JP2005535273A - ディスク・ドライブ／記憶装置の適用分野におけるスピンドル・モータ用の高接着耐摩耗性コーティング - Google Patents

Abstract

本発明によるディスク・ドライブ記憶システムは、中心軸を有するハウジングと、ハウジングに対して固定され、中心軸と同軸である固定部材と、固定部材に対して中心軸の周りに回転可能な回転可能部材とを含む。動圧流体ベアリングが固定部材と回転可能部材とを相互接続し、耐摩耗性のコーティングを含む少なくとも１つの動作表面を含む。

Description

本出願は、２００１年１１月１６に出願の米国特許仮出願第６０／３３２４９０号の利益を請求するものであり、これは本出願に参照によって組み込まれている。

本発明は、ディスク・ドライブ・データ記憶装置のための動圧流体モータの分野に関し、特に、耐摩耗性コーティングが上に施された１つ又は複数の支え面を有するスピンドル・モータに関する。

「ウィンチェスタ」型ディスク・ドライブと呼ばれるディスク・ドライブ・データ記憶装置が、当業界ではよく知られている。ウィンチェスタ・ディスク・ドライブでは、ディジタル・データが、回転するディスクの表面上の磁化可能な材質の薄い層に書き込まれ、またこの層から読み出される。書き込み／読み出し動作は、スライダ本体に支えられたトランスデューサを通じて実施される。スライダ及びトランスデューサは、まとめてヘッドと呼ばれることもあり、一般的には単一ヘッドが各ディスク表面に付属している。ヘッドは電子回路構成の制御の下で、ディスク表面上における複数の円形同心データ・トラックのいずれか１つに、アクチュエータ装置によって選択的に移動される。各スライダ本体は自動式空気支持表面を含む。ディスクが回転すると、ディスクは空気を支持表面の下に引き込み、空気支持表面は揚力を作り、これがスライダを浮上させて、ディスク表面上の数マイクロインチ（数１０ミクロン）上を浮上移動させる。

現在世代のディスク・ドライブ製品では、最も普遍的に使用されている形式のアクチュエータは回転可動コイル・アクチュエータである。ディスク自体は一般的に、ブラシレス直流スピンドル・モータのハブ構造上の「スタック」内に取り付けられている。スピンドル・モータの回転数はモータ・ドライブ回路構成によって精確に制御され、モータ・ドライブ回路構成はモータの固定子巻線に向けられる転流信号のタイミングと電力の両方を制御する。代表的なスピンドル・モータの速度は３６００ｒｐｍの範囲内にある。しかし現在の技術では７２００ｒｐｍ、１００００ｒｐｍ、１５０００ｒｐｍ、及びそれ以上にスピンドル・モータの速度を上げている。

ディスク・ドライブ・データ記憶装置における騒音の主な源の一つは、スピンドル・モータである。ディスク・ドライブのメーカーは最近、スピンドル・モータ内の従来のボール・ベアリング又はローラ・ベアリングを、動圧流体ベアリング又は静圧流体ベアリングなどの「流体」ベアリングに切り替えることに注目し始めた。動圧流体ベアリングはベアリング表面を分離する流体薄膜をあてにしており、したがって一般に従来のボール・ベアリングよりもはるかに静かで振動が少ない。動圧流体ベアリングは、内部に圧力を発生させて流体薄膜の分離を維持する自給式ベアリングである。静圧ベアリングでは、流体分離を維持するための外部加圧流体源を必要とする。動圧流体ベアリングにおけるベアリング表面間の相対運動によって、完全に流体薄膜の中でせん断要素が発生し、したがってベアリング表面間で接触が発生しない。

動圧流体ベアリングでは、潤滑流体又はガスが、例えばハウジングの固定部材とディスク・ハブの回転部材との間に、ベアリング表面を設ける。代表的な潤滑材は油又は強磁性流体を含む。動圧流体ベアリングは、一連の点界面を含むボール・ベアリング組立体と比較して、より大きな表面積にわたってベアリング表面を広げる。これは、ベアリング表面の増加は回転部材と固定部材との間の動揺又は逸脱を減らすので望ましい。

潤滑流体があるにもかかわらず、従来の動圧流体ベアリング式スピンドル・モータでは、ベアリング表面がなお連続的な摩耗を被っている。この結果、ベアリング表面間のギャップは装置の使用寿命にわたって次第に、しばしばベアリング表面にわたって均一でない様式で変化する。この結果、性能は低下し、場合によってはディスク・ドライブが破損する。さらにまた、ガス潤滑の動圧流体ベアリングについては、ベアリング表面の摩擦性が低いことも必要とされる。

