JP2005520599A - 少なくとも容器および／または容器の閉鎖エレメントを滅菌するための方法および装置 - Google Patents

Abstract

容器と、この容器の閉鎖エレメント（１２）とを滅菌、脱パイロジェンおよび／または熱処理するための方法および装置が提案される。本発明による方法では、少なくとも１つの方法ステップにおいて、容器の充填前に低圧チャンバまたは真空チャンバ（４）内で一緒にまたは別個に電磁振動の励起による容器および閉鎖エレメント（１２）のためのプラズマ処理が実施される。この場合、閉鎖エレメント（１２）および容器の滅菌したい領域、脱パイロジェンしたい領域および／または熱処理したい領域は適切な搬送装置によって、設定された期間の間、発振装置（１５；４８）に近づけられる。

Description

背景技術
本発明は、独立請求項の上位概念部に記載した特徴から出発して、少なくとも容器および／または容器の閉鎖エレメントを滅菌するための方法および該方法をプラズマ処理によって実施するための装置に関する。

医療または食品テクノロジにおける容器、たとえばアンプル、スナップカバー付きガラス容器、セプタム付きガラス容器または、いわゆる「バイアル」もしくはその他の、いわゆる「非経口薬包装物」における有害な微生物または病原菌を除去するために、物理的なまたは化学的な方法を使用することが一般的に知られている。

医療技術の分野では、たとえばアメリカ合衆国特許第５９６１９２１号明細書に基づき、医療器具をＨ_２Ｏ_２蒸気によって真空内で滅菌し、次いで、高周波プラズマによって過酸化物残分を除去する方法が公知である。類似の方法が飲料充填の分野で知られている。この方法では、いわゆる「ＰＥＴボトル」が充填前に真空内でＨ_２Ｏ_２によって滅菌され、この場合、過酸化物残分の除去が真空の低下によって達成される。

さらに、アメリカ合衆国特許第６２３０４７２号明細書に基づき、容器、充填針、閉鎖体および真空チャンバが同時に低圧・低温プラズマによって滅菌されるプロセスの枠内で容器のための閉鎖エレメントとしての栓のプラズマ滅菌も公知である。

さらに、国際公開第９６／１３３３７号パンフレットに基づき、バイアルのための閉鎖エレメントをプラズマコーティングするための装置が公知である。このプラズマコーティングは低圧でドラムの内部で行われる。この方法は、ドラムジオメトリ、ばら荷原理および断続的な、いわゆる「バッチ法」のため、特に上述した滅菌および頻繁に必要となる脱パイロジェンの方向への変更に対して不適切であり、さらに、閉鎖栓のコーティングにしか限定されていない。

これらの公知の方法では、中空形状、アンダカット、保持装置等を有する、特に滅菌したいエレメントのジオメトリに対する滅菌プロセスの複雑さが特に欠点となる。これらの方法に対して公知の装置では、容器の滅菌、充填および閉鎖のための順次の手段もさらなる欠点となる。これらの手段は、ここでは、確かに全ての作業工程で同一のチャンバ内で実施されなければならないが、しかし、圧力と、プラズマ励起と、移動可能な充填針による充填との協働のため、連続して経過しなければならない。

閉鎖可能な容器における経済的な滅菌プロセスと、それを越えるパイロジェン濃度減少プロセスとを保証するためには、短いプロセス時間が廉価な装置によって得られることが望ましい。さらに、少なくとも薬学分野では、これらのプロセスが、設定された規格により完全に有効と認められ得なければならず、可能な限り、いわゆる「現場プロセス制御」を有していなければならない。

要約して考慮すると、従来の実地は、たとえば医療におけるバイアルおよび注射瓶において、特に容器および閉鎖エレメントの別個の滅菌および熱処理を有している。容器は、たとえば熱によって滅菌されて脱パイロジェンされるのに対して、閉鎖エレメント、たとえば栓またはセプタムは一般的にオートクレーブ内での滅菌のために約１２１℃の飽和蒸気で負荷される。著しいパイロジェン濃度減少はオートクレーブ内では行われ得ない。先行のまたは後続の水清浄化ステップも十分な濃度減少を獲得しない。たとえば強い酸またはアルカリによる化学的な脱パイロジェンは閉鎖エレメントのエラストマを望ましくない形式で変化させるので、したがって、ほとんど使用されない。

