JP2005534060A - 複数の異なった中央波長の複数の回析格子を有する1つの平面導波路を書き込むための方法 - Google Patents
複数の異なった中央波長の複数の回析格子を有する1つの平面導波路を書き込むための方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005534060A JP2005534060A JP2004523065A JP2004523065A JP2005534060A JP 2005534060 A JP2005534060 A JP 2005534060A JP 2004523065 A JP2004523065 A JP 2004523065A JP 2004523065 A JP2004523065 A JP 2004523065A JP 2005534060 A JP2005534060 A JP 2005534060A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- regions
- diffraction grating
- plc
- region
- different
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/124—Geodesic lenses or integrated gratings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/12007—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/1228—Tapered waveguides, e.g. integrated spot-size transformers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/125—Bends, branchings or intersections
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/132—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by deposition of thin films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/134—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by substitution by dopant atoms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/134—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by substitution by dopant atoms
- G02B6/1347—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by substitution by dopant atoms using ion implantation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/136—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by etching
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12035—Materials
- G02B2006/12078—Gallium arsenide or alloys (GaAs, GaAlAs, GaAsP, GaInAs)
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12166—Manufacturing methods
- G02B2006/12176—Etching
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
例えば、複数のSiO層をプラズマ化学気相蒸着法(PECVD)の複数の技術を使って1つのSi基板上に成長させることができる。Si基板は、公称上15ミクロン厚であってもよい。1つの下層クラッド層を複数のSiO層の下のSi基板上に蒸着させてもよい。1つのコア層は、SiOの屈折率を向上させることができるゲルマニウムおよび/またはボロンでドーピングされたSiOを使って形成されてもよい。そのコア層は、6ミクロン厚であってもよい。コア層の複数の部分を、複数の導波路302、304、306、および/または、308のために1つのパターンを残すためにウエットエッチングしてもよい。ゲルマニウム、ボロン、または、他の適切な複数のドーパントを、例えば、イオン注入を使って各回析格子312、314、316、および、318のために、複数の回析格子領域内の複数の導波路302、304、306、および/または、308のコア層内にドーピングしてもよい。1つの上層のクラッド層をそのコア層の上に蒸着してもよい。その上層クラッド層を燐および/またはボロンでドーピングしてもよい。その上層クラッド層は、15から20ミクロン前後の1つの厚さを有してもよい。その上層クラッド層の屈折率は、下層クラッド層の屈折率とほぼ同等である。
Claims (30)
- 1つの単一平面光波回路(PLC)の中または上に複数の多重回析格子を作製する1つの方法であって、前記方法は、
1つの導波路の中に複数の異なった有効屈折率を有する1つのセットになった複数の領域を形成する段階と、
1つのセットになった複数の回析格子を形成するために前記セットになった複数の領域を1つの紫外線(UV)強度パターンに露光する段階と、
を備え、
前記セットになった複数の回析格子が、実質的に同一のゲート間隔および複数の異なった中央波長を有する、
方法。 - 前記セットになった複数の領域が、同時に露光される、請求項1に記載の方法。
- 前記セットになった複数の領域が、実質的に同一の複数の幅特性を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記セットになった複数の領域が、前記導波路の1つの長手方向の軸に沿って変化する複数の幅特性を有する、請求項3に記載の方法。
- 前記セットになった複数の領域の各領域が前記セットになった複数の領域の前記他の複数の領域のドーピングパラメータとは異なる1つのドーピングパラメータを有するように、前記セットになった複数の領域を形成する段階が、前記セットになった複数の異なった領域をドーピングする段階を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記セットになった複数の領域の1つの領域が、1つの第1の濃度の1つの選択されたドーパントでドーピングされ、前記セットになった複数の領域のもう1つの領域が、前記第1の濃度とは異なる1つの第2の濃度の前記選択されたドーパントでドーピングされている、請求項5に記載の方法。
- ドーピング後、前記セットになった複数の領域の1つの領域が、前記セットになった複数の領域のもう1つの領域に含まれていない1つのドーパントを含む、請求項5に記載の方法。
- 前記セットになった複数の領域の1つの領域の1つのコア層がドーピングされている、請求項5に記載の方法。
- 前記セットになった複数の領域の1つの領域の1つのクラッド層がドーピングされている、請求項5に記載の方法。
- 前記セットになった複数の領域を形成する段階が、前記セットになった複数の領域の1つの第2の領域の形状寸法とは異なる1つの形状寸法を持つ前記セットになった複数の領域の1つの第1の領域を形成する段階を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の領域が、前記第2の領域の深さとは異なる1つの深さを有する、請求項10に記載の方法。
- 前記第1の領域が、前記第2の領域の幅とは異なる1つの幅を有する、請求項10に記載の方法。
- 前記セットになった複数の回析格子が、チャープ構造になっている、請求項1に記載の方法。
