外線硬化性組成物を塗布し、20分間室温で乾燥した(膜厚107nm)。なお、膜厚は光学式膜厚計(FILMETRICS社製)を使用して測定した(以下、同様)。
Example 1
A spin coater on a release film (A) in which a silicone oil is applied as a release agent to a polyvinylidene chloride film (thickness 20 μm, oxygen permeability 55 cm 3 / m 2 · day · 1 atm: 23 ° C.-65% RH) Then, the next UV curable composition for the antireflection layer was applied and dried at room temperature for 20 minutes (film thickness 107 nm). The film thickness was measured using an optical film thickness meter (manufactured by FILMETRICS) (the same applies hereinafter).

(反射防止層用組成物)
官能基含有含フッ素樹脂(オプツールAR−110。ダイキン工業(株)製)に架橋剤(ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサ−アクリレート)と光開始剤(イルガキュア、商品名。チバスペシャリティケミカルズ社製)を混合し、メチルイソブチルケトンで固形分濃度を4質量%に調整したもの。
(Composition for antireflection layer)
Crosslinker (dipentaerythritol penta / hexa-acrylate) and photoinitiator (Irgacure, trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) mixed with functional group-containing fluorine-containing resin (OPTOOL AR-110, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) The solid content concentration is adjusted to 4% by mass with methyl isobutyl ketone.

ついで、高圧水銀灯(照度165mW/cm2)を用いて紫外線を200mJ/cm2照射して反射防止層を予備硬化した(なお、反射防止層を完全に硬化させる線量は1J/cm2である)。 Next, the antireflection layer was pre-cured by irradiating with an ultraviolet ray of 200 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp (illuminance 165 mW / cm 2 ) (the dose for completely curing the antireflection layer is 1 J / cm 2 ). .

この予備硬化した反射防止層上にハードコート層用組成物(アクリル樹脂系。旭電化工業(株)製のKRX−559)をバーコーターで塗布してハードコート層を形成した(厚さ5μm)。   A hard coat layer composition (acrylic resin-based KRX-559 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) was applied on the pre-cured antireflection layer with a bar coater to form a hard coat layer (thickness 5 μm). .

このハードコート層上に保護層としてポリエチレンテレフタレート(PET)製の離型フィルム(B1)(厚さ25μm、酸素透過度72cm3/m2・day・1atm:23℃−65%RH)を載せ、高圧水銀灯を用いて紫外線を2000mJ/cm2照射して反射防止層およびハードコート層を完全に硬化させて、反射防止膜積層体を作製した。 On this hard coat layer, a release film (B1) made of polyethylene terephthalate (PET) (thickness 25 μm, oxygen permeability 72 cm 3 / m 2 · day · 1 atm: 23 ° C.-65% RH) was placed as a protective layer, Using a high pressure mercury lamp, ultraviolet rays were irradiated at 2000 mJ / cm 2 to completely cure the antireflection layer and the hard coat layer, thereby producing an antireflection film laminate.

ついで、離型フィルム(B1)を取り除いた後、ハードコート層上に粘着剤を塗布し、真空圧縮成形装置により、表面が平滑でないポリカーボネート製の成形体表面に積層体を貼付したところ、表面の凹凸にきれいに沿って貼付されていた。   Next, after removing the release film (B1), a pressure-sensitive adhesive was applied onto the hard coat layer, and the laminate was affixed to the surface of a polycarbonate molded body having a non-smooth surface using a vacuum compression molding apparatus. It was affixed along the irregularities cleanly.

