JP2017078840A - Protective film, film laminate and polarizing plate - Google Patents

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将臣 桑原
Masaomi Kuwabara
将臣 桑原
仁朗 白鳥
Jiro Shiratori
仁朗 白鳥
後藤 誠
Makoto Goto
誠 後藤
加藤 昌央
Masahisa Kato
昌央 加藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a protective film having a low retardation value in a film plane direction and in a thickness direction and having a high tensile elastic modulus and tensile strength.SOLUTION: The protective film relating to the present invention is formed of: an urethane (meth)acrylate I that is a reaction product of a hydroxyl group-containing alkyl (meth)acrylate and diol and diisocyanate or an urethane (meth)acrylate II that is a reaction product of an isocyanate group-containing alkyl (meth)acrylate and diol and diisocyanate; a (meth)acrylate group-containing raw material having a (meth)acryl equivalent of 90 g/eq or more and 500 g/eq or less; and a thioether structure. The urethane (meth)acrylate I and II have a plurality of types of saturated cyclic aliphatic structures. The protective film has a low retardation value in a plane direction and in a thickness direction.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明はエネルギー線硬化型組成物を利用した保護フィルム、フィルム積層体、および偏光板に関する。   The present invention relates to a protective film, a film laminate, and a polarizing plate using an energy beam curable composition.

近年、TVやモバイル機器に用いられる液晶や有機ELなどのディスプレイは、益々薄型化されており、これらのディスプレイに用いられる構成部品、特に偏光板も究極の薄さを目指して技術開発が進められている。偏光板は、一般的には、ヨウ素を吸着させ一軸延伸したポリビニルアルコール系フィルムからなる偏光フィルムの両面に、トリアセチルセルロース(以下、TACと称する)等の光学フィルムを保護フィルムとして接着剤により貼合した構成となっている。   In recent years, displays such as liquid crystal and organic EL used in TVs and mobile devices are becoming thinner and thinner, and technological development is progressing with the aim of making the components used in these displays, especially polarizing plates, extremely thin. ing. In general, a polarizing plate is adhered to both sides of a polarizing film made of a polyvinyl alcohol film uniaxially stretched by adsorbing iodine with an adhesive such as an optical film such as triacetyl cellulose (hereinafter referred to as TAC) as a protective film. It has a combined configuration.

このような偏光板に使用される保護フィルムは、その用途に応じて要求される機能が異なっており、例えば液晶ディスプレイの場合、液晶セルの両面に貼合される偏光板について、液晶セルと偏光フィルムの間に設置される保護フィルム(いわゆる位相差フィルム)には、良好なコントラストや広い視野角を得るために、位相差値が3次元的にコントロールされたフィルムが用いられている。   The protective film used for such a polarizing plate has different functions depending on its application. For example, in the case of a liquid crystal display, the polarizing film to be bonded to both surfaces of the liquid crystal cell is different from the liquid crystal cell. As a protective film (so-called retardation film) installed between the films, a film in which the retardation value is controlled three-dimensionally is used in order to obtain good contrast and a wide viewing angle.

これらの偏光板は、偏光フィルムの一軸延伸による残留応力や構成材料に起因する親水性の高さから、応力緩和や吸湿脱湿が生じる環境(例えば高温下、高温高湿下、低温下、高温低温サイクル下など)に晒すことで著しい寸法変化が生じるため、保護フィルムはこの寸法変化を抑制する機能も求められており、特に位相差フィルムにおいては、分子配向によって分子間の凝集力を高めフィルムの引張弾性率および引張強度を上げることで、偏光フィルムの寸法変化抑制の一助としている。   These polarizing plates have an environment in which stress relaxation and moisture absorption and dehumidification occur due to residual stress due to uniaxial stretching of the polarizing film and high hydrophilicity due to the constituent materials (for example, at high temperature, high temperature and high humidity, low temperature, high temperature) Protective films are also required to have a function to suppress this dimensional change when exposed to a low-temperature cycle, etc.). Especially in retardation films, the cohesive force between molecules is increased by molecular orientation. By increasing the tensile modulus and tensile strength of the film, it helps to suppress the dimensional change of the polarizing film.

ここで、位相差フィルムは、使用される液晶セルの駆動モードによって材料や製法は異なるものの、一般的には、熱可塑性樹脂や屈折率異方性材料などからなるフィルムを、延伸や紫外線照射や加熱や磁場印加などの外部刺激による分子配向処理を行うことで得られる。   Here, although the material and manufacturing method of the retardation film differ depending on the driving mode of the liquid crystal cell to be used, in general, a film made of a thermoplastic resin or a refractive index anisotropic material is stretched, irradiated with ultraviolet rays, It can be obtained by performing molecular orientation treatment by external stimulation such as heating or magnetic field application.

一方、液晶セルの駆動モードがIPSやFFSの液晶ディスプレイにおいては、駆動原理的に広い視野角が得られるため、位相差フィルムを使用しなくても良く、この場合、位相差フィルムに該当する箇所には、フィルムの面内方向および厚み方向の位相差値が低いフィルム(いわゆる低位相差フィルム)を用いることができる。   On the other hand, in a liquid crystal display with a liquid crystal cell driving mode of IPS or FFS, a wide viewing angle can be obtained in terms of driving principle, so it is not necessary to use a retardation film. In this case, a portion corresponding to the retardation film For the film, a film having a low retardation value in the in-plane direction and thickness direction of the film (so-called low retardation film) can be used.

低位相差フィルムは、一般的に、熱可塑性樹脂などを延伸せずにフィルム化することで得られるが、これらは延伸していないため前述のような分子配向による凝集力が得られず、前述の偏光フィルムの寸法変化を十分に抑制できない。   The low retardation film is generally obtained by forming a film without stretching a thermoplastic resin or the like, but since these are not stretched, the cohesive force due to the molecular orientation as described above cannot be obtained. The dimensional change of the polarizing film cannot be sufficiently suppressed.

これに対し、凝集力が高い樹脂としてアクリル樹脂が挙げられ、特許文献1では、アクリル樹脂を分子配向処理せずにフィルム化する提案がなされている。   On the other hand, an acrylic resin is cited as a resin having a high cohesive force, and Patent Document 1 proposes forming an acrylic resin into a film without performing a molecular orientation treatment.

特開2011−242581号公報JP 2011-242581 A

しかしながら、上記の方法では、位相差値が低いフィルムが得られるものの、引張弾性率が過度に高いため、脆く破損し易い。当該フィルムには、この脆い特性を改質するためゴム弾性体粒子を添加することで可とう性を付与しており、この影響で、得られるアクリル樹脂フィルムの引張弾性率は結局のところ低くなってしまう。この様な低い引張弾性率のフィルムを貼合した偏光板は、応力緩和や吸湿脱湿が生じる環境(例えば高温下、高温高湿下、低温下、高温低温サイクル下など)に晒すことで偏光フィルムが大きく寸法変化してしまう問題があった。   However, in the above method, although a film having a low retardation value can be obtained, since the tensile elastic modulus is excessively high, the film is brittle and easily damaged. The film is given flexibility by adding rubber elastic particles in order to modify this brittle property, and as a result, the tensile elastic modulus of the resulting acrylic resin film eventually becomes low. End up. Polarizing plates with such low tensile modulus films can be polarized by exposing them to environments where stress relaxation and moisture absorption / dehumidification occur (for example, under high temperature, high temperature and high humidity, low temperature, and high temperature / low temperature cycle). There was a problem that the film was greatly changed in dimensions.

上記問題点を鑑み、本発明の課題は、フィルム面内方向および厚み方向の位相差値が低く、かつ、分子配向処理をしなくても引張弾性率および引張強度が高い保護フィルムを提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a protective film having a low retardation value in the film in-plane direction and a thickness direction and a high tensile elastic modulus and high tensile strength without performing molecular orientation treatment. It is in.

上記課題に対し、本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、基材フィルムに特定のエネルギー線硬化型組成物を塗布し、硬化させることにより得られた保護フィルムは、面内方向および厚み方向の位相差値が低く、分子配向処理をしなくても高い引張弾性率および引張強度を有することを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies on the above problems, the inventors of the present invention applied a specific energy ray-curable composition to a base film and cured the protective film in an in-plane direction and a thickness direction. The inventors have found that the phase difference value of is low, and has a high tensile elastic modulus and tensile strength without the need for molecular orientation treatment, thereby completing the present invention.

本発明には、以下の形態が含まれる。
モノマーであるウレタン(メタ)アクリレートIまたはII由来の構造を有する繰り返し単位IまたはIIからなるブロックAと、モノマーである(メタ)アクリレート基含有原料由来の構造を有する繰り返し単位からなるブロックBと、チオエーテル構造によって形成された保護フィルムであって、
上記ウレタン(メタ)アクリレートIは、水酸基含有アルキル(メタ)アクリレートとジオールとジイソシアネートとの反応物であり、
上記ウレタン(メタ)アクリレートIIは、イソシアネート基含有アルキル(メタ)アクリレートとジオールとジイソシアネートとの反応物であり、
上記ウレタン(メタ)アクリレートIおよびIIは、複数種類の飽和環状脂肪族構造を有し、
上記(メタ)アクリレート基含有原料は、(メタ)アクリル当量が90g/eq以上500g/eq以下であり、
上記チオエーテル構造は、ブロックAおよびブロックBからなる高分子鎖の、少なくとも高分子鎖中、または、高分子鎖の末端とチオエーテル結合を介して存在しており、
23℃で波長590nmにおける面内位相差値(Re)が0nm以上10nm以下であり、かつ、23℃で波長590nmにおける厚み方向の位相差値(Rth)が−10nm以上10nm以下であることを特徴とする保護フィルム。
上記保護フィルムの少なくとも片面に、
(1)上記保護フィルムを支持するフィルム基材、
(2)耐擦傷性を有するハードコート層、
(3)光を散乱させる防眩層、および、
(4)上記保護フィルム上に備えられた高屈折率層と、上記高屈折率層に備えられた低屈折率層とで構成された反射防止層、の何れかを備えることを特徴とするフィルム積層体。
偏光フィルムの少なくとも片面に、上記保護フィルムを備えることを特徴とする偏光板。
The present invention includes the following forms.
A block A consisting of repeating units I or II having a structure derived from urethane (meth) acrylate I or II as a monomer, and a block B consisting of repeating units having a structure derived from a (meth) acrylate group-containing raw material as a monomer, A protective film formed by a thioether structure,
The urethane (meth) acrylate I is a reaction product of a hydroxyl group-containing alkyl (meth) acrylate, a diol and a diisocyanate,
The urethane (meth) acrylate II is a reaction product of an isocyanate group-containing alkyl (meth) acrylate, a diol, and a diisocyanate,
The urethane (meth) acrylates I and II have a plurality of types of saturated cycloaliphatic structures,
The (meth) acrylate group-containing raw material has a (meth) acryl equivalent of 90 g / eq or more and 500 g / eq or less,
The thioether structure is present in the polymer chain composed of block A and block B, at least in the polymer chain, or via the thioether bond with the end of the polymer chain,
The in-plane retardation value (Re) at 23 ° C. at a wavelength of 590 nm is 0 nm to 10 nm, and the thickness direction retardation value (Rth) at 590 nm at 23 ° C. is from −10 nm to 10 nm. A protective film.
On at least one side of the protective film,
(1) A film substrate that supports the protective film,
(2) a hard coat layer having scratch resistance;
(3) an antiglare layer that scatters light, and
(4) A film comprising any one of an antireflection layer composed of a high refractive index layer provided on the protective film and a low refractive index layer provided on the high refractive index layer. Laminated body.
A polarizing plate comprising the protective film on at least one surface of a polarizing film.

本発明に係る保護フィルムは、面内方向および厚み方向の位相差値が低く、分子配向処理をしなくても高い引張弾性率および引張強度を有するため、偏光フィルムに貼合することで、偏光フィルムの応力緩和や吸湿脱湿が生じる環境(例えば高温下、高温高湿下、低温下、または高温低温サイクル下など)であっても、偏光フィルムの寸法変化が抑制される。   The protective film according to the present invention has a low retardation value in the in-plane direction and the thickness direction, and has a high tensile elastic modulus and tensile strength without performing a molecular orientation treatment. Even in an environment where stress relaxation or moisture absorption / dehumidification occurs in the film (for example, under high temperature, high temperature and high humidity, low temperature, or high temperature / low temperature cycle), the dimensional change of the polarizing film is suppressed.

以下、本発明に係る保護フィルム、フィルム積層体および偏光板、並びにこれらの製造方法を説明するが、本発明はこれらの説明に限定して解釈されるものではない。   Hereinafter, although the protective film, film laminated body, polarizing plate, and these manufacturing methods concerning this invention are demonstrated, this invention is limited to these description and is not interpreted.

《保護フィルム》
本発明に係る保護フィルムは、モノマーであるウレタン(メタ)アクリレートIまたはII由来の構造を有する繰り返し単位からなるブロックAと、モノマーである(メタ)アクリレート基含有原料由来の構造を有する繰り返し単位からなるブロックBと、チオエーテル構造によって形成された共重合体であり、上記ブロックAの繰り返し単位は、複数種類の飽和環状脂肪族構造を有し、上記ブロックBの繰り返し単位は、(メタ)アクリル当量が90g/eq以上500g/eq以下の(メタ)アクリレート基含有原料からなり、上記チオエーテル結合は、ブロックAおよびブロックBからなる高分子鎖の、少なくとも高分子鎖中、または、高分子鎖の末端とチオエーテル結合を介して存在している。
すなわち、当該保護フィルムにおいて、共重合体を形成するマトリックスは、ウレタン(メタ)アクリレートIまたはII由来の構造を有する繰り返し単位からなるブロックAと、(メタ)アクリル当量が90g/eq以上500g/eq以下である(メタ)アクリレート基含有原料単量体単位からなるブロックBと、チオエーテル構造によって形成されている。加えて、上記モノマーは、その構造異性体であっても良いし、上記モノマーとその構造異性体との混合物であっても良い。
"Protective film"
The protective film according to the present invention includes a block A composed of a repeating unit having a structure derived from a urethane (meth) acrylate I or II which is a monomer, and a repeating unit having a structure derived from a (meth) acrylate group-containing raw material which is a monomer. A block B and a copolymer formed by a thioether structure, wherein the repeating unit of the block A has a plurality of types of saturated cycloaliphatic structures, and the repeating unit of the block B has a (meth) acrylic equivalent Is a raw material containing a (meth) acrylate group of 90 g / eq or more and 500 g / eq or less, and the thioether bond is at least in the polymer chain of the block A and the block B or at the end of the polymer chain And is present through a thioether bond.
That is, in the protective film, the matrix forming the copolymer has a block A composed of repeating units having a structure derived from urethane (meth) acrylate I or II, and a (meth) acrylic equivalent of 90 g / eq or more and 500 g / eq. The block B is composed of the following (meth) acrylate group-containing raw material monomer units and a thioether structure. In addition, the monomer may be a structural isomer thereof or a mixture of the monomer and the structural isomer.

〔ブロックA〕
ブロックAに係るウレタン(メタ)アクリレートIまたはII由来の構造とは、ウレタン(メタ)アクリレートIまたはII単量体単位、すなわち、モノマーであるウレタン(メタ)アクリレートIまたはIIにおける、(メタ)アクリレート基の2重結合が開裂した構造を意味し、(メタ)アクリレート基の2重結合が開裂した部位を主に両末端に有しているため、2官能性である。
[Block A]
The structure derived from urethane (meth) acrylate I or II according to block A is a urethane (meth) acrylate I or II monomer unit, that is, (meth) acrylate in urethane (meth) acrylate I or II as a monomer This means a structure in which the double bond of the group is cleaved, and it has bifunctionality because it mainly has a site where the double bond of the (meth) acrylate group is cleaved at both ends.

上記ブロックAの繰り返し単位はウレタン結合(−NH−CO−O−)を有している。当該ウレタン結合の数は特に限定されず、例えば、1〜8である。上記ウレタン結合は極性基であり、各繰り返し単位中のウレタン結合同士が分子間力によって近接する。一方、飽和環状脂肪族構造は非極性な環状構造のため、分子量が高く、飽和脂肪族鎖と比べて分子構造の観点から硬い骨格である。このウレタン結合同士の分子間相互作用において飽和環状脂肪族構造の高い分子量と硬さが寄与することにより、上記分子間力は高い凝集力を生ぜしめることとなると考えられる。その結果、上記繰り返し単位によって構成された保護フィルムは、延伸しなくても高い引張弾性率および引張強度を備えることとなる。   The repeating unit of the block A has a urethane bond (—NH—CO—O—). The number of the urethane bonds is not particularly limited, and is 1 to 8, for example. The urethane bond is a polar group, and the urethane bonds in each repeating unit are close to each other by intermolecular force. On the other hand, the saturated cycloaliphatic structure is a non-polar cyclic structure and thus has a high molecular weight and is a hard skeleton from the viewpoint of the molecular structure compared to the saturated aliphatic chain. It is considered that the intermolecular force generates a high cohesive force by the contribution of the high molecular weight and hardness of the saturated cycloaliphatic structure in the intermolecular interaction between the urethane bonds. As a result, the protective film constituted by the above repeating unit has a high tensile elastic modulus and tensile strength even without stretching.

