JP3813586B2 - マイクロ波プラズマ滅菌方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は滅菌方法に関し、特に、医療用器具の消毒滅菌や食料包装容器、袋あるいは食料品に対するマイクロ波プラズマを用いた滅菌方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、医療用器具の消毒滅菌や食料包装容器、袋あるいは食料品に対する滅菌技術としては、(1)乾熱滅菌法、(2)高圧蒸気滅菌法、(3)放射線滅菌法、(4)エチレンオキサイドガス滅菌法等が知られている。
【0003】
(1)乾熱滅菌法は160〜180℃以上の高温のため、対象物が金属やガラス製品に限られ、滅菌時間として60分が必要とされる。(2)高圧蒸気滅菌法は121℃の高温のため、対象物が金属やガラス製品に限られ、滅菌時間として20分が必要で、湿気が問題となる材料(紙など)では使用できない。また、(3)放射線滅菌法は人体への危険性や放射線の当たらないところでは効力を発揮できなかった。そして、(4)エチレンオキサイドガス滅菌法は毒性、引火性などによる取扱いや、滅菌後の残留物の処理問題があった。
【0004】
そして、プラズマを用いた滅菌技術も複数の企業で行われているが、これらは原理的に高熱にすることにより滅菌するものが主流であり、取り扱いに問題がある。また、真空容器中に不活性ガスであるアルゴンガスや塩素系ガスを導入して、高周波電源によりガスのプラズマを発生させて処理対象物の滅菌を行なうものもあるが、ガスの毒性に問題があると共に、放電電極の表面にプラズマが発生するものであり、効率的ではなかった。(特許文献1参照)。
【0005】
【特許文献1】
実開平6−57352号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来の滅菌法は滅菌の対象物が限定されると共に、高温で長時間の処理が必要とされたり、人体への危険性や毒性、引火性などによる取扱いと、滅菌後の残留物の処理問題等を有していた。そこで、本発明は、滅菌装置の取扱いが安全かつ容易で、低温処理が可能な、高速処理を可能とする、大容量の処理ができる低コストのプラズマ滅菌方法を実現することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の請求項1に係るマイクロ波プラズマ滅菌方法は、酸素ガスの導入口と真空排気口と開閉扉を有する真空容器内の上部に、マイクロ波発生装置からマイクロ波を導入するマイクロ波導入装置と、スロットアンテナを有する表面波プラズマ変換装置とからなるプラズマ発生装置が配置され、該真空容器内の中央部には被滅菌物を載置保持する載置台が配置されているマイクロ波プラズマ装置に、酸素ガスを用いて生成した高密度マイクロ波プラズマにより被滅菌物を滅菌する方法において、前記高密度マイクロ波プラズマを生成する放電条件は、2 . 45GHzのマイクロ 波を用い、マイクロ波入射パワーは最大1KW、反射パワーは20〜30W、酸素ガス圧は10〜200Pa(パスカル)、ガス流量は100〜200sccmとして、枯草菌であるバシラス・サブチリス菌またはバシラス・ステアロサーモフィラス菌を滅菌するように構成した。
【0008】
こうして、低温(70℃以下)において高密度マイクロ波プラズマを用いることによって滅菌の大容量の処理と高速化(数分)を実現でき、酸素ガスを用いることによる装置の取扱上の安全性が向上し、3分以上の照射により菌濃度10の6乗以上の被滅菌物であるサンプル、即ち、最も強力な枯草菌であるバシラス・サブチリス菌とバシラス・ステアロサーモフィラス菌の完全滅菌を確認した。滅菌後のサンプルの走査型電子顕微鏡による解析から、プラズマ照射により菌の表面が酸素プラズマによって分解され形状変化し、菌の大きさが著しく小さく、痩せ細ることが判明した。
【0017】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施形態を図を参照して説明する。図1は本発明のマイクロ波プラズマ滅菌方法を実施するための2.45GHzのマイクロ波プラズマ滅菌装置の概要を示し、図1(A)は正面断面図、図1(B)は上面部分破断面図である。
【0018】
ガス導入口2と真空排気口3と開閉扉4を有する真空容器1内の上部に、マイクロ波発生装置(図示せず)から2.45GHzのマイクロ波を導入するマイクロ波導入装置5と、表面波プラズマ変換装置6とからなるプラズマ発生装置が配置されている。マイクロ波導入装置5は導波路7と石英板11を冷却する冷却用ファン8と短絡プランジャー9から構成される。
【0019】
表面波プラズマ変換装置6はプラズマ変換用スロットアンテナ10と石英板11から構成される。また、該真空容器1内の中央部には被滅菌物を載置保持する台座12とを備え、台座12には金属板13とセラミック14と被滅菌物を載置する載置台15が配置されている。
【0020】
本発明に用いるマイクロ波発生装置は、電子レンジと同等の発振器を用いることができ、価格は電子レンジのものと同等程度ですむ。また、真空容器1の製造はエチレンオキサイドガス滅菌装置や高温蒸気設備が必要なオートクレーブ装置等と比べ格段に容易な構造のもので良い。
【0021】
本発明の滅菌方法の具体例は次のように行われる。まず、被滅菌物を直径40cm、高さ40cmの円筒形の真空容器1内の中央部に配置された台座12の載置台15に載置する。滅菌試験サンプルとしては、最も強力な枯草菌であるバシラス・サブチリス菌とバシラス・ステアロサーモフィラス菌を採用し、培養液にサブチリス菌の場合には48時間、ステアロサーモフィラス菌の場合には7日間放置し、菌の生存、培養を確認してから用いた。
