JP2005352306A - Heating device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示パネルやプラズマ表示パネルなどの構成部材であるガラス基板あるいは半導体リードフレームその他の金属板の熱処理に使用される加熱装置に関する。 The present invention relates to a heating apparatus used for heat treatment of a glass substrate, a semiconductor lead frame, or other metal plate which is a constituent member of a liquid crystal display panel, a plasma display panel, or the like.
液晶表示パネルなどの構成部材であるガラス基板を熱処理する装置としては、従来、加熱気体循環方式のクリーンオーブンが使用されている(例えば、特許文献1参照。)。このクリーンオーブンは、ガラス基板などの被熱処理物を恒温槽内に収容し、この恒温槽内においてファンによって循環する加熱気体を用いて被加熱物の熱処理を行うものである。 As a device for heat-treating a glass substrate which is a constituent member such as a liquid crystal display panel, a heated gas circulation type clean oven has been conventionally used (for example, see Patent Document 1). This clean oven accommodates an object to be heat treated such as a glass substrate in a thermostat and heat-treats the object to be heated using a heated gas circulated by a fan in the thermostat.
しかしながら、加熱気体循環方式のクリーンオーブンの場合、ガラス基板などの被加熱物を多段状に収容する構造を採用しやすいので、スペース効率に優れている反面、加熱温度分布を均一化することが困難であり、加熱気体の攪拌によりクリーン度が悪化する可能性が高い。また、被加熱物が比較的軽量である場合、加熱気体の循環対流によって被加熱物が所定の位置から移動することがある。 However, in the case of a heated gas circulation type clean oven, it is easy to adopt a structure that accommodates a heated object such as a glass substrate in multiple stages, so it is excellent in space efficiency, but it is difficult to make the heating temperature distribution uniform. There is a high possibility that the cleanliness will deteriorate due to the stirring of the heated gas. When the object to be heated is relatively light, the object to be heated may move from a predetermined position by circulating convection of the heated gas.
そこで、内部に発熱体を有する放熱板の両面に遠赤外線放射セラミックスの薄層が被覆され、この放熱板の加熱によって両面から遠赤外線を放射する両面加熱式の遠赤外線パネルヒータからなる多数の棚状ヒータが、炉本体内に上下方向に一定間隔で多段配置され、これらの棚状ヒータの間に形成される各空間部分をそれぞれ乾燥室とした加熱炉が開発されている(例えば、特許文献2参照。)。 Therefore, a number of shelves comprising a far-infrared panel heater of a double-sided heating type in which a thin layer of far-infrared radiation ceramics is coated on both sides of a heat-radiating plate having a heating element inside, and far-infrared radiation is emitted from both sides by heating the heat-radiating plate. A heating furnace has been developed in which a plurality of heaters are arranged in a plurality of stages in the furnace body at regular intervals in the vertical direction, and each space portion formed between the shelf heaters is a drying chamber (see, for example, Patent Documents). 2).
特許文献2に記載された加熱炉の場合、両面加熱式の遠赤外線パネルヒータからなる多数の棚状ヒータが配置されているため、これらの棚状ヒータの間に形成される各空間部(乾燥室)を効率的に加熱することができる点では優れている。
In the case of the heating furnace described in
しかしながら、この加熱炉においては、上下方向に配置された多数の棚状ヒータから発される熱は、加熱炉内を上昇して炉内の天壁寄りの領域に集まる傾向があるため、炉内上部領域の温度は、炉内下部領域の温度より高くなっており、このような炉内上部領域と炉内下部領域との間の温度差をなくすことは極めて困難である。 However, in this heating furnace, heat generated from a large number of shelf heaters arranged in the vertical direction tends to rise in the heating furnace and collect in a region near the top wall in the furnace. The temperature in the upper region is higher than the temperature in the lower region in the furnace, and it is extremely difficult to eliminate such a temperature difference between the upper region in the furnace and the lower region in the furnace.
本発明が解決しようとする課題は、温度分布の均一性およびクリーン度の安定性に優れた加熱装置を提供することにある。 The problem to be solved by the present invention is to provide a heating device having excellent temperature distribution uniformity and cleanliness stability.