上記ウレタン(メタ)アクリレートIおよびII単量体単位は、複数種類の飽和環状脂肪族構造を有している。飽和環状脂肪族構造としては、特に限定されるものではないが、分子量に起因する凝集力を高める観点から、5員環以上の飽和環状脂肪族構造であることが好ましい。員環数の上限は特に限定されないが、保護フィルムの原料となるモノマーの合成し易さから、例えば、15員環以下であり、好ましくは10員環以下である。上記員環数とは、飽和環状脂肪族構造が複数の環状構造を有する場合、最大の環状構造の員環数を表すものとし、飽和環状脂肪族構造が、ビシクロ環、またはトリシクロ環を有する場合、橋頭炭素を結ぶ橋の炭素を除いた環状構造の員環数を意味する。例えば、トリシクロデカン環の場合、員環数は9である。   The urethane (meth) acrylate I and II monomer units have a plurality of types of saturated cycloaliphatic structures. Although it does not specifically limit as a saturated cycloaliphatic structure, From a viewpoint of raising the cohesion force resulting from molecular weight, it is preferable that it is a saturated cycloaliphatic structure more than 5 membered ring. Although the upper limit of the number of member rings is not particularly limited, it is, for example, 15-membered ring or less, preferably 10-membered ring or less, from the viewpoint of easy synthesis of a monomer that is a raw material for the protective film. When the saturated cyclic aliphatic structure has a plurality of cyclic structures, the number of member rings represents the maximum number of member rings of the cyclic structure, and the saturated cyclic aliphatic structure has a bicyclo ring or a tricyclo ring. This means the number of ring members in the ring structure excluding the bridge carbon connecting the bridgehead carbon. For example, in the case of a tricyclodecane ring, the number of member rings is nine.

飽和環状脂肪族構造の環状構造の主鎖は、炭素原子のみによって形成されていてもよいし、炭素原子に加え、酸素原子および/または窒素原子によって形成されていてもよい。また、上記環状構造の炭素原子には、炭素数1〜10の直鎖および/または分岐鎖構造が付加していてもよい。   The main chain of the cyclic structure of the saturated cycloaliphatic structure may be formed only by carbon atoms, or may be formed by oxygen atoms and / or nitrogen atoms in addition to carbon atoms. In addition, a linear and / or branched chain structure having 1 to 10 carbon atoms may be added to the carbon atom of the cyclic structure.

上記飽和環状脂肪族構造の一例としては、3,5,5-トリメチルシクロヘキサン環、トリシクロデカン環、アダマンタン環、ノルボルネン環などが挙げられる。上記飽和環状脂肪族構造は、飽和脂肪族鎖を介してウレタン結合基と結合していてもよく、飽和脂肪族鎖の炭素数を変更することで、繰り返し単位の剛性を好適に調整できる。飽和脂肪族鎖としては、直鎖構造および分岐鎖構造があり、直鎖構造の一例としては、−(CH−(nは1〜10の整数である)が挙げられ、繰り返し単位の屈曲性を低下させ、剛性を高める観点から、特に、−CH−または−(CH−であることが好ましい。一方、分岐鎖構造としては、上記直鎖構造の少なくとも1つの炭素上の水素が、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基などによって置換された構造が例示される。 Examples of the saturated cycloaliphatic structure include 3,5,5-trimethylcyclohexane ring, tricyclodecane ring, adamantane ring, norbornene ring and the like. The saturated cycloaliphatic structure may be bonded to a urethane bonding group via a saturated aliphatic chain, and the rigidity of the repeating unit can be suitably adjusted by changing the carbon number of the saturated aliphatic chain. The saturated aliphatic chain includes a straight chain structure and a branched chain structure, and an example of the straight chain structure includes — (CH 2 ) n — (n is an integer of 1 to 10), From the viewpoint of reducing flexibility and increasing rigidity, in particular, —CH 2 — or — (CH 2 ) 2 — is preferable. On the other hand, examples of the branched chain structure include a structure in which hydrogen on at least one carbon of the linear structure is substituted with a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, or the like.

上述した3,5,5-トリメチルシクロヘキサン環が、メチレン鎖を介して2つのウレタン結合と結合している場合、3−メチレン−3,5,5-トリメチルシクロヘキサン環が各ウレタン結合と結合していることとなり、トリシクロデカン環が、メチレン鎖を介して2つのウレタン結合と結合している場合、ジメチレントリシクロデカン環が各ウレタン結合と結合していることとなる。   When the 3,5,5-trimethylcyclohexane ring described above is bonded to two urethane bonds via a methylene chain, the 3-methylene-3,5,5-trimethylcyclohexane ring is bonded to each urethane bond. Thus, when the tricyclodecane ring is bonded to two urethane bonds via a methylene chain, the dimethylene tricyclodecane ring is bonded to each urethane bond.

上記3−メチレン−3,5,5-トリメチルシクロヘキサン環およびジメチレントリシクロデカン環は好ましい環構造であり、当該環構造を高分子鎖に含む保護フィルムにおいて、延伸しなくても高い引張弾性率および引張強度が好適に発現される。   The 3-methylene-3,5,5-trimethylcyclohexane ring and the dimethylenetricyclodecane ring are preferred ring structures, and in a protective film containing the ring structure in a polymer chain, a high tensile elastic modulus without stretching. And tensile strength is suitably expressed.

繰り返し単位の主鎖には、飽和環状脂肪族構造以外に、炭素数5〜10の飽和脂肪族鎖が含まれることが好ましい。飽和脂肪族鎖の炭素数が5以上であることにより、鎖長が長く、屈曲性を有する飽和脂肪族鎖によって繰り返し単位に柔軟性が付与され、保護フィルムの脆性が低減される。一方、炭素数が10以下であることにより、過度な柔軟性付与による引張弾性率の低下を抑制できる。飽和脂肪族鎖は直鎖構造であってもよく、分岐鎖構造であってもよい。上記飽和脂肪族鎖は、例えば、ウレタン結合、または、エステル結合を介した構造にて繰り返し単位の一部を構成している。   The main chain of the repeating unit preferably contains a saturated aliphatic chain having 5 to 10 carbon atoms in addition to the saturated cycloaliphatic structure. When the saturated aliphatic chain has 5 or more carbon atoms, flexibility is imparted to the repeating unit by the saturated aliphatic chain having a long chain length and flexibility, and the brittleness of the protective film is reduced. On the other hand, when the number of carbon atoms is 10 or less, it is possible to suppress a decrease in tensile elastic modulus due to excessive flexibility. The saturated aliphatic chain may have a straight chain structure or a branched chain structure. The saturated aliphatic chain constitutes a part of the repeating unit, for example, in a structure via a urethane bond or an ester bond.

上記直鎖構造の一例としては、−(CHn1−(n1は5〜10の整数)が挙げられ、特に、−(CH−であることが好ましい。一方、分岐鎖構造としては、上記直鎖構造の少なくとも1つの炭素上の水素が、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基などによって置換された構造が例示される。 Examples of the straight chain structure, - (CH 2) n1 - (n1 is an integer of 5-10) include, in particular, - (CH 2) 5 - is preferably. On the other hand, examples of the branched chain structure include a structure in which hydrogen on at least one carbon of the linear structure is substituted with a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, or the like.

上記繰り返し単位の一例として、飽和環状脂肪族構造Rを含む下記構造A、および、飽和環状脂肪族構造Rを含む下記構造Cを含む構造を例示できる。
−CO−NH−R−NH−CO−・・・(構造A)
−O−R−O−・・・(構造C)
当該繰り返し単位は、例えば、(1)Rを含むジイソシアネート、(2)Rを含むジオール、および、(3)水酸基含有アルキル(メタ)アクリレート、または、イソシアネート基含有アルキル(メタ)アクリレートを用いて得たウレタン(メタ)アクリレートから得ることができ、容易に製造可能である。一例として、上記構造A、および構造Cの割合は、m+1:m、または、m:m+1とすることができ、上記mは1〜4の整数を示す。
As an example of the above repeating unit, the following structure A including the saturated cycloaliphatic structure R 1 and the structure including the following structure C including the saturated cycloaliphatic structure R 3 can be exemplified.
—CO—NH—R 1 —NH—CO— (Structure A)
—O—R 3 —O— (Structure C)
As the repeating unit, for example, (1) a diisocyanate containing R 1 , (2) a diol containing R 3 , and (3) a hydroxyl group-containing alkyl (meth) acrylate, or an isocyanate group-containing alkyl (meth) acrylate is used. It can be obtained from urethane (meth) acrylate obtained in this way and can be easily manufactured. As an example, the ratio of the structure A and the structure C can be m + 1: m or m: m + 1, and the m represents an integer of 1 to 4.

また、上記繰り返し単位は、さらに、下記飽和脂肪族鎖Rを含む下記構造Bを含んでいてもよい。
−O−R−CO−・・・(構造B)
当該繰り返し単位は、例えば、Rを含むジイソシアネート、Rを含むエステル(任意に使用される)、Rを含むジオールに加えて、水酸基含有アルキル(メタ)アクリレート、または、イソシアネート基含有アルキル(メタ)アクリレートを用いて得たウレタン(メタ)アクリレートから得ることができ、容易に製造可能である。一例として、上記構造A、構造Bおよび構造Cの割合は、m+1:m(r+s):m、m:m(r+s):m+1、m:k+n:m+1とすることができる。上記mは1〜4の整数を示し、rおよびsはそれぞれ0〜2の整数を示し、かつ、rとsとの和は1〜2であり、kは0〜2の整数を示し、nは0〜2の整数を示す。
Further, the repeating units may further comprise the following structure B comprising the following saturated aliphatic chain R 2.
—O—R 2 —CO— (Structure B)
The repeating unit includes, for example, a diisocyanate containing R 1 , an ester containing R 2 (optionally used), a diol containing R 3 , a hydroxyl group-containing alkyl (meth) acrylate, or an isocyanate group-containing alkyl ( It can be obtained from urethane (meth) acrylate obtained by using (meth) acrylate, and can be easily produced. As an example, the ratio of the structure A, the structure B, and the structure C may be m + 1: m (r + s): m, m: m (r + s): m + 1, and m: k + n: m + 1. M represents an integer of 1 to 4, r and s each represent an integer of 0 to 2, and the sum of r and s is 1 to 2, k represents an integer of 0 to 2, n Represents an integer of 0-2.

上述した飽和環状脂肪族構造および飽和脂肪族鎖を有する繰り返し単位の具体例を以下に示す。一般式(1)に示すように、(メタ)アクリレート由来の構造とは、(メタ)アクリレート構造HC=CH−CO−(または、HC=C(CH)−CO−)の炭素−炭素2重結合が開裂して単結合となった構造である。

Figure 2017078840
(一般式(1)中、Rは飽和環状脂肪族構造を示し、Rは炭素数5〜10の直鎖または分岐鎖状の飽和脂肪族鎖を示し、Rは、Rと異なる飽和環状脂肪族構造を示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、Rは、水素原子、メチル基またはエチル基を示し、mは1〜4の整数を示し、rおよびsはそれぞれ0〜2の整数を示し、かつ、rとsとの和は1〜2であり、xは0〜3の整数を示す) Specific examples of the repeating unit having the saturated cycloaliphatic structure and the saturated aliphatic chain described above are shown below. As shown in the general formula (1), the structure derived from (meth) acrylate is a (meth) acrylate structure H 2 C═CH—CO 2 — (or H 2 C═C (CH 3 ) —CO 2 —. ) Of the carbon-carbon double bond is cleaved to form a single bond.
Figure 2017078840
(In the general formula (1), R 1 represents a saturated cycloaliphatic structure, R 2 represents a linear or branched saturated aliphatic chain having 5 to 10 carbon atoms, and R 3 is different from R 1. R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, m represents an integer of 1 to 4, and r and s are each 0. ) Represents an integer of ˜2, and the sum of r and s is 1 to 2, and x represents an integer of 0 to 3)

上記一般式(1)中のmが1〜4の整数であることにより、引張弾性率がより高められる。mは1または2であることがより好ましく、さらに好ましくは1である。後述する一般式(2)、および(3)においても同様である。   When m in the said General formula (1) is an integer of 1-4, a tensile elasticity modulus is raised more. m is more preferably 1 or 2, and even more preferably 1. The same applies to general formulas (2) and (3) described later.

上記一般式(1)において、Rが、3−メチレン−3,5,5-トリメチルシクロヘキサン環であり、Rが−(CH−であり、Rがジメチレントリシクロデカン環であり、RおよびRが水素原子であり、rおよびsが1であり、xが1である好適な構造を以下に示す。

Figure 2017078840
In the general formula (1), R 1 is a 3-methylene-3,5,5-trimethylcyclohexane ring, R 2 is — (CH 2 ) 5 —, and R 3 is a dimethylene tricyclodecane ring. A preferred structure in which R 4 and R 5 are hydrogen atoms, r and s are 1 and x is 1 is shown below.
Figure 2017078840

繰り返し単位の他の具体例を以下に示す。

Figure 2017078840
(一般式(2)中、Rは飽和環状脂肪族構造を示し、Rは炭素数5〜10の直鎖または分岐鎖状の飽和脂肪族鎖を示し、Rは、Rと異なる飽和環状脂肪族構造を示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、Rは、水素原子、メチル基またはエチル基を示し、mは1〜4の整数を示し、rおよびsはそれぞれ0〜2の整数を示し、かつ、rとsとの和は1〜2であり、xは0〜3の整数を示す) Other specific examples of the repeating unit are shown below.
Figure 2017078840
(In General Formula (2), R 1 represents a saturated cycloaliphatic structure, R 2 represents a linear or branched saturated aliphatic chain having 5 to 10 carbon atoms, and R 3 is different from R 1. R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, m represents an integer of 1 to 4, and r and s are each 0. ) Represents an integer of ˜2, and the sum of r and s is 1 to 2, and x represents an integer of 0 to 3)

上記一般式(2)において、Rが、3−メチレン−3,5,5-トリメチルシクロヘキサン環であり、Rが−(CH−であり、Rがジメチレントリシクロデカン環であり、RおよびRが水素原子であり、rおよびsが1であり、xが1である好適な繰り返し単位を以下に示す。

Figure 2017078840
In the general formula (2), R 1 is a 3-methylene-3,5,5-trimethylcyclohexane ring, R 2 is — (CH 2 ) 5 —, and R 3 is a dimethylene tricyclodecane ring. Preferred repeating units in which R 4 and R 5 are hydrogen atoms, r and s are 1 and x is 1 are shown below.
Figure 2017078840

繰り返し単位の他の具体例を以下に示す。

Figure 2017078840
(一般式(3)中、Rは飽和環状脂肪族構造を示し、Rは炭素数5〜10の直鎖または分岐鎖状の飽和脂肪族鎖を示し、Rは、Rと異なる飽和環状脂肪族構造を示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、Rは、水素原子、メチル基またはエチル基を示し、mは1〜4の整数を示し、kは0〜2の整数を示し、nは0〜2の整数を示し、xは0〜3の整数を示す) Other specific examples of the repeating unit are shown below.
Figure 2017078840
(In General Formula (3), R 1 represents a saturated cycloaliphatic structure, R 2 represents a linear or branched saturated aliphatic chain having 5 to 10 carbon atoms, and R 3 is different from R 1. R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, m represents an integer of 1 to 4, and k represents an integer of 0 to 2. Represents an integer, n represents an integer of 0 to 2, and x represents an integer of 0 to 3)

上記一般式(3)において、Rが、3−メチレン−3,5,5-トリメチルシクロヘキサン環であり、Rが−(CH−であり、Rがジメチレントリシクロデカン環であり、RおよびRが水素原子であり、kおよびnが1であり、xが1である好適な繰り返し単位を以下に示す。

Figure 2017078840
In the general formula (3), R 1 is a 3-methylene-3,5,5-trimethylcyclohexane ring, R 2 is — (CH 2 ) 5 —, and R 3 is a dimethylene tricyclodecane ring. Preferred repeating units in which R 4 and R 5 are hydrogen atoms, k and n are 1, and x is 1 are shown below.
Figure 2017078840

〔ブロックB〕
ブロックBに係る(メタ)アクリレート基含有原料由来の構造とは、(メタ)アクリレート基含有原料単量体単位、すなわち、モノマーである(メタ)アクリレート基含有原料における、(メタ)アクリレート基の2重結合が開裂した構造を意味する。
[Block B]
The structure derived from the (meth) acrylate group-containing raw material according to Block B is a (meth) acrylate group-containing raw material monomer unit, that is, 2 of the (meth) acrylate group in the (meth) acrylate group-containing raw material that is a monomer. It means a structure in which a double bond is cleaved.

上記ブロックBを生じさせる(メタ)アクリレート基含有原料は、保護フィルムの引張弾性率を高い水準とすべく、(メタ)アクリル当量が90g/eq以上500g/eq以下が好ましく、90g/eq以上400g/eq以下がさらに好ましく、90g/eq以上300g/eq以下が特に好ましい。(メタ)アクリル当量が500g/eqより大きいと、(メタ)アクリレート基が開裂して形成される3次元架橋構造が減少するため、その結果、上記共重合体からなる保護フィルムの引張弾性率および引張強度が低下することとなる。   The (meth) acrylate group-containing raw material for producing the block B preferably has a (meth) acrylic equivalent of 90 g / eq or more and 500 g / eq or less, and 90 g / eq or more and 400 g in order to keep the tensile modulus of the protective film at a high level. / Eq or less is more preferable, and 90 g / eq or more and 300 g / eq or less is particularly preferable. When the (meth) acrylic equivalent is greater than 500 g / eq, the three-dimensional cross-linked structure formed by cleavage of the (meth) acrylate group is reduced, and as a result, the tensile modulus of the protective film made of the copolymer and The tensile strength will decrease.