- 前記セットになった複数の領域の複数の領域が相互に最も近くなるように、前記導波路が1つのパターン内に配置されている、請求項1に記載の方法。
- 前記セットになった複数の領域を形成する段階が、前記セットになった複数の領域の選択された複数の区域を水素化する段階を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記選択された複数の区域を水素化する段階の前に、前記選択された複数の区域を光で前露光する段階を更に備える、請求項15に記載の方法。
- 前記選択された複数の区域を水素化するためにイオン注入が使われる、請求項15に記載の方法。
- 請求項1に記載の前記段階により形成された1つの製品。
- 1つの平面光波回路(PLC)であって、
1つの第1の中央波長を有する1つの第1の回析格子であって、1つの第1の有効屈折率および1つの格子間隔特性を有する前記第1の回析格子と、
1つの第2の中央波長を有する1つの第2の回析格子であって、前記第1の回析格子の有効屈折率とは異なる1つの第2の有効屈折率と、前記第1の回析格子の回析格子特性と実質的に同一である1つの回析格子特性と、を有する前記第2の回析格子と
を備える、PLC。 - 前記第1および第2の複数の回析格子が同時に書き込まれる、請求項19に記載のPLC。
- 前記第1および第2の複数の回析格子が、異なった複数のドーピング特性を有する前記PLCの複数の領域内に形成されている、請求項19に記載のPLC。
- 前記第1の回析格子の前記領域が、1つの第1の濃度の1つの第1のドーパントでドーピングされ、前記第2の回析格子の前記領域が、前記第1の濃度とは異なる1つの第2の濃度の前記第1のドーパントでドーピングされている、請求項21に記載のPLC。
- 前記第1の回析格子の前記領域が、前記第2の回析格子の前記領域に含まれていない1つのドーパントを含む、請求項21に記載のPLC。
- 前記第1および第2の複数の回析格子が異なった複数の形状寸法を有する、請求項19に記載のPLC。
- 前記第1および第2の複数の回析格子がチャープ構造である、請求項19に記載のPLC。
- 前記第1および第2の複数の回析格子が、1つの単一導波路の1つの伝搬経路の一部を形成している、請求項19に記載のPLC。
- 前記第1および第2の複数の回析格子が、前記PLCの中または上に形成された1つの第1の導波路および1つの第2の導波路それぞれの中または上に配置されている、請求項19に記載のPLC。
- 1つのシステムであって、
1つの光信号源と、
1つの光波伝搬媒体と、
前記光信号媒体を通して前記光信号源に連結された1つの平面光波回路(PLC)と、
を備え、
前記PLCが、
1つの第1の中央波長を有する1つの第1の回析格子であって、1つの第1の有効屈折率および1つの格子間隔特性を有する前記第1の回析格子と、
1つの第2の中央波長を有する1つの第2の回析格子であって、前記第1の回析格子の有効屈折率とは異なる1つの第2の有効屈折率を有する前記第2の回析格子と、
を有する、システム。 - 前記第1および第2の複数の回析格子が、異なった複数のドーピング特性を有する前記PLCの複数の領域内に形成されている、請求項28に記載のシステム。
- 前記第1および第2の複数の屈折率が異なるようになるよう、前記第1および第2の複数の回析格子が異なった形状寸法を有する、請求項28に記載のPLC。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/205,089 US7189497B2 (en) | 2002-07-24 | 2002-07-24 | Method for writing a planar waveguide having gratings of different center wavelengths |
PCT/US2003/021124 WO2004010180A2 (en) | 2002-07-24 | 2003-07-03 | Method for writing a planar waveguide having gratings of different center wavelengths |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005534060A true JP2005534060A (ja) | 2005-11-10 |
JP4215716B2 JP4215716B2 (ja) | 2009-01-28 |
Family
ID=30769985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004523065A Expired - Fee Related JP4215716B2 (ja) | 2002-07-24 | 2003-07-03 | 複数の異なった中央波長の複数の回析格子を有する1つの平面導波路を書き込むための方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US7189497B2 (ja) |
EP (1) | EP1530734A2 (ja) |
JP (1) | JP4215716B2 (ja) |
CN (1) | CN100559219C (ja) |
AU (1) | AU2003247886A1 (ja) |
TW (1) | TWI243916B (ja) |
WO (1) | WO2004010180A2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7189497B2 (en) | 2002-07-24 | 2007-03-13 | Intel Corporation | Method for writing a planar waveguide having gratings of different center wavelengths |
US20060002653A1 (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-05 | Anders Grunnet-Jepsen | Apparatus for an optical circuit having a flat wavelength response |
US7639911B2 (en) * | 2005-12-08 | 2009-12-29 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Optical device having optical waveguide including organic Bragg grating sheet |
US7933478B2 (en) * | 2008-02-25 | 2011-04-26 | Enablence Usa Components Inc. | Reflective planar lightwave circuit waveguide |
US9819435B2 (en) * | 2010-08-26 | 2017-11-14 | Cornell University | Optical apparatus, method, and applications |
TWI427343B (zh) * | 2011-01-20 | 2014-02-21 | Univ Nat Central | While running a single structure of wavelength multiplexing and light modulation |
CN102998740B (zh) * | 2012-11-30 | 2014-04-16 | 燕山大学 | 一种带纤中多波长阵列光栅同时刻写的装置及方法 |
US20170153391A1 (en) * | 2015-11-30 | 2017-06-01 | Google Inc. | Photonic chip optical transceivers |
