JP2005349382A - 炭酸ガス充填タンクによる高濃度殺菌水生成方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 次亜塩素酸や亜塩素酸を生成する過程で、pHの変動を抑える炭酸ガス含有殺菌水の生成。
【解決手段】 塩酸タンク63と次亜塩素酸ナトリウム溶液タンク61から塩酸水溶液と次亜塩素酸ナトリウム溶液を定量ポンプ106及び105により連通管59と連通管60を流れる希釈水に添加し、それらを炭酸ガス充填タンク50内の噴射ノズル51から互いにぶつかり合うようにして噴射し、2つの流れが衝突して炭酸ガス空間で攪拌噴射流となって炭酸ガスを溶解すると共に、水位センサー41−1、から41−4の間で炭酸ガス充填タンク50内の水位を自在に調整することにより、炭酸ガスの溶解量も調整できる機能を有することによる。
【選択図】 図10
【解決手段】 塩酸タンク63と次亜塩素酸ナトリウム溶液タンク61から塩酸水溶液と次亜塩素酸ナトリウム溶液を定量ポンプ106及び105により連通管59と連通管60を流れる希釈水に添加し、それらを炭酸ガス充填タンク50内の噴射ノズル51から互いにぶつかり合うようにして噴射し、2つの流れが衝突して炭酸ガス空間で攪拌噴射流となって炭酸ガスを溶解すると共に、水位センサー41−1、から41−4の間で炭酸ガス充填タンク50内の水位を自在に調整することにより、炭酸ガスの溶解量も調整できる機能を有することによる。
【選択図】 図10
Description
本発明は、炭酸ガスを高濃度に溶解させた次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とする殺菌水の生成方法及び装置に関する。
次亜塩素酸又は亜塩素酸などが主成分である殺菌水は人体に無害であり且つ殺菌効果の優れていることが、現在では広く知られている。一般的に使用される次亜塩素酸は次亜塩素酸ナトリウムを水で希釈して遊離塩素濃度が200ppm程度でpHが8.6程度となる次亜塩素酸ナトリウム希釈溶液に含まれる10%程度の次亜塩素酸を主成分とする殺菌水である。
しかし、特に、開発された次亜塩素酸の生成方法の一例として、次亜塩素酸ナトリウムと例えば塩酸などの酸とを混合する方法が良く知られている。
この方法は、手軽に殺菌水を生成できるという利点があるが、混合する酸の量のコントロールが難しく、酸の量が僅かでも多すぎると、急激にpHが低下してガス化領域に入ってしまい、これにより塩素ガスを発生するという問題を有する。このような問題のため、例えば台所用除菌剤として販売されている「ハイター(登録商標)」(製造販売:花王)のような次亜塩素酸ナトリウムを主成分とした除菌剤にあっては、その容器には、酸と一緒に使用することを禁止する注意書きが付されている。
この方法は、手軽に殺菌水を生成できるという利点があるが、混合する酸の量のコントロールが難しく、酸の量が僅かでも多すぎると、急激にpHが低下してガス化領域に入ってしまい、これにより塩素ガスを発生するという問題を有する。このような問題のため、例えば台所用除菌剤として販売されている「ハイター(登録商標)」(製造販売:花王)のような次亜塩素酸ナトリウムを主成分とした除菌剤にあっては、その容器には、酸と一緒に使用することを禁止する注意書きが付されている。
次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とする殺菌水の生成方法の他の例として、塩酸水溶液を直接電気分解することにより次亜塩素酸を主成分とした水溶液を生成する方法が知られており、また、他の直流電気分解による方法として、塩化ナトリウム水溶液をプラス極とマイナス極の間に隔膜を有する電解槽に注入して次亜塩素酸水溶液をプラス極側に生成する方法や、塩酸と塩化ナトリウムの混合水溶液をプラス極とマイナス極の間に分離用の隔膜がない方式で直流電気分解することにより次亜塩素酸水溶液を生成する方法が知られているが、最も効率よく次亜塩素酸を生成することができるpH5近傍で次亜塩素酸水溶液を生成しようとすると、微妙な調整が必要となるため、実際上、生成する次亜塩素酸水溶液のpHを7程度とし、電解条件に一定の幅を設けて制御しているのが実情である。
例えば、特許文献1は、隔膜により分離された電解槽による次亜塩素酸含有殺菌水の生成方法を開示しており、陽極のみに塩化ナトリウム溶液を添加して、希釈水(水道水)を両極に供給しながら電気分解することにより、陽極側から次亜塩素酸水溶液の殺菌水を取り出すようになっている。この方法にあっては、両極に同量の希釈水を供給すると、弱い電解状態であればpH約6の殺菌水を得ることができるが、これでは高濃度の次亜塩素酸を得ることができない。高濃度の次亜塩素酸を得るために電解状態を強くしなければならないが、強くするとpH3以下のガス化領域に入ってしまうという問題がある。
特許文献2は、電解槽内のプラス極とマイナス極の間に分離膜を備えていない無隔膜電解槽での電気分解による殺菌水生成方式に関するものであり、電解槽の中で高濃度の次亜塩素酸ナトリウムを生成した後に、希釈水で希釈して次亜塩素酸を主成分とした殺菌水を生成する方式を開示している。この方式では、電解槽に塩化ナトリウム溶液を加えるものであるが、電気分解により次亜塩素酸ナトリウムが生成されるときにpH調整が自動的に出来るように、希塩酸を混入しておくことから、所望のpHの殺菌水を生成しようとすると、希塩酸の濃度を所定値に合わせる必要があり、他方、所望の濃度の殺菌水を生成しようとすると希塩酸の量の変更が必要になるため、電解槽の制御に関するpHの範囲を広く設定しているのが実情である。
特許文献3は、無隔膜方式に関する殺菌水生成方法を開示するものであるが、この特許文献3では、塩酸を電解して次亜塩素酸を生成し、次いで、次亜塩素酸水溶液を希釈水で希釈して所望の濃度の殺菌水を得るものである。この方式に於いても上述した特許文献2と同様の問題を有し、このため電解槽の制御に関するpHの範囲を広く設定しているのが実情である。
特許文献4は、希釈水を2つの管路に分岐して通過させ、一方の管路に次亜塩素酸ナトリウム水溶液を強制的に注入し、他方の管路に希塩酸水溶液を強制注入した後に、2つの管路を合流させて次亜塩素酸水溶液を生成するものである。この混合方式にあっては、上述したように、生成される次亜塩素酸水溶液のpHが塩酸の添加量に敏感であり、塩酸が僅かでも多すぎるとpH3以下のガス化領域に入ってしまうため、安全上の観点から生成する次亜塩素酸水溶液のpHが6.5〜7.5の範囲に収まるように希塩酸水溶液の添加量の制御が行われていた。
叙上のように様々な方法により次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とした殺菌水が生成されているが、さらに、この殺菌水は、特に高濃度の殺菌水を長期に亘って保存すると経時的に分解して塩酸成分が相対的に多くなり、このためpHが低下してガス化領域に入ってしまうという問題もある。
特開平2−055528公報 特開平3−091140号公報 特開2003−190953号公報 実用新案登録3058642号公報
本発明の目的は、次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とした殺菌水の生成に関し、これを生成する過程で薬剤によるpH調整ではなく、炭酸ガスによりpHの変動抑制を行う、安全な殺菌水の生成方法及び装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とした殺菌水の生成に関し、pH制御を容易にすることのできる殺菌水の生成方法を提供することにある。
本発明の更なる目的は、pH3以下のガス化領域まで低下するのを抑えることのできる次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とした殺菌水の生成方法を提供することにある。
本発明の更なる目的は、次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とした殺菌水の生成に関し、高濃度の殺菌水を得るための制御を簡単化することのできる殺菌水の生成方法及び装置を提供することにある。
本発明の別の目的は、高濃度の次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とした殺菌水の生成に関し、生成した殺菌水のpHの経時的な変動を抑えることのできる殺菌水の生成方法の提供することであり、さらに、次亜塩素酸ナトリウム溶液と塩酸水溶液を混合し次亜塩素酸含有の殺菌水を生成する機械において、極微量を使用(例えば、殺菌の過程で殺菌水の濃度が減少するため、少量ずつチョロチョロと連続的に殺菌水を補充しなければ成らないケース)する場合、生成される殺菌水のpHや濃度が安定しないばかりか機械の安全装置が作動して生成ができなかった。なぜなら、次亜塩素酸ナトリウム水溶液および塩酸水溶液の極めて微量な制御ができないからである。このためアキューウムレイターなどのバッファタンクを装置の出口側に装着する必要があった。本発明の目的は、これ等の問題を一挙に解決する手段を提供することにもある。
本願発明者は、炭酸ガスのpH緩衝作用に着目し、この緩衝作用を活用することで、次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とした殺菌水の生成に今までにない多大な効果が得られることを見出した。しかも、炭酸ガスは水に容易に溶解し殺菌工程が終了した後にはガス化して水溶液中から蒸散する。これにより、塩素系殺菌剤が持つ商品に付いた塩素臭が、炭酸ガスの蒸散と同時に取り除かれるため商品性を向上することができる。
例えば次亜塩素酸ナトリウムに炭