上記(メタ)アクリレート基含有原料は、(メタ)アクリル当量が90g/eq以上500g/eq以下の範囲であれば、特に分子構造は限定されず、複数種類の(メタ)アクリレート基含有原料からなっていても良い。このとき、上記(メタ)アクリレート基含有原料の(メタ)アクリル当量は、複数種類の(メタ)アクリレート基含有原料の(メタ)アクリル当量を質量比で平均化した値として計算される(例えば、(メタ)アクリル当量200g/eqが70質量%と(メタ)アクリル当量400g/eqが30質量%からなる場合は、(メタ)アクリル当量は260g/eqとなる)。   The (meth) acrylate group-containing raw material is not particularly limited as long as the (meth) acrylic equivalent is in the range of 90 g / eq or more and 500 g / eq or less, and includes a plurality of types of (meth) acrylate group-containing raw materials. May be. At this time, the (meth) acryl equivalent of the (meth) acrylate group-containing raw material is calculated as a value obtained by averaging the (meth) acryl equivalent of a plurality of types of (meth) acrylate group-containing raw materials by a mass ratio (for example, When (meth) acrylic equivalent 200 g / eq is 70% by mass and (meth) acrylic equivalent 400 g / eq is 30% by mass, (meth) acrylic equivalent is 260 g / eq).

ここで、(メタ)アクリル当量とは、(メタ)アクリレート基含有原料の理論構造における分子量を(メタ)アクリル官能基数で除した値であり、値が大きいときモノマーに含まれる(メタ)アクリル官能基の割合が減少するため、(メタ)アクリレート基が開裂して形成される3次元架橋構造が減少することとなる。   Here, the (meth) acrylic equivalent is a value obtained by dividing the molecular weight in the theoretical structure of the (meth) acrylate group-containing raw material by the number of (meth) acrylic functional groups, and when the value is large, the (meth) acrylic functionality contained in the monomer Since the group ratio decreases, the three-dimensional cross-linking structure formed by cleavage of the (meth) acrylate group decreases.

上記(メタ)アクリレート基含有原料の一例を示す。なお、(メタ)アクリル当量が90g/eq以上500g/eq以下の範囲内であれば、構造は下記に限定されるものではない。
単官能の(メタ)アクリレート基含有原料としては、:メチルメタクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート、
;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、3,3,5−トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートなどの飽和/不飽和環状(メタ)アクリレート、
;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、などの水酸基含有(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
2官能の(メタ)アクリレート基含有原料としては、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールF型ジ(メタ)アクリレート、ポリブタジエンジ(メタ)アクリレート、水添ポリブタジエンジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ジオールとジカルボン酸からなるポリエステルジ(メタ)アクリレート、ジオールとジイソシアネートからなるポリウレタンジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
多官能の(メタ)アクリレート基含有原料としては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、エトキシ変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、ポリオールとポリカルボン酸からなるポリエステル(メタ)アクリレート、ポリオールとポリイソシアネートからなるポリウレタン(メタ)アクリレート、デンドリマー構造を有する(メタ)アクリレート、側鎖に(メタ)アクリレートを有するアクリルオリゴマーなどが挙げられる。
An example of the said (meth) acrylate group containing raw material is shown. In addition, if a (meth) acryl equivalent is in the range of 90 g / eq or more and 500 g / eq or less, the structure is not limited to the following.
Monofunctional (meth) acrylate group-containing raw materials include: alkyl (meth) acrylates such as methyl methacrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate,
Cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 3,3,5-trimethylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, etc. Saturated / unsaturated cyclic (meth) acrylate,
Hydroxyl group content such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, polycaprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate, pentaerythritol mono (meth) acrylate, etc. Examples include (meth) acrylate.
The bifunctional (meth) acrylate group-containing raw materials include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1 , 10-decanediol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, bisphenol A type di Polyester composed of (meth) acrylate, bisphenol F type di (meth) acrylate, polybutadiene di (meth) acrylate, hydrogenated polybutadiene di (meth) acrylate, isocyanuric acid di (meth) acrylate, diol and dicarboxylic acid Di (meth) acrylate, polyurethane di (meth) acrylate comprising a diol and a diisocyanate.
Polyfunctional (meth) acrylate group-containing raw materials include pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethoxy-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylol Propane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, isocyanuric acid tri (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate composed of polyol and polycarboxylic acid, polyurethane (meth) acrylate composed of polyol and polyisocyanate, dendrimer Examples include (meth) acrylate having a structure and acrylic oligomer having (meth) acrylate in a side chain.

〔チオエーテル構造〕
上記チオエーテル構造は、チオエーテル結合を有しており、少なくとも−S−R構造を有する(Rは炭化水素である)。チオエーテル構造のRと逆側の単結合は、繰り返し単位の(メタ)アクリレート由来の構造と結合しており、チオエーテル結合の−S−と、繰り返し単位中のウレタン結合との間で水素結合が生じ、保護フィルムの引張強度を高めることができる。
[Thioether structure]
The thioether structure has a thioether bond and has at least a —S—R structure (R is a hydrocarbon). The single bond on the opposite side of R of the thioether structure is bonded to the structure derived from the (meth) acrylate of the repeating unit, and a hydrogen bond is generated between the —S— of the thioether bond and the urethane bond in the repeating unit. The tensile strength of the protective film can be increased.

チオエーテル構造は、少なくとも1以上のチオエーテル結合(−S−)を有していればよいが、複数のチオエーテル結合を含むことで、強い水素結合を生ぜしめ、保護フィルムの引張強度がより高まるため好ましい。   The thioether structure may have at least one or more thioether bonds (-S-). However, the inclusion of a plurality of thioether bonds is preferable because strong hydrogen bonds are generated and the tensile strength of the protective film is further increased. .

チオエーテル構造の炭化水素Rは、環状構造および/または鎖状構造を有する。上記環状構造および鎖状構造の主鎖は、炭素原子のみによって形成されていても良いし、炭素原子に加え、酸素原子および/または窒素原子によって形成されていても良い。環状構造としては、例えば、1,2,3−トリアジン環、1,2,4−トリアジン環、1,3,5−トリアジン環、マレイミド環などが例示され、鎖状構造として、−(CHn2−で示されるアルキル鎖が例示される(n2は1〜10の整数である)。環状構造および鎖状構造の主鎖を構成する炭素原子および/または窒素原子に結合した水素原子は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基などで置換されていても良い。 The hydrocarbon R having a thioether structure has a cyclic structure and / or a chain structure. The main chain of the cyclic structure and the chain structure may be formed of only carbon atoms, or may be formed of oxygen atoms and / or nitrogen atoms in addition to carbon atoms. Examples of the cyclic structure include a 1,2,3-triazine ring, a 1,2,4-triazine ring, a 1,3,5-triazine ring, a maleimide ring, and the like. As the chain structure, — (CH 2 ) n2 - (n2 alkyl chain is exemplified represented by is an integer of 1 to 10). The hydrogen atom bonded to the carbon atom and / or the nitrogen atom constituting the main chain of the cyclic structure and the chain structure may be substituted with a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, or the like.

また、チオエーテル構造は、置換基を有していても良く、例えば、カルボニル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、水酸基が例示される。   Further, the thioether structure may have a substituent, and examples thereof include a carbonyl group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, and a hydroxyl group.

上記チオエーテル構造は、(1)複数の繰り返し単位によって構成されている高分子鎖中、または、(2)上記高分子鎖の末端に結合している。
(1)の場合、チオエーテル構造は複数のチオエーテル結合を有しており、1つのチオエーテル結合が、繰り返し単位の(メタ)アクリレート由来の構造に結合し、他のチオエーテル結合が、他の繰り返し単位の(メタ)アクリレート由来の構造に結合している。繰り返し単位が(メタ)アクリレート由来の部位を有する場合の(1)の結合状態を以下に示す。なお、チオエーテル構造が、3つまたは4つ以上−S−を有する場合も複数の繰り返し単位と結合する。
The thioether structure is bonded to (1) a polymer chain constituted by a plurality of repeating units, or (2) to an end of the polymer chain.
In the case of (1), the thioether structure has a plurality of thioether bonds, one thioether bond is bonded to the structure derived from the (meth) acrylate of the repeating unit, and the other thioether bond is bonded to the other repeating unit. Bonded to (meth) acrylate-derived structure. The bonding state of (1) when the repeating unit has a site derived from (meth) acrylate is shown below. In addition, when a thioether structure has 3 or 4 or more -S-, it couple | bonds with a some repeating unit.

Figure 2017078840
Figure 2017078840

一方、上記(2)の場合では、高分子鎖の末端にチオエーテル構造が結合しており、チオエーテル構造は1つの繰り返し単位に結合している。繰り返し単位が(メタ)アクリレート由来の部位を有する場合の(2)の結合状態を以下に示す。

Figure 2017078840
上記Rは炭化水素を示す。 On the other hand, in the case of (2) above, a thioether structure is bonded to the end of the polymer chain, and the thioether structure is bonded to one repeating unit. The bonding state of (2) when the repeating unit has a site derived from (meth) acrylate is shown below.
Figure 2017078840
R represents a hydrocarbon.

〔ブロックA、Bおよびチオールの関係〕
上記繰り返し単位とチオエーテル構造との結合状態について上述したが、高分子鎖が繰り返し単位であるブロックAとブロックBとで形成されている場合、
(1’)チオエーテル構造は、ブロックAとブロックBとに結合していても良いし、ブロックAと他のブロックAとに結合していても良いし、ブロックBと他のブロックBとに結合していても良い。
また、(2’)チオエーテル構造は、ブロックAに結合しており、他のブロックAまたはブロックBに結合していなくとも良いし、ブロックBに結合しており、ブロックAまたは他のブロックBに結合していなくとも良い。
[Relationship between Block A, B and Thiol]
As described above for the bonding state between the repeating unit and the thioether structure, when the polymer chain is formed of the block A and the block B that are repeating units,
(1 ′) The thioether structure may be bonded to block A and block B, may be bonded to block A and another block A, or may be bonded to block B and another block B. You may do it.
The (2 ′) thioether structure is bonded to the block A and may not be bonded to the other block A or the block B, or is bonded to the block B, and the block A or the other block B is bonded. It does not have to be joined.

チオエーテル結合を1つまたは複数有するチオエーテル構造について上述したが、そのような、環状構造および鎖状構造の両方を有するチオエーテル構造の具体例を以下に示す。

Figure 2017078840
(一般式(4)中、Rは、水素原子がメチル基によって置換されていてもよい炭素数1または2のアルキル鎖を示し、Xはそれぞれ独立して−S−または−S−Hを示し、nは1〜4の整数を示す) A thioether structure having one or more thioether bonds has been described above. Specific examples of such a thioether structure having both a cyclic structure and a chain structure are shown below.
Figure 2017078840
(In the general formula (4), R 6 represents an alkyl chain having 1 or 2 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted by a methyl group, and each X independently represents —S— or —S—H. N represents an integer of 1 to 4)

上記一般式(4)中、Rの具体例としては、−CH−、−(CH−が挙げられ、上記アルキル鎖の水素原子は、メチル基、エチル基、プロピル基などの置換基によって置換されていてもよい。 In the general formula (4), specific examples of R 6 include —CH 2 — and — (CH 2 ) 2 —, and the hydrogen atom of the alkyl chain includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and the like. It may be substituted with a substituent.

Xは−S−または−S−Hであり、2つのXが−S−である構造は以下の一般式(4a)によって表され、一方のXが−S−であり、他のXが−S−Hである構造は以下の一般式(4b)によって表され、2つのXが−S−Hである構造は以下の一般式(4c)によって表される。チオエーテル構造の−S−は、繰り返し単位の(メタ)アクリレート由来の構造と結合している。

Figure 2017078840
X is —S— or —S—H, and the structure in which two X are —S— is represented by the following general formula (4a), and one X is —S— and the other X is — The structure which is S—H is represented by the following general formula (4b), and the structure in which two X are —S—H is represented by the following general formula (4c). -S- of the thioether structure is bonded to a structure derived from (meth) acrylate as a repeating unit.
Figure 2017078840

さらに、鎖状構造を有するチオエーテル構造の具体例を以下に示す。

Figure 2017078840
(一般式(5)中、Rは、水素原子がアルキル基によって置換されていてもよい炭素数1または2のアルキル鎖を示し、Xはそれぞれ独立して−S−または−S−Hを示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、pは1〜3の整数を示す) Furthermore, specific examples of the thioether structure having a chain structure are shown below.
Figure 2017078840
(In the general formula (5), R 7 represents an alkyl chain having 1 or 2 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with an alkyl group, and each X independently represents —S— or —S—H. R 8 represents a hydrogen atom or a methyl group, and p represents an integer of 1 to 3)

上記一般式(5)中、Rの具体例としては、−CH−、−(CH−のアルキル鎖が挙げられ、上記アルキル鎖の水素原子は、メチル基、エチル基、プロピル基などの置換基によって置換されていてもよい。 In the general formula (5), specific examples of R 7 include —CH 2 — and — (CH 2 ) 2 — alkyl chains, and the hydrogen atom of the alkyl chain includes a methyl group, an ethyl group, and a propyl group. It may be substituted with a substituent such as a group.

一般式(5)において、pが3である構造のうち、3つのXが−S−である構造は以下の一般式(5a)によって表され、2つのXが−S−であり、他の1つのXが−S−Hである構造は以下の一般式(5b)によって表され、1つのXが−S−であり、他の2つのXが−S−Hである構造は以下の一般式(5c)によって表され、3つのXが−S−Hである構造は以下の一般式(5d)によって表される。チオエーテル構造の−S−は、繰り返し単位の(メタ)アクリレート由来の構造と結合している。

Figure 2017078840
In the general formula (5), among the structures in which p is 3, the structure in which three Xs are -S- is represented by the following general formula (5a), the two Xs are -S-, A structure in which one X is —S—H is represented by the following general formula (5b). A structure in which one X is —S— and the other two X are —S—H is A structure represented by the formula (5c) and having three Xs —S—H is represented by the following general formula (5d). -S- of the thioether structure is bonded to a structure derived from (meth) acrylate as a repeating unit.
Figure 2017078840

特に、上記一般式(5d)で表されるチオエーテル構造は4官能性であり、繰り返し単位と複雑な3次元構造を形成するため、得られる保護フィルムは引張強度をより高められる。   In particular, since the thioether structure represented by the general formula (5d) is tetrafunctional and forms a complicated three-dimensional structure with the repeating unit, the resulting protective film can have higher tensile strength.

上記ブロックAおよびブロックBの繰り返し単位となるモノマーの総量と、上記チオエーテル構造を生じさせるチオールとの質量比は、特に限定されないが、チオエーテル構造に起因する保護フィルムの引張弾性率および引張強度の程度を好適なものとすべく、ブロックAおよびブロックBのモノマー総量:チオール=95:5〜50:50が好ましく、95:5〜70:30がより好ましく、90:10〜80:20が特に好ましい。   The mass ratio between the total amount of monomers that are the repeating units of the block A and the block B and the thiol that generates the thioether structure is not particularly limited, but the tensile elastic modulus and tensile strength of the protective film resulting from the thioether structure Is preferably a total monomer amount of block A and block B: thiol = 95: 5 to 50:50, more preferably 95: 5 to 70:30, and particularly preferably 90:10 to 80:20. .

また、本発明に係る保護フィルム中の共重合体(繰り返し単位であるブロックAおよびブロックBおよびチオエーテル構造)の割合は、保護フィルムの引張弾性率および引張強度を高める観点から高いことが望ましく、保護フィルムの総質量に対し、70質量%以上99.5質量%以下であることが好ましく、80質量%以上99.5質量%以下であることがより好ましい。   Further, it is desirable that the ratio of the copolymer (block A and block B which are repeating units and the thioether structure) in the protective film according to the present invention is high from the viewpoint of increasing the tensile elastic modulus and tensile strength of the protective film. It is preferable that it is 70 to 99.5 mass% with respect to the total mass of a film, and it is more preferable that it is 80 to 99.5 mass%.

本発明に係る保護フィルムが、どのような構造の繰り返し単位(ブロックAおよびブロックBおよびチオエーテル構造)によって形成されているかは、熱分解GC−MSおよびFT−IRによって保護フィルムを分析することによって判断可能である。特に、熱分解GC−MSは、保護フィルムに含まれる単量体単位をモノマー成分として検知できるため有用である。   It is determined by analyzing the protective film by pyrolysis GC-MS and FT-IR what structure the repeating film (block A and block B and thioether structure) is formed in according to the present invention. Is possible. In particular, pyrolysis GC-MS is useful because it can detect a monomer unit contained in a protective film as a monomer component.

保護フィルムには、保護フィルムの成膜性、面内方向および厚み方向の位相差値、引張弾性率および引張強度を損なわなければ、紫外線吸収剤、レベリング剤や帯電防止剤等、各種添加剤を含有させてもよい。これにより、保護フィルムに紫外線吸収特性、剥離特性、帯電防止特性を付与することが可能である。   The protective film contains various additives such as UV absorbers, leveling agents and antistatic agents, as long as the film formability of the protective film, in-plane direction and thickness direction retardation values, tensile modulus and tensile strength are not impaired. You may make it contain. Thereby, it is possible to give an ultraviolet absorption characteristic, a peeling characteristic, and an antistatic characteristic to a protective film.

紫外線吸収剤としては、公知のものを使用でき、例えば、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルフォベンゾフェノン等のベンゾフェノン系、2−(2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系、フェニルサルシレート、p−t−ブチルフェニルサルシレート等のヒンダートアミン系等が挙げられる。レベリング剤、帯電防止剤についても公知のものを使用可能である。   As the ultraviolet absorber, known ones can be used. For example, benzophenone series such as 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone and 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, 2- (2′-hydroxy) Examples include benzotriazoles such as -5-methylphenyl) benzotriazole, hindered amines such as phenyl salsylate, and pt-butylphenyl salsylate. Known leveling agents and antistatic agents can also be used.

本発明に係る保護フィルムは薄膜に形成されるため、例えば、膜厚は5μm以上80μm以下であり、より好ましくは6μm以上50μm以下であり、特に好ましくは7μm以上30μm以下である。   Since the protective film according to the present invention is formed into a thin film, for example, the film thickness is 5 μm or more and 80 μm or less, more preferably 6 μm or more and 50 μm or less, and particularly preferably 7 μm or more and 30 μm or less.