CN115097570B (zh) * | 2022-08-22 | 2023-04-07 | 上海羲禾科技有限公司 | 一种波导的刻蚀方法 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3303623A1 (de) | 1983-02-03 | 1984-08-09 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Optische phasengitteranordnung und schaltvorrichtungen mit einer solchen anordnung |
US4745607A (en) * | 1986-10-08 | 1988-05-17 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Interlayer directional coupling in antiresonant reflecting optical waveguides |
US5064290A (en) | 1987-12-12 | 1991-11-12 | Renishaw Plc | Opto-electronic scale-reading apparatus wherein phase-separated secondary orders of diffraction are generated |
US5070488A (en) * | 1988-06-29 | 1991-12-03 | Atsuko Fukushima | Optical integrated circuit and optical apparatus |
JP2753118B2 (ja) * | 1990-06-28 | 1998-05-18 | シャープ株式会社 | 光波長変換装置 |
GB2265059B (en) * | 1992-03-04 | 1995-07-26 | Northern Telecom Ltd | Optical regenerators |
SE470454B (sv) | 1992-08-26 | 1994-04-11 | Ericsson Telefon Ab L M | Optisk filteranordning |
US5392308A (en) * | 1993-01-07 | 1995-02-21 | Sdl, Inc. | Semiconductor laser with integral spatial mode filter |
GB2280968B (en) | 1993-08-12 | 1996-07-31 | Northern Telecom Ltd | Chirped optical fibre filter |
JPH08220356A (ja) | 1995-02-13 | 1996-08-30 | Fujikura Ltd | 光導波路型チャープトグレーティング |
US5848207A (en) | 1996-08-29 | 1998-12-08 | Hitachi Cable, Ltd. | Optical device formed with grating therein, add/drop filter using same, and method of fabricating same |
CA2202308C (en) | 1996-04-19 | 2001-05-08 | Michihiro Nakai | Optical waveguide grating and production method therefor |
JP3740741B2 (ja) * | 1996-06-26 | 2006-02-01 | 日産自動車株式会社 | 直接筒内噴射式火花点火機関 |
JPH1090508A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 回折格子の形成方法および光導波路 |
US5930420A (en) * | 1997-08-15 | 1999-07-27 | Lucent Technologies, Inc. | Method for producing photo induced grating devices by UV irradiation of heat-activated hydrogenated glass |
US6175670B1 (en) | 1998-03-23 | 2001-01-16 | Lucent Technologies, Inc. | Planar lightguide circuit having a planar grating |
FR2785730B1 (fr) * | 1998-11-05 | 2001-10-12 | Cit Alcatel | Amplificateur optique a semi-conducteur a gain stabilise reglable et systeme optique utilisant un tel amplificateur |
CA2370497A1 (en) | 1999-04-30 | 2000-11-09 | John Canning | Method for creating an optical structure within a photosensitive light transmissive material and of enhancing the photosensitivity of the photosensitive light transmissive material |
JP3456927B2 (ja) | 1999-08-06 | 2003-10-14 | 学校法人早稲田大学 | グレーティング並びにグレーティング形成方法及び装置 |
US6832023B1 (en) * | 2000-05-19 | 2004-12-14 | Georgia Tech Research Corporation | Optical fiber gratings with azimuthal refractive index perturbation, method of fabrication, and devices for tuning, attenuating, switching, and modulating optical signals |
US6365428B1 (en) | 2000-06-15 | 2002-04-02 | Sandia Corporation | Embedded high-contrast distributed grating structures |
EP1172907B1 (en) * | 2000-07-11 | 2006-05-31 | Corning Incorporated | A tunable gain-clamped semiconductor optical amplifier |
NO316148B1 (no) | 2000-12-15 | 2003-12-15 | Optoplan As | Bolgeleder-laserkilde |
KR100388485B1 (ko) * | 2001-05-31 | 2003-06-25 | 한국전자통신연구원 | 다파장 단일모드 레이저 어레이 및 그 제조 방법 |
DE60119353D1 (de) * | 2001-11-02 | 2006-06-08 | Aston Photonic Tech Ltd | Optischer Sensor mit Fasergittern für zwei Messgrössen |
US6522812B1 (en) | 2001-12-19 | 2003-02-18 | Intel Corporation | Method of precision fabrication by light exposure and structure of tunable waveguide bragg grating |
US6647032B1 (en) * | 2002-01-31 | 2003-11-11 | Intel Corporation | Thermally wavelength tunable laser having selectively activated gratings |
