JP2005531397A5

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Publication number: JP2005531397A5
Application number: JP2004516337A
Authority: JP
Filing date: 2003-06-27
Publication date: 2006-08-17
Anticipated expiration: 2023-06-27

Claims

水系においてバイオフィルム内の定着性微生物を処理する方法であって、以下の工程、
（１）水中で初期活性を有する１種以上の酵素を系に添加する工程、
（２）前記酵素をホウ素化合物で調整してホウ素調整酵素を形成する工程、
（３）前記系に１種以上の殺生剤を添加する工程、
を含み、前記ホウ素調整酵素が、前記酵素又は殺生剤の最後の添加後２時間以上前記初期活性の４０％以上の活性を保持するのに十分な濃度で前記ホウ素化合物が添加され、かつ前記酵素及び前記殺生剤が、組合せによる相乗作用を生じることを特徴とする方法。
バイオフィルム内の定着性微生物を浮遊させる方法であって、
１種以上の酵素を水系に添加してバイオフィルムと接触させる工程であって、前記酵素が、ホウ素化合物で調整されてホウ素調整酵素を形成する工程、
を含み、前記ホウ素調整酵素が、前記接触後２時間以上その初期活性の４０％以上の活性を保持するのに十分な濃度で前記ホウ素化合物が添加され、前記酵素が、前記定着している微生物を浮遊させるのに十分な種類及び濃度であるように選択されることを特徴とする方法。
１種以上の殺生剤を添加する工程を更に含み、前記ホウ素調整酵素が、前記酵素又は殺生剤の最後の添加後２時間以上前記初期活性の４０％以上の活性を保持する請求項１又は２記載の方法。
前記バイオフィルムが、循環水系中にある請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
前記バイオフィルムが、微温湯系中にある請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
前記ホウ素調整酵素が、１２時間以上前記酵素の初期活性の４０％以上の活性を保持する請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
前記ホウ素調整酵素が、２４時間以上前記酵素の初期活性の７５％以上の活性を保持する請求項１乃至６のいずれかに記載の方法。
前記ホウ素調整酵素が、系内の水に添加する前に前記酵素及び前記ホウ素化合物を接触させることにより形成される請求項１乃至７のいずれかに記載の方法。
前記ホウ素調整酵素が、系内の水中で前記酵素を前記ホウ素化合物と接触させることにより形成される請求項１乃至７のいずれかに記載の方法。
前記ホウ素調整酵素及び前記殺生剤が、一緒に、実質的に同時に、又は別々に添加される請求項３乃至９のいずれかに記載の方法。
前記酵素、前記含ホウ素化合物及び前記殺生剤が、実質的に連続的に添加される請求項３乃至１０のいずれかに記載の方法。
１種以上の前記酵素及び前記殺生剤が、水系に断続的に添加される請求項３乃至１０のいずれかに記載の方法。
前記酵素が、プロテアーゼ、カルボヒドラーゼ、エステラーゼ、ヒドラーゼ、アミラーゼ、カタラーゼ、リパーゼ、セルラーゼ、ペルオキシダーゼ、インベルターゼ、レバンバイオヒドロラーゼ及びそれらの混合物からなる群から選択される請求項１乃至１２のいずれかに記載の方法。
前記酵素が、プロテアーゼ、アミラーゼ又はそれらの混合物である請求項１３記載の方法。
前記酵素が、１Ｅ−３〜３Ｅ−３Au/gの活性で使用されるプロテアーゼである請求項１乃至１４のいずれかに記載の方法。
前記酵素が、１００〜５００Nu/gに対応する濃度で使用されるアミラーゼである請求項１乃至１５のいずれかに記載の方法。
前記ホウ素化合物が、ホウ砂、ホウ酸、酸化ホウ素、オルトホウ酸塩、メタホウ酸塩、ピロホウ酸塩、過ホウ酸塩、ボロン酸又はそれらの混合物から選択される請求項１乃至１６のいずれかに記載の方法。
前記ホウ素化合物が、０．１乃至１０％の濃度で存在する請求項１乃至１７のいずれかに記載の方法。
前記殺生剤が、チアゾール／イミダゾール殺生剤、ニトロパラフィン殺生剤、チアジアジン、ジチオカルバメート、チオシアネート又は塩化第四級アンモニウム又はそれらの混合物から選択される請求項１乃至１８のいずれかに記載の方法。
前記殺生剤の濃度が、１乃至１５０ppmである請求項１乃至１９のいずれかに記載の方法。