本発明に係る保護フィルムの位相差値は、フィルム面内の屈折率が最大となる方向(すなわち遅相軸方向)の屈折率をnx、遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnz、厚みをdとしたときに、面内の位相差値(Re)および厚み方向の位相差値(Rth)は、それぞれ下式(i)および(ii)で定義される。
Re=(nx−ny)×d (i)
Rth=[(nx+ny)/2−nz]×d (ii)
The retardation value of the protective film according to the present invention is such that the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (that is, the slow axis direction) is nx, and the refractive index in the direction orthogonal to the slow axis is in the plane. When ny, the refractive index in the thickness direction is nz, and the thickness is d, the in-plane retardation value (Re) and the thickness direction retardation value (Rth) are expressed by the following equations (i) and (ii), respectively. Defined.
Re = (nx−ny) × d (i)
Rth = [(nx + ny) / 2−nz] × d (ii)

本発明に係る保護フィルムの23℃で波長590nmにおける面内位相差値(Re)は0nm以上10nm以下であり、より好ましくは0nm以上5nm以下である。また、23℃で波長590nmにおける厚み方向の位相差値(Rth)は−10nm以上10nm以下であり、より好ましくは−5nm以上5nm以下である。   The in-plane retardation value (Re) at 23 ° C. and a wavelength of 590 nm of the protective film according to the present invention is 0 nm or more and 10 nm or less, more preferably 0 nm or more and 5 nm or less. The thickness direction retardation value (Rth) at 23 ° C. and a wavelength of 590 nm is −10 nm to 10 nm, more preferably −5 nm to 5 nm.

本発明に係る保護フィルムは引張弾性率に優れており、引張弾性率は、例えば1500MPa以上であり、より好ましくは2500MPa以上である。上限値は特に限定されないが、例えば、4500MPaである。   The protective film according to the present invention is excellent in tensile elastic modulus, and the tensile elastic modulus is, for example, 1500 MPa or more, and more preferably 2500 MPa or more. Although an upper limit is not specifically limited, For example, it is 4500 MPa.

また、本発明に係る保護フィルムは引張強度に優れており、引張強度は、例えば25MPa以上であり、より好ましくは50MPa以上である。上限値は特に限定されないが、例えば、100MPaである。   The protective film according to the present invention is excellent in tensile strength, and the tensile strength is, for example, 25 MPa or more, and more preferably 50 MPa or more. Although an upper limit is not specifically limited, For example, it is 100 MPa.

《フィルム積層体》
次に、フィルム積層体について説明する。本発明に係るフィルム積層体は、上記保護フィルムの少なくとも片面に、
(1)上記保護フィルムを支持するフィルム基材、
(2)耐擦傷性を有するハードコート層、
(3)光を散乱させる防眩層、および、
(4)上記保護フィルム上に備えられた高屈折率層と、上記高屈折率層に備えられた低屈折率層とで構成された反射防止層、の何れかを備えるものである。もちろん、上記フィルム積層体は、保護フィルムの両面に任意の上記(1)〜(4)を備えていてもよい。すなわち、両面に同種の層(例えば、保護フィルムの表面に(1)、裏面に(1))または異種の層(例えば、保護フィルムの表面に(1)、裏面に(2)、または、表面に(2)、裏面に(3))を備えていてもよい。さらには、(1)〜(4)には他の(1)〜(4)の層が備えられており、積層構造であってもよい。以下、(1)〜(4)について説明する。
<Film laminate>
Next, a film laminated body is demonstrated. The film laminate according to the present invention is provided on at least one side of the protective film.
(1) A film substrate that supports the protective film,
(2) a hard coat layer having scratch resistance;
(3) an antiglare layer that scatters light, and
(4) One of an antireflection layer including a high refractive index layer provided on the protective film and a low refractive index layer provided on the high refractive index layer is provided. Of course, the said film laminated body may be equipped with arbitrary said (1)-(4) on both surfaces of a protective film. That is, the same type of layers on both sides (for example, (1) on the surface of the protective film, (1) on the back side) or different layers (for example, (1) on the front side of the protective film, (2) on the back side, or the surface (2) and (3)) may be provided on the back surface. Furthermore, (1) to (4) are provided with other layers (1) to (4), and may have a laminated structure. Hereinafter, (1) to (4) will be described.

〔フィルム基材〕
本発明に係る保護フィルムは、他のフィルムと積層された状態で一体的に取り扱うことができる。また、ロールコーティング法、グラビアコーティング法等のコーティング法によって、保護フィルムをフィルム基材上に形成することでフィルム積層体を製造する場合、フィルム基材をフィルム積層体の一部としてそのまま利用することもできる。
[Film base]
The protective film which concerns on this invention can be handled integrally in the state laminated | stacked with the other film. In addition, when manufacturing a film laminate by forming a protective film on a film substrate by a coating method such as a roll coating method or a gravure coating method, the film substrate should be used as part of the film laminate. You can also.

フィルム基材は保護フィルムを支持する役割を担い、最終的には剥離して除去するため保護フィルムを積層する側に離型層を有することが好ましい。なお、フィルム基材が離型層を介して機能層を備えている場合、保護フィルムの機能層側にフィルム基材を貼合した後、フィルム基材を剥離して除去すると、通常、機能層はフィルム基材側に残らず、保護フィルム側に転写される。   The film base material plays a role of supporting the protective film, and finally has a release layer on the side where the protective film is laminated in order to peel and remove. In addition, when a film base material is equipped with a functional layer via a release layer, after the film base material is bonded to the functional layer side of the protective film and then removed by removing the film base material, the functional layer is usually Is not transferred to the film substrate side but transferred to the protective film side.

通常、保護フィルムと偏光フィルムとを紫外線硬化型接着剤にて貼合することから、フィルム基材が紫外線照射を妨げないよう、紫外線吸収能を有しないことが好ましい。さらには、偏光板に他のフィルムを設け、表示装置まで加工する各種製造工程において光学特性を検査することもあり、偏光板の基本構成である、偏光フィルムおよび保護フィルムの光学特性測定への影響を最小限とすることができるよう、フィルム基材は透明性を有することが好ましい。このような観点から、フィルム基材として、離型層を有するポリエステルフィルム基材が好ましく用いられる。   Usually, since a protective film and a polarizing film are bonded together with an ultraviolet curable adhesive, it is preferable that the film base material does not have ultraviolet absorbing ability so as not to prevent ultraviolet irradiation. Furthermore, the optical properties may be inspected in various manufacturing processes in which other films are provided on the polarizing plate and processed up to the display device, and this influences the measurement of the optical properties of the polarizing film and the protective film, which is the basic configuration of the polarizing plate. It is preferable that the film substrate has transparency so as to minimize the thickness. From such a viewpoint, a polyester film substrate having a release layer is preferably used as the film substrate.

上記ポリエステルフィルム基材は、上述したように離型層を有していてもよいし、離型層以外にさらに他の機能層が形成されていてもよい。機能層としては、ハードコート層(HC層)、防眩層(AG層)、反射防止層(LR層)が挙げられる。これらの層は、ポリエステルフィルムの離型層上に形成され、保護フィルムに積層された後、離型層からポリエステル基材を剥離することで、各機能層と保護フィルムとが積層されたフィルム積層体が容易に得られる。   As described above, the polyester film substrate may have a release layer, and other functional layers may be formed in addition to the release layer. Examples of the functional layer include a hard coat layer (HC layer), an antiglare layer (AG layer), and an antireflection layer (LR layer). These layers are formed on the release layer of the polyester film, laminated on the protective film, and then peeled off the polyester substrate from the release layer, whereby each functional layer and the protective film are laminated. The body is easily obtained.

〔ハードコート層〕
ハードコート層はハードコート性を有する。本発明におけるハードコート性とは、JIS K5600:1999に準拠し、荷重500g、速度1mm/sの条件下での鉛筆法による引っかき硬度が2H以上である。
[Hard coat layer]
The hard coat layer has a hard coat property. The hard coat property in the present invention is based on JIS K5600: 1999, and the scratch hardness according to the pencil method under a load of 500 g and a speed of 1 mm / s is 2H or more.

ハードコート層を構成する樹脂成分としては、電離放射線硬化型樹脂が簡易な加工操作で効率よく硬化することができるため好適であり、硬化後に、十分な強度を持ち、透明性を有する被膜を与える電離放射線硬化型樹脂を特に制限なく使用できる。   As the resin component constituting the hard coat layer, an ionizing radiation curable resin is suitable because it can be cured efficiently with a simple processing operation, and after curing, a coating having sufficient strength and transparency is provided. An ionizing radiation curable resin can be used without any particular limitation.

電離放射線硬化型樹脂としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等のラジカル重合性官能基や、エポキシ基、ビニルエーテル基、オキセタン基等のカチオン重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマー、ポリマーを単独で、または適宜混合した組成物が用いられる。モノマーの例としては、アクリル酸メチル、メチルメタクリレート、メトキシポリエチレンメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を挙げることができる。オリゴマー、プレポリマーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、多官能ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート、アルキットアクリレート、メラミンアクリレート、シリコーンアクリレート等のアクリレート化合物、不飽和ポリエステル、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテルや各種脂環式エポキシ等のエポキシ系化合物、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテル等のオキセタン化合物を挙げることができる。ポリマーとしては、ポリアクリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等を挙げることができる。これらは単独、もしくは複数混合して使用することができる。これら電離放射線硬化型樹脂の中で、特に官能基数が3個以上の多官能モノマーは、硬化速度が上がることや硬化物の硬度が向上させることができる。さらに、多官能ウレタンアクリレートを使用することにより、硬化物の硬度や柔軟性などを付与することができる。   Examples of the ionizing radiation curable resin include monomers and oligomers having radical polymerizable functional groups such as acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, and methacryloyloxy group, and cationic polymerizable functional groups such as epoxy group, vinyl ether group, and oxetane group. , Prepolymers, and compositions obtained by mixing polymers alone or as appropriate are used. Examples of monomers include methyl acrylate, methyl methacrylate, methoxy polyethylene methacrylate, cyclohexyl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, and the like. it can. As oligomers and prepolymers, polyester acrylate, polyurethane acrylate, polyfunctional urethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, acrylate compounds such as alkit acrylate, melamine acrylate, silicone acrylate, unsaturated polyester, tetramethylene glycol diglycidyl ether, Epoxy compounds such as propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether and various alicyclic epoxies, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis {[((3- Oxeta such as ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether Mention may be made of the compound. Examples of the polymer include polyacrylate, polyurethane acrylate, and polyester acrylate. These can be used alone or in combination. Among these ionizing radiation curable resins, in particular, a polyfunctional monomer having 3 or more functional groups can increase the curing speed and improve the hardness of the cured product. Furthermore, by using polyfunctional urethane acrylate, the hardness and flexibility of the cured product can be imparted.

電離放射線硬化型樹脂は、そのままで電離放射線照射により硬化可能であるが、紫外線照射による硬化を行う場合は、光重合開始剤の添加が必要である。光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合開始剤、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物等のカチオン重合開始剤を単独または適宜組み合わせて使用することができる。   The ionizing radiation curable resin can be cured by irradiation with ionizing radiation as it is, but in the case of curing by ultraviolet irradiation, it is necessary to add a photopolymerization initiator. Photopolymerization initiators include radical polymerization initiators such as acetophenone, benzophenone, thioxanthone, benzoin, and benzoin methyl ether, and cationic polymerization starts such as aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, and metallocene compounds. The agents can be used alone or in appropriate combination.

ハードコート層の膜厚はハードコート性が発揮されれば特に制限されないが、概して、1μm以上10μm以下である。   The thickness of the hard coat layer is not particularly limited as long as the hard coat property is exhibited, but is generally 1 μm or more and 10 μm or less.

ハードコート性以外の機能を付与するために、上記ハードコート層には各種添加剤を添加することができる。例として、ポリエステルフィルム基材から剥離する際の離型性を向上させるために添加するフッ素系またはシリコーン系のレベリング剤や、剥離時の剥離帯電による埃付着などを防止するために添加する、電子共役系、金属酸化物系またはイオン系の帯電防止剤などを、必要とされる機能に応じて適宜選択して使用してもよい。添加剤を使用できる点は、下記防眩層および低屈折率層についても同様である。   In order to provide functions other than hard coat properties, various additives can be added to the hard coat layer. Examples include fluorine or silicone leveling agents added to improve releasability when peeling from polyester film substrates, and electrons added to prevent dust adhesion due to peeling charge during peeling. A conjugated, metal oxide or ionic antistatic agent may be appropriately selected and used according to the required function. The point which can use an additive agent is the same also about the following glare-proof layer and a low refractive index layer.

〔防眩層〕
防眩層は、光を散乱させる防眩機能を有し、外部ヘイズおよび/または内部ヘイズによって防眩機能を実現するものであり、防眩層は、表面に凹凸が形成されているか、内部に透光性微粒子を含有している、または、その両方である。
(Anti-glare layer)
The antiglare layer has an antiglare function that scatters light, and realizes the antiglare function by external haze and / or internal haze. It contains translucent fine particles, or both.

防眩層の表面の凹凸を形成する方法に特に制限はないが、凹凸が形成されたポリエステルフィルム基材の上に、電離放射線硬化型樹脂を塗布し、塗布後、硬化する方法が、凹凸の形状をコントロールし易いことから好ましい。   There is no particular limitation on the method of forming the unevenness on the surface of the antiglare layer, but the method of applying an ionizing radiation curable resin on the polyester film substrate on which the unevenness is formed, and curing after application is It is preferable because the shape can be easily controlled.

防眩層のポリエステル基材側の表面凹凸の形状は、求められる防眩性によって決定される。より好適な凹凸の形状は粗さパラメータRaおよびSmおよび平均傾斜角によって規定することが可能であり、Ra:0.01μm以上、Sm:50μm以上500μm以下、平均傾斜角:0.1°以上3.0°以下であることがより好ましい。   The shape of the surface irregularities on the polyester substrate side of the antiglare layer is determined by the required antiglare property. A more preferable uneven shape can be defined by the roughness parameters Ra and Sm and the average inclination angle. Ra: 0.01 μm or more, Sm: 50 μm or more and 500 μm or less, Average inclination angle: 0.1 ° or more 3 More preferably, it is 0 ° or less.

防眩層の厚さについては特に制限はないが、薄すぎると支持体側に形成される凹凸の形状が、担持体側に形成される凹凸にも残ることとなり、ギラツキ防止の点で好ましくない。一方、厚すぎる場合には樹脂の硬化収縮によるカールやクラックが発生するため、ハンドリングの点で好ましくないことから、1μm以上12μm以下の範囲であることが好ましい。   The thickness of the antiglare layer is not particularly limited, but if it is too thin, the uneven shape formed on the support side remains on the uneven surface formed on the support side, which is not preferable in terms of preventing glare. On the other hand, if it is too thick, curling and cracking due to curing shrinkage of the resin occur, which is not preferable in terms of handling. Therefore, it is preferably in the range of 1 μm to 12 μm.

一方、内部ヘイズを生ずるため、電離放射線硬化型樹脂中に添加する透光性微粒子としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリル共重合体、ナイロン樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂等の有機樹脂微粒子、シリカ等の無機微粒子を使用することができる。ここで、透光性微粒子は、樹脂成分との屈折率差が0.04以下であることが好適であり、0.01以下であることがより好適である。樹脂成分との屈折率差が大きいと、防眩層中にて内部散乱が生じ、コントラストが低下することとなるため好ましくない。   On the other hand, the translucent fine particles added to the ionizing radiation curable resin to cause internal haze include, for example, acrylic resin, polystyrene resin, styrene-acrylic copolymer, nylon resin, silicone resin, melamine resin, polyether. Organic resin fine particles such as sulfone resin and inorganic fine particles such as silica can be used. Here, the translucent fine particles preferably have a refractive index difference of 0.04 or less from the resin component, and more preferably 0.01 or less. A large difference in refractive index from the resin component is not preferable because internal scattering occurs in the antiglare layer and the contrast is lowered.

防眩層の膜厚は防眩性が発揮されれば特に制限されないが、概して1μm以上10μm以下である。なお、上記防眩層は防眩性に加え、ハードコート性を兼ね備えることも可能であり、この場合、使用する樹脂成分を調整することでハードコート性が付与される。   The film thickness of the antiglare layer is not particularly limited as long as the antiglare property is exhibited, but is generally 1 μm or more and 10 μm or less. In addition to the antiglare property, the antiglare layer can also have a hard coat property. In this case, the hard coat property is imparted by adjusting the resin component used.

〔反射防止層〕
反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層とから構成される。低屈折率層とは、隣接する高屈折率層(ハードコート層、防眩層、または、保護フィルム)よりも屈折率が低い層であり、高屈折率層と積層された状態で低屈折率層側からの光の反射防止に寄与する。なお、ここで高屈折率、低屈折率というのは絶対的な屈折率を規定するものではなく、2つの層の屈折率を相対的に比較して高い、または、低いと規定しているのであり、両者が下記(iii)の関係を有する時に最も反射率が低くなるとされている。
n2=(n1)1/2・・・(iii)
(n1は高屈折率層の屈折率、n2は低屈折率層の屈折率)
(Antireflection layer)
The antireflection layer is composed of a low refractive index layer and a high refractive index layer. The low refractive index layer is a layer having a lower refractive index than the adjacent high refractive index layer (hard coat layer, antiglare layer or protective film), and has a low refractive index in a state of being laminated with the high refractive index layer. This contributes to preventing reflection of light from the layer side. Here, the high refractive index and the low refractive index do not define an absolute refractive index, but rather specify that the refractive indices of the two layers are relatively high or low compared. It is said that the reflectance is lowest when both have the following relationship (iii).
n2 = (n1) 1/2 (iii)
(N1 is the refractive index of the high refractive index layer, n2 is the refractive index of the low refractive index layer)

好適に反射防止機能が発揮されるために、低屈折率層の屈折率は1.45以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばLiF(屈折率n=1.4)、MgF(n=1.4)、3NaF・AlF(n=1.4)、AlF(n=1.4)、NaAlF(n=1.33)等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系、シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。その中で、特に、フッ素系の含フッ素材料が防汚性に優れるため、低屈折率層が表面となった際の汚れ防止の点において好ましい。 In order to suitably exhibit the antireflection function, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.45 or less. Examples of the material having these characteristics include LiF (refractive index n = 1.4), MgF 2 (n = 1.4), 3NaF · AlF 3 (n = 1.4), AlF 3 (n = 1. 4) Inorganic low-reflective material in which inorganic material such as Na 3 AlF 6 (n = 1.33) is finely divided and contained in acrylic resin or epoxy resin, fluorine-based, silicone-based organic compound, heat Examples thereof include organic low reflection materials such as plastic resins, thermosetting resins, and radiation curable resins. Among them, in particular, the fluorine-based fluorine-containing material is excellent in antifouling property, and therefore, it is preferable in terms of preventing contamination when the low refractive index layer becomes the surface.