本発明の加熱装置は、断熱材で囲まれた空間内に距離を隔てて対向配置された複数の加熱用壁体と、加熱用壁体に設けられた発熱手段と、加熱用壁体の間に距離を隔てて配置された複数の伝熱壁体と、伝熱用壁体の間に棚状に配置された複数の熱放射部材と、上下方向に隣り合う熱放射部材の間に設けられた被加熱物の収容スペースとを備えたことを特徴とする。 The heating device according to the present invention includes a plurality of heating walls disposed opposite to each other in a space surrounded by a heat insulating material, heating means provided on the heating wall, and a space between the heating walls. Between a plurality of heat transfer walls disposed at a distance from each other, a plurality of heat radiation members disposed in a shelf shape between the heat transfer wall bodies, and a heat radiation member adjacent in the vertical direction. And an accommodation space for the object to be heated.
このような構成とすれば、断熱材で囲まれた空間内に存在する複数の被加熱物の収容スペースはそれぞれ、左右に加熱用壁体および伝熱用壁体が配置され、上下に熱放射部材が配置された構造となる。したがって、それぞれの収容スペース内は、発熱手段の熱によって昇温した左右の加熱用壁体および伝熱用壁体から放射される熱と、これらの伝熱用壁体を経由して複数の熱放射部材に到達して当該熱放射部材から上下に放射される熱とによって加熱されることとなる。このため、それぞれの収容スペース内はむらなく均等に加熱されることとなり、温度分布の均一性に優れたものとなる。 With such a configuration, the plurality of objects to be heated existing in the space surrounded by the heat insulating material are respectively provided with heating walls and heat transfer walls on the left and right sides, and heat radiation on the top and bottom. The member is arranged. Therefore, in each housing space, the heat radiated from the left and right heating walls and the heat transfer wall raised by the heat of the heat generating means, and a plurality of heats via these heat transfer walls It reaches the radiating member and is heated by the heat radiated up and down from the heat radiating member. For this reason, the inside of each accommodation space will be heated uniformly, and it will become the thing excellent in the uniformity of temperature distribution.
発熱手段は加熱用壁体のみに設けられており、各収容スペースは、ぞれぞれの左右に位置する伝熱用壁体と、上下に位置する熱放射部材によって区画されているため、各収容スペース内における温度分布の均一性も優れているだけでなく、熱気の上昇に起因する上部空間における熱蓄積現象および過熱現象が発生しない。また、ファンによって加熱気体を攪拌したり、循環させたりすることもないので、クリーン度の安定性も優れており、気体流によって被加熱物が移動することもない。また、断熱材で囲まれた空間内に収容スペースを配置しているため、熱の散逸が少なく、省エネルギも図ることができる。 The heating means is provided only on the heating wall, and each storage space is partitioned by the heat transfer wall located on the left and right of each, and the heat radiating member located on the top and bottom. Not only is the temperature distribution even in the housing space, the heat distribution phenomenon in the upper space due to the rise of hot air and the overheating phenomenon do not occur. Further, since the heated gas is not stirred or circulated by the fan, the stability of the cleanliness is excellent, and the heated object is not moved by the gas flow. Further, since the accommodation space is arranged in the space surrounded by the heat insulating material, heat dissipation is small and energy saving can be achieved.
ここで、収容スペース内へ不活性ガスを供給するための複数のガス流路を加熱用壁体および伝熱用壁体に設けることが望ましい。このような構成とすれば、加熱用壁体および伝熱用壁体に設けられた複数のガス流路を通過することによって昇温した不活性ガスが各々の収容スペース内に供給され、その内部を循環することとなるため、各収容スペース内における熱の偏在をなくすことができ、温度分布の均一性がさらに向上するほか、被加熱物の酸化を防止することができる。また、不活性ガスの加熱するための手段を別途設ける必要もない。 Here, it is desirable to provide a plurality of gas flow paths for supplying an inert gas into the accommodation space in the heating wall body and the heat transfer wall body. With such a configuration, the inert gas heated by passing through the plurality of gas flow paths provided in the heating wall body and the heat transfer wall body is supplied into each housing space, and the interior thereof Therefore, the uneven distribution of heat in each accommodation space can be eliminated, the uniformity of temperature distribution can be further improved, and oxidation of the object to be heated can be prevented. Further, it is not necessary to separately provide a means for heating the inert gas.