【0022】
真空容器1を真空排気口3を介して真空ポンプ(図示せず)により所定の圧力まで排気した後、ガス導入口2から酸素ガスを導入する。真空容器1内の上部に配置されたマイクロ波導入装置5に、マイクロ波発生装置(図示せず)から導波路7を介して導入される2.45GHzのマイクロ波を表面波プラズマ変換装置6のプラズマ変換用スロットアンテナ10に供給した後、石英板11を介してマイクロ波を真空容器1内に導くと、マイクロ波放電プラズマを生成する。
【0023】
この時のプラズマ生成の放電条件は、マイクロ波入射パワー700W、反射パワーは20〜30W、酸素ガス圧は10〜20Pa(パスカル)、ガス流量は100〜200sccmである。こうして生成した酸素プラズマにより、載置台15に載置された被滅菌物を低温(70℃以下)で滅菌処理を施した。プラズマ照射は、照射時間を1分から10分まで変化させた。
【0024】
その結果、3分以上の照射により菌濃度10の6乗以上の被滅菌物であるサンプルの完全滅菌を確認した。滅菌後のサンプルの走査型電子顕微鏡による解析から、プラズマ照射により菌の大きさが著しく小さく、痩せ細ることが判明した。これは菌の表面が酸素プラズマによって分解され、形状変化したものと考えられ、従来の研究成果にはない良好な結果が得られた。
【0025】
図2は、本発明の滅菌方法を実施するための装置のより実用的な実施形態の概要であり、正面断面図を示す。図において図1のものと同等な部材には同一の符号を付している。1は真空容器、2はガス導入口、3は真空排気口、4は開閉扉、5はマイクロ波導入装置、6はスロットアンテナでなる表面波プラズマ変換装置、7は直軸タイプの導波路、15は被滅菌物を載置する載置台、16は載置台15の昇降手段である。
【0026】
滅菌方法は図1の実施形態のものと同様であるので説明は省略するが、載置台15に開閉扉4から被滅菌物を置いた後、適度な位置に移動させるために、また、発生するプラズマの状態に合わせて被滅菌物の載置台15の位置を調節するために昇降手段16により昇降自在にしている。
【0027】
また、大量に滅菌する場合は、載置台15を複数段に分けて設置し、その上に被滅菌物を置きガス流量も適宜増加して、適正な滅菌を行うこともできる。この結果、簡易的な装置にも拘らず、従来法よりも高速(数分)でかつ安全に滅菌が可能となる。
【0028】
本発明のマイクロ波プラズマ滅菌方法は、金属製医療器具、ガラス製医療器具、樹脂製医療器具など医療用器具の消毒滅菌、食料包装容器、袋あるいは食料品の滅菌、あるいは一般家庭用の空気滅菌装置への応用、狂牛病プリオン、MRS菌など新種の病原体の滅菌への応用、薬品関係における製造工程における滅菌方法としての応用に適している。
【0029】
また、今後の技術改良により、細管などの微細構造物に対する滅菌や、任意の形状(ペン状、ライン状あるいはシート状)の大気圧滅菌装置への展開の可能性と、パルス放電マイクロ波プラズマを用いても同等の効果が期待でき、食料品製造工場や医療現場だけでなく公共施設等での使用等かなり広い範囲での用途、市場が考えられる。
【0030】
【発明の効果】
以上のように本発明のマイクロ波プラズマ滅菌方法によれば、マイクロ波プラズマを用いることによる滅菌の低温化(70℃以下)が可能になり、酸素ガスを用いることによる装置の取扱上の安全性が向上し、高圧蒸気、高温蒸気の取扱いが不要となる。また、高密度マイクロ波プラズマを用いることによる滅菌の大容量の処理と高速化(数分)を実現できるので、装置の製造コストの低減化が図られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明方法を実施するための装置の実施形態の概要図。
【図2】 本発明方法を実施するための装置の他の実施形態の概要図。
【符号の説明】
1 真空容器
2 ガス導入口
3 真空排気口
4 開閉扉
5 マイクロ波導入装置
6 表面波プラズマ変換装置
7 導波路
8 ファン
9 短絡プランジャー
10 スロットアンテナ
11 石英板
12 台座
13 金属板
14 セラミック
15 載置台
16 昇降手段
Claims (1)
- 酸素ガスの導入口と真空排気口と開閉扉を有する真空容器内の上部に、マイクロ波発生装置からマイクロ波を導入するマイクロ波導入装置と、スロットアンテナを有する表面波プラズマ変換装置とからなるプラズマ発生装置が配置され、該真空容器内の中央部には被滅菌物を載置保持する載置台が配置されているマイクロ波プラズマ装置に、酸素ガスを用いて生成した高密度マイクロ波プラズマにより被滅菌物を滅菌する方法において、前記高密度マイクロ波プラズマを生成する放電条件は、2 . 45GHzのマイクロ 波を用い、マイクロ波入射パワーは最大1KW、反射パワーは20〜30W、酸素ガス圧は10〜200Pa(パスカル)、ガス流量は100〜200sccmとして、枯草菌であるバシラス・サブチリス菌またはバシラス・ステアロサーモフィラス菌を滅菌することを特徴とするマイクロ波プラズマ滅菌方法。
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KR101968530B1 (ko) * | 2018-06-05 | 2019-08-20 | 국방과학연구소 | 플라즈마 살균이 가능한 전자렌지용 용기 |
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