上記含フッ素材料としては、有機溶剤に溶解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共重合体や、フルオロオレフィン/炭化水素共重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアクリレート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシラン、含フッ素ポリシロキサン等を挙げることができる。これらは単独でも複数組み合わせて使用することも可能である。含フッ素ポリシロキサンは、加水分解性シラン化合物および/またはその加水分解物と硬化促進剤とを少なくとも含有する混合物が硬化したものであり、加水分解性シラン化合物として、皮膜形成剤および帯電防止剤としての機能を有するカチオン変性シラン化合物を含有させることもできる。   Examples of the fluorine-containing material include vinylidene fluoride copolymers, fluoroolefin / hydrocarbon copolymers, fluorine-containing epoxy resins, fluorine-containing epoxy acrylates, fluorine-containing silicones, which are easily dissolved in organic solvents. , Fluorine-containing alkoxysilane, fluorine-containing polysiloxane, and the like. These can be used alone or in combination. The fluorine-containing polysiloxane is obtained by curing a hydrolyzable silane compound and / or a mixture containing at least a hydrolyzate thereof and a curing accelerator, as a hydrolyzable silane compound, as a film forming agent and an antistatic agent. A cation-modified silane compound having the above function can also be contained.

低屈折率層の膜厚は、高屈折率層との関係で反射防止機能が発揮されれば特に制限されないが、概して、0.05μm以上0.2μm以下であり、高屈折率層の膜厚は、概して、0.05μm以上10μm以下であることが好ましい。上記低屈折率層は高屈折率層との関係で反射防止機能を発揮するが、原料選定により、ハードコート性を兼ね備えることも可能である。また、高屈折率層は、原料選定により、ハードコート性を有していてもよいし、さらに防眩性を備えていてもよい。   The thickness of the low refractive index layer is not particularly limited as long as the antireflection function is exhibited in relation to the high refractive index layer, but is generally 0.05 μm or more and 0.2 μm or less. Is generally preferably 0.05 μm or more and 10 μm or less. The low refractive index layer exhibits an antireflection function in relation to the high refractive index layer, but can also have a hard coat property by selecting a raw material. Further, the high refractive index layer may have a hard coat property or may have an antiglare property depending on the selection of raw materials.

《偏光板》
次に、本発明の保護フィルムを備える偏光板について説明する。本発明に係る偏光板は、偏光フィルムの少なくとも片面に、上記保護フィルムを備えるものである。
"Polarizer"
Next, a polarizing plate provided with the protective film of the present invention will be described. The polarizing plate according to the present invention is provided with the protective film on at least one surface of the polarizing film.

偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系樹脂(PVA樹脂)からなり、偏光フィルムに入射する光のうち、ある方向の振動面を有する光を透過し、それと直交する振動面を有する光を吸収する性質を有するフィルムであり、典型的には、PVA樹脂に二色性色素が吸着配向している。偏光フィルムを構成するPVA樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得られる。PVA樹脂の原料となるポリ酢酸ビニル系樹脂は、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルおよびこれと共重合可能な他の単量体との共重合体であってもよい。上記PVA樹脂からなるフィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、および染色後のホウ酸架橋処理を施すことによって、偏光フィルムを製造できる。二色性色素としては、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。一軸延伸は、二色性色素による染色の前に行なってもよいし、二色性色素による染色と同時に行なってもよいし、二色性色素による染色の後、たとえばホウ酸架橋処理中に行なってもよい。かくして製造され、二色性色素が吸着配向しているPVA樹脂からなる偏光フィルムが、偏光板の構成材料の一つとなる。   The polarizing film is made of a polyvinyl alcohol resin (PVA resin), and has a property of transmitting light having a vibration surface in a certain direction out of light incident on the polarizing film and absorbing light having a vibration surface orthogonal to the direction. A dichroic dye is typically adsorbed and oriented on a PVA resin. The PVA resin constituting the polarizing film can be obtained by saponifying a polyvinyl acetate resin. The polyvinyl acetate resin used as the raw material for the PVA resin may be a copolymer of polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, or a copolymer of vinyl acetate and other monomers copolymerizable therewith. Good. A polarizing film can be produced by subjecting the film made of the PVA resin to uniaxial stretching, dyeing with a dichroic dye, and boric acid crosslinking treatment after dyeing. As the dichroic dye, iodine or a dichroic organic dye is used. Uniaxial stretching may be performed before dyeing with a dichroic dye, may be performed simultaneously with dyeing with a dichroic dye, or after dyeing with a dichroic dye, for example, during a boric acid crosslinking treatment. May be. Thus, the polarizing film which consists of PVA resin which is manufactured and the dichroic dye adsorbs and becomes one of the constituent materials of a polarizing plate.

偏光フィルムと保護フィルムとの貼合には、好ましくは紫外線硬化型接着剤が用いられる。紫外線硬化型接着剤は、液状の塗布可能な状態で供給される限りにおいて、従来から偏光板の製造に使用されている公知のものを使用できるが、耐候性や重合性などの観点から、カチオン重合性の化合物、たとえば、エポキシ化合物を紫外線硬化性成分の一つとして含有するものが好ましい。   An ultraviolet curable adhesive is preferably used for pasting the polarizing film and the protective film. As long as the ultraviolet curable adhesive is supplied in a liquid coatable state, a known one that has been conventionally used in the production of polarizing plates can be used, but from the viewpoint of weather resistance, polymerizability, etc. A polymerizable compound, for example, one containing an epoxy compound as one of the ultraviolet curable components is preferable.

紫外線硬化型接着剤には、エポキシ化合物を代表例とするカチオン重合性化合物のほか、重合開始剤、特に紫外線の照射によりカチオン種またはルイス酸を発生し、カチオン重合性化合物の重合を開始させるための光カチオン重合開始剤が配合される。さらに、加熱によって重合を開始させる熱カチオン重合開始剤、その他、光増感剤などの各種添加剤が配合されていてもよい。   In addition to cationically polymerizable compounds such as epoxy compounds as representative examples of ultraviolet curable adhesives, polymerization initiators, particularly to generate cationic species or Lewis acids upon irradiation with ultraviolet rays, initiate polymerization of cationically polymerizable compounds. The photocationic polymerization initiator is blended. Further, a thermal cationic polymerization initiator that initiates polymerization by heating, and various other additives such as a photosensitizer may be blended.

本発明に係る偏光板は、少なくとも一方の面に上記保護フィルムを備えており、偏光板の両面に保護フィルムを備える構成が含まれる。当該保護フィルムは、面内方向および厚み方向の位相差値が低く、分子配向処理をしなくても高い引張弾性率および引張強度を有するため、偏光フィルムの応力緩和や吸湿脱湿が生じる環境(例えば高温下、高温高湿下、低温下、高温低温サイクル下など)であっても、偏光フィルムの寸法変化が抑制される。   The polarizing plate which concerns on this invention is equipped with the said protective film on at least one surface, and the structure provided with a protective film on both surfaces of a polarizing plate is contained. The protective film has a low retardation value in the in-plane direction and a thickness direction, and has a high tensile elastic modulus and tensile strength without performing a molecular orientation treatment. Therefore, an environment in which stress relaxation and moisture absorption / dehumidification occur in the polarizing film ( Even under high temperature, high temperature and high humidity, low temperature, high temperature and low temperature cycle, etc.), the dimensional change of the polarizing film is suppressed.

《保護フィルムおよびフィルム積層体の製造方法》
[保護フィルム形成工程]
本発明に係る保護フィルムの製造方法は、上記保護フィルムを製造できれば特に限定されないが、一例として、以下の工程(A1)および(A2)を含む保護フィルム形成工程を含む方法が挙げられる。
工程(A1):エネルギー線硬化型組成物を、フィルム基材上、または、フィルム基材の離型層上に塗布する。
工程(A2):塗布後、上記エネルギー線硬化型組成物を硬化させて保護フィルムを形成する。
<< Method for producing protective film and film laminate >>
[Protective film forming step]
Although the manufacturing method of the protective film which concerns on this invention will not be specifically limited if the said protective film can be manufactured, The method including the protective film formation process containing the following processes (A1) and (A2) as an example is mentioned.
Step (A1): The energy beam curable composition is applied on the film substrate or the release layer of the film substrate.
Step (A2): After coating, the energy beam curable composition is cured to form a protective film.

エネルギー線硬化型組成物は、必須成分としてブロックAに係るウレタン(メタ)アクリレートおよび、ブロックBに係る(メタ)アクリレート基含有原料およびチオールを含んでいる。モノマーである上記ウレタン(メタ)アクリレートおよび(メタ)アクリレート基含有原料およびチオールは、保護フィルムの原料であり、当該モノマーが共重合することで上記《保護フィルム》にて述べた繰り返し単位が形成される。   The energy ray curable composition contains urethane (meth) acrylate according to block A, (meth) acrylate group-containing raw material according to block B, and thiol as essential components. The urethane (meth) acrylate and (meth) acrylate group-containing raw material and thiol that are monomers are raw materials for the protective film, and the monomer is copolymerized to form the repeating unit described in the above << Protective film >>. The

上記ブロックAのウレタン(メタ)アクリレートIまたはIIの一例としては、飽和環状脂肪族構造Rを有する下記構造A、下記飽和脂肪族鎖Rを有する構造B(任意に含まれる)、および、飽和環状脂肪族構造Rを有する下記構造Cを含む構造を例示できる。上記構造Bは任意成分である。
−CO−NH−R−NH−CO−・・・(構造A)
−O−R−CO−・・・(構造B)
−O−R−O−・・・(構造C)
Examples of the urethane (meth) acrylate I or II of the block A, the following structure A having a saturated cyclic aliphatic structure R 1, (optionally contained in) the structure B having the following saturated aliphatic chain R 2, and, a structure containing the structure C having a saturated cyclic aliphatic structure R 3 can be exemplified. The structure B is an optional component.
—CO—NH—R 1 —NH—CO— (Structure A)
—O—R 2 —CO— (Structure B)
—O—R 3 —O— (Structure C)

当該ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、Rを含むジイソシアネート、Rを含むエステル(任意に使用される)、Rを含むジオールに加えて、水酸基含有アルキル(メタ)アクリレート、または、イソシアネート基含有アルキル(メタ)アクリレートを用いて得ることができ、容易に製造可能である。 The urethane (meth) acrylate is, for example, a diisocyanate containing R 1 , an ester containing R 2 (optionally used), a diol containing R 3 , a hydroxyl group-containing alkyl (meth) acrylate, or an isocyanate group. It can be obtained using the alkyl (meth) acrylate contained and can be easily produced.

一例として、上記構造A、構造Bおよび構造Cの割合は、m+1:m(r+s):m、m:m(r+s):m+1、または、m:k+n:m+1とすることができる。上記mは1〜4の整数を示し、rおよびsはそれぞれ0〜2の整数を示し、かつ、rとsとの和は1〜2であり、kは0〜2の整数を示し、nは0〜2の整数を示す。   As an example, the ratio of the structure A, the structure B, and the structure C can be m + 1: m (r + s): m, m: m (r + s): m + 1, or m: k + n: m + 1. M represents an integer of 1 to 4, r and s each represent an integer of 0 to 2, and the sum of r and s is 1 to 2, k represents an integer of 0 to 2, n Represents an integer of 0-2.

ウレタン(メタ)アクリレートを合成する手法は特に限定されないが、一例として、まず、2官能性の中間体を合成し、水酸基含有アルキル(メタ)アクリレート、または、イソシアネート基含有アルキル(メタ)アクリレートを中間体の両末端に合成する手法が挙げられる。   Although the method for synthesizing urethane (meth) acrylate is not particularly limited, as an example, first, a bifunctional intermediate is synthesized, and hydroxyl group-containing alkyl (meth) acrylate or isocyanate group-containing alkyl (meth) acrylate is intermediated. A method of synthesizing at both ends of the body is mentioned.

具体的に、上述した一般式(1)の繰り返し単位に対応するウレタン(メタ)アクリレートを合成する手法を例示すると、〔1〕Rを有するエステルと、Rを有するジオールとを、m(r+s):mのモル比で反応させて、さらに、m+1モルのRを有するジイソシアネートを反応させて、両末端に−N=C=O基を有する中間体を得る。〔2〕その後、1モルの上記中間体に対して、2モルの水酸基含有アルキル(メタ)アクリレートを反応させることで、下記一般式(6)で表されるウレタン(メタ)アクリレートが得られる。

Figure 2017078840
(一般式(6)中、Rは飽和環状脂肪族構造を示し、Rは炭素数5〜10の直鎖または分岐鎖状の飽和脂肪族鎖を示し、Rは、Rと異なる飽和環状脂肪族構造を示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、Rは、水素原子、メチル基またはエチル基を示し、mは1〜4の整数を示し、rおよびsはそれぞれ0〜2の整数を示し、かつ、rとsとの和は1〜2であり、xは0〜3の整数を示す) Specifically, when a method for synthesizing a urethane (meth) acrylate corresponding to the repeating unit of the general formula (1) described above is exemplified, [1] an ester having R 2 and a diol having R 3 are represented by m ( r + s): m is reacted at a molar ratio of m, and further m + 1 mole of diisocyanate having R 1 is reacted to obtain an intermediate having —N═C═O groups at both ends. [2] Thereafter, urethane (meth) acrylate represented by the following general formula (6) is obtained by reacting 1 mol of the intermediate with 2 mol of a hydroxyl group-containing alkyl (meth) acrylate.
Figure 2017078840
(In General Formula (6), R 1 represents a saturated cycloaliphatic structure, R 2 represents a linear or branched saturated aliphatic chain having 5 to 10 carbon atoms, and R 3 is different from R 1. R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, m represents an integer of 1 to 4, and r and s are each 0. ) Represents an integer of ˜2, and the sum of r and s is 1 to 2, and x represents an integer of 0 to 3)

一般式(2)の繰り返し単位に対応するウレタン(メタ)アクリレートを合成する手法を例示すると、〔1〕Rを有するジイソシアネートと、Rを有するエステルとを、m:m(r+s)のモル比で反応させ、さらに、m+1モルのRを有するジオールを反応させて、両末端に水酸基を有する中間体を得る。〔2〕その後、1モルの中間体に対して、2モルのイソシアネート基含有アルキル(メタ)アクリレートを反応させることで、一般式(7)で表される繰り返し単位に対応するウレタン(メタ)アクリレートが得られる。

Figure 2017078840

(一般式(7)中、Rは飽和環状脂肪族構造を示し、Rは炭素数5〜10の直鎖または分岐鎖状の飽和脂肪族鎖を示し、Rは、Rと異なる飽和環状脂肪族構造を示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、Rは、水素原子、メチル基またはエチル基を示し、mは1〜4の整数を示し、rおよびsはそれぞれ0〜2の整数を示し、かつ、rとsとの和は1〜2であり、xは0〜3の整数を示す) An example of a method for synthesizing a urethane (meth) acrylate corresponding to the repeating unit of the general formula (2) is as follows. [1] A diisocyanate having R 1 and an ester having R 2 are converted into m: m (r + s) moles. The reaction is carried out in a ratio, and further m + 1 mol of diol having R 3 is reacted to obtain an intermediate having hydroxyl groups at both ends. [2] Thereafter, urethane (meth) acrylate corresponding to the repeating unit represented by the general formula (7) by reacting 2 mol of an isocyanate group-containing alkyl (meth) acrylate with 1 mol of an intermediate. Is obtained.
Figure 2017078840

(In the general formula (7), R 1 represents a saturated cycloaliphatic structure, R 2 represents a linear or branched saturated aliphatic chain having 5 to 10 carbon atoms, and R 3 is different from R 1. R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, m represents an integer of 1 to 4, and r and s are each 0. ) Represents an integer of ˜2, and the sum of r and s is 1 to 2, and x represents an integer of 0 to 3)

一般式(3)の繰り返し単位に対応するウレタン(メタ)アクリレートを合成する手法を例示すると、〔1〕Rを有するジイソシアネートと、Rを有するジオールとをm:m+1のモル比で反応させて、両末端に水酸基を有する中間体を得る。〔2−1〕その後、1モルの上記中間体に対して、2モルのイソシアネート基含有アルキル(メタ)アクリレートを反応させるか、〔2−2〕1モルの上記中間体に対して、k+nモルのRを有するエステルを反応させた後、2モルのイソシアネート基含有アルキル(メタ)アクリレートを反応させるか、〔2−3〕2モルのイソシアネート基含有アルキル(メタ)アクリレートに対して、k+nモルのRを有するエステルを反応させて得られたウレタン(メタ)アクリレートを、1モルの上記中間体に対して反応させるか、何れかの手法によって一般式(8)で表される繰り返し単位に対応するウレタン(メタ)アクリレートが得られる。

Figure 2017078840
(一般式(8)中、Rは飽和環状脂肪族構造を示し、Rは炭素数5〜10の直鎖または分岐鎖状の飽和脂肪族鎖を示し、Rは、Rと異なる飽和環状脂肪族構造を示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、Rは、水素原子、メチル基またはエチル基を示し、mは1〜4の整数を示し、kは0〜2の整数を示し、nは0〜2の整数を示し、xは0〜3の整数を示す) An example of a method for synthesizing a urethane (meth) acrylate corresponding to the repeating unit of the general formula (3) is as follows: [1] A diisocyanate having R 1 and a diol having R 3 are reacted at a molar ratio of m: m + 1. Thus, an intermediate having hydroxyl groups at both ends is obtained. [2-1] Then, 2 mol of an isocyanate group-containing alkyl (meth) acrylate is reacted with 1 mol of the intermediate, or [2-2] k + n mol with respect to 1 mol of the intermediate. after reacting the ester with an R 2 of, it is reacted with 2 moles of isocyanate group-containing alkyl (meth) acrylate, relative to [2-3] 2 moles of isocyanate group-containing alkyl (meth) acrylate, k + n mol The urethane (meth) acrylate obtained by reacting the ester having R 2 is reacted with 1 mol of the above intermediate, or by any method, the repeating unit represented by the general formula (8) The corresponding urethane (meth) acrylate is obtained.
Figure 2017078840
(In General Formula (8), R 1 represents a saturated cycloaliphatic structure, R 2 represents a linear or branched saturated aliphatic chain having 5 to 10 carbon atoms, and R 3 is different from R 1. R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, m represents an integer of 1 to 4, and k represents an integer of 0 to 2. Represents an integer, n represents an integer of 0 to 2, and x represents an integer of 0 to 3)

上記各原料の合成手順を示したが、本発明に係るウレタン(メタ)アクリレートの合成手順はこれらに限定されず、各原料を同時に混合してもかまわない。ただし、上記合成手順の場合、分子量を制御し易い点で優れている。   Although the synthetic | combination procedure of each said raw material was shown, the synthetic | combination procedure of the urethane (meth) acrylate based on this invention is not limited to these, Each raw material may be mixed simultaneously. However, the above synthesis procedure is excellent in that the molecular weight can be easily controlled.