前記水系が、１種以上の腐蝕防止剤を含む請求項１乃至２０のいずれかに記載の方法。
前記腐蝕防止剤が、酸化腐蝕防止剤又は皮膜形成腐蝕防止剤である請求項２１記載の方法。
前記水中の浮遊性細菌及び定着性細菌の合計が、１０００cfu/mL未満に保持されている請求項１乃至２２のいずれかに記載の方法。
前記水系中の浮遊性細菌及び定着性細菌の合計が、１０cfu/mL未満に保持されている請求項１乃至２３のいずれかに記載の方法。
前記ホウ素調整酵素と組み合わせた前記殺生剤が、レジオネラ微生物、アエロバクター・レバニカム、緑膿菌、ロードツルーラ・グルチニス酵母菌、枯草菌からなる群から選択される有機体の成長を減じるのに効果的である請求項３乃至２４のいずれかに記載の方法。
前記ホウ素調整酵素と組み合わせた前記殺生剤が、系内のレジオネラ微生物の成長を減じるのに効果的である請求項２５記載の方法。
水の処理方法であって、以下の工程、
（１）水中で初期活性を有する１種以上の酵素を提供する工程、
（２）ホウ素調整酵素を製造するのに十分な濃度のホウ素化合物で前記酵素を調整する工程、
（３）１種以上の殺生剤を添加する工程、
を含み、前記ホウ素調整酵素を水と接触させる際に、それが前記水との接触後２時間以上前記初期活性の４０％以上の活性を保持し、かつ前記酵素及び前記殺生剤が、組合せによる相乗作用を生じることを特徴とする処理方法。
微生物のすむ微温湯系の汚染除去方法であって、以下の工程、
（１）水中で初期活性を有する１種以上の酵素を系に導入する工程、
（２）ホウ素調整酵素を製造するのに十分な濃度のホウ素化合物で前記酵素を調整する工程、
を含み、前記ホウ素調整酵素が、前記導入後２時間以上前記初期活性の４０％以上の活性を保持することを特徴とする方法。
前記微温湯が、４０乃至５５℃である請求項２８記載の方法。
前記微温湯が、４５乃至５０℃である請求項２８又は２９記載の方法。
水を処理する組成物であって、
（１）初期活性を有する１種以上の酵素、
（２）前記水との接触後２時間以上前記初期活性の４０％以上を保持するホウ素調整酵素を形成するために、前記酵素を調整して安定化するのに十分な量のホウ素化合物、及び
（３）１種以上の殺生剤、
を含み、前記酵素及び前記殺生剤が、組合せによる相乗作用を生じることを特徴とする組成物。
前記酵素が、プロテアーゼ、カルボヒドラーゼ、エステラーゼ、ヒドラーゼ、アミラーゼ、カタラーゼ、リパーゼ、セルラーゼ、ペルオキシダーゼ、インベルターゼ、レバンバイオヒドロラーゼ及びそれらの混合物からなる群から選択される請求項３１記載の組成物。
前記酵素が、プロテアーゼ、アミラーゼ又はそれらの混合物である請求項３１又は３２記載の組成物。
前記プロテアーゼが、使用時に１Ｅ−３〜３Ｅ−３Au/gの活性を提供するのに十分な濃度で使用される請求項３３記載の組成物。
前記アミラーゼが、使用時に１００〜５００Nu/gの活性を提供するのに十分な濃度で使用される請求項３３又は３４記載の組成物。
前記ホウ素化合物が、ホウ砂、ホウ酸、酸化ホウ素、オルトホウ酸塩、メタホウ酸塩、ピロホウ酸塩、過ホウ酸塩、ボロン酸又はそれらの混合物から選択される請求項３１乃至３５のいずれかに記載の組成物。
前記ホウ素化合物が、０．１乃至１０％の濃度で存在する請求項３１乃至３５のいずれかに記載の組成物。
前記ホウ素化合物にポリオール溶媒が添加される請求項３１乃至３７のいずれかに記載の組成物。
前記ポリオール溶媒が、グリセロール、プロピレングリコール、グリセロール及びプロピレングリコールの混合物、及びその他のミセル不混和性溶媒から選択される請求項３８記載の組成物。
前記殺生剤が、チアゾール／イミダゾール殺生剤、ニトロパラフィン殺生剤、チアジアジン、ジチオカルバメート、チオシアネート又は塩化第四級アンモニウム又はそれらの混合物から選択される請求項３１乃至３９のいずれかに記載の組成物。
前記殺生剤が、１乃至１０％の濃度で使用される請求項３１乃至４０のいずれかに記載の組成物。
腐蝕防止剤を更に含む請求項３１乃至４１のいずれかに記載の組成物。
酵素、殺生剤及び含ホウ素化合物を含む貯蔵安定性組成物であって、前記組成物が、皮膜形成腐蝕防止剤と相溶性であり、かつ前記酵素及び前記殺生剤が、組合せによる相乗作用を生じることを特徴とする組成物。
１種以上の酵素、腐蝕防止剤、殺生剤及び含ホウ素化合物を含み、かつ前記酵素及び前記殺生剤が、組合せによる相乗作用を生じることを特徴とする濃縮物。
前記腐蝕防止剤が、酸化防止剤である、請求項４２に記載の組成物。
前記腐蝕防止剤が、皮膜形成防止剤である、請求項４２に記載の組成物。