したがって当技術分野では、耐摩耗性を向上し並びに摩擦性を低くした動圧流体ベアリング表面が必要とされる。

本発明のディスク・ドライブ・データ記憶装置システムは、中心軸を有するハウジングと、ハウジングに対して固定され、中心軸と同軸である固定部材と、固定部材に対して中心軸の周りに回転可能な回転可能部材とを含む。固定子がハウジングに対して固定されている。回転子は回転可能部材によって支持され、固定子に磁気的に結合されている。少なくとも１つのデータ記憶ディスクが回転可能部材に取り付けられ、これと同軸である。動圧流体ベアリングは、固定部材を回転可能部材に結合する。動圧流体ベアリングは、耐摩耗性のコーティングを上に施した少なくとも１つの動作表面を含む。

本発明の上記の特徴を達成し、詳細に理解することができるように、添付の図面に示した本発明の実施形態を参照して、上に概説した本発明をさらに具体的に説明する。

しかし、添付の図面は本発明の代表的な実施形態のみを示すもので、したがって本発明の範囲を限定するものと考えるべきではなく、他の同等に有効な実施形態も本発明に許されることを留意されたい。

本発明は、１つ又は複数のベアリング表面の上に耐摩耗性のコーティングが施された動圧流体ベアリング式スピンドル・モータを有するディスク・ドライブ・データ記憶装置を対象とする。図１は、本発明が有用なディスク・ドライブ１０の上面図である。ディスク・ドライブ１０はハウジング・ベース１２を含み、ハウジング・ベース１２はトップ・カバー１４と組み合わされて密封環境を形成し、内部の構成部分を密封環境の外部からの要素による汚染から保護する。

ディスク・ドライブ１０はさらにディスク・パック１６を含み、ディスク・パック１６は回転するためにディスク・クランプ１８によってスピンドル・モータ（図示せず）の上に取り付けられている。ディスク・パック１６は複数の個別のディスクを含み、これらのディスクは中心軸の周りに同時回転するように取り付けられている。各ディスク表面は関連するヘッド２０を有し、このヘッド２０はディスク表面と連絡するためにディスク・ドライブ１０に取り付けられている。図１に示す実施例では、ヘッド２０は屈曲部２２によって支持され、屈曲部２２はアクチュエータ本体２６のヘッド取付けアーム２４に取り付けられている。図１に示すアクチュエータは回転可動コイル・アクチュエータと呼ばれる形式のもので、全体的に２８で示すボイス・コイル・モータ（ＶＣＭ）を含む。ボイス・コイル・モータ２８はアクチュエータ本体２６をその取り付けられたヘッド２０と共に旋回軸３０の周りに回転させ、弧状の経路に沿った所望のデータ・トラックの上にヘッド２０を位置決めする。回転アクチュエータが図１に示されているが、本発明は、リニア・アクチュエータなどの別形式のアクチュエータを有するディスク・ドライブにおいても有用である。

図２は、本発明による動圧流体ベアリング式スピンドル・モータ３２の断面図である。スピンドル・モータ３２は、固定部材３４、ハブ３６、及び固定子３８を含む。図２に示す実施形態では、固定部材は、ナット４０とワッシャ４２と通じてベース１２に固定され取り付けられたシャフトである。ハブ３６は、シャフト３４の周りに回転するために動圧流体ベアリング３７を通じてシャフト３４と相互連結されている。ベアリング３７は、半径方向動作表面４４及び４６と軸方向動作表面４８及び５０を含む。シャフト３４は流体ポート５４、５６、及び５８を含み、これらの流体ポートは潤滑流体６０を供給し、ベアリングの作業面に沿って流体を循環させる助けをする。潤滑流体６０は、周知の方式でシャフト３４の内部に結合された流体源（図示せず）によって、シャフト３４に供給される。

スピンドル・モータ３２はさらに、動圧流体ベアリング３７の軸方向動作表面４８及び５０を形成するスラスト・ベアリング４５を含む。カウンタプレート６２が動作表面４８を圧迫して、動圧流体ベアリングの軸方向安定性を提供し、スピンドル・モータ３２内においてハブ３６を位置決めする。カウンタプレート６２とハブ３６との間にＯリング６４が設けられて、動圧流体ベアリングを密封する。この密封は動圧流体６０がカウンタプレート６２とハブ３６の間から逸出することを防止する。