上記ブロックBを生じさせるモノマーは、上記(メタ)アクリレート基含有原料の一例で具体例について述べたので、説明を繰り返さない。   Since the monomer for generating the block B is described as a specific example in the example of the (meth) acrylate group-containing raw material, description thereof will not be repeated.

上記チオエーテル構造を生じさせるチオール(R−SH)は、ウレタン(メタ)アクリレートおよび(メタ)アクリレート基含有原料との反応過程でS上のHが単結合となった以外は、上述したチオエーテル構造(R−S−)と炭化水素Rの点で共通し、炭化水素Rの具体例については、上述したチオエーテル構造ですでに説明したため、炭化水素Rに関する説明を繰り返さない。   The thiol (R-SH) that produces the thioether structure is the thioether structure (described above) except that H on S becomes a single bond during the reaction with the urethane (meth) acrylate and the (meth) acrylate group-containing raw material. R-S-) and hydrocarbon R are common, and specific examples of hydrocarbon R have already been described in the above-described thioether structure, and therefore description on hydrocarbon R will not be repeated.

チオエーテル構造を生じさせる代表的なチオールを以下に示す。

Figure 2017078840
(一般式(11)中、Rは、水素原子がメチル基によって置換されていてもよい炭素数1または2のアルキル鎖を示し、nは1〜4の整数を示す) Representative thiols that give rise to thioether structures are shown below.
Figure 2017078840
(In the general formula (11), R 6 represents an alkyl chain having 1 or 2 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a methyl group, and n represents an integer of 1 to 4)

また、チオエーテル構造を生じさせる代表的なチオールの他の構造を以下に示す。

Figure 2017078840
(一般式(10)中、Rは、水素原子がアルキル基によって置換されていてもよい炭素数1または2のアルキル鎖を示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、qは1〜4の整数を示す) Other structures of typical thiols that give rise to thioether structures are shown below.
Figure 2017078840
(In the general formula (10), R 7 represents an alkyl chain having 1 or 2 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with an alkyl group, R 8 represents a hydrogen atom or a methyl group, and q represents 1 to 2) Indicates an integer of 4)

上記一般式(10)において、Rが、エチル鎖であり、エチル鎖のβ炭素にメチル基が結合しており、qが4である好適なチオールを以下に示す。このチオールは4官能性であり、繰り返し単位と複雑な3次元構造を形成するチオエーテル構造を生じさせる。

Figure 2017078840
In the above general formula (10), R 7 is an ethyl chain, a methyl group is bonded to the β carbon of the ethyl chain, and a suitable thiol having q of 4 is shown below. This thiol is tetrafunctional and gives rise to a thioether structure that forms a complex three-dimensional structure with the repeating unit.
Figure 2017078840

エネルギー線硬化型組成物の調製は、ブロックAおよびブロックBおよびチオエーテル構造の繰り返し単位を生じさせるモノマーおよびチオールに、モノマーおよびチオールの重合を開始する光重合開始剤を添加して行う。
光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合開始剤、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物等のカチオン重合開始剤を単独または適宜組み合わせて使用することができる。
The energy ray-curable composition is prepared by adding a photopolymerization initiator that initiates polymerization of the monomer and thiol to the monomer and thiol that generate the repeating units of the block A, block B, and thioether structure.
Photopolymerization initiators include radical polymerization initiators such as acetophenone, benzophenone, thioxanthone, benzoin, and benzoin methyl ether, and cationic polymerization starts such as aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, and metallocene compounds. The agents can be used alone or in appropriate combination.

エネルギー線硬化型組成物に、《保護フィルム》にて上述した紫外線吸収剤、レベリング剤や帯電防止剤等、各種添加剤を添加してもよい。   You may add various additives, such as the ultraviolet absorber mentioned above by << protective film >>, a leveling agent, and an antistatic agent, to an energy-beam curable composition.

エネルギー線硬化型組成物における、モノマー(ブロックAおよびブロックBを生じさせるモノマーの総量)、チオール、光重合開始剤および任意の各種添加剤の各割合は、各材料の種類によって異なり、一義的に規定することは困難であるが、一例として、モノマーおよびチオールが50質量%以上99質量%以下、光重合開始剤が0.5質量%以上10質量%以下、各種添加剤が0.01質量%以上50質量%以下とすることができる。また、トルエンなどの有機溶剤をエネルギー線硬化型組成物に添加してもよい。   In the energy ray curable composition, each ratio of the monomer (the total amount of monomers that generate the block A and the block B), the thiol, the photopolymerization initiator, and any of various additives varies depending on the type of each material, and is uniquely Although it is difficult to define, as an example, monomer and thiol are 50% by mass to 99% by mass, photopolymerization initiator is 0.5% by mass to 10% by mass, and various additives are 0.01% by mass. It can be made 50 mass% or less. Moreover, you may add organic solvents, such as toluene, to an energy-beam curable composition.

ブロックAを生じさせるモノマーであるウレタン(メタ)アクリレートと、ブロックBを生じさせるモノマーである(メタ)アクリレート基含有原料との質量比は、ブロックBに起因する保護フィルムの引張弾性率向上の程度を好適なものとすべく、ウレタン(メタ)アクリレート:(メタ)アクリレート基含有原料=90:10〜10:90が好ましく、80:20〜20:80がより好ましく、70:30〜30:70が特に好ましい。   The mass ratio of the urethane (meth) acrylate that is the monomer that generates the block A and the (meth) acrylate group-containing raw material that is the monomer that generates the block B is the degree of improvement in the tensile elastic modulus of the protective film resulting from the block B Is preferably urethane (meth) acrylate: (meth) acrylate group-containing raw material = 90: 10 to 10:90, more preferably 80:20 to 20:80, and 70:30 to 30:70. Is particularly preferred.

ブロックAおよびブロックBの繰り返し単位となるモノマーの総量と、チオエーテル構造を生じさせるチオールとの質量比は、チオエーテル構造に起因する保護フィルムの引張弾性率および引張強度の程度を好適なものとすべく、ブロックAおよびブロックBのモノマー総量:チオール=95:5〜50:50が好ましく、95:5〜70:30がより好ましく、90:10〜80:20が特に好ましい。   The mass ratio of the total amount of monomers that are the repeating units of block A and block B and the thiol that produces the thioether structure should be suitable for the degree of tensile modulus and tensile strength of the protective film resulting from the thioether structure. , Block A and Block B total monomer amount: thiol = 95: 5 to 50:50 is preferable, 95: 5 to 70:30 is more preferable, and 90:10 to 80:20 is particularly preferable.

調製したエネルギー線硬化型組成物を、フィルム基材上、または、フィルム基材の離型層上に塗布するには、連続生産性を考えると、ロールコーティング法、グラビアコーティング法等のコーティング法を用いることが好ましい。当該コーティング法によって、薄層、例えば、80μm以下、好ましくは50μm以下、より好ましくは30μm以下の保護フィルムを形成するようエネルギー線硬化型組成物を塗布できる。   In order to apply the prepared energy ray curable composition on the film substrate or the release layer of the film substrate, considering continuous productivity, a coating method such as a roll coating method or a gravure coating method is used. It is preferable to use it. By the coating method, the energy ray curable composition can be applied so as to form a protective film having a thin layer, for example, 80 μm or less, preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less.

工程(A2)における硬化は、紫外線照射装置から紫外線を照射することで行うことができる。用いる紫外線光源は特に限定されないが、波長400nm以下に発光分布を有する、たとえば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプなどを用いることができる。アクリル化合物を活性エネルギー線硬化性成分とする組成物を用いる場合、一般的な重合開始剤が示す吸収波長を考慮すると、400nm以下の光を多く有する高圧水銀灯またはメタルハライドランプが、紫外線光源として好ましく用いられる。   Curing in the step (A2) can be performed by irradiating ultraviolet rays from an ultraviolet irradiation device. The ultraviolet light source to be used is not particularly limited, but has a light emission distribution at a wavelength of 400 nm or less, such as a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave excitation mercury lamp, a metal halide lamp, etc. Can be used. In the case of using a composition having an acrylic compound as an active energy ray-curable component, a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp having a lot of light of 400 nm or less is preferably used as an ultraviolet light source in consideration of an absorption wavelength exhibited by a general polymerization initiator. It is done.

エネルギー線硬化型組成物を硬化することで、フィルム基材上、または、フィルム基材の離型層上に保護フィルムが形成され、フィルム基材に保護フィルムが積層されたフィルム積層体が得られる。さらに、フィルム積層体から保護フィルムを剥離することで単体の保護フィルムを得ることもできる。   By curing the energy ray-curable composition, a protective film is formed on the film substrate or the release layer of the film substrate, and a film laminate in which the protective film is laminated on the film substrate is obtained. . Furthermore, a single protective film can be obtained by peeling the protective film from the film laminate.

[機能層形成工程]
フィルム積層体の製造方法のバリエーションとして、保護フィルム形成工程(A1)および(A2)の前に、機能層形成工程(B)を含む製造方法が挙げられる。機能層形成工程(B)は、フィルム基材上、または、フィルム基材の離型層上に、機能層の原料であるエネルギー線硬化型組成物を塗布し、硬化させてフィルム基材に機能層を形成する。
[Functional layer formation process]
As a variation of the manufacturing method of a film laminated body, the manufacturing method which contains a functional layer formation process (B) before a protective film formation process (A1) and (A2) is mentioned. In the functional layer forming step (B), the energy ray curable composition that is the raw material of the functional layer is applied to the film base material or the release layer of the film base material and cured to function on the film base material. Form a layer.

上記機能層としては特に限定されないが、上述したハードコート層、防眩層および反射防止層が挙げられる。機能層の原料であるエネルギー線硬化型組成物は、ハードコート層、防眩層、および反射防止層の説明にて上述した樹脂等を含む。また、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、イソプロピルアルコール(IPA)、トルエンなどの有機溶剤が添加されていてもよい。   Although it does not specifically limit as said functional layer, The hard-coat layer, glare-proof layer, and antireflection layer which were mentioned above are mentioned. The energy ray curable composition that is a raw material of the functional layer includes the resin described above in the description of the hard coat layer, the antiglare layer, and the antireflection layer. An organic solvent such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone (MIBK), isopropyl alcohol (IPA), or toluene may be added.

機能層の原料であるエネルギー線硬化型組成物を、フィルム基材上、または、フィルム基材の離型層上に塗布するには、連続生産性を考えると、ロールコーティング法、グラビアコーティング法等のコーティング法を用いることが好ましい。使用するエネルギー線硬化型組成物に応じて、任意に加熱を行った後、紫外線照射等によって架橋、硬化する方法を用いればよい。   In order to apply the energy ray curable composition, which is the raw material of the functional layer, on the film substrate or the release layer of the film substrate, considering continuous productivity, roll coating method, gravure coating method, etc. It is preferable to use this coating method. According to the energy ray curable composition to be used, a method of arbitrarily heating and then crosslinking and curing by ultraviolet irradiation or the like may be used.

機能層形成工程にてフィルム基材に機能層を形成した場合、保護フィルム形成工程(A1)において、ウレタン(メタ)アクリレートを含むエネルギー線硬化型組成物をフィルム基材の機能層側に塗布する。機能層が複数層である場合には、通常、最後に形成した機能層側に塗布する。   When a functional layer is formed on the film substrate in the functional layer forming step, an energy ray curable composition containing urethane (meth) acrylate is applied to the functional layer side of the film substrate in the protective film forming step (A1). . When the functional layer is a plurality of layers, it is usually applied to the last formed functional layer side.

凹凸が形成されたフィルム基材を用いた場合、当該フィルム基材に形成された機能層に凹凸が形成され、防眩性を有する防眩層として機能する。上記凹凸の形状は、求められる防眩性によって決定され、より好適な凹凸の形状は粗さパラメータRaおよびSmおよび平均傾斜角によって規定することが可能であり、Ra:0.01μm以上、Sm:50μm以上500μm以下、平均傾斜角:0.1°以上3.0°以下であることがより好ましい。   When the film base material in which unevenness | corrugation was formed is used, an unevenness | corrugation is formed in the functional layer formed in the said film base material, and it functions as an anti-glare layer which has anti-glare property. The shape of the unevenness is determined by the required antiglare property, and a more preferable uneven shape can be defined by the roughness parameters Ra and Sm and the average inclination angle. Ra: 0.01 μm or more, Sm: More preferably, it is 50 μm or more and 500 μm or less, and the average inclination angle is 0.1 ° or more and 3.0 ° or less.

機能層を形成する際、複数層を形成することもできる。例えば、複数のハードコート層を形成する場合、フィルム基材上、または、フィルム基材の離型層上に第1ハードコート層を形成し、第1ハードコート層上に第2ハードコート層を形成する。その後、工程(A1)にて、第2ハードコート層側にウレタン(メタ)アクリレートを含むエネルギー線硬化型組成物を塗布する。上記第2ハードコート層に代えて、防眩層を形成してもよい。   When forming the functional layer, a plurality of layers can be formed. For example, when forming a plurality of hard coat layers, the first hard coat layer is formed on the film substrate or the release layer of the film substrate, and the second hard coat layer is formed on the first hard coat layer. Form. Thereafter, in the step (A1), an energy ray curable composition containing urethane (meth) acrylate is applied to the second hard coat layer side. An antiglare layer may be formed in place of the second hard coat layer.

また、反射防止層を形成する場合、フィルム基材上、または、フィルム基材の離型層上に低屈折率層を形成し、上記低屈折率層上に高屈折率層を形成する。さらに、工程(A1)にて高屈折率層側にウレタン(メタ)アクリレートを含むエネルギー線硬化型組成物を塗布する。これにより、フィルム基材、機能層、保護フィルムの順で積層されたフィルム積層体が得られる。   Moreover, when forming an antireflection layer, a low refractive index layer is formed on a film base material or a release layer of the film base material, and a high refractive index layer is formed on the low refractive index layer. Furthermore, the energy ray-curable composition containing urethane (meth) acrylate is applied to the high refractive index layer side in the step (A1). Thereby, the film laminated body laminated | stacked in order of the film base material, the functional layer, and the protective film is obtained.

《偏光板の製造方法》
本発明に係る偏光板は、偏光フィルムの少なくとも片面に本発明に係る保護フィルムを備える。本発明に係る偏光板の製造方法では、上記保護フィルムを偏光フィルムに貼合する点が重要であり、貼合手法は公知の手法を採用すればよく、特に限定されるものではない。
<< Polarizing plate manufacturing method >>
The polarizing plate according to the present invention includes the protective film according to the present invention on at least one surface of the polarizing film. In the method for producing a polarizing plate according to the present invention, it is important that the protective film is bonded to a polarizing film, and the bonding method may be a known method, and is not particularly limited.

保護フィルムとしては、保護フィルムを単独で使用してもよいが、取り扱い易さから、フィルム積層体、すなわち、フィルム基材と共に保護フィルムを使用することが好ましい。   As the protective film, the protective film may be used alone, but it is preferable to use the protective film together with the film laminate, that is, the film base material, for ease of handling.

例えば、保護フィルム形成工程の後、または、機能層形成工程および保護フィルム形成工程の後、保護フィルムを備える積層体を得た後、上記フィルム積層体の保護フィルム側に偏光フィルムに貼合すれば、本発明に係る偏光板が得られる。   For example, after a protective film forming step or after obtaining a laminate including a protective film after a functional layer forming step and a protective film forming step, the polarizing film is bonded to the protective film side of the film laminate. A polarizing plate according to the present invention is obtained.