一方、加熱用壁体と伝熱用壁体とを互いに密着させて配置することが望ましい。このような構成とすれば、加熱用壁体から伝熱用壁体への熱の移動が速やか且つ確実に行われることとなるため、熱効率が向上する。また、収容スペース内へ不活性ガスを供給するため加熱用壁体および伝熱用壁体に形成されるガス流路を最短化することができるので、不活性ガスの供給が円滑に行われる。 On the other hand, it is desirable to arrange the heating wall and the heat transfer wall in close contact with each other. With such a configuration, the heat transfer from the heating wall body to the heat transfer wall body is performed quickly and reliably, so that the thermal efficiency is improved. Further, since the inert gas is supplied into the accommodation space, the gas flow paths formed in the heating wall body and the heat transfer wall body can be minimized, so that the inert gas can be supplied smoothly.
また、加熱用壁体と伝熱用壁体との密着面の少なくとも一方に、ガス流路と連通する凹状のガス拡散領域を設けることが望ましい。このような構成とすれば、加熱用壁体に設けられた複数のガス流路と、伝熱用壁体に設けられた複数のガス流路とは、このガス拡散領域を介して連通した状態となるため、外部から供給された不活性ガスは、加熱用壁体のガス流路を通過してガス拡散領域に流入し、その中で拡散することにより、十分混合された後、伝熱用壁体のガス流路を通過して各収容スペース内へ流入することとなる。このため、各収容スペース内へ流入する不活性ガスの温度が均一化され、温度分布の均一性がさらに向上する。 In addition, it is desirable to provide a concave gas diffusion region communicating with the gas flow path on at least one of the contact surfaces of the heating wall and the heat transfer wall. With such a configuration, the plurality of gas flow paths provided in the heating wall body and the plurality of gas flow paths provided in the heat transfer wall body communicate with each other through this gas diffusion region. Therefore, the inert gas supplied from the outside passes through the gas flow path of the heating wall body, flows into the gas diffusion region, diffuses therein, and after being sufficiently mixed, It passes through the gas flow path of the wall body and flows into each accommodation space. For this reason, the temperature of the inert gas flowing into each accommodation space is made uniform, and the uniformity of the temperature distribution is further improved.
また、加熱用壁体と伝熱用壁体との間に存在するガス拡散領域内において不活性ガスの拡散、混合が行われているため、加熱用壁体から伝熱用壁体への熱の移動が均等に行われることとなり、伝熱用壁体自体の温度分布が均一化されるため、各収容スペースごとの温度分布の均一性もさらに向上する。また、ガス拡散領域内に流入した不活性ガス全体に均等な内圧が生じるため、ガス拡散領域と連通する伝熱用壁体の複数のガス流路から各収容スペースに向かって均等に不活性ガスを流出させることができ、ガス流量の変化に起因する各収容スペースの温度差も生じにくくなる。 Further, since the inert gas is diffused and mixed in the gas diffusion region existing between the heating wall and the heat transfer wall, heat from the heating wall to the heat transfer wall is obtained. Since the temperature distribution of the heat transfer wall itself is made uniform, the uniformity of the temperature distribution for each accommodation space is further improved. In addition, since an equal internal pressure is generated in the entire inert gas flowing into the gas diffusion region, the inert gas is evenly distributed from the plurality of gas flow paths of the heat transfer wall communicating with the gas diffusion region toward the respective accommodation spaces. The temperature difference between the storage spaces due to the change in the gas flow rate is less likely to occur.
さらに、伝熱用壁体が熱放射用部材と一体化した状態で加熱用壁体の間に出し入れ可能とすることが望ましい。このような構成とすれば、加熱用壁体に対して伝熱用壁体および熱放射部材が着脱可能となるため、被加熱物のサイズ変更などにより収容スペースのサイズを変更する必要が生じた場合、それに応じて伝熱用壁体および熱放射部材のみを取り替えることによって対応可能となるため、加熱用壁体を共有化することができ、設備の合理化を図ることができる。 Furthermore, it is desirable that the heat transfer wall can be inserted and removed between the heating walls in a state where the heat transfer wall is integrated with the heat radiation member. With such a configuration, since the heat transfer wall and the heat radiation member can be attached to and detached from the heating wall, it is necessary to change the size of the accommodation space by changing the size of the object to be heated. In this case, it is possible to cope by replacing only the heat transfer wall and the heat radiation member accordingly, so that the heating wall can be shared and the equipment can be rationalized.