ハブ３６は、中央コア６５とディスク・キャリア部材６６とを含み、ディスク・キャリア部材６６はシャフト３４の周りに回転するためにディスク・パック１６（図１に示す）を支持する。ディスク・パック１６は、ディスク・クランプ１８（これも図１に示す）によってディスク・キャリア部材６６の上に支えられている。スピンドル・モータ３２用の回転子の役目をするハブ３６の外径部には永久磁石７０が取り付けられている。コア６５は磁性材料で形成され、磁石７０用の裏当て鉄材の役目をする。回転子磁石７０を、単一の環状リングとして形成することができ、又はハブ３６の周囲の周りに離隔した複数の個別磁石によって形成することもできる。回転子磁石７０を着磁して、１つ又は複数の磁極を形成する。

固定子３８はベース１２に取り付けられて、固定子積層７２と固定子巻線７４とを含む。固定子巻線７４は積層７２に取り付けられている。固定子巻線７４は回転子磁石７０から半径方向に離隔し、回転子磁石７０とハブ３６が中心軸８０の周りに回転することを可能にする。固定子３８は、ボルト７８を通じてベースに固着された１つ又は複数のＣクランプ７６などの、周知の方法を通じてベース１２に取り付けられる。

固定子巻線７４に加えられる転流パルスは回転磁界を発生させ、この回転磁界は回転子磁石７０に通じて、ハブ３６をベアリング３７上で中心軸８０の周りに回転させる。転流パルスは同期式分極選択直流パルスであり、これは順次選択された固定子巻線に向けられて回転子磁石を駆動し、その速度を制御する。

図２に示す実施形態では、スピンドル・モータ３２は「ハブの下方」型のモータであり、固定子３８の軸方向位置はハブ３６の下方になる。また固定子３８の半径方向位置はハブ３６の外側になり、したがって固定子巻線７４は積層７２の内径表面８２（図３）に固着されている。代替実施形態では、固定子は、ハブの下方ではなくハブの内部に位置する。固定子の半径方向位置は、ハブの内部又はハブの外側のいずれかにすることができる。さらに、図２は固定シャフトを有するスピンドル・モータを図示しているが、スピンドル・モータは回転軸を有することもできる。この場合には、回転軸と回転軸と同軸の外側固定スリーブとの間にベアリングが設けられている。

図３は、判り易くするためにいくつかの部分を除去した図２の線３−３に沿って取った動圧流体ベアリング式スピンドル・モータ３２の概略断面図である。固定子３８は、積層７２と、回転子磁石７０及び中央コア６５と同軸である固定子巻線７４とを含む。固定子巻線７４は、積層７２中の歯の周りに巻かれた相巻線Ｗ１、Ｖ１、Ｕ１、Ｗ２、Ｖ２、Ｕ２を含む。相巻線は、中心軸８０に垂直でこれと交差するコイル軸を有するコイルで形成されている。例えば、相巻線Ｗ１は、中心軸８０に垂直なコイル軸８３を有する。動圧流体ベアリング３７の半径方向作業面４４及び４６は、シャフト３４の外径表面及び中央コアの内径表面３４によって形成されている。シャフト３４及び中央コア６５は、例えば鋼鉄又はアルミニウムなどの金属によって構成することができる。半径方向動作表面４４及び４６は潤滑流体によって分離され、この潤滑流体は正常な動作中には隙間ｃを維持している。

図４は、図３の動圧流体スピンドル・モータ３２の拡大断面図である。動圧流体ベアリング３７の半径方向動作表面４４及び４６のいずれか又は両方が、耐摩耗性の低摩擦性コーティング４４ｃ及び４６ｃによって処理されている。耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃは、動作表面４４及び４６の物理的耐久性をさらに高めることによって、半径方向動作表面４４及び４６の耐摩耗性を増加させる。摩耗による金属粒子の発生は減り、この結果、動作表面４４及び４６の機械的故障ははるかに少なくなる。耐摩耗性で低摩擦性のコーティング４４ｃ及び４６ｃは、改善された耐摩耗性をもたらし、一般にスピンドル・モータの使用寿命にわたって一定に保たれる隙間ｃを提供する。

耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃは、例えば無定形炭素、ダイヤモンドライク・カーボン、又はこれらの組合せを含むこともできる。耐摩耗性コーティングは約１００ナノメートルから約５ミクロンまでの範囲にある厚さを有することができる。耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃの好ましい厚さは、なかでもシャフト３４の外径と中央コア６５の内径との構成、隙間ｃの大きさ、表面の粗度、及び負荷などの要素に依存する。

ある実施形態では、耐摩耗性で低摩擦性のコーティング４４ｃ及び４６ｃは、スパッタリング法などの物理的蒸着（ＰＶＤ）によって付着される。別の実施形態では、耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃは、プラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）などの化学的蒸着（ＣＶＤ）によって付着される。また別の実施形態では、耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃは、イオン・ビーム成膜によって付着される。また耐摩耗性コーティングを、例えば水素（Ｈ_２）又は窒素（Ｎ_２）の存在下でスパッターして、その耐摩耗性及び摩擦特性を強化することもできる。

図４は耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃを１枚の層から構成されるものとして図示しているが、複数枚のコーティング層によって構成することは本発明の範囲内にある。最適接着を提供し、きれつの伝播を減らし、シャフト３４及び中央コア６５の耐食性を向上させるために、複数の層によって構成することは、耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃにとってしばしば望ましいことである。ある実施形態では、耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃは２枚又はそれ以上の炭素層によって構成される。ある実施形態では、耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃは１枚の炭化珪素層によって構成される。

ある実施形態では、１枚又は複数枚の接着層４４ｉ及び４６ｉが、耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃを付着する前に、シャフト３４の外径と中央コア６５の内径の上に、それぞれ付着される。接着層４４ｉ及び４６ｉは、シャフト３４の外径と中央コア６５の内径に、耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃのための改善された接着性及び機械的特性を提供する。接着層は、例えばクロム、珪素、チタン、ジルコニウム、炭化珪素、及びこれらの組合せを含むこともできる。

別の実施形態では、１枚又は複数枚の接着層４４ｉ及び４６ｉを、１つ又は複数のコーティング４４ｃ及び４６ｃと組み合わせて使用することもできる。例えば、接着層を耐摩耗性の層と耐摩耗性低摩擦性の層との組合せで使用することもできる。

接着層４４ｉ及び４６ｉの厚さは、約１ナノメートルから約１ミクロンまでの範囲にすることができる。接着層４４ｉ及び４６ｉの好ましい厚さは、耐摩耗性コーティング４４ｃ及び４６ｃについて上に列挙したものと同様な要素に依存する。ある実施形態では、シャフト３４の外径表面と中央コア６５の内径表面のいずれか又は両方が、接着層４４ｉ及び４６ｉ又は耐摩耗層４４ｃ及び４６ｃを付着させる前に、ニッケル又はリン化ニッケルめっき液によって処理される。無電解めっき液を使用することもできる。

ある実施形態では、接着層４４ｉ及び４６ｉは、スパッタリング法によるなどの物理的蒸着（ＰＶＤ）によって付着される。別の実施形態では、接着層４４ｉ及び４６ｉは、プラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）などの化学的蒸着（ＣＶＤ）によって付着される。さらに別の実施形態では、接着層４４ｉ及び４６ｉはイオン・ビーム成膜によって付着される。

ある実施形態では、接着層及び耐摩耗性コーティングを付着させる前に、基板がエッチングされる。接着層が付着されない場合には、基板は耐摩耗性コーティングを付着させる前にエッチングされる。基板を、例えばプラズマ・エッチング法によってエッチングすることもできる。プラズマ・エッチング法は、例えばアルゴンなどの不活性ガスのイオンによって基板に衝撃を与えることも含むことができる。

シャフト３４の外径表面及び中央コア６５の内径表面に付着された耐摩耗コーティング４４ｃ及び４６ｃの代替案として、又はそれに加えて、耐摩耗性コーティングを、例えば図２に示すスラスト・ベアリング４５の上又はカウンタプレート６２の下表面６９の上における軸方向動作表面４８などの、スピンドル・モータの他の動作表面に付着させることもできる。任意選択的に、耐摩耗性低摩擦性コーティングの付着の前に、上に検討したような接着層を付着させることもできる。

「実施例１」
接着層を鋼製基板の上に付着させた。接着層はクロムを含む。スパッタリング法によって接着層を付着させ、不活性ガスによって材料をクロム・ターゲットからスパッターした。約０．３ミクロンから約０．５ミクロンまでの厚さを有する接着層を付着した。