偏光板の製造方法に係る工程をより具体的に説明する。下記工程(C1)〜(C4)は、保護フィルム形成工程の後、または、機能層形成工程および保護フィルム形成工程の後に実施される。   The process which concerns on the manufacturing method of a polarizing plate is demonstrated more concretely. The following steps (C1) to (C4) are performed after the protective film forming step or after the functional layer forming step and the protective film forming step.

(C1)フィルム積層体の保護フィルム側(または偏光フィルム)に紫外線硬化型接着剤を塗布する塗工工程、
(C2)塗工工程で塗布された紫外線硬化型接着剤面に偏光フィルム(またはフィルム積層体の保護フィルム側)を重ねて加圧する貼合工程、
(C3)偏光フィルムに紫外線硬化型接着剤を介して保護フィルムが貼合されたフィルム積層体に対して、紫外線照射装置から紫外線を照射することにより、紫外線硬化型接着剤を硬化させる硬化工程、
(C4)必要に応じて積層フィルムからフィルム基材(支持基材)を剥離除去する剥離工程。
(C1) a coating step of applying an ultraviolet curable adhesive to the protective film side (or polarizing film) of the film laminate,
(C2) A laminating step in which a polarizing film (or a protective film side of the film laminate) is applied to the UV curable adhesive surface applied in the coating step and pressed.
(C3) A curing step of curing the ultraviolet curable adhesive by irradiating ultraviolet rays from an ultraviolet irradiation device to the film laminate in which the protective film is bonded to the polarizing film via the ultraviolet curable adhesive,
(C4) The peeling process which peels and removes a film base material (support base material) from a laminated | multilayer film as needed.

塗工工程(C1)では、偏光フィルムの貼合面となる、フィルム積層体の保護フィルム側に紫外線硬化型接着剤を塗布する(または、フィルム積層体の保護フィルム側に代えて、偏光フィルムに紫外線硬化型接着剤を塗布する)。塗布した紫外線硬化型接着剤を水や有機溶剤などで希釈していた場合は、加熱などの方法で適宜乾燥させる。ここで用いる塗工機としては、公知のものを適宜用いることができ、例えば、グラビアロールを用いる塗工機などが挙げられる。   In the coating step (C1), an ultraviolet curable adhesive is applied to the protective film side of the film laminate, which becomes the bonding surface of the polarizing film (or instead of the protective film side of the film laminate, the polarizing film is applied to the polarizing film). Apply UV curable adhesive). When the applied ultraviolet curable adhesive is diluted with water or an organic solvent, it is appropriately dried by a method such as heating. As a coating machine used here, a well-known thing can be used suitably, for example, the coating machine using a gravure roll etc. are mentioned.

貼合工程(C2)では、塗工工程(C1)を経た後、フィルム積層体の接着剤塗布面に、偏光フィルムを重ねて加圧しながら貼合が行なわれる(塗工工程(C1)で偏光フィルムに紫外線硬化型接着剤を塗布した場合、紫外線硬化型接着剤面にフィルム積層体の保護フィルム側を重ねて加圧しながら貼合が行なわれる)。貼合工程での加圧には、公知の手段を用いることができるが、連続搬送しながらの加圧が可能であるという観点からは、一対のニップロールにより挟む方式が好ましく用いられ、加圧時の圧力は、一対のニップロールにより挟む場合の線圧で150〜500N/cm程度とするのが好ましい。   In the bonding step (C2), after passing through the coating step (C1), the polarizing film is laminated on the adhesive-coated surface of the film laminate, and the bonding is performed while pressing (polarization in the coating step (C1)). When an ultraviolet curable adhesive is applied to the film, the film is laminated while pressing the protective film side of the film laminate on the surface of the ultraviolet curable adhesive). A known means can be used for pressurization in the bonding step, but from the viewpoint that pressurization while continuous conveyance is possible, a method of sandwiching between a pair of nip rolls is preferably used. Is preferably about 150 to 500 N / cm as a linear pressure when sandwiched between a pair of nip rolls.

硬化工程(C3)では、偏光フィルムにフィルム積層体を貼合した後、紫外線照射装置から紫外線を照射し、紫外線硬化型接着剤を硬化させる。紫外線は、フィルム積層体越しに照射される。用いる紫外線光源は特に限定されないが、波長400nm以下に発光分布を有する、たとえば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプなどを用いることができる。エポキシ化合物をエネルギー線硬化性成分とする接着剤を用いる場合、一般的な重合開始剤が示す吸収波長を考慮すると、400nm以下の光を多く有する高圧水銀灯またはメタルハライドランプが、紫外線光源として好ましく用いられる。   In a hardening process (C3), after bonding a film laminated body to a polarizing film, an ultraviolet-ray is irradiated from an ultraviolet irradiation device, and an ultraviolet curable adhesive is hardened. Ultraviolet rays are irradiated through the film laminate. The ultraviolet light source to be used is not particularly limited, but has a light emission distribution at a wavelength of 400 nm or less, such as a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave excitation mercury lamp, a metal halide lamp, etc. Can be used. When using an adhesive having an epoxy compound as an energy ray curable component, a high-pressure mercury lamp or metal halide lamp having a large amount of light of 400 nm or less is preferably used as an ultraviolet light source in consideration of the absorption wavelength exhibited by a general polymerization initiator. .

剥離工程(C4)は、必要に応じて適宜行われる工程であり、本工程により保護フィルム上に積層されているフィルム基材を剥離し、除去する(フィルム基材が複数層の場合、フィルム基材の一部を剥離して除去する)ことで、偏光板が得られる。偏光板をさらに加工する場合等において、保護フィルムの表面を後加工工程において保護しておきたい場合などは、これら加工の終了後にフィルム基材を剥離すればよい。   The peeling step (C4) is a step that is appropriately performed as necessary. The film base material laminated on the protective film by this step is peeled off and removed (if the film base material has a plurality of layers, the film base A part of the material is peeled and removed), whereby a polarizing plate is obtained. When the polarizing plate is further processed, when the surface of the protective film is desired to be protected in the post-processing step, the film substrate may be peeled after the completion of the processing.

以下、実施例および比較例に基づき、本発明を説明するが、本発明は実施例の内容に限定されるものではない。得られたフィルム積層体からポリエステルフィルム基材を剥離した保護フィルムを測定対象とし、当該保護フィルムの膜厚、面内方向および厚み方向の位相差値、引張弾性率、引張強度はそれぞれ以下の測定方法にて測定した。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to the content of an Example. The protective film from which the polyester film substrate was peeled from the obtained film laminate was measured, and the film thickness, in-plane direction and thickness direction retardation value, tensile modulus, and tensile strength of the protective film were measured as follows. Measured by the method.

〔膜厚〕
デジタルリニアゲージD−10HSおよびデジタルカウンタC−7HS(株式会社尾崎製作所製)を用いて、保護フィルムの膜厚を測定した。
[Film thickness]
The film thickness of the protective film was measured using a digital linear gauge D-10HS and a digital counter C-7HS (manufactured by Ozaki Manufacturing Co., Ltd.).

〔面内方向および厚み方向の位相差値〕
位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器株式会社製)を用いて、上記式(i)および(ii)に基づき、23℃にて測定波長590nmにおける面内方向の位相差値(Re)および厚み方向の位相差値(Rth)を測定した。
[In-plane direction and thickness direction retardation values]
Using a phase difference measuring device KOBRA-WR (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.), based on the above formulas (i) and (ii), the phase difference value (Re) in the in-plane direction at a measurement wavelength of 590 nm at 23 ° C. The thickness direction retardation value (Rth) was measured.

〔引張弾性率、引張強度〕
保護フィルムを15mm×160mmのサイズに裁断したサンプルフィルムに対し、その長辺を引張方向として、「テンシロン RTF−24」(ヤマト科学製)を用いて、つかみ具間が100mmとなるようにサンプルフィルムの両端をつかみ具に保持し、温度23℃±5℃、相対湿度50%RH±10%RHにて測定荷重レンジ40N、測定速度20mm/minにおける応力−ひずみ曲線の最大傾きから引張弾性率を、応力−ひずみ曲線の最大応力から引張強度を求めた。
[Tensile modulus, tensile strength]
The sample film was cut so that the protective film was cut to a size of 15 mm x 160 mm, using “Tensilon RTF-24” (manufactured by Yamato Kagaku) with the long side as the tensile direction, so that the gap between the grips was 100 mm. Holding the both ends of the wire with a gripper, the tensile modulus of elasticity is determined from the maximum slope of the stress-strain curve at a measurement load range of 40 N and a measurement speed of 20 mm / min at a temperature of 23 ° C. ± 5 ° C. and a relative humidity of 50% RH ± 10% RH. The tensile strength was determined from the maximum stress in the stress-strain curve.

〔製造例1:ブロックAモノマーの合成〕
化合物1の合成:
トリシクロデカンジメタノール196.29g(1モル)とε−カプロラクトン228.28g(2モル)をフラスコに仕込み、120℃まで昇温し、触媒としてモノブチルスズオキシド50ppmを添加した。その後、窒素気流下で、残存したε−カプロラクトンがガスクロマトグラフィーで1%以下になるまで反応を行い、ジオール(1)を得た。
[Production Example 1: Synthesis of block A monomer]
Synthesis of Compound 1:
196.29 g (1 mol) of tricyclodecane dimethanol and 228.28 g (2 mol) of ε-caprolactone were charged into a flask, the temperature was raised to 120 ° C., and 50 ppm of monobutyltin oxide was added as a catalyst. Thereafter, the reaction was carried out under a nitrogen stream until the remaining ε-caprolactone was 1% or less by gas chromatography to obtain diol (1).

別のフラスコにイソホロンジイソシアネート444.56g(2モル)を仕込み、反応温度70℃で、ジオール(1)424.57g(1モル)を加え、残存したイソシアネート基が5.7%となった時点で2−ヒドロキシエチルアクリレート232.24g(2モル)、ジブチルスズラウレート0.35gを加え、残存したイソシアネート基が0.1%になるまで反応を行い、繰り返し単位を生じさせるモノマーであるウレタンアクリレート(化合物1)を得た(化合物1は、両末端がアクリレート基である以外は、一般式(1a)においてmが1である構造と共通する)。   In another flask, 44.56 g (2 mol) of isophorone diisocyanate was charged, and at a reaction temperature of 70 ° C., 424.57 g (1 mol) of diol (1) was added. When the remaining isocyanate group became 5.7%, 2-hydroxyethyl was added. 23.24 g (2 mol) of acrylate and 0.35 g of dibutyltin laurate were added, and the reaction was carried out until the remaining isocyanate group became 0.1% to obtain urethane acrylate (compound 1), which is a monomer that generates repeating units (compound 1) Is common with the structure in which m is 1 in the general formula (1a) except that both ends are acrylate groups.

〔製造例2:比較用ブロックAモノマーの合成〕
化合物2の合成:
トリシクロデカンジメタノール196.29g(1モル)とε−カプロラクトン228.28g(2モル)をフラスコに仕込み、120℃まで昇温し、触媒としてモノブチルスズオキシド50ppmを添加した。その後、窒素気流下で、残存したε−カプロラクトンがガスクロマトグラフィーで1%以下になるまで反応を行い、ジオール(2)を得た。
[Production Example 2: Synthesis of Comparative Block A Monomer]
Synthesis of compound 2:
196.29 g (1 mol) of tricyclodecane dimethanol and 228.28 g (2 mol) of ε-caprolactone were charged into a flask, the temperature was raised to 120 ° C., and 50 ppm of monobutyltin oxide was added as a catalyst. Thereafter, the reaction was carried out under a nitrogen stream until the remaining ε-caprolactone was 1% or less by gas chromatography to obtain diol (2).

別のフラスコにトリメチルヘキサメチレンイソシアネート420.54g(2モル)を仕込み、反応温度70℃で、ジオール(2)424.57g(1モル)を加え、残存したイソシアネート基が5.7%となった時点で2−ヒドロキシエチルアクリレート232.24g(2モル)、ジブチルスズラウレート0.35gを加え、残存したイソシアネート基が0.1%になるまで反応を行い、下記一般式(11a)で示される、繰り返し単位を生じさせるモノマーであるウレタンアクリレート(化合物2、アクリル当量538g/eq)を得た。化合物2は、1種類の飽和環状脂肪族構造を有しており、ブロックAを生じさせない。

Figure 2017078840
To another flask was charged 420.54 g (2 mol) of trimethylhexamethylene isocyanate, 424.57 g (1 mol) of diol (2) was added at a reaction temperature of 70 ° C., and when the remaining isocyanate group reached 5.7%, 2- Hydroxyl acrylate 232.24 g (2 mol) and dibutyltin laurate 0.35 g are added, and the reaction is carried out until the remaining isocyanate group reaches 0.1%, which is a monomer that generates a repeating unit represented by the following general formula (11a) Urethane acrylate (compound 2, acrylic equivalent 538 g / eq) was obtained. Compound 2 has one kind of saturated cycloaliphatic structure and does not generate block A.
Figure 2017078840

〔実施例1:ポリエステルフィルム基材/保護フィルム〕
アプリケーターを用いて、パナック社製非シリコーン系剥離PET SG−1(38μm厚さ)の剥離層側に下記保護フィルム形成用エネルギー線硬化型組成物(P1)を塗布した。ブロックBを生じさせる化合物3はアクリル当量が196g/eqのモノマーであり、その構造は下記一般式(12a)で表される。また、化合物4はチオエーテル構造を生じさせるチオールであり、その構造は下記一般式(13a)で表される。エネルギー線硬化型組成物(P1)はトルエンを含有しており、固形分率(NV)が60%である。

Figure 2017078840
Figure 2017078840
[Example 1: Polyester film substrate / protective film]
Using an applicator, the following energy ray curable composition for forming a protective film (P1) was applied to the release layer side of non-silicone release PET SG-1 (38 μm thickness) manufactured by Panac. Compound 3 which produces block B is a monomer having an acrylic equivalent of 196 g / eq, and the structure thereof is represented by the following general formula (12a). Compound 4 is a thiol that generates a thioether structure, and the structure is represented by the following general formula (13a). The energy ray curable composition (P1) contains toluene and has a solid content (NV) of 60%.
Figure 2017078840
Figure 2017078840

Figure 2017078840
Figure 2017078840

エネルギー線硬化型組成物(P1)の塗布厚は、乾燥後の膜厚が10μm〜15μmとなるよう調整した。乾燥炉内温度100℃に設定したクリーンオーブン内で、塗工膜を乾燥させ、その後、窒素雰囲気下でピーク照度326mW/cm、積算光量192mJ/cmの条件で高圧水銀ランプを照射することで紫外線硬化させ、PETフィルムの片面に保護フィルムが形成されたフィルム積層体を得た。このフィルム積層体に対する評価結果を表2に示す。 The coating thickness of the energy beam curable composition (P1) was adjusted so that the film thickness after drying was 10 μm to 15 μm. The coating film is dried in a clean oven set at a drying furnace temperature of 100 ° C., and then irradiated with a high-pressure mercury lamp under a nitrogen atmosphere under conditions of a peak illuminance of 326 mW / cm 2 and an integrated light quantity of 192 mJ / cm 2. Was cured with UV to obtain a film laminate in which a protective film was formed on one side of the PET film. The evaluation results for this film laminate are shown in Table 2.

〔実施例2:ポリエステルフィルム基材/保護フィルム〕
実施例1にて使用したモノマー(化合物1および化合物3)を42.525質量部の化合物1および42.525質量部の化合物3に、チオールを9.45質量部に変更した以外は実施例1と同様にして、PETフィルムの片面に保護フィルムが形成されたフィルム積層体を得た。このフィルム積層体に対する評価結果を表2に示す。
[Example 2: Polyester film substrate / protective film]
PET in the same manner as in Example 1 except that the monomers (Compound 1 and Compound 3) used in Example 1 were changed to 42.525 parts by mass of Compound 1 and 42.525 parts by mass of Compound 3, and the thiol was changed to 9.45 parts by mass. A film laminate in which a protective film was formed on one side of the film was obtained. The evaluation results for this film laminate are shown in Table 2.

〔実施例3:ポリエステルフィルム基材/保護フィルム〕
実施例1にて使用したモノマー(化合物1および化合物3)を33.075質量部の化合物1および33.075質量部の化合物3に、チオールを28.35質量部に変更した以外は実施例1と同様にして、PETフィルムの片面に保護フィルムが形成されたフィルム積層体を得た。このフィルム積層体に対する評価結果を表2に示す。
[Example 3: Polyester film substrate / protective film]
PET in the same manner as in Example 1 except that the monomers (Compound 1 and Compound 3) used in Example 1 were changed to 33.075 parts by mass of Compound 1 and 33.075 parts by mass of Compound 3 and thiol was changed to 28.35 parts by mass. A film laminate in which a protective film was formed on one side of the film was obtained. The evaluation results for this film laminate are shown in Table 2.

〔実施例4:ポリエステルフィルム基材/保護フィルム〕
実施例1にて使用したモノマー(化合物1および化合物3)を23.625質量部の化合物1および23.625質量部の化合物3に、チオールを47.25質量部に変更した以外は実施例1と同様にして、PETフィルムの片面に保護フィルムが形成されたフィルム積層体を得た。このフィルム積層体に対する評価結果を表2に示す。
[Example 4: Polyester film substrate / protective film]
PET in the same manner as in Example 1 except that the monomers (Compound 1 and Compound 3) used in Example 1 were changed to 23.625 parts by weight of Compound 1 and 23.625 parts by weight of Compound 3 and the thiol was changed to 47.25 parts by weight. A film laminate in which a protective film was formed on one side of the film was obtained. The evaluation results for this film laminate are shown in Table 2.