貼付した積層体から離型フィルム(A)を剥離し、最外層となった反射防止層につき、以下の特性を調べた。結果を表1に示す。
(1)対水接触角
協和界面科学(株)製のCA−DT・A型接触角計で測定する。
(2)表面硬度
JIS K5400に従い、鉛筆硬度を測定する。
(3)ヘイズ値
初期および磨耗試験後(ヘイドン磨耗計にスチールウールを取り付け、200g/cm2の荷重で反射防止層上を30往復させる)のヘイズ値をJIS K7105に準拠したヘイズメータにより測定する。
(4)硬化度
使用した架橋剤のC=C二重結合の特性吸収(1647〜1640cm-1)の吸光強変化をIR分光光度計で分析し、架橋剤の消費量割合から硬化度(架橋度)を算出する。なお、反射防止層の予備硬化前(20分間乾燥した時点)の吸光度を100%とする。
The release film (A) was peeled from the stuck laminate, and the following characteristics were examined for the antireflection layer that was the outermost layer. The results are shown in Table 1.
(1) Contact angle with water Measured with a CA-DT • A contact angle meter manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.
(2) Surface hardness Pencil hardness is measured according to JIS K5400.
(3) Haze value The haze value at the initial stage and after the abrasion test (with steel wool attached to the Haydon abrasion meter and reciprocating 30 times on the antireflection layer with a load of 200 g / cm 2 ) is measured with a haze meter according to JIS K7105.
(4) Curing degree The change in absorption intensity of the characteristic absorption (1647 to 1640 cm −1 ) of the C═C double bond of the used crosslinking agent was analyzed with an IR spectrophotometer, and the curing degree (crosslinking was calculated from the consumption ratio of the crosslinking agent. Degree). The absorbance before pre-curing of the antireflection layer (when dried for 20 minutes) is 100%.

実施例2
反射防止層の膜厚を113nmとし、離型フィルム(B)として(PE)製の離型フィルム(B2)(厚さ25μm、酸素透過度13,000cm3/m2・day・1atm:23℃−65%RH)を用いたほかは実施例1と同様にして本発明の積層体を作製し、実施例1と同様にして特性を調べた。結果を表1に示す。
Example 2
The film thickness of the antireflection layer is 113 nm, and the release film (B2) made of (PE) is used as the release film (B) (thickness 25 μm, oxygen permeability 13,000 cm 3 / m 2 · day · 1 atm: 23 ° C. A laminate of the present invention was produced in the same manner as in Example 1 except that -65% RH) was used, and the characteristics were examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 2006007434
Figure 2006007434

Claims (5)

反射防止層の下にハードコート層が積層され、かつ該ハードコート層の非反射防止層側が、被反射防止処理物に転写自在に構成されてなる反射防止膜積層体。 An antireflection film laminate in which a hard coat layer is laminated under an antireflection layer, and a non-antireflection layer side of the hard coat layer is configured to be transferred to an antireflection treatment product. 前記反射防止膜の上に離型フィルム(A)が積層されている請求項1記載の積層体。 The laminate according to claim 1, wherein a release film (A) is laminated on the antireflection film. 前記ハードコート層の非反射防止層側に離型フィルム(B)が積層されている請求項1または2記載の積層体。 The laminated body of Claim 1 or 2 with which the release film (B) is laminated | stacked on the non-reflection prevention layer side of the said hard-coat layer. 離型フィルム(A)上に反射防止層用ラジカル硬化性組成物を塗布してラジカル硬化性反射防止層を形成する工程、該反射防止層上にハードコート層用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程、および該反射防止層用ラジカル硬化性組成物のラジカル硬化を行う工程からなる反射防止膜積層体の製造法。 A step of applying a radical curable composition for an antireflection layer on the release film (A) to form a radical curable antireflection layer, and a hard coat by applying a composition for a hard coat layer on the antireflection layer A process for producing an antireflection film laminate comprising a step of forming a layer and a step of radical curing of the radical curable composition for an antireflection layer. 前記ハードコート層用組成物を塗布する前に、ラジカル硬化性反射防止層を予備硬化させる工程を行う請求項4記載の製造法。 The manufacturing method of Claim 4 which performs the process of precuring a radical-curable antireflection layer before apply | coating the said composition for hard-coat layers.
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