アイソレータの外部におけるばら荷でのエラストマ閉鎖エレメントの前述したオートクレーブ処理も、一般的にその後に必要となる、閉鎖機械への供給装置が必然的に個別化ステーションを有しているので欠点となる。この個別化ステーションでは、有害なパーティクル発生を完全に除去することができない。

さらに、前述した種類の容器を滅菌するための方法および該方法を真空チャンバ内での容器のプラズマ処理によって実施するための装置は、公開されていないドイツ連邦共和国特許出願第１０１３８９３８号明細書に記載されている。

発明の利点
本発明によれば、冒頭で述べた形式の、容器のための閉鎖エレメントを滅菌しかつ／または脱パイロジェンするための方法および装置が、特に容器自体の滅菌および／または脱パイロジェンに関しても、独立請求項１〜３の特徴によって有利な形式で改良される。このことは、プラズマを使用して行われる。この場合、ここでは、有利には、特に低圧プラズマ、大気圧に近いプラズマまたは大気のプラズマが使用可能となる。

したがって、本発明による方法の使用時には、容器のための滅菌プロセス、パイロジェン濃度減少プロセスおよび場合によっては熱処理プロセスに対して平行にこのようなプロセスを閉鎖エレメント、特にエラストマ材料から成るような閉鎖エレメントのためにも有していて、これによって、全体的に完全に有効と認めることができるプロセスを可能にする装置を形成することが可能となる。医療分野または食品分野における使用時には、ここで必要となる認可法の理由に基づき、特に特殊な顧客要望に対する充填ラインの構成におけるフレキシビリティのため、したがって、充填および閉鎖のための容器および閉鎖エレメントの滅菌のモジュール式のコンセプトが目標とされることが望ましい。

特に冒頭で述べた方法に対して、閉鎖エレメントの全ての領域および面が、充填機械に移送される場合に無菌的であることが確保されなければならない。容器、閉鎖エレメントまたはハンドリングエレメントの交差汚染が生ぜしめられ得ることがあってはならない。たとえば衝突または摩耗による各パーティクル発生は可能な限り回避されなければならない。この場合、本発明によれば、上述した容器のための包装ラインにおける明確な無菌範囲が実現されている。この無菌範囲の後方では、全ての容器が無菌的であるかまたは無菌に保持されており、再汚染を十分に排除することができる。

したがって、請求項１〜４には方法特徴が記載してある。これらの方法特徴によって、特に有利には、前述した周辺条件を維持して、真空チャンバ内でのプラズマの励起による閉鎖エレメント、特にエラストマ栓の、容器滅菌およびパイロジェン濃度減少に対して平行な処理が可能となる。

この場合、閉鎖エレメントは個々に案内され、滅菌チャンバを通る経路において全ての面で滅菌され、閉鎖エレメントに付着したパイロジェンが数デカードだけ濃度減少させられる。このことは、慣用の公知の方法では不可能である。この十分に個別化された取扱いによって、パーティクル発生が完全に排除されるとは言わないまでも、少なくとも最小限に抑えられる。１ｍｂａｒ未満の圧力の場合の真空チャンバ内での滅菌の事例では、充填機械へのパーティクル連行をほぼ排除することができない。閉鎖エレメントの、個別化された案内は、簡単にエレメントごとにプロセス制御およびプロセス文書化を許容している。

１つの真空チャンバまたは隣接した特別な真空チャンバ内での容器滅菌に対する閉鎖エレメント滅菌の、多くの使用事例に対しても有利な平行な配置によって、順次にプラズマ滅菌、充填および閉鎖が同一のチャンバ内で実施されるコンセプトよりも、全装置の小さな構造サイズおよび廉価な装置が可能となる。

チャンバの真空内への閉鎖エレメントの装入後には、エレメントが全面で滅菌および脱パイロジェンされなければならず、場合によっては、熱処理またはコーティングもされなければならない。本発明による装置では、閉鎖エレメントだけでなく、保持・搬送装置も常にプラズマにさらされていることによって、保持・搬送装置の無菌状態も確保され、取出し前の交差汚染が回避される。