〔比較例1〕
実施例1にて使用したモノマー(化合物1および化合物3)を47.25質量部の化合物1および47.25質量部の化合物3に変更し、チオールを加えなかった以外は実施例1と同様にして、PETフィルムの片面に保護フィルムが形成されたフィルム積層体を得た。このフィルム積層体に対する評価結果を表2に示す。
[Comparative Example 1]
A PET film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the monomers (Compound 1 and Compound 3) used in Example 1 were changed to 47.25 parts by mass of Compound 1 and 47.25 parts by mass of Compound 3, and no thiol was added. The film laminated body in which the protective film was formed in the single side | surface was obtained. The evaluation results for this film laminate are shown in Table 2.

〔比較例2〕
実施例1にて使用したモノマー(化合物1および化合物3)を14.175質量部の化合物1および14.175質量部の化合物3に、チオールを66.15質量部に変更した以外は実施例1と同様にして、PETフィルムの片面に保護フィルムが形成されたフィルム積層体を得た。このフィルム積層体に対する評価結果を表2に示す。
[Comparative Example 2]
PET in the same manner as in Example 1 except that the monomers (Compound 1 and Compound 3) used in Example 1 were changed to 14.175 parts by weight of Compound 1 and 14.175 parts by weight of Compound 3, and the thiol was changed to 66.15 parts by weight. A film laminate in which a protective film was formed on one side of the film was obtained. The evaluation results for this film laminate are shown in Table 2.

〔比較例3〕
実施例1にて使用したモノマー(化合物1および化合物3)を47.25質量部の化合物2および47.25質量部の化合物3に変更し、チオールを加えなかった以外は実施例1と同様にして、PETフィルムの片面に保護フィルムが形成されたフィルム積層体を得た。このフィルム積層体に対する評価結果を表2に示す。
[Comparative Example 3]
A PET film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the monomers (Compound 1 and Compound 3) used in Example 1 were changed to 47.25 parts by mass of Compound 2 and 47.25 parts by mass of Compound 3, and no thiol was added. The film laminated body in which the protective film was formed in the single side | surface was obtained. The evaluation results for this film laminate are shown in Table 2.

〔比較例4〕
実施例1にて使用したモノマー(化合物1および化合物3)を94.5質量部の化合物3に変更し、チオールを加えなかった以外は実施例1と同様にして、PETフィルムの片面に硬化膜を形成し、フィルム積層体を得た。このフィルム積層体に対する評価結果を表2に示す。
[Comparative Example 4]
The monomer (Compound 1 and Compound 3) used in Example 1 was changed to 94.5 parts by mass of Compound 3, and a cured film was formed on one side of the PET film in the same manner as in Example 1 except that no thiol was added. And a film laminate was obtained. The evaluation results for this film laminate are shown in Table 2.

Figure 2017078840
Figure 2017078840

表2に示すように、実施例1〜4はブロックBを生じさせる化合物にアクリル当量が196g/eqである化合物3と、化合物4のチオールとを用いたため、ReとRthがどちらも小さく、かつ、高い引張弾性率と引張強度を有する保護フィルムが得られた。   As shown in Table 2, in Examples 1 to 4, since the compound 3 having an acrylic equivalent of 196 g / eq and the thiol of Compound 4 were used as the compound for generating the block B, both Re and Rth were small, and A protective film having a high tensile elastic modulus and tensile strength was obtained.

一方、比較例1で形成した硬化膜は硬く、引張弾性率が高く引張強度が低い保護フィルムが得られた。比較例1の保護フィルムの構造は、チオールを含まないため、チオエーテル結合の−S−と、繰り返し単位中のウレタン結合との間で水素結合を生じることができず、化合物3のアクリル基が硬化したことによる3次元架橋構造が密に形成された影響と考えられる。   On the other hand, the cured film formed in Comparative Example 1 was hard, and a protective film having a high tensile elastic modulus and a low tensile strength was obtained. Since the structure of the protective film of Comparative Example 1 does not contain a thiol, a hydrogen bond cannot be generated between —S— of the thioether bond and the urethane bond in the repeating unit, and the acrylic group of Compound 3 is cured. This is thought to be due to the fact that the three-dimensional cross-linking structure is densely formed.

比較例2で形成した硬化膜は非常に柔らかく、引張弾性率の低い保護フィルムが得られた。比較例2の保護フィルムにおいて、硬化膜の硬さに寄与する成分であるアクリル基は、ブロックAおよびブロックBを生じさせるモノマーに含まれているが、それらの割合が十分でなかったため、3次元架橋構造が十分に形成されなかった影響と考えられる。   The cured film formed in Comparative Example 2 was very soft, and a protective film having a low tensile modulus was obtained. In the protective film of Comparative Example 2, the acrylic group, which is a component that contributes to the hardness of the cured film, is contained in the monomer that generates the block A and the block B, but the ratio thereof is not sufficient, so that the three-dimensional This is considered to be due to the insufficient formation of the crosslinked structure.

比較例3で形成した硬化膜は非常に軟らかく、引張弾性率の低い保護フィルムが得られた。比較用ブロックAを生じさせる化合物2を合成する際、柔軟な骨格である分岐鎖状の飽和脂肪族鎖を有するジイソシアネートと、合成反応により開裂すると直鎖状で柔軟な骨格となるε−カプロラクトンを使用したことで、ウレタン結合同士の分子間相互作用において飽和環状脂肪族構造を用いたときのような高い分子量と分子構造の硬さの効果が得られず、繰り返し単位間の凝集力が弱まり、柔軟な硬化膜が形成されたと考えられる。   The cured film formed in Comparative Example 3 was very soft, and a protective film having a low tensile modulus was obtained. When synthesizing compound 2 that gives rise to comparative block A, a diisocyanate having a branched saturated aliphatic chain that is a flexible skeleton and ε-caprolactone that becomes a linear and flexible skeleton when cleaved by a synthesis reaction are synthesized. By using it, the effect of high molecular weight and molecular structure hardness as when using a saturated cycloaliphatic structure in the intermolecular interaction between urethane bonds is not obtained, the cohesive force between repeating units is weakened, It is thought that a flexible cured film was formed.

比較例4で形成した硬化膜は非常に硬く、脆弱であり、PETフィルムから剥離すると崩れてしまったため、膜厚、位相差値および引張弾性率および引張強度の測定を行うことができなかった。化合物4はウレタン結合(−NH−CO−O−)を有さないため、繰り返し単位間の凝集力が得られず、アクリル基が硬化したことによる3次元架橋構造のみが形成された影響で、脆性の高い硬化膜が形成されたと考えられる。   The cured film formed in Comparative Example 4 was very hard and fragile, and collapsed when peeled from the PET film. Therefore, the film thickness, retardation value, tensile modulus, and tensile strength could not be measured. Since compound 4 does not have a urethane bond (—NH—CO—O—), cohesion between repeating units cannot be obtained, and due to the effect that only a three-dimensional cross-linked structure is formed due to the acrylic group being cured, It is considered that a highly brittle cured film was formed.

上記実施例および比較例から明らかなように、保護フィルムを形成する繰り返し単位が、ウレタン(メタ)アクリレートおよび(メタ)アクリレート基含有原料およびチオールを原料とし、かつ、ウレタン(メタ)アクリレートに複数種類の飽和環状脂肪族構造を有し、(メタ)アクリレート基含有原料の(メタ)アクリル当量が90g/eq以上500g/eq以下であることは非常に重要であり、本発明に係る保護フィルムの有用性が理解される。   As is clear from the above Examples and Comparative Examples, the repeating unit forming the protective film is made from urethane (meth) acrylate and (meth) acrylate group-containing raw materials and thiols, and plural types of urethane (meth) acrylates. It is very important that the (meth) acrylate equivalent of the (meth) acrylate group-containing raw material is 90 g / eq or more and 500 g / eq or less, and the protective film according to the present invention is useful. Sex is understood.

本発明に係る保護フィルムは、分子配向処理をしなくても高い引張弾性率および引張強度を有しているため、過酷な温湿度環境に対する高い耐久性が要求される用途、特に、偏光板の構成部材として有用であり、種々の分野にて利用可能である。   Since the protective film according to the present invention has a high tensile elastic modulus and tensile strength without performing molecular orientation treatment, it is used for applications requiring high durability against severe temperature and humidity environments, particularly for polarizing plates. It is useful as a component and can be used in various fields.

Claims (12)

モノマーであるウレタン(メタ)アクリレートIまたはII由来の構造を有する繰り返し単位IまたはIIからなるブロックAと、モノマーである(メタ)アクリレート基含有原料由来の構造を有する繰り返し単位からなるブロックBと、チオエーテル構造によって形成された保護フィルムであって、
上記ウレタン(メタ)アクリレートIは、水酸基含有アルキル(メタ)アクリレートとジオールとジイソシアネートとの反応物であり、
上記ウレタン(メタ)アクリレートIIは、イソシアネート基含有アルキル(メタ)アクリレートとジオールとジイソシアネートとの反応物であり、
上記ウレタン(メタ)アクリレートIおよびIIは、複数種類の飽和環状脂肪族構造を有し、
上記(メタ)アクリレート基含有原料は、(メタ)アクリル当量が90g/eq以上500g/eq以下であり、
上記チオエーテル構造は、ブロックAおよびブロックBからなる高分子鎖の、少なくとも高分子鎖中、または、高分子鎖の末端とチオエーテル結合を介して存在しており、
23℃で波長590nmにおける面内位相差値(Re)が0nm以上10nm以下であり、かつ、23℃で波長590nmにおける厚み方向の位相差値(Rth)が−10nm以上10nm以下であることを特徴とする保護フィルム。
A block A consisting of repeating units I or II having a structure derived from urethane (meth) acrylate I or II as a monomer, and a block B consisting of repeating units having a structure derived from a (meth) acrylate group-containing raw material as a monomer, A protective film formed by a thioether structure,
The urethane (meth) acrylate I is a reaction product of a hydroxyl group-containing alkyl (meth) acrylate, a diol and a diisocyanate,
The urethane (meth) acrylate II is a reaction product of an isocyanate group-containing alkyl (meth) acrylate, a diol, and a diisocyanate,
The urethane (meth) acrylates I and II have a plurality of types of saturated cycloaliphatic structures,
The (meth) acrylate group-containing raw material has a (meth) acryl equivalent of 90 g / eq or more and 500 g / eq or less,
The thioether structure is present in the polymer chain composed of block A and block B, at least in the polymer chain, or via the thioether bond with the end of the polymer chain,
The in-plane retardation value (Re) at 23 ° C. at a wavelength of 590 nm is 0 nm to 10 nm, and the thickness direction retardation value (Rth) at 590 nm at 23 ° C. is from −10 nm to 10 nm. A protective film.
上記繰り返し単位IおよびIIは、
飽和環状脂肪族構造Rを含む下記構造A、および、
飽和環状脂肪族構造Rを含む下記構造Cを含むことを特徴とする請求項1に記載の保護フィルム。
−CO−NH−R−NH−CO−・・・(構造A)
−O−R−O−・・・(構造C)
The repeating units I and II are
Following structure A containing saturated cyclic aliphatic structure R 1, and,
The protective film according to claim 1, comprising the following structure C including a saturated cycloaliphatic structure R 3 .
—CO—NH—R 1 —NH—CO— (Structure A)
—O—R 3 —O— (Structure C)
上記繰り返し単位IおよびIIは、
さらに、飽和脂肪族鎖Rを含む下記構造Bを含むことを特徴とする請求項2に記載の保護フィルム。
−O−R−CO−・・・(構造B)
The repeating units I and II are
The protective film according to claim 2, further comprising the following structure B containing a saturated aliphatic chain R 2 .
—O—R 2 —CO— (Structure B)
上記繰り返し単位Iが、下記一般式(1)で表される構造であることを特徴とする請求項3に記載の保護フィルム。
Figure 2017078840
(一般式(1)中、Rは飽和環状脂肪族構造を示し、Rは炭素数5〜10の直鎖または分岐鎖状の飽和脂肪族鎖を示し、Rは、Rと異なる飽和環状脂肪族構造を示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、Rは、水素原子、メチル基またはエチル基を示し、mは1〜4の整数を示し、rおよびsはそれぞれ0〜2の整数を示し、かつ、rとsとの和は1〜2であり、xは0〜3の整数を示す)
The said repeating unit I is a structure represented by following General formula (1), The protective film of Claim 3 characterized by the above-mentioned.
Figure 2017078840
(In the general formula (1), R 1 represents a saturated cycloaliphatic structure, R 2 represents a linear or branched saturated aliphatic chain having 5 to 10 carbon atoms, and R 3 is different from R 1. R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, m represents an integer of 1 to 4, and r and s are each 0. ) Represents an integer of ˜2, and the sum of r and s is 1 to 2, and x represents an integer of 0 to 3)
上記繰り返し単位IIが、下記一般式(2)で表される構造であることを特徴とする請求項3に記載の保護フィルム。
Figure 2017078840
(一般式(2)中、Rは飽和環状脂肪族構造を示し、Rは炭素数5〜10の直鎖または分岐鎖状の飽和脂肪族鎖を示し、Rは、Rと異なる飽和環状脂肪族構造を示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、Rは、水素原子、メチル基またはエチル基を示し、mは1〜4の整数を示し、rおよびsはそれぞれ0〜2の整数を示し、かつ、rとsとの和は1〜2であり、xは0〜3の整数を示す)
The protective film according to claim 3, wherein the repeating unit II has a structure represented by the following general formula (2).
Figure 2017078840
(In General Formula (2), R 1 represents a saturated cycloaliphatic structure, R 2 represents a linear or branched saturated aliphatic chain having 5 to 10 carbon atoms, and R 3 is different from R 1. R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, m represents an integer of 1 to 4, and r and s are each 0. ) Represents an integer of ˜2, and the sum of r and s is 1 to 2, and x represents an integer of 0 to 3)
上記繰り返し単位IIが、下記一般式(3)で表される構造であることを特徴とする請求項2に記載の保護フィルム。
Figure 2017078840
(一般式(3)中、Rは飽和環状脂肪族構造を示し、Rは炭素数5〜10の直鎖または分岐鎖状の飽和脂肪族鎖を示し、Rは、Rと異なる飽和環状脂肪族構造を示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、Rは、水素原子、メチル基またはエチル基を示し、mは1〜4の整数を示し、kは0〜2の整数を示し、nは0〜2の整数を示し、xは0〜3の整数を示す)
The protective film according to claim 2, wherein the repeating unit II has a structure represented by the following general formula (3).
Figure 2017078840
(In General Formula (3), R 1 represents a saturated cycloaliphatic structure, R 2 represents a linear or branched saturated aliphatic chain having 5 to 10 carbon atoms, and R 3 is different from R 1. R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, m represents an integer of 1 to 4, and k represents an integer of 0 to 2. Represents an integer, n represents an integer of 0 to 2, and x represents an integer of 0 to 3)
上記Rが、3−メチレン−3,5,5-トリメチルシクロヘキサン環であり、Rがジメチレントリシクロデカン環であることを特徴とする請求項2〜6の何れか1項に記載の保護フィルム。 The R 1 is a 3-methylene-3,5,5-trimethylcyclohexane ring, and the R 3 is a dimethylenetricyclodecane ring, according to any one of claims 2 to 6. Protective film. 上記チオエーテル構造が、下記一般式(4)で表される構造であることを特徴とする請求項1に記載の保護フィルム。
Figure 2017078840
(一般式(4)中、Rは、水素原子がメチル基によって置換されていてもよい炭素数1または2のアルキル鎖を示し、Xはそれぞれ独立して−S−または−S−Hを示し、nは1〜4の整数を示す)
The said thioether structure is a structure represented by following General formula (4), The protective film of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
Figure 2017078840
(In the general formula (4), R 6 represents an alkyl chain having 1 or 2 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted by a methyl group, and each X independently represents —S— or —S—H. N represents an integer of 1 to 4)
上記チオエーテル構造が、下記一般式(5)で表される構造であることを特徴とする請求項1に記載の保護フィルム。
Figure 2017078840
(一般式(5)中、Rは、水素原子がアルキル基によって置換されていてもよい炭素数1または2のアルキル鎖を示し、Xはそれぞれ独立して−S−または−S−Hを示し、Rは水素原子またはメチル基を示し、pは1〜3の整数を示す)
The protective film according to claim 1, wherein the thioether structure is a structure represented by the following general formula (5).
Figure 2017078840
(In the general formula (5), R 7 represents an alkyl chain having 1 or 2 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with an alkyl group, and each X independently represents —S— or —S—H. R 8 represents a hydrogen atom or a methyl group, and p represents an integer of 1 to 3)
引張弾性率が1500MPa以上、かつ、引張強度が25MPa以上であることを特徴とする請求項1〜9の何れか1項に記載の保護フィルム。   The protective film according to any one of claims 1 to 9, wherein a tensile elastic modulus is 1500 MPa or more and a tensile strength is 25 MPa or more. 請求項1〜10の何れか1項に記載の保護フィルムの少なくとも片面に、
(1)上記保護フィルムを支持するフィルム基材、
(2)耐擦傷性を有するハードコート層、
(3)光を散乱させる防眩層、および、
(4)上記保護フィルム上に備えられた高屈折率層と、上記高屈折率層に備えられた低屈折率層とで構成された反射防止層、の何れかを備えることを特徴とするフィルム積層体。
At least one side of the protective film according to any one of claims 1 to 10,
(1) A film substrate that supports the protective film,
(2) a hard coat layer having scratch resistance;
(3) an antiglare layer that scatters light, and
(4) A film comprising any one of an antireflection layer composed of a high refractive index layer provided on the protective film and a low refractive index layer provided on the high refractive index layer. Laminated body.
偏光フィルムの少なくとも片面に、請求項1〜10の何れか1項に記載の保護フィルムを備えることを特徴とする偏光板。   A polarizing plate comprising the protective film according to claim 1 on at least one side of a polarizing film.
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