本発明により、以下に示す効果を得ることができる。 According to the present invention, the following effects can be obtained.
(1)断熱材で囲まれた空間内に距離を隔てて対向配置された複数の加熱用壁体と、加熱用壁体に設けられた発熱手段と、加熱用壁体の間に距離を隔てて配置された複数の伝熱壁体と、伝熱用壁体の間に棚状に配置された複数の熱放射部材と、上下方向に隣り合う熱放射部材の間に設けられた被加熱物の収容スペースとを備えたことにより、温度分布の均一性およびクリーン度の安定性に優れたものとなる。 (1) A plurality of heating walls disposed opposite to each other in a space surrounded by a heat insulating material, heating means provided on the heating walls, and the heating walls are spaced apart. A plurality of heat transfer wall bodies arranged in a row, a plurality of heat radiating members arranged in a shelf shape between the heat transfer wall bodies, and an object to be heated provided between the heat radiating members adjacent in the vertical direction Provided with the storage space, it becomes excellent in uniformity of temperature distribution and stability of cleanliness.
(2)収容スペース内へ不活性ガスを供給するための複数のガス流路を加熱用壁体および伝熱用壁体に設ければ、各収容スペース内における熱の偏在をなくすことができ、温度分布の均一性がさらに向上する。 (2) If a plurality of gas flow paths for supplying an inert gas into the accommodation space are provided in the heating wall and the heat transfer wall, the uneven distribution of heat in each accommodation space can be eliminated, The uniformity of temperature distribution is further improved.
(3)加熱用壁体と伝熱用壁体とを互いに密着させて配置すれば、熱効率が向上し、不活性ガスの供給も円滑に行われる。 (3) If the heating wall body and the heat transfer wall body are arranged in close contact with each other, the thermal efficiency is improved and the inert gas is supplied smoothly.
(4)加熱用壁体と伝熱用壁体との密着面の少なくとも一方に、ガス流路と連通する凹状のガス拡散領域を設ければ、各収容スペース内へ流入する不活性ガスの温度が均一化され、温度分布の均一性がさらに向上するほか、伝熱用壁体自体の温度分布が均一化されるため、各収容スペースごとの温度分布の均一性もさらに向上し、ガス流量変化に起因する温度差を抑制することができる。 (4) If a concave gas diffusion region communicating with the gas flow path is provided on at least one of the contact surfaces of the heating wall and the heat transfer wall, the temperature of the inert gas flowing into each accommodation space The temperature distribution of the heat transfer wall itself is further uniformed, further improving the uniformity of the temperature distribution for each storage space and changing the gas flow rate. It is possible to suppress the temperature difference due to the.
(5)伝熱用壁体が熱放射用部材と一体化した状態で加熱用壁体の間に出し入れ可能とすれば、収容スペースのサイズを変更する必要が生じた場合、それに応じて伝熱用壁体および熱放射部材のみを取り替えることによって対応可能となるため、加熱用壁体を共有化することができ、設備の合理化を図ることができる。 (5) If the heat transfer wall body is integrated with the heat radiating member so that it can be taken in and out between the heating wall bodies, if it is necessary to change the size of the housing space, heat transfer is performed accordingly. Since only the wall for heat and the heat radiating member can be replaced, the heating wall can be shared and the equipment can be rationalized.
以下、図面に基づいて、本発明の実施の形態である加熱装置について説明する。図1は本発明の実施の形態である加熱装置が断熱収容体に収容された状態を示す一部省略正面図、図2は図1に示す加熱装置の一部省略斜視図、図3は図1に示す加熱装置の一部省略斜視図である。 Hereinafter, a heating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a partially omitted front view showing a state in which a heating apparatus according to an embodiment of the present invention is accommodated in a heat insulating container, FIG. 2 is a partially omitted perspective view of the heating apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 2 is a partially omitted perspective view of the heating device shown in FIG.