請求項５〜９によって提案された構成によれば、搬送装置として、プランジャまたはニードルを介した閉鎖エレメント表面に対する変化する接触領域を備えた保持装置が設けられる。しかし、接触領域自体および閉鎖エレメントの接触面も常に、たとえば高い温度によって無菌に保持される保持装置も使用可能である。

この場合、栓の処理したい表面を、個別化および別個の処理による効率のよい滅菌、脱パイロジェンおよび／または熱処理のために、プラズマ源に対する最適な位置に簡単にもたらすことができるので、閉鎖エレメント領域の滅菌の第１のステップ後、後続のステップで閉鎖エレメントが、まさに今や無菌的なこの領域で無菌の保持装置によって受け取られ、その後、前方の保持装置と、その時まで処理されていない領域とが滅菌される構成の保持装置を設けることが可能となる。しかし、このことは、前方の保持装置によるすでに無菌の栓領域の再汚染が不可能となることを制限している。

装置請求項１０〜１８に記載した、別の有利な構成としての搬送装置によって、閉鎖エレメントが不動に保持されず、規定され、比較的離れた保持装置で無菌的にシェーキングテーブル、ローラまたはこれに類する搬送装置を介して案内され、閉鎖エレメントがプラズマ区域を滑動して、転がってまたは跳躍して通過する間、この場合ですら、プラズマに対する最適な位置にもたらされることが提案される。

従属請求項１９および２０によれば、それぞれ有利な形式でプラズマ源をチャンバの内部に配置することができる。この場合、搬送装置自体はプラズマ源の電気的な接続部、たとえばアースに接続されていてよい。

さらに、請求項２１によれば、少なくとも１つのプラズマ源、たとえば同軸アンテナとしての、いわゆる「ギガトロン」がチャンバの内部に、僅かに傾けられた回転する石英管の長手方向軸線に沿って設けられていることも有利に可能となる。

しかし、請求項２２によれば、プラズマ源が、外部でチャンバに取り付けられていてもよく、チャンバの内部から、チャンバ内への電磁振動の入力結合と、チャンバの内部と異なるチャンバの外部の圧力からのチャンバの真空の圧力分離とを生ぜしめることができる装置によって分離されてもよい。

実施例の説明
以下に、本発明の実施例を図面につき詳しく説明する。

図１には、医療または食品テクノロジにおける容器（図示せず）、たとえばアンプル、瓶またはガラス製品および容器の閉鎖エレメント、特にエラストマから成る栓を滅菌しかつ／または脱パイロジェンするための方法のブロック回路図１が示してある。

まず、ここでは、図１のブロック２，３により容器Ｂと栓Ｓとが別個に前清浄化、たとえば洗浄され、その後、それぞれ低圧チャンバまたは真空チャンバ内に装入Ｅ１；Ｅ２され得る。この低圧チャンバまたは真空チャンバは、ここでは、ただ１つのチャンバとして図示してある。しかし、この場合、破線５によって示したように、真空チャンバ４が両方法範囲のために別個に形成されていてもよい。その後、チャンバ４の内部で本来の滅菌および／または脱パイロジェンのためのプラズマ処理が行われる。

このようなプラズマ処理は、低圧チャンバまたは真空チャンバ４内での数ヘルツからマイクロ波までの範囲における電磁振動の発生または適宜に案内された、チャンバ４内への波入力結合によって行うことができる。それ自体で見て、滅菌および／または熱処理のためのこのようなプラズマ処理法は、明細書冒頭に記載した公知先行技術に基づき公知である。

プラズマ処理に関連して、チャンバ４からの容器および閉鎖エレメントとしての栓の取出しＡ１，Ａ２後、ブロック６による充填機械内での容器の充填が行われ得る。その後、充填された容器と、この容器を閉鎖するための栓とが閉鎖ステーション７に供給される。その後、この閉鎖ステーション７で容器が最終的に閉鎖され得る。方法の目標は、特にチャンバ４内での方法ステップの間、容器および閉鎖エレメントだけでなく、保持・搬送装置も常にプラズマにさらされていて、したがって、保持・搬送装置の無菌状態も確保され、取出し前の交差汚染が回避されることにある。このような装置の相応の実施例を以下に説明する。

図２から、真空チャンバ内に配置された搬送装置の第１実施例を認知することができる。この搬送装置は、容器（図示せず）のための閉鎖エレメントとしてのそれぞれ１つのエラストマ栓１２を受け取るための鉛直方向に移動可能なプランジャ１１を備えた比較的固い保持装置１０を有している。栓１２はその鉢状の内面で導電性のリング１４に配置され、これによって、下方に向けられた内面がリング１４に適合するようになっている。このリング１４は発振器１５の電圧で負荷される。この場合、対応電極として、ここではリング１４の上方に配置された面１６と同様にアースに置かれているプランジャ１１が働く。

この場合、発振器１５の出力信号は、プラズマ１７を発生させるために、自体公知の形式で記号および振幅に変調される。この場合、この変調は、本実施例では、数ヘルツから数百メガヘルツまでの範囲に達していてよいものの、５０ｋＨｚ〜２７ＭＨｚにあると有利である。この場合、１３．５６ＭＨｚ〜２７ＭＨｚのラジオ周波数範囲における振動が特に適している。

第１のステップにおいて、栓１２がリング１４に降下された後、ここでは点で図示したプラズマ１７によって栓１２の全ての面が、リング１４と栓１２との間の接触面を除いて負荷される。第２のステップでは、接地されたプランジャ１１が栓１２の下方で鉛直上向きに、この栓１２をリング１４から数ミリメートル持ち上げるまで運動させられる。その後、これによって、リング１４と栓１２とにおける未だに処理されていない接触面の滅菌、脱パイロジェンまたは場合によっては熱処理も可能となる。

こうして、いまや全面で滅菌された栓１２がチャンバから出口ロックゲートに供給され得る。さらに、図２に示した装置１０は、リング１４が薄膜の絶縁性のポリマ層によってカバーされていることによって一層改善することができる。なぜならば、こうして、エネルギの、再現可能に容量性の入力結合を確保することができ、互いに異なる極の裸の金属面にしばしば発生するアークが排除されているからである。

図３に示した実施例では、栓１２が、図２に示した保持装置１０に変わってニードルクッション２０にもたらされる。このニードルクッション２０では、グループとしての若干数のニードル２１が、栓１２の保持の十分な安定性を許容することができ、別のグループ２２の異なるニードルが同じ役割を異なる方法ステップで引き受けることができる。

プラズマは、ここでは、比較可能な形式で図２に示した保持装置１０と同様に発生させられ、栓１２との接触面を除いてニードル２１だけでなく、同じくニードル２１との接触面を除いて栓１２自体も負荷している。前述した接触面も処理するためには、別のグループのニードル２２が、ニードル２１，２２の相互の鉛直方向の運動によって後続のステップで栓１２の下方に配置される。この場合、ニードル２２しか栓１２の保持を引き受けないようになっている。この場合、予め保持していたニードル２１は、第１のグループの保持ニードル２１に接触していて、これによって、プラズマに対して遮蔽されていた栓１２の領域と同様にプラズマで負荷することができる位置に移動させられる。

ニードル２１，２２の運動は、上述したように、図３に示した線形の運動および／または図４に示した変えられた傾きを伴った運動によって行われてよい。ニードルクッション２０のグループ２１，２２のこのような形式の運動（矢印２３参照）時には、相互の傾きが、場合によっては線形の運動と一緒に生ぜしめられてよく、これによって、栓１２が同時に水平な方向（矢印２４参照）で運動を行い、したがって、装置が、いわゆる「コームコンベヤ（Ｋａｍｍｆｏｅｒｄｅｒｅｒ）」として機能するようになっている。

栓１２の可能な限り全面のプラズマ負荷を保証するためには、図３および図４に示したニードルと励振器（図２参照）との電気的なコンタクティング（接触接続）が行われ得る。プロセスラインでの複数の栓１２の間の電気的なコンタクトを回避するためには、これらの栓１２が個々にまたは設定された間隔を置いて、すなわち、いわゆる「バルク（ばら荷）」と異なる形で滅菌区間、脱パイロジェン区間および熱処理区間を通過することが望ましい。

図２〜図４に示した前述した保持装置では、図２に示したリング１４の代わりに孔付き金属薄板と、個々のプランジャ１１の代わりのプランジャクッションと、図３および図４に示した実施例におけるニードルクッションとが設けられることによって、プロセスラインでの並置も行うことができる。これによって、確実な電気的なコンタクティング時に高い部材スループットが可能となる。

図４に示したコームコンベヤ原理の代わりに、図５に示した保持装置の面状の構成も使用可能である。ここでは、栓１２が装入後に面状体３０に付与される。この面状体３０は、たとえば偏心的な運動装置３１を備えたシェーキングテーブルまたはプレートコンベヤとして形成されていてよい。プラズマによる負荷は、ここでは、上方から行われるかまたは面状体３０がネット（網）または格子体として形成されている事例では、下方もしくは上下からも行われる。

前述した原理は、面状体３０が電気的にコンタクティングされ、発振器１５によるプラズマ励起のための電極として形成されることによって拡張することができる。このことは、確実な自己滅菌の利点を有しているはずである。この場合、十分に長い滅菌区間の事例では、栓１２同士の接触時に遮蔽された栓領域も無菌となっていて、したがって、ばら荷も比較的大きなスループットで処理することができる。

しかし、栓１２の、個別化された処理および搬送も、場合によっては付加的なガイドエレメントを組み付けて可能となる。しかし、この場合、このガイドエレメントも常にプラズマで負荷されなければならない。面状体３０の上方もしくは下方からのプラズマ負荷が行われていないかまたは十分に実現できない場合には、ここでは、栓１２の、場合によって複数回の反転が、たとえば偏心的な運動装置３１による面状体３０自体の規定された運動によって行われてもよい。栓１２の種々異なる位置は、矢印３２によって結びつけられて相並んで配置された、図５に示した面状体３０の両図によって示してある。両図は、栓１２の搬送の種々異なる段階を示している。しかし、処理したい栓１２の反転は付加的な装置、たとえば転換器、バッフルまたはこれに類するものによって行われてもよい。

栓１２のための搬送装置の別の実施例（図示せず）も使用可能である。この搬送装置は、たとえばドラムも有している。このドラムは内部で中空のスピンドルを備えていてよい。この場合、ここでも、入口ロックゲート領域から出口ロックゲート領域への、適合された適宜な搬送を実現することができる。

図６および図７による実施例には、栓１２を搬送するための同じ方向に回転する２つのローラ４０，４１を備えた装置変化形が示してある。この場合、両ローラ４０，４１はほぼ高さに関して互いにずらされていて、場合によっては、ここに図示していない下位変化形では、僅かな傾きを有していてもよい。図６には、この実施例の横断面図が示してあり、図７には、この実施例の縦断面図が示してある。ローラ４０，４１の高さずれの結果、各栓１２がその縁部で一方のローラ４１に載置し、その外面もしくは内面で他方のローラ４０に接触する。ローラ４０，４１の同じ方向の回転によって、栓１２自体はその中心軸線を中心として回転させられ、場合によっては、ローラ４０，４１の傾きによって助成されて、均一な速度で入口ロックゲートから出口ロックゲートにローラ４０，４１に沿って転がる。

その後、次いで、ここには詳しく記載していない反転機構によって、同様に形成された第２のローラ区間（図示せず）で栓１２の他方の面を処理することができる。プラズマは、前述したように、比較可能な形式で導電性のボディ３３，３３ａによって発生させられる。このボディ３３，３３ａは、発振器１５によって発生させられた電磁界の放射のためのアンテナとして働く。両区間では、栓１２だけでなく、ローラ４０，４１も常にプラズマ内で運動させられるので、入口ロックゲート領域と出口ロックゲート領域との間に適切な無菌範囲が存在していることが確保されている。

図８および図９から、別の実施例を認知することができる。この実施例には、軸で回転する石英管４３が設けられている。この石英管４３は水平な平面に対して、設定された傾きαを有している。ここでも、図８には、この実施例の横断面図が示してあり、図９には、この実施例の縦断面図が示してある。栓１２は、石英管４３の、ここでは上方に位置する開口４４に個々に付与され、石英管４３の回転（矢印４５参照）の間に下側の開口４６に向かって転がる（矢印４９参照）。

ここで、たとえばプラズマ発生のためのマイクロ波入射が管４３の外部から行われる場合には、このことは、栓１２を時間および管内の通過する区間にわたって全面で負荷するプラズマが管の内部に励起されているように行われ得る。管４３の内部のプラズマの局所的な発生は、適切な装置ジオメトリおよび／またはアンテナジオメトリまたは内部と外部との間の圧力勾配もしくは圧力ジャンプ（圧力の急激な変化）によって生ぜしめることができる。さらに、管４３の内部のプラズマは、外部に存在するよりも可燃性のガスが内部に供給されることによって局所的に発生させることもできる。

図８および図９に示した実施例では、石英管４３の軸に線状のマイクロ波源４８、たとえば、いわゆる「ギガトロン」が配置されている。このギガトロンは同じくプラズマ４７の局所的な発生を石英管４３の所要の領域に生ぜしめることができる

容器のための閉鎖エレメントと容器自体との滅菌を含めて容器を充填するための方法経過のブロック回路図である。

プラズマ処理のための真空チャンバ内の個々の閉鎖エレメントのための鉛直方向に移動可能なプランジャを備えた保持装置の第１実施例を示す図である。

真空チャンバ内の個々の閉鎖エレメントのための鉛直方向に移動可能なニードルを備えた保持装置の第２実施例を示す図である。

図３に変わってグループで交互に互いに傾けられた鉛直方向に移動可能なニードルを備えた保持装置の第３実施例を示す図である。

プレートコンベヤまたはシェーキングコンベヤを備えた、真空チャンバ内の閉鎖エレメントのための離れた保持装置もしくは案内装置として形成された搬送装置の第４実施例を示す図である。

真空チャンバ内の閉鎖エレメントのための離れた保持装置もしくは案内装置として形成された、ローラから成る搬送装置の第５実施例の横断面図である。

真空チャンバ内の閉鎖エレメントのための離れた保持装置もしくは案内装置として形成された、ローラから成る搬送装置の第５実施例の縦断面図である。

内部に位置するプラズマ源を備えた、回転する傾けられた石英管から成る搬送装置の第６実施例の横断面図である。

内部に位置するプラズマ源を備えた、回転する傾けられた石英管から成る搬送装置の第６実施例の縦断面図である。

符号の説明

１ ブロック回路図、 ２ ブロック、 ３ ブロック、 ４ 真空チャンバ、 ５ 破線、 ６ ブロック、 ７ 閉鎖ステーション、 １０ 保持装置、 １１ プランジャ、 １２ 栓、 １４ リング、 １５ 発振器、 １６ 面、 １７ プラズマ、 ２０ ニードルクッション、 ２１ ニードル、 ２２ ニードル、 ２３ 矢印、 ２４ 矢印、 ３０ 面状体、 ３１ 運動装置、 ３２ 矢印、 ３３ ボディ、 ３３ａ ボディ、 ４０ ローラ、 ４１ ローラ、 ４３ 石英管、 ４４ 開口、 ４５ 矢印、 ４６ 開口、 ４７ プラズマ、 ４８ マイクロ波源、 ４９ 矢印、 α 傾き

Claims (22)

1. 少なくとも容器のための閉鎖エレメント（１２）を滅菌するための方法において、
   −少なくとも１つの方法ステップにおいて、低圧チャンバまたは真空チャンバ（４）内で電磁振動の励起によるプラズマ処理を実施し、
   −プラズマ（１７；４７）を閉鎖エレメント（１２）の近くにまたは閉鎖エレメント（１２）のグループの近くにかつ閉鎖エレメント（１２）のための搬送装置（１０；２０；３０；４０，４１；４３）の近くに励起し、
   −この場合、閉鎖エレメント（１２）の滅菌したい領域、脱パイロジェンしたい領域および／または熱処理したい領域を、チャンバ（４）における入口ロックゲートと出口ロックゲートとの間でプラズマ内での運動およびプラズマを通過する運動によって処理することを特徴とする、少なくとも容器のための閉鎖エレメントを滅菌するための方法。
2. 少なくとも容器および該容器の閉鎖エレメント（１２）を滅菌するための方法において、
   −少なくとも１つの方法ステップにおいて、低圧チャンバまたは真空チャンバ（４）内で電磁振動の励起による容器および閉鎖エレメント（１２）のためのプラズマ処理を一緒に実施し、
   −プラズマ（１７；４７）を閉鎖エレメント（１２）の近くにまたは閉鎖エレメント（１２）のグループの近くにかつ搬送装置（１０；２０；３０；４０，４１；４３）および容器の近くに励起し、この場合、
   −閉鎖エレメント（１２）および容器の滅菌したい領域、脱パイロジェンしたい領域および／または熱処理したい領域を、チャンバ（４）における入口ロックゲートと出口ロックゲートとの間でプラズマ内での運動およびプラズマを通過する運動によって処理することを特徴とする、少なくとも容器および該容器の閉鎖エレメントを滅菌するための方法。
3. 少なくとも容器および該容器の閉鎖エレメント（１２）を滅菌するための方法において、
   −少なくとも１つの方法ステップにおいて、それぞれ１つの低圧チャンバまたは真空チャンバ（４）内で電磁振動の励起による容器のためのプラズマ処理を実施すると共にそれぞれ１つの別の低圧チャンバまたは真空チャンバ（４）内で電磁振動の励起による閉鎖エレメント（１２）のためのプラズマ処理を実施し、
   −プラズマ（１７；４７）をその都度それぞれ１つの閉鎖エレメント（１２）または閉鎖エレメント（１２）のグループの近くにかつ搬送装置（１０；２０；３０；４０，４１；４３）の近くに励起すると共にその都度容器の近くにかつ搬送装置の近くに励起し、この場合、
   −閉鎖エレメント（１２）および容器の滅菌したい領域および／または脱パイロジェンしたい領域を、チャンバ（４，５）における入口ロックゲートと出口ロックゲートとの間でプラズマ内での運動およびプラズマを通過する運動によって処理することを特徴とする、少なくとも容器および該容器の閉鎖エレメントを滅菌するための方法。
4. チャンバ（４）内への容器および閉鎖エレメント（１２）の装入前に前清浄化を実施しかつ／またはチャンバ（４）からの容器および閉鎖エレメント（１２）の取出し後に容器の充填（６）と、それぞれ閉鎖エレメント（１２）による容器の閉鎖（７）とを行う、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
5. 請求項１から４までのいずれか１項記載の方法によって容器のための閉鎖エレメント（１２）を滅菌するため装置において、
   −チャンバ内に搬送装置（１０；３０，３１；４０，４１，４２；４３）が設けられており、該搬送装置（１０；３０，３１；４０，４１，４２；４３）が、閉鎖エレメント（１２）の運動を、チャンバにおける入口ロックゲート（４４）から出口ロックゲート（４６）への搬送の目的のために、この場合、プラズマを通して生ぜしめるようになっていることを特徴とする、容器のための閉鎖エレメントを滅菌するため装置。
6. 搬送装置（１０）が、プランジャ（１１）を有しており、該プランジャ（１１）にそれぞれ１つの閉鎖エレメント（１２）が付与可能であり、プランジャ（１２）が、プラズマ源（１５）のためのそれぞれ１つの電気的な接続部を成しており、閉鎖エレメント（１２）の、全周にわたって延びる突出部が載置するリング（１４）が、プラズマ源（１５）のための別の電気的な接続部を成しており、プランジャ（１１）が鉛直方向に移動可能であり、これによって、それぞれ交互に閉鎖エレメント（１２）が、プランジャ（１１）またはリング（１４）に載置するようになっている、請求項５記載の装置。
7. 搬送装置が、それぞれ１つの閉鎖エレメント（１２）のためのニードル支承体またはニードルクッション（２０）を有しており、閉鎖エレメント（１２）が載置するニードル（２１，２２）が、ほぼ鉛直方向にそれぞれグループで移動可能であり、これによって、それぞれ交互に閉鎖エレメント（１２）が、ニードルの一方のグループ（２１）またはニードルの他方のグループ（２２）に載置するようになっている、請求項５記載の装置。
8. 閉鎖エレメントが載置するニードルが、グループ（２１，２２）で交互に対角で傾けられていて、交互に線形にかつ／または傾角に関してそれぞれ部分的に運動可能であり、この場合、閉鎖エレメント（１２）の傾きおよび／または並進運動も実施可能である、請求項７記載の装置。
9. 複数の閉鎖エレメント（１２）を保持するために、リング（１４）が、孔付き金属薄板の構成要素であるか、プランジャ（１１）が、プランジャクッションの構成要素であるかまたはニードル（２０，２１，２２）が、拡張されたニードルクッションの構成要素である、請求項６から８までのいずれか１項記載の装置。
10. ニードル（２０，２１，２２）またはプランジャ（１１）が、プラズマ源（１５）のためのそれぞれ１つの電気的な接続部を成している、請求項７から９までのいずれか１項記載の装置。
11. 搬送装置が、プレートコンベヤ（３０）またはシェーキングテーブルであり、該プレートコンベヤ（３０）または該シェーキングテーブルによって、並進搬送に対して付加的にプラズマに対する閉鎖エレメント（１２）の位置の変化が実施可能である、請求項５記載の装置。
12. プラズマによる閉鎖エレメント（１２）の片面の負荷の事例において、閉鎖エレメント（１２）のための反転機構が配置されている、請求項１１記載の装置。
13. 栓（１２）のための搬送装置が、内部で中空のスピンドルまたはガイド金属薄板を備えたドラムである、請求項５記載の装置。
14. 搬送装置が、２つのローラ（４０，４１）の間に位置する閉鎖エレメント（１２）を備えたローラコンベヤであり、該ローラコンベヤによって、並進搬送に対して付加的にローラ軸線の方向でプラズマに対する閉鎖エレメント（１２）の位置の変化が実施可能であり、ローラ（４０，４１）が、水平な平面に対して傾きを有している、請求項５記載の装置。
15. 同じ方向に回転するローラ（４０，４１）が、高さに関して、設定された量だけ互いにずらされている、請求項１４記載の装置。
16. 閉鎖エレメント（１２）のための反転機構が、第１のローラ装置（４０，４１）の端部に配置されており、第２のローラ装置で閉鎖エレメント（１２）の他方の面が処理可能である、請求項１４または１５記載の装置。
17. 搬送装置が、長手方向軸線を中心として回転する石英管（４３）であり、該石英管（４３）の長手方向軸線が、設定された角度量（α）だけ傾けられており、これによって、閉鎖エレメント（１２）が、石英管（４３）の上側の開口（４４）から下側の開口（４６）に回転の間に搬送可能であり、これによって、プラズマに対する閉鎖エレメント（１２）の位置の変化が、閉鎖エレメント（１２）の、主として回転する運動を、石英管（４３）における入口ロックゲート（４４）から出口ロックゲート（４６）への搬送の間に生ぜしめるようになっていて、実施可能である、請求項５記載の装置。
18. 石英管（４３）の内部のプラズマの、局所的に配置可能な発生が、設定された装置ジオメトリおよび／またはアンテナジオメトリ、石英管（４３）の内部と外部との間の圧力勾配または圧力ジャンプまたは石英管（４３）の内部へのより可燃性のガスの供給によって実行可能である、請求項１７記載の装置。
19. 少なくとも１つのプラズマ源が、チャンバの内部に配置されている、請求項５から１８までのいずれか１項記載の装置。
20. 搬送装置が、プラズマ源（１５）の電気的な接続部またはバイアス電圧を発生させるための装置に接続されている、請求項５から１９までのいずれか１項記載の装置。
21. 少なくとも１つのプラズマ源（４８）が、チャンバの内部に石英管（４３）の長手方向軸線に沿って設けられている、請求項１７から１９までのいずれか１項記載の装置。
22. プラズマ源が、外部でチャンバに取り付けられていて、チャンバの内部から、チャンバ内への電磁振動の入力結合と、チャンバの内部と異なるチャンバの外部の圧力からのチャンバの真空の圧力分離とを生ぜしめることができる装置によって分離されている、請求項５から１８までのいずれか１項記載の装置。

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