耐摩耗性低摩擦性コーティングをクロム接着層の上に付着した。耐摩耗性コーティングは炭素を含む。耐摩耗性コーティングをスパッタリング法によって付着させ、不活性ガスによって材料を炭素ターゲットからスパッターした。約１．５ミクロンから約２ミクロンまでの厚さを有する耐摩耗性コーティングを付着した。耐摩耗性コーティングは基板に対する優れた接着を示した。

「実施例２」
接着層を鋼製基板の上に付着させた。接着層は珪素を含む。スパッタリング法によって接着層を付着させ、不活性ガスによって材料を珪素基板からスパッターした。約０．３ミクロンから約０．５ミクロンまでの厚さを有する接着層を付着した。

耐摩耗性低摩擦性コーティングを珪素接着層の上に付着した。耐摩耗性コーティングは炭素を含む。耐摩耗性コーティングをスパッタリング法によって付着させ、不活性ガスによって材料を炭素ターゲットからスパッターした。約１．５ミクロンから約２ミクロンまでの厚さを有する耐摩耗性コーティングを付着した。耐摩耗性コーティングは基板に対する優れた接着を示した。

摩耗性能の改善のために耐摩耗性の接着層を使用することは、上述のスラスト・ベアリングの設計に限定されるものではない。耐摩耗性の接着コーティングを、例えば本技術分野で知られている別の外形のベアリング表面を有するスピンドル・モータで使用することもできる。円錐形及び球形ベアリング表面を本発明の耐摩耗性コーティングによって被覆して、ベアリング表面上の摩耗を減らすこともできる。

図５を参照すると、図１のディスク・ドライブ１０においてディスクを駆動するために使用可能な円錐形ベアリング表面を有する動圧流体ベアリングが示されている。スピンドル・モータ１５０の中に組み込まれた動圧流体ベアリングが示されている。この設計は、シャフト１５２に回転可能に結合された駆動回転子又はハブ１１４を含む。シャフト１５２は、上部半球形又は凸状部分１５４と、シャフトに対して回転するスリーブ１５８の中に受け入れられた下部半球形又は凸状部分１５６とを含む。シャフトはベース１６０に取り付け固定され、ベース１６０は図１に関して説明したハウジング・ベース１２の中に組み込むか、又はハウジング・ベース１２から支持することもできる。スリーブ１５８はシャフト１５２のジャーナル１６２を受け入れ、上部半球形の凹状レセプタクル１６４と、下部半球形の凹状レセプタクル１６６とを有する。（図示するように、上端部）固定部材１５２の中のリザーバ１５９に埋め穴１６８も設けられて、動圧流体ベアリングにベアリング流体を提供する。回転子１１４は、大気に対して動圧流体ベアリングの一端部を閉鎖するために使用されるカウンタプレート１７０を含む。動作中は、この図に示すベアリングは動圧流体ベアリングから成り、この中で油などの流体がシャフトである固定部材とこの場合にはスリーブである回転部材との間の隙間を通じて循環する。１つ又は複数のベアリング表面を、本発明の耐摩耗層で被覆することもできる。

以上本発明の好ましい実施形態を対象としたが、本発明のその他及びさらなる実施形態も、本発明の基本的範囲から逸脱することなく考案することができ、本発明の範囲は添付の特許請求の範囲によって決定される。

本発明によるディスク・ドライブ記憶装置の上面図である。 本発明による動圧流体ベアリング式スピンドル・モータの断面図である。 判り易くするためにいくつかの部分を除去した図２の線３−３に沿って示す動圧流体ベアリング式スピンドル・モータの概略断面図である。 動圧流体ベアリングの１つ又は複数の動作表面の上に形成された耐摩耗性コーティングを示す、図３の拡大図である。 円錐形ベアリング表面を有する動圧流体ベアリングの断面図である。

Claims (20)