図1は、本実施形態の加熱装置1を内蔵した加熱炉2の正面の開閉扉(図示せず)を取り外した状態で示している。同図に示すように、加熱装置1は、直方体の箱体形状をした加熱炉2を構成する断熱材2aで囲まれた空間3内に距離を隔てて垂直に対向配置された複数の加熱用壁体4,5と、これらの加熱用壁体4,5に水平方向に設けられた複数の孔部6と、これらの孔部6内に着脱可能に挿入された発熱手段である電気ヒータ7と、加熱用壁体4,5の間に距離を隔てて配置された複数の伝熱用壁体8,9と、伝熱用壁体8,9の間に棚状に配置された平板状をした複数の熱放射部材10と、被加熱物11を収容するため、上下方向に隣り合う熱放射部材10の間に設けられた収容スペース12と、を備えている。
FIG. 1 shows a state in which an opening / closing door (not shown) in the front of a
断熱材2aは、ステンレス鋼板の間にグラスウールをサンドイッチ状に挟んだ構造であり、加熱用壁体4,5および伝熱用壁体8,9はステンレス鋼で形成されている。熱放射部材10は、表面に黒色メッキを施したアルミニウム板で形成されている。加熱用壁体4,5の上面を天板13によって連結することにより門形状の加熱部20が形成され、加熱用壁体4,5の下面にはそれぞれ脚部材14が取付けられている。天板13および脚部材14は加熱用壁体4,5と同材質のステンレス鋼で形成されている。
The
図1,図2に示すように、加熱用壁体4と伝熱用壁体8、加熱用壁体5と伝熱用壁体9は、それぞれ互いに密着して配置されているが、図3に示すように、伝熱用壁体8,9と熱放射用部材10とを一体化することによって収容部30が形成され、この収容部30は、加熱部20を構成する加熱用壁体4,5の間に出し入れ可能である。収容部30は、向かい合わせて配置された複数の伝熱用壁体8,9の対向面にそれぞれ水平方向に形成された複数の係止溝18,19に沿ってそれぞれ熱放射部材10を棚状に取付け、伝熱用壁体8,9の外面から熱放射部材10に向かって挿入したボルト(図示せず)で固定することによって形成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
また、伝熱用壁体8,9において、上下方向に隣り合う係止溝18,19の間には、被加熱物11を着脱可能に保持するための保持溝28,29が係止溝18,19と平行に形成されている。そして、伝熱用壁体8,9の正面の上下端付近には、水平方向のボルト孔15aを有する係止部15が突設され、加熱用壁体4,5には、これらの係止部材15が係合可能な凹部16が形成され、凹部16の内部には雌ネジ孔16aが形成されている。
Further, in the
伝熱用壁体8,9と熱放射部材10とが一体化された状態にある収容部30を、加熱部20を構成する加熱用壁体4,5の間に差し込み、4箇所にある係止部15をそれぞれ凹部16に係合させ、ボルト孔15aにボルト17を挿入し、雌ネジ孔16aに螺合させることにより、図1,図2に示す状態に固定することができる。図3に示すように、収容部30は、各収容スペース12に被加熱物11を収容した状態であっても、加熱部20を構成する加熱用壁体4,5の間に出し入れすることができる。
The
次に、図4〜図7に基づいて、伝熱用壁体8,9および熱放射部材10からなる収容部30の構造、機能などについて説明する。図4は図1に示す加熱装置を構成する収容部を示す斜視図、図5は図4に示す伝熱用壁体の側面図、図6は図4におけるA−A線断面図、図7は図5におけるB−B線断面図である。
Next, based on FIGS. 4-7, the structure, function, etc. of the
図4〜図7に示すように、収容部30においては、上下方向に隣り合う熱放射部材10の間にそれぞれ収容スペース12が形成され、収容スペース12の左右に位置する伝熱用壁体8,9には水平方向の保持溝28,29が形成されている。なお、図6,図7に示すように、保持溝28,29の一方の端部付近(収容部30の背面部分)には、被加熱物11(図示せず)の挿入、離脱作業をやり易くするために、斜面部28a,29aおよび拡幅部28b,29bが形成されている。
As shown in FIGS. 4 to 7, in the
また、伝熱用壁体8,9において、上下方向に隣り合う係止溝18,19と保持溝28,29との間に位置する部分には、伝熱用壁体8,9を厚さ方向に貫通する複数のガス流路38,39が開設されている。これらのガス流路38,39は水平方向に沿って一定間隔ごとに配置されている。これらのガス流路38,39は、後述するように、熱処理中、外部から供給される不活性ガスを複数の収容スペース12内に向かって送り込むためのものである。
In addition, in the heat
