JP2005526799A - N−スルホニル尿素アポトーシスプロモーター - Google Patents
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- FRJZFNAVMUZMGW-UHFFFAOYSA-N C(CC1)CC=C1C1=CCNCC1 Chemical compound C(CC1)CC=C1C1=CCNCC1 FRJZFNAVMUZMGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
Aは窒素原子を含有し、0〜2個の炭素原子が窒素、酸素及び硫黄からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されている5〜7員非芳香族環であり;
R1はアルキル、シアノ、ハロ、ハロアルキル、ニトロ及び−NR5R6からなる群から選択され;
R2及びR3は独立して水素、アルケニル、アルコキシ、アルキル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルスルファニル、アルキニル、アリール、アリールアルコキシ、アリールオキシ、アリールオキシアルコキシ、アリールスルファニル、アリールスルファニルアルコキシ、シクロアルキルアルコキシ、シクロアルキルオキシ、ハロ、ハロアルコキシ、ハロアルキル、ヘテロ環、(ヘテロ環)オキシ、ヒドロキシ、ニトロ及び−NR5R6からなる群から選択され;
R4はアリール、アリールアルケニル、アリールアルコキシ、シクロアルケニル、シクロアルキル、ハロ、ヘテロ環及び(ヘテロ環)アルコキシからなる群から選択され;
R5及びR6は独立して水素、アルケニル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルキル、アルキルスルファニルアルキル、アルキルスルホニルアルキル、アリール、アリールアルキル、アリールアルキルスルファニルアルキル、アリールオキシアルキル、アリールスルファニルアルキル、アリールスルフィニルアルキル、アリールスルホニルアルキル、カルボキシアルキル、シクロアルケニル、シクロアルケニルアルキル、シクロアルキル、(シクロアルキル)アルキル、シクロアルキルカルボニル、ヘテロ環、(ヘテロ環)アルキル、(ヘテロ環)スルファニルアルキル、ヒドロキシアルキル及び窒素保護基からなる群から選択され;または
R5及びR6はそれらが結合している窒素原子と一緒になってイミダゾリル、モルホリニル、ピペラジニル、ピペリジニル、ピロリジニル、ピロリル、チオモルホリニル及びチオモルホリニルジオキシドからなる群から選択される環を形成し;
R15は水素、アルコキシ、アルキル及びハロからなる群から選択される]
を有する化合物またはその治療上許容され得る塩を提供する。
Bcl−XLの阻害アッセイは96ウェル微量測定プレートにおいて実施した。本発明化合物をDMSOで100μM〜1pMの濃度に希釈し、プレートの各ウェルに導入した。アッセイ緩衝液(20mM リン酸緩衝液(pH7.4),1mM EDTA,0.05% PEG−8000)、50nM BCL−XLタンパク質(Science,275:983−986(1997)に記載されている手順に従って製造)、5nM フルオレセイン標識BADペプチド(カリフォルニア州に所在のSynpepから購入)及び本発明化合物のDMSO溶液の混合物(全量125μl/ウェル)を2分間振とうし、LJL Analyst(カリフォルニア州に所在のLJL Bio Systems)に置いた。アッセイの範囲を決定するために、ネガティブコントロール(DMSO,5nM BADペプチド,アッセイ緩衝液)及びポジティブコントロール(DMSO,5nM BADペプチド,50nM BCL−XL,アッセイ緩衝液)を用いた。偏光を室温において連続フルオレセインランプ(励起485mM,発光530mM)を用いて測定した。阻害%は、(1−(ウェル−ネガティブコントロールのmP値)/範囲)×100%により求めた。IC50値はマイクロソフトのエクセルを用いて計算した。本発明化合物は0.011〜10μMのIC50値を有し、よってBCL−XLを阻害し、アポトーシス媒介疾患を治療するために使用される。本発明の好ましい化合物は0.011〜0.5μMのIC50値を有し、最も好ましい化合物は0.011〜0.10μMのIC50値を有する。
下記スキーム及び実施例の説明中に使用した略号は次の通りである:
DEAD ジエチルアゾジカルボキシレート、
DIAD ジイソプロピルアゾジカルボキシレート、
PPh3 トリフェニルホスフィン、
BOC tert−ブトキシカルボニル、
DMAP 4−ジメチルアミノピリジン、
EDCI 1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド、
THF テトラヒドロフラン、
TFA トリフルオロ酢酸、
DMSO ジメチルスルホキシド、
dba ジベンジリデンアセトン、
OAc アセテート、
P(t−Bu)3 トリーtert−ブチルホスフィン。
ジクロロメタン(2ml)中にN−フェニルピペラジン(30mg,0.185ミリモル)を含む溶液をトリエチルアミン(77μl,0.555ミリモル)で処理し、0℃に冷却し、トリホスゲン(33mg,0.111ミリモル)で処理し、室温に加温し、1時間撹拌し、4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロベンゼンスルホンアミド(2000年9月20日付け出願の本出願人の米国特許出願第09/957,256号明細書に記載されている手順に従って製造)(86mg,0.204ミリモル)及びDMAP(23mg,0.185ミリモル)で処理し、一晩撹拌し、濃縮した。濃縮物をメタノール/ジクロロメタン中20% 2N NH3を溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(46mg,41%)を得た。