1. 中心軸を有するハウジングと、
   ハウジングに対して固定され、中心軸と同軸である固定部材と、
   ハウジングに対して固定された固定子と、
   固定部材に対して中心軸の周りに回転可能な回転可能部材と、
   回転可能部材によって支持され、固定子に磁気的に結合されている回転子と、
   回転可能部材に取り付けられ、回転可能部材と同軸である少なくとも１つのデータ記憶ディスクと、
   ディスクと連絡するためにデータ記憶ディスクに近接するヘッドを支持するアクチュエータと、
   固定部材と回転可能部材とを相互接続する動圧流体ベアリングであって、耐摩耗性低摩擦性のコーティングを含む少なくとも１つの動作表面を有する動圧流体ベアリングと
   を含むディスク・ドライブ記憶システム。
2. 耐摩耗性低摩擦性のコーティングが、無定形炭素、ダイヤモンドライク・カーボン、水素化無定形炭素、窒素化無定形炭素、水素化ダイヤモンドライク・カーボン、窒素化ダイヤモンドライク・カーボン、及びこれらの組合せを含む、請求項１に記載のディスク・ドライブ記憶システム。
3. 耐摩耗性低摩擦性のコーティングが２枚又はそれ以上の層を含む、請求項１に記載のディスク・ドライブ記憶システム。
4. 耐摩耗性低摩擦性のコーティングが約１００ナノメートルから約５ミクロンまでの範囲にある厚さを有する、請求項１に記載のディスク・ドライブ記憶システム。
5. 耐摩耗性低摩擦性のコーティングが、物理的蒸着（ＰＶＤ）、化学的蒸着（ＣＶＤ）、及びプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）の少なくとも１つによって付着される、請求項１に記載のディスク・ドライブ記憶システム。
6. 耐摩耗性低摩擦性のコーティングが接着層の上に形成される、請求項１に記載のディスク・ドライブ記憶システム。
7. 接着層が、クロム、珪素、チタン、ジルコニウム、炭化珪素、及びこれらの組合せを含む、請求項６に記載のディスク・ドライブ記憶システム。
8. 接着層が約１ナノメートルから約１ミクロンまでの範囲にある厚さを有する、請求項６に記載のディスク・ドライブ記憶システム。
9. 接着層が、物理的蒸着（ＰＶＤ）、化学的蒸着（ＣＶＤ）、及びプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）の少なくとも１つによって付着される、請求項６に記載のディスク・ドライブ記憶システム。
10. 中心軸を有するハウジングと、
    ハウジングに対して固定され、中心軸と同軸である固定部材と、
    ハウジングに対して固定された固定子と、
    固定部材に対して中心軸の周りに回転可能な回転可能部材と、
    回転可能部材によって支持され、固定子に磁気的に結合されている回転子と、
    固定部材と回転可能部材とを相互接続する動圧流体ベアリングであって、耐摩耗性低摩擦性のコーティングを含む少なくとも１つの動作表面を有する動圧流体ベアリングと
    を含むモータ。
11. 耐摩耗性低摩擦性のコーティングが、無定形炭素、ダイヤモンドライク・カーボン、水素化無定形炭素、窒素化無定形炭素、水素化ダイヤモンドライク・カーボン、窒素化ダイヤモンドライク・カーボン、及びこれらの組合せを含む、請求項１０に記載のモータ。
12. 耐摩耗性低摩擦性のコーティングが約１００ナノメートルから約５ミクロンまでの範囲にある厚さを有する、請求項１０に記載のモータ。
13. 耐摩耗性低摩擦性のコーティングが２枚又はそれ以上の層を含む、請求項１０に記載のモータ。
14. 耐摩耗性低摩擦性のコーティングが、物理的蒸着（ＰＶＤ）、化学的蒸着（ＣＶＤ）、及びプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）の少なくとも１つによって付着される、請求項１０に記載のモータ。
15. 耐摩耗性低摩擦性のコーティングが接着層の上に形成される、請求項１０に記載のモータ。
16. 接着層が、クロム、珪素、チタン、ジルコニウム、炭化珪素、及びこれらの組合せを含む、請求項１５に記載のモータ。
17. 接着層が約１ナノメートルから約１ミクロンまでの範囲にある厚さを有する、請求項１５に記載のモータ。
18. 接着層が、物理的蒸着（ＰＶＤ）、化学的蒸着（ＣＶＤ）、及びプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）の少なくとも１つによって付着される、請求項１５に記載のモータ。
19. 固定部材と回転可能部材とを相互接続する動圧流体ベアリングであって、少なくとも１つの動作表面を有する動圧流体ベアリングを含み、
    前記の少なくとも１つの動作表面はその上に摩耗減少手段を有する、
    モータ。
20. 摩耗減少手段が接着手段の上に形成されている、請求項１９に記載のモータ。

Images