次に、図8〜図11を参照して、加熱部20の構造、機能などについて説明する。図8は図1に示す加熱装置を構成する加熱部を示す正面図、図9は図8に示す加熱部の側面図、図10は図8におけるC−C線断面図、図11は図9におけるD−D線断面図である。
Next, the structure and function of the
図8〜図11に示すように、加熱部20においては、対向配置された加熱用壁体4,5に、それぞれの厚さ方向に貫通する複数のガス流路34,35が形成され、加熱用壁体4,5の対向面にはそれぞれガス流路34,35と連通する凹状のガス拡散領域24,25が形成されている。複数のガス流路34,35は、図9,図10に示すように、側面形状が四角形をした加熱用壁体4,5の対角線に沿って一定間隔ごとに配置されている。これらのガス流路34,35は、後述するように、熱処理中、外部から供給される不活性ガスをガス拡散領域24,25に送り込むためのものである。
As shown in FIGS. 8 to 11, in the
図8に示す加熱部20に対し、図4などで示した収容部30を差し込むと図2に示すような加熱装置1が形成され、この加熱装置1の垂直断面図は図12に示すようになる。即ち、図12に示すように、加熱用壁体4,5に設けられたガス流路34,35とそれぞれ連通するガス拡散領域24,25は、それぞれ伝熱用壁体8,9によって覆われた状態となるとともに、それぞれのガス流路38,39と連通した状態となる。したがって、外部からガス流路34,35に供給された不活性ガスはガス拡散領域24,25内に流入し、それぞれガス拡散領域24,25内を流動、拡散した後、伝熱用壁体8,9のガス流路38,39を通過して収容スペース12内へ流入することとなる。
When the
以上のように、加熱装置1においては、加熱炉2を構成する断熱材2aで囲まれた空間3内に存在する複数の被加熱物11の収容スペース12においては、それぞれの左右に加熱用壁体4,5および伝熱用壁体8,9が配置され、上下に熱放射部材10が配置された構造となっている。したがって、それぞれの収容スペース12内は、発熱手段(電気ヒータ7)の熱によって昇温した左右の加熱用壁体4,5および伝熱用壁体8,9と、これらの伝熱用壁体8,9を経由して複数の熱放射部材10に到達し、当該熱放射部材10から上下に放射される熱によって加熱されることとなる。このため、それぞれの収容スペース12内はむらなく均等に加熱されることとなり、温度分布の均一性に優れている。
As described above, in the heating device 1, in the
発熱手段である電気ヒータ7は加熱用壁体4,5のみに設けられており、各収容スペース12は、ぞれぞれの左右に位置する伝熱用壁体8,9と、上下に位置する熱放射部材10によって区画されているため、各収容スペース12内における温度分布の均一性も優れており、熱気上昇に起因する上部空間における熱蓄積現象および過熱現象も発生しない。また、ファンによって加熱気体を攪拌したり、循環させたりすることもないので、クリーン度の安定性も優れており、気体流によって被加熱物が移動することもない。また、断熱材2aで囲まれた空間3内に収容スペース12を内蔵する加熱装置1を配置しているため、熱の散逸が少なく、省エネルギも図ることができる。
The
また、収容スペース12内へ不活性ガスを供給するための複数のガス流路34,35,38,39を加熱用壁体4,5および伝熱用壁体8,9に設けているため、これらのガス流路34,35,38,39を通過することによって昇温した不活性ガスが各々の収容スペース12内に供給され、その内部を循環することとなるため、各収容スペース12内における熱の偏在をなくすことができ、温度分布の均一性の向上に有効である。
Further, since the plurality of
一方、加熱装置1においては、加熱用壁体4と伝熱用壁体8、加熱用壁体5と伝熱用壁体9とを互いに密着させて配置しているため、加熱用壁体4,5から伝熱用壁体8,9への熱移動が速やか且つ確実に行われ、熱効率を高めることができる。また、収容スペース12内へ不活性ガスを供給するため加熱用壁体4,5および伝熱用壁体8,9に形成されるガス流路34,35,38,39を最短化することができるので、不活性ガスの供給が円滑に行われる。
On the other hand, in the heating apparatus 1, the
また、加熱用壁体4,5にはそれぞれガス流路34,35と連通する凹状のガス拡散領域24,25を設けているため、加熱用壁体4,5にそれぞれ設けられた複数のガス流路34,35と、伝熱用壁体8,9に設けられた複数のガス流路38,39とは、このガス拡散領域24,25を介してそれぞれ連通した状態となる。従って、外部から供給された不活性ガスは、加熱用壁体4,5のガス流路34,35を通過してそれぞれガス拡散領域24,25内に流入し、その中で流動、拡散することによって充分混合された後、伝熱用壁体8,9のガス流路38,39を通過して各収容スペース12内へ流入する。このため、各収容スペース12内へ流入する不活性ガスの温度が均一化され、温度分布の均一性をさらに向上させることができる。
Further, since the
また、加熱用壁体4,5と伝熱用壁体8,9との間に存在するガス拡散領域24,25内において不活性ガスの拡散、混合が行われているため、加熱用壁体4,5から伝熱用壁体8,9への熱移動が均等に行われることとなる。このため、伝熱用壁体8,9自体の温度分布が均一化されることとなり、各収容スペース12における温度分布の均一性向上に有効である。また、ガス拡散領域24,25内に流入した不活性ガス全体に均等な内圧が生じるため、ガス拡散領域24,25とそれぞれ連通する伝熱用壁体8,9の複数のガス流路38,39から各収容スペース12に向かって均等に不活性ガスを流出させることができ、外部から供給されるガス流量の変化に起因する各収容スペース12の温度差も生じにくい。
Further, since the inert gas is diffused and mixed in the
さらに、加熱装置1においては、加熱部20に対して収容部30が出し入れ可能であるため、加熱用壁体4,5に対し、伝熱用壁体8,9および熱放射部材10が着脱可能である。従って、被加熱物11のサイズ変更などにより収容スペース12のサイズを変更する必要が生じた場合、それに応じて伝熱用壁体8,9および熱放射部材10のみを取り替えることによって対応可能である。このため、加熱用壁体4,5を共有化することができ、設備の合理化を図ることができる。
Further, in the heating device 1, since the
次に、図13を参照して本発明のその他の実施形態である加熱装置について説明する。図13はその他の実施の形態である加熱装置を示す正面図である。なお、図13において図1〜図12に記載の符号と同じ符号を付している部分は、同符号を付した加熱装置1の構成部分と同じ機能、効果を発揮する部分であり、説明を省略する。 Next, a heating apparatus which is another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 13 is a front view showing a heating device according to another embodiment. In addition, the part which attached | subjected the code | symbol same as the code | symbol as described in FIGS. 1-12 in FIG. 13 is a part which exhibits the same function and effect as the component part of the heating apparatus 1 which attached | subjected the code | symbol, Omitted.
図13に示すように、この加熱装置40においては、加熱用壁体4を上下に連接するとともに左右3箇所に配置し、これらの加熱用壁体4の間に複数の収容部30を出し入れ可能に配置している。このような構成とすることにより、1回の熱処理工程で多数の被熱処理物を処理することが可能となるため、作業効率が大幅に向上する。
As shown in FIG. 13, in the heating device 40, the
本発明の加熱装置は、液晶表示パネルやプラズマ表示パネルなどの構成部材であるガラス基板あるいは半導体リードフレームその他の金属板の熱処理において広く利用することができる。 The heating device of the present invention can be widely used in heat treatment of glass substrates, semiconductor lead frames, and other metal plates, which are constituent members of liquid crystal display panels and plasma display panels.
1,40 加熱装置
2 加熱炉
2a 断熱材
3 空間
4,5 加熱用壁体
6 孔部
7 電気ヒータ
8,9 伝熱用壁体
10 熱放射部材
11 被加熱物
12 収容スペース
13 天板
14 脚部材
15 係止部
15a ボルト孔
16 凹部
16a 雌ネジ孔
17 ボルト
18,19 係止溝
20 加熱部
24,25 ガス拡散領域
28,29 保持溝
28a,29a 傾斜面
28b,29b 拡幅部
30 収容部
34,35,38,39 ガス流路
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