室温においてジクロロメタン(2ml)中に4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロベンゼンスルホンアミド(2000年9月20日付け出願の本出願人の米国特許出願第09/957,256号明細書に記載されている手順に従って製造)(6mg,0.142ミリモル)を含む溶液をトリエチルアミン(59μl,0.426ミリモル)及びp−ニトロフェニルクロロホルメート(31mg,0.156ミリモル)で処理し、2時間撹拌し、1−(4−ニトロフェニル)ピペラジン(35mg,0.169ミリモル)及びDMAP(17mg,0.142ミリモル)で処理し、一晩撹拌し、濃縮した。濃縮物をメタノール/ジクロロメタン中20% 2N NH3を溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(40mg,43%)を得た。
実施例1においてN−フェニルピペラジンの代わりに1−(4−ベンジルオキシフェニル)−ピペラジンを用いて所望生成物を得た。
実施例4(A) 4−[(2E)−3−(4−ブロモフェニル)プロパ−2−エノイル]モルホリン
室温においてジクロロメタン(50ml)中にケイ皮酸(1g,4.405ミリモル)を含む溶液をモルホリン(422μl,4.846ミリモル)、EDCI(1.015g,5.286ミリモル)及びDMAP(54mg,0.441ミリモル)で処理し、一晩撹拌し、酢酸エチルと飽和NH4Clに分配した。水性層を酢酸エチル(3×50ml)で抽出し、合わせた抽出物をブラインで洗浄し、乾燥し(MgSO4)、濾過し、濃縮して、所望生成物を得た。
1:1 酢酸エチル/エタノール(50ml)中に実施例4A(4.405ミリモル)を含む溶液をウィルキンソン触媒(815mg,0.880ミリモル)で処理し、凍結融解サイクルに3回かけて脱ガスし、窒素雰囲気下で2日間還流加熱し、室温に冷却した。溶液をシリカゲルに吸収し、ヘキサン中50% 酢酸エチルを溶離液とするフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(1.024g,78%)を得た。
室温においてトルエン(3.4ml)中に実施例4B(400mg,1.342ミリモル)を含む溶液を1−tert−ブトキシカルボニルピペラジン(300mg,1.611ミリモル)、Pd2(dba)3(61mg,0.0671ミリモル)、ビス−tert−ブチルビフェニルホスフィン(40mg,0.134ミリモル)及びナトリウムtert−ブトキシド(199mg,2.013ミリモル)で処理し、凍結融解サイクルに3回かけて脱ガスし、一晩撹拌し、酢酸エチルと飽和NH4Clに分配した。水性層を酢酸エチル(3×30ml)で抽出し、合わせた抽出物を乾燥し(MgSO4)、濾過し、濃縮した。濃縮物をジクロロメタン中66% アセトニトリルを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(317mg,59%)を得た。
4N HCl/ジオキサン中の実施例4C(317mg,0.787ミリモル)の混合物を1時間撹拌し、濃縮して、所望生成物を得た。
実施例1において1−フェニルピペラジンの代わりに実施例4Dを用いて所望生成物を得た。
実施例5(A) 4−[3−(4−ブロモフェニル)プロピル]モルホリン
室温においてTHF(10ml)中に実施例4B(760mg,2.550ミリモル)を含む溶液をジエチルエーテル中5M BH3/ジメチルスルフィド(2.55ml,12.752ミリモル)で処理し、24時間撹拌し、3N 水性HCl(10ml)で処理し、1時間還流加熱し、酢酸エチルと1N NaOHに分配した。水性層を酢酸エチル(3×50ml)で抽出し、合わせた抽出物を乾燥し(MgSO4)、濾過し、濃縮した。濃縮物をメタノール/ジクロロメタン中5% 2N NH3を溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(565mg,78%)を得た。
実施例4Cにおいて実施例4Bの代わりに実施例5Aを用いて所望生成物を得た。
室温においてジクロロメタン(2ml)中に実施例5B(671mg,1.725ミリモル)を含む溶液をTFA(1.8ml)及び水(0.2ml)で処理し、2時間放置した。溶液を濃縮して、所望生成物を得た。
0℃においてTHF(1.5ml)中に4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロベンゼンスルホンアミド(2000年9月20日付け出願の本出願人の米国特許出願第09/957,256号明細書に記載されている手順に従って製造)(20mg,0.0434ミリモル)を含む懸濁液をNaH(8.6mg,0.217ミリモル)で処理し、室温に加温し、1時間撹拌し、−20℃に冷却し、1,1’−カルボニルジイミダゾリド(7.7mg,0.0477ミリモル)で処理し、2時間かけて室温までゆっくり加温し、酢酸(25μl,0.434ミリモル)でクエンチし、実施例5C(30mg,0.0477ミリモル)及びトリエチルアミン(60μl,0.434ミリモル)で処理し、5時間撹拌し、濃縮した。濃縮物をメタノール/ジクロロメタン中20% 2N NH3を溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(30mg,94%)を得た。
実施例6(A) 4−[(トリフルオロアセチル)オキシ]−3,6−ジヒドロピリジン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル
THF(10ml)中にジイソプロピルアミン(4ml,28.5ミリモル)を含む−78℃溶液をヘキサン(10ml)中2.5M n−ブチルリチウムで処理し、1時間撹拌し、THF(20ml)中4−オキソピペリジン−1−カルボン酸tert−ブチル(4.67g,23.4ミリモル)を含む溶液を滴下して処理し、1時間撹拌し、THF(20ml)中に2−[N,N−ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミノ]ピリジン(8.4g,23.4ミリモル)を含む溶液で処理し、室温に一晩加温した。混合物を水性NH4Cl(50ml)でクエンチし、酢酸エチル(3×50ml)で抽出した。合わせた抽出物を1N NaOH(50ml)で洗浄し、乾燥し(Na2CO3)、濾過し、濃縮した。濃縮物をAl2O3(中性,100g)のパッドに充填し、1:9 酢酸エチル/ヘキサンで溶離して、所望生成物(5.73g,74%)を得た。MS(CI) m/e 332(M+H)+、349(M+18)+。
1,2−ジメトキシエタン(100ml)及びメタノール(50ml)中に実施例6A(4.0g,12ミリモル)及び4−フルオロフェニルボロン酸(1.68g,12ミリモル)を含む溶液をテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.416g,0.36ミリモル)及びCsF(3.64g,24ミリモル)で処理し、還流加熱し、一晩撹拌した。反応物を濃縮し、濃縮物を酢酸エチル(100ml)及び水(50ml)に溶解した。水性層を酢酸エチル(2×50ml)で抽出し、合わせた抽出物を水及びブラインで洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮した。濃縮物を1:6 酢酸エチル/ヘキサンを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(2.6g,78%)を得た。MS(CI) m/e 278(M+H)+。
室温においてジクロロメタン(5ml)中に実施例6B(0.5g,1.8ミリモル)を含む溶液をジエチルエーテル(5ml)中2M HClで処理し、一晩撹拌し、濃縮して、所望生成物(0.45g,95%)を得た。MS(ESI) m/e 178(M+H)+。
実施例2において1−(4−ニトロフェニル)−ピペラジン及び4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの代わりにそれぞれ実施例6C及び4−({(1R)−5−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]ペンチル}アミノ)−3−ニトロベンゼンスルホンアミド(2000年9月20日付け出願の本出願人の米国特許出願第09/957,256号明細書に記載されている手順に従って製造)を用いて所望生成物を得た。
実施例7(A) 4−(4−フルオロフェニル)ピペリジン−1−カルボン酸tert−ブチル
エタノール(30ml)中に実施例6B(2g,7.2ミリモル)を含む溶液を10% Pd/C(200mg)で処理し、室温において60psiのH2下で4時間振とうした。混合物を濾過し、濾過ケーキをエタノールで洗浄した。濾液を濃縮して、所望生成物(1.95g,96%)を得た。MS(CI) m/e 280(M+H)+。
実施例6Cにおいて実施例6Bの代わりに実施例7Aを用いて所望生成物を得た。MS(ESI) m/e 180(M+H)+。
実施例2において1−(4−ニトロフェニル)ピペラジン及び4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの代わりにそれぞれ実施例7B及び4−({(1R)−5−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]ペンチル}アミノ)−3−ニトロベンゼンスルホンアミド(2000年9月20日付け出願の本出願人の米国特許出願第09/957,256号明細書に記載されている手順に従って製造)を用いて所望生成物を得た。
実施例8(A) 4,4−ジメチルシクロヘキサノン
室温においてエタノール(200ml)中に4,4−ジメチル−2−シクロヘキセン−1−オン(25.37g,0.204ミリモル)を含む溶液を10% Pd/Cd)触媒(1.5g)で処理し、60psiのH2下で4時間撹拌した。反応物を濾過し、濾過ケーキをエタノールで洗浄した。濾液を濃縮して、所望生成物(22.4g,87%)を得た。MS(CI) m/e 127(M+H)+。
室温においてジクロロメタン(5ml)中に実施例8A(0.28g,2.2ミリモル)及び1−tert−ブトキシカルボニルピペラジン(0.42g,2.2ミリモル)を含む溶液を酢酸(100μl)及びトリアセトキシホウ水素化ナトリウム(0.53g,2.5ミリモル)で処理し、一晩撹拌し、酢酸エチル(300ml)で希釈し、1N NaOH、水及びブラインで順次洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮して、所望生成物(650mg,95%)を得た。MS(ESI) m/e 297(M+H)+。
実施例6Cにおいて実施例6Bの代わりに実施例8Bを用いて所望生成物を得た。MS(ESI) m/e 197(M+H)+。
実施例2において1−(4−ニトロフェニル)−ピペラジン及び4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの代わりにそれぞれ実施例8C及び4−({(1R)−5−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]ペンチル}アミノ)−3−ニトロベンゼンスルホンアミド(2000年9月20日付け出願の本出願人の米国特許出願第09/957,256号明細書に記載されている手順に従って製造)を用いて所望生成物を得た。
実施例2において1−(4−ニトロフェニル)−ピペラジンの代わりに実施例8Cを用いて所望生成物を得た。
実施例10(A) 4,4−ジメチルピペリジン
ジエチルエーテル(300ml)中にLiAlH4(5.5g,145ミリモル)を含む懸濁液を3,3−ジメチルグルタルイミド(8.5g,57.7ミリモル)で少しずつ処理し、還流加熱し、一晩撹拌し、室温に冷却し、1N NaOH(70ml)で処理した。溶液をデカントし、残りの固体をジエチルエーテル(3×200ml)で洗浄した。合わせた有機洗浄液をブラインで洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、容量200mlまで濃縮した。溶液をジエチルエーテル(50ml)中2M HClで処理し、混合物を濾過し、濾過ケーキをジエチルエーテル(3×150ml)で洗浄して、所望生成物(6.58g,76%)を得た。MS(CI) m/e 114(M+H)+。
実施例8Bにおいて実施例8A及び1−tert−ブトキシカルボニルピペラジンの代わりにそれぞれ実施例10A及び4−オキソ−1−ピペリジンカルボン酸tert−ブチルを用いて所望生成物を得た。MS(CI) m/e 297(M+H)+。
実施例6Cにおいて実施例6Bの代わりに実施例10Bを用いて所望生成物を得た。MS(ESI) m/e 197(M+H)+。
実施例2において1−(4−ニトロフェニル)−ピペラジン及び4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの代わりにそれぞれ実施例10C及び4−({(1R)−5−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]ペンチル}アミノ)−3−ニトロベンゼンスルホンアミド(2000年9月20日付け出願の本出願人の米国特許出願第09/957,256号明細書に記載されている手順に従って製造)を用いて所望生成物を得た。
実施例11(A) 8−ベンジル−1,4−ジオキサスピロ[4.5]デカン−8−オール
THF(20ml)中に2M 塩化ベンジルマグネシウムを含む0℃溶液をTHF(50ml)中に1,4−シクロヘキサンジオンモノエチレンケタール(6.24g,40ミリモル)を含む溶液で処理し、室温に加温し、一晩撹拌し、飽和NH4Cl(100ml)でクエンチし、酢酸エチル(3×100ml)で抽出した。合わせた抽出物を水及びブラインで洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮した。濃縮物を6:1 ヘキサン/酢酸エチルを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(8.08g,81%)を得た。MS(CI) m/e 231(M−18)+、249(M+H)+、266.2(M+18)+。
室温においてTHF(150ml)中に実施例11A(8.08g,32.5ミリモル)を含む溶液を鉱油中60% NaH(3.2g,80ミリモル)で処理し、1時間撹拌し、ヨードメタン(5ml,80ミリモル)で処理し、一晩撹拌し、飽和NH4Clでクエンチし、酢酸エチル(3×200ml)で抽出した。合わせた抽出物を水及びブラインで洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮して、所望生成物を得た。MS(CI) m/e 280.2(M+18)+。
アセトン(200ml)中に実施例11B(8.5g,32.5ミリモル)を含む溶液を水(100ml)及びp−トルエンスルホン酸1水和物(1g)で処理し、還流加熱し、一晩撹拌し、濃縮して、アセトンを除去した。残りの水溶液を酢酸エチル(3×100ml)で抽出し、合わせた抽出物を1N NaOH、水及びブラインで順次洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮して、所望生成物(6.95g,95%)を得た。MS(CI) m/e 236.2(M+18)+。
実施例8Bにおいて実施例8Aの代わりに実施例11Cを用いて所望生成物を得た。MS(ESI) m/e 389.2(M+H)+。
実施例6Cにおいて実施例6Bの代わりに実施例11Dを用いて所望生成物を得た。MS(ESI) m/e 289.2(M+H)+。
実施例2において1−(4−ニトロフェニル)ピペラジンの代わりに実施例11Eを用いて所望生成物を得た。
実施例12(A) 4,4−ジメチルシクロヘキサ−1−エン−1−イルトリフルオロアセテート
実施例6Aにおいて4−オキソピペリジン−1−カルボン酸tert−ブチルの代わりに実施例8Aを用いて所望化合物を得た。MS(CI) m/e 258(M+H)+。
1−メチル−2−ピロリジノン(5ml)中に実施例12A(0.775g,3.0ミリモル)及び4−トリブチルスタンニルピリジン(1.22g,3.3ミリモル)を含む溶液をPd2(dba)3(55mg,0.06ミリモル)、CuI(65mg,0.35ミリモル)、Ph3P(125mg,0.475ミリモル)及びK2CO3(550mg,3.9ミリモル)で処理し、アルゴンでパージし、90℃で25時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル(50ml)及び飽和水性フッ化カリウム(10ml)で希釈し、室温で2時間撹拌し、ケイソウ土(セライト(登録商標))のパッドを介して濾過した。濾液層を分離し、有機相を水及びブラインで洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮した。濃縮物を4:1 酢酸エチル/ヘキサンを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(200mg,36%)を得た。MS(ESI) m/e 188.1(M+H)+。
酢酸(10ml)中に実施例12B(200mg,1.07ミリモル)を含む溶液をPtO2(80mg)で処理し、室温において4気圧のH2下で72時間撹拌した。混合物を濾過し、濾液を濃縮した。濃縮物をジクロロメタン(5ml)及びジエチルエーテル(5ml)中2M HCl中に溶解し、濃縮して、所望生成物(150mg,72%)を得た。MS(ESI) m/e 196.1(M+H)+。
実施例2において1−(4−ニトロフェニル)ピペラジンの代わりに実施例12Cを用いて所望生成物を得た。
実施例13(A) 4−(トリメチルスタンニル)−3,6−ジヒドロピリジン−1(2H)−カルボン酸tertブチル
ジオキサン(80ml)中に実施例6A(5.62g,16.95ミリモル)を含む溶液をヘキサメチルジスタンナン(5.0g,15.26ミリモル)、塩化リチウム(4.07g,96.0ミリモル)及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.333g,0.288ミリモル)で処理し、還流下で一晩撹拌した。混合物を室温に冷却し、濃縮し、ジクロロメタン(200ml)中に溶解し、飽和水性KF(200ml)で処理し、室温で1時間撹拌し、ケイソウ土(セライト(登録商標))を介して濾過した。濾液層を分離し、有機相を水及びブラインで洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮した。濃縮物を10:1 ヘキサン/酢酸エチルを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(4.6g,83%)を得た。MS(CI) m/e 348(M+H)+。
ジクロロエタン(15ml)中に4−ブロモアニリン(1.76g,10ミリモル)及びベンズアルデヒド(1.06g,10ミリモル)を含む溶液をNaBH(OAc)3(2.32g,11ミリモル)及び氷酢酸(1ml)で処理し、一晩撹拌し、1N NaOHでクエンチし、CH2Cl2(3×50ml)で抽出した。合わせた抽出物を水及びブラインで洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮した。濃縮物を5:1 ヘキサン/酢酸エチルを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(2.21g,84%)を得た。MS(ESI) m/e 261.9(M+1)+、263.9(M+H)+。
ジクロロメタン(50ml)中に実施例14B(2.21g,8.4ミリモル)を含む溶液をジイソプロピルエチルアミン(3ml)及び塩化アセチル(3ml)で処理し、室温で30分間撹拌し、ジクロロメタン(150ml)で希釈し、6N HCl、水及びブラインで順次洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮して、所望生成物(2.47g,97%)を得た。MS(ESI) m/e 303.9(M+H)+、305.9(M+H)+。
ジオキサン(15ml)中に実施例14A(0.346g,1.0ミリモル)及び実施例14C(0.304g,1.0ミリモル)を含む溶液をテトラキス(トリフェニルホスフィンパラジウム)(0)(58mg,0.05ミリモル)及び臭化第一銅(10mg,0.07ミリモル)で処理し、窒素下で15時間還流加熱した。混合物を室温に冷却し、濃縮し、酢酸エチル(100ml)中に溶解し、飽和水性KF(10ml)で処理し、室温で1時間撹拌し、ケイソウ土(セライト(登録商標))を介して濾過した。濾液層を分離し、有機相を水及びブラインで洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮した。濃縮物を10:1 ヘキサン/酢酸エチルを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(0.190g,47%)を得た。MS(ESI) m/e 407.1(M+H)+。
ジクロロメタン(2ml)中に実施例14D(0.095g,0.024ミリモル)を含む溶液をジエチルエーテル(4ml)中2M HClで処理し、室温で1時間撹拌し、濃縮した。実施例2において1−(4−ニトロフェニル)−ピペラジンの代わりにこの生成物を用いて所望生成物を得た。
実施例14(A) 4−{4−[アセチル(ベンジル)アミノ]フェニル}ピペリジン−カルボン酸tert−ブチル
メタノール(10ml)中に実施例14D(0.090g,0.22ミリモル)を含む溶液を10% Pd/C(30mg)で処理し、室温において1気圧の水素下で2時間撹拌し、濾過し、濃縮した。濃縮物を2:1 ヘキサン/酢酸エチルを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(0.075g,83%)を得た。MS(ESI) m/e 409.2(M+H)+。
ジクロロメタン(2ml)中に実施例15Aを含む溶液をジエチルエーテル(4ml)中2M HClで処理し、室温で撹拌し、濃縮した。実施例2において1−(4−ニトロフェニル)−ピペラジンの代わりにこの生成物を用いて所望生成物を得た。
実施例15(A) 4−クロロ−2−メトキシフェニルトリフルオロアセテート
ピリジン(30ml)中に4−クロロ−2−メトキシフェノール(10.0g,63.0ミリモル)を含む溶液を0℃に冷却し、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(17.8g,63.0ミリモル)で処理し、30分間撹拌し、室温に加温し、24時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ、エーテル(3×150ml)で抽出した。合わせた抽出物を水、10% HCl(2×)、水及びブラインで順次洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮して、所望生成物(19.0g)を得た。MS(CI) m/e 290.1(M)+。
ジオキサン(4ml)中に実施例16A(0.346g,1.00ミリモル)及び実施例14A(0.290g,1.00ミリモル)を含む溶液をLiCl(0.127g,3.00ミリモル)及びPd(Ph3)4(0.023g,0.020ミリモル)で処理し、105℃に一晩撹拌した。混合物を室温に冷却し、濃縮し、酢酸エチル(100ml)に溶解し、飽和水性KF(10ml)で処理し、室温で1時間撹拌し、ケイソウ土(セライト(登録商標))を介して濾過した。濾液層を分離し、有機相を水及びブラインで順次洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮した。濃縮物を6:1 ヘキサン/酢酸エチルを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(0.227g,70.0%)を得た。MS(CI) m/e 324.1(M)+。
ジオキサン(1ml)中に実施例16B(0.057g,0.176ミリモル)及び4−アクリルオイルモルホリン(0.050g,0.352ミリモル)を含む溶液をPd2(dba)3(2.42g,0.0026ミリモル)、N−メチルジシクロヘキサイルアミン(0.069g,0.352ミリモル)及びP(t−Bu)3(0.0012g,0.0056ミリモル)で処理し、120℃で一晩撹拌した。混合物を室温に冷却し、酢酸エチル(100ml)で希釈し、水及びブラインで洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、濃縮した。濃縮物を20:1 ジクロロメタン/メタノールを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(0.070g,93%)を得た。MS(ESI) m/e 429.2(M+1)+。
実施例15Aにおいて実施例14Dの代わりに実施例16Cを用いて所望生成物を製造した。生じた生成物を20:1 ジクロロメタン/メタノールを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物を得た。MS(ESI) m/e 433.2(M+1)+。
THF(2ml)中に実施例16D(0.080g,0.185ミリモル)を含む溶液をTHF(0.5ml)中2M BH3・Me2Sで処理し、室温で3時間撹拌し、濃縮し、メタノール(5ml)中に溶解し、室温で72時間撹拌し、濃縮した。濃縮物を20:1 ジクロロメタン/メタノールを溶離液とするシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、所望生成物(0.070g,90%)を得た。MS(ESI) m/e 419.2(M+1)+。
ジクロロメタン(2ml)中に実施例16Eを含む溶液をジエチルエーテル(4ml)中2M HClで処理し、室温で1時間撹拌し、濃縮した。実施例2において1−(4−ニトロフェニル)−ピペラジンの代わりにこの生成物を用いて所望生成物を得た。
Claims (12)
- 式(I):
Aは窒素原子を含有し、0〜2個の炭素原子が窒素、酸素及び硫黄からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されている5〜7員非芳香族環であり;
R1はアルキル、シアノ、ハロ、ハロアルキル、ニトロ及び−NR5R6からなる群から選択され;
R2及びR3は独立して水素、アルケニル、アルコキシ、アルキル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルスルファニル、アルキニル、アリール、アリールアルコキシ、アリールオキシ、アリールオキシアルコキシ、アリールスルファニル、アリールスルファニルアルコキシ、シクロアルキルアルコキシ、シクロアルキルオキシ、ハロ、ハロアルコキシ、ハロアルキル、ヘテロ環、(ヘテロ環)オキシ、ヒドロキシ、ニトロ及び−NR5R6からなる群から選択され;
R4はアリール、アリールアルケニル、アリールアルコキシ、シクロアルケニル、シクロアルキル、ハロ、ヘテロ環及び(ヘテロ環)アルコキシからなる群から選択され;
R5及びR6は独立して水素、アルケニル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルキル、アルキルスルファニルアルキル、アルキルスルホニルアルキル、アリール、アリールアルキル、アリールアルキルスルファニルアルキル、アリールオキシアルキル、アリールスルファニルアルキル、アリールスルフィニルアルキル、アリールスルホニルアルキル、カルボキシアルキル、シクロアルケニル、シクロアルケニルアルキル、シクロアルキル、(シクロアルキル)アルキル、シクロアルキルカルボニル、ヘテロ環、(ヘテロ環)アルキル、(ヘテロ環)スルファニルアルキル、ヒドロキシアルキル及び窒素保護基からなる群から選択され;または
R5及びR6はそれらが結合している窒素原子と一緒になってイミダゾリル、モルホリニル、ピペラジニル、ピペリジニル、ピロリジニル、ピロリル、チオモルホリニル及びチオモルホリニルジオキシドからなる群から選択される環を形成し;
R15は水素、アルコキシ、アルキル及びハロからなる群から選択される]
を有する化合物またはその治療上許容され得る塩。 - Aがピペリジニルである請求の範囲第1項に記載の化合物。
- N−{[4−({(1R)−5−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]ペンチル}アミノ)−3−ニトロフェニル]スルホニル}−4−(4−フルオロフェニル)ピペリジン−1−カルボキサミド;及び
N−{[4−({(1R)−5−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]ペンチル}アミノ)−3−ニトロフェニル]スルホニル}−4,4−ジメチル−1,4’−ビピペリジン−1’−カルボキサミド
からなる群から選択される請求の範囲第2項に記載の化合物。 - Aがテトラヒドロピリジニルである請求の範囲第1項に記載の化合物。
- N−{[4−({(1R)−5−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]ペンチル}アミノ)−3−ニトロフェニル]スルホニル}−4−(4−フルオロフェニル)−3,6−ジヒドロピリジン−1(2H)−カルボキサミドである請求の範囲第4項に記載の化合物。
- Aがピペラジニルである請求の範囲第1項に記載の化合物。
- R4がシクロアルキルである請求の範囲第6項に記載の化合物。
- N−{[4−({(1R)−5−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]ペンチル}アミノ)−3−ニトロフェニル]スルホニル}−4−(4,4−ジメチルシクロヘキシル)ピペラジン−1−カルボキサミド;
N−{[4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロフェニル]スルホニル}−4−(4,4−ジメチルシクロヘキシル)ピペラジン−1−カルボキサミド;及び
4−(4−ベンジル−4−メトキシシクロヘキシル)−N−{[4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロフェニル]スルホニル}−ピペラジン−1−カルボキサミド
からなる群から選択される請求の範囲第7項に記載の化合物。 - R4がアリールである請求の範囲第6項に記載の化合物。
- N−{[4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロフェニル]スルホニル}−4−フェニルピペラジン−1−カルボキサミド;
N−{[4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロフェニル]スルホニル}−4−(4−ニトロフェニル)ピペラジン−1−カルボキサミド;
4−[4−(ベンジルオキシ)フェニル]−N−{[4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロフェニル]スルホニル}ピペラジン−1−カルボキサミド;
N−{[4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロフェニル]スルホニル}−4−[4−(3−モルホリン−4−イル−3−オキソプロピル)フェニル]ピペラジン−1−カルボキサミド;及び
N−{[4−({(1R)−3−(ジメチルアミノ)−1−[(フェニルチオ)メチル]プロピル}アミノ)−3−ニトロフェニル]スルホニル}−4−[4−(3−モルホリン−4−イルプロピル)フェニル]ピペラジン−1−カルボキサミド
からなる群から選択される請求の範囲第9項に記載の化合物。 - 請求の範囲第1項に記載の化合物またはその治療上許容され得る塩を治療上許容され得る担体と共に含む医薬組成物。
- 治療を要すると認められる哺乳動物に対して治療上許容され得る量の請求の範囲第1項に記載の化合物またはその治療上許容され得る塩を投与することを含む前記哺乳動物におけるアポトーシスの促進方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10343402A | 2002-03-21 | 2002-03-21 | |
PCT/US2003/008139 WO2003080586A1 (en) | 2002-03-21 | 2003-03-14 | N-sulfonylurea apoptosis promoters |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005526799A true JP2005526799A (ja) | 2005-09-08 |
JP4607463B2 JP4607463B2 (ja) | 2011-01-05 |
Family
ID=28452368
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003578341A Expired - Fee Related JP4607463B2 (ja) | 2002-03-21 | 2003-03-14 | N−スルホニル尿素アポトーシスプロモーター |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1487811B1 (ja) |
JP (1) | JP4607463B2 (ja) |
AT (1) | ATE372330T1 (ja) |
CA (1) | CA2479362C (ja) |
DE (1) | DE60316128T2 (ja) |
MX (1) | MXPA04009141A (ja) |
WO (1) | WO2003080586A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7030115B2 (en) * | 2002-03-21 | 2006-04-18 | Abbott Laboratories | N-sulfonylurea apoptosis promoters |
US7767684B2 (en) | 2003-11-13 | 2010-08-03 | Abbott Laboratories | Apoptosis promoters |
US7973161B2 (en) | 2003-11-13 | 2011-07-05 | Abbott Laboratories | Apoptosis promoters |
WO2005049593A2 (en) * | 2003-11-13 | 2005-06-02 | Abbott Laboratories | N-acylsulfonamide apoptosis promoters |
US8614318B2 (en) | 2003-11-13 | 2013-12-24 | Abbvie Inc. | Apoptosis promoters |
JP5284641B2 (ja) | 2004-05-26 | 2013-09-11 | アボット・ラボラトリーズ | N−スルホニルカルボキシイミドアミドアポトーシス促進剤 |
PT1888550E (pt) | 2005-05-12 | 2014-09-03 | Abbvie Bahamas Ltd | Promotores de apoptose |
US8624027B2 (en) | 2005-05-12 | 2014-01-07 | Abbvie Inc. | Combination therapy for treating cancer and diagnostic assays for use therein |
US8168645B2 (en) | 2006-11-15 | 2012-05-01 | Genentech, Inc. | Arylsulfonamide compounds |
EP2193127A4 (en) * | 2007-09-27 | 2011-09-14 | Inst Medical W & E Hall | BENZOTHIAZOLE COMPOUNDS |
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JP2004529852A (ja) * | 2000-09-20 | 2004-09-30 | アボット・ラボラトリーズ | N−アシルスルホンアミド系アポトーシス促進剤 |
JP2004536112A (ja) * | 2001-07-02 | 2004-12-02 | アストラゼネカ・アクチエボラーグ | ケモカイン受容体活性のモジュレーターとして有用なピペリジン誘導体 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2239227C (en) * | 1996-10-01 | 2007-10-30 | Kenji Matsuno | Nitrogen-containing heterocyclic compounds |
MXPA02006474A (es) * | 1999-12-28 | 2002-11-29 | Eisai Co Ltd | Compuestos heterociclicos que contienen sulfonamida. |
-
2003
- 2003-03-14 AT AT03745122T patent/ATE372330T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-03-14 WO PCT/US2003/008139 patent/WO2003080586A1/en active IP Right Grant
- 2003-03-14 JP JP2003578341A patent/JP4607463B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-03-14 DE DE60316128T patent/DE60316128T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-14 EP EP03745122A patent/EP1487811B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-14 MX MXPA04009141A patent/MXPA04009141A/es active IP Right Grant
- 2003-03-14 CA CA2479362A patent/CA2479362C/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63122971A (ja) * | 1986-11-13 | 1988-05-26 | Oki Electric Ind Co Ltd | 静電耐圧試験装置の試験端子接触機構 |
JP2004529852A (ja) * | 2000-09-20 | 2004-09-30 | アボット・ラボラトリーズ | N−アシルスルホンアミド系アポトーシス促進剤 |
JP2004536112A (ja) * | 2001-07-02 | 2004-12-02 | アストラゼネカ・アクチエボラーグ | ケモカイン受容体活性のモジュレーターとして有用なピペリジン誘導体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4607463B2 (ja) | 2011-01-05 |
MXPA04009141A (es) | 2004-11-26 |
EP1487811A1 (en) | 2004-12-22 |
WO2003080586A1 (en) | 2003-10-02 |
CA2479362A1 (en) | 2003-10-02 |
DE60316128D1 (de) | 2007-10-18 |
DE60316128T2 (de) | 2008-05-29 |
ATE372330T1 (de) | 2007-09-15 |
EP1487811B1 (en) | 2007-09-05 |
CA2479362C (en) | 2011-01-04 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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