US6638773B1 (en) | 2002-05-31 | 2003-10-28 | Applied Optoelectronics, Inc. | Method for fabricating single-mode DBR laser with improved yield |
US7189497B2 (en) | 2002-07-24 | 2007-03-13 | Intel Corporation | Method for writing a planar waveguide having gratings of different center wavelengths |
-
2002
- 2002-07-24 US US10/205,089 patent/US7189497B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-07-03 CN CNB038225654A patent/CN100559219C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-07-03 AU AU2003247886A patent/AU2003247886A1/en not_active Abandoned
- 2003-07-03 JP JP2004523065A patent/JP4215716B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-07-03 WO PCT/US2003/021124 patent/WO2004010180A2/en active Application Filing
- 2003-07-03 EP EP03765489A patent/EP1530734A2/en not_active Withdrawn
- 2003-07-23 TW TW092120115A patent/TWI243916B/zh not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-08-03 US US10/911,061 patent/US20050008977A1/en not_active Abandoned
- 2004-08-03 US US10/910,902 patent/US6983091B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI243916B (en) | 2005-11-21 |
AU2003247886A1 (en) | 2004-02-09 |
EP1530734A2 (en) | 2005-05-18 |
CN100559219C (zh) | 2009-11-11 |
US7189497B2 (en) | 2007-03-13 |
US20050008295A1 (en) | 2005-01-13 |
US20050008977A1 (en) | 2005-01-13 |
US20040018022A1 (en) | 2004-01-29 |
WO2004010180A2 (en) | 2004-01-29 |
WO2004010180A3 (en) | 2004-04-29 |
TW200411219A (en) | 2004-07-01 |
CN1685254A (zh) | 2005-10-19 |
JP4215716B2 (ja) | 2009-01-28 |
US6983091B2 (en) | 2006-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3243123B2 (ja) | 光フィルタ装置 | |
US5457760A (en) | Wavelength division optical multiplexing elements | |
US5764829A (en) | Optical signal shaping device for complex spectral shaping applications | |
US6522812B1 (en) | Method of precision fabrication by light exposure and structure of tunable waveguide bragg grating | |
US20070189669A1 (en) | Integrated wavelength selective grating-based filter | |
JP2000098316A (ja) | コアに近接する可変屈折率領域を有するファイバ素子 | |
Hubner et al. | Strong sampled Bragg gratings for WDM applications | |
US20080085079A1 (en) | Method of Filtering Optical Signals with a Capillary Waveguide Tunable Optical Device | |
JP4215716B2 (ja) | 複数の異なった中央波長の複数の回析格子を有する1つの平面導波路を書き込むための方法 | |
US6816648B2 (en) | Integrated waveguide gratings by ion implantation | |
US20030179981A1 (en) | Tunable inorganic dielectric microresonators | |
US7181107B2 (en) | Integrated optics coupling element comprising a grating created in a cladding and its fabrication method | |
JP3247819B2 (ja) | アレイ格子型光合分波器 | |
KR100416998B1 (ko) | 격자를 구비한 평면 광도파로 소자 | |
US6975794B2 (en) | Method and apparatus for fabricating a waveguide Bragg grating using pulsed light | |
JP3114698B2 (ja) | アレイ導波路格子 | |
KR100785796B1 (ko) | 평판형 광도파로의 브라그 격자 형성장치 및 그 장치를이용한 브라그 격자 형성방법 | |
KR100267516B1 (ko) | 진폭 마스크를 이용한 제파 필터 제조 방법 및 장치 | |
CA2277665C (en) | Optical waveguiding component comprising a band-pass filter | |
JP2002062442A (ja) | グレーティングの形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080311 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080609 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080708 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080924 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081014 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111114 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111114 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121114 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121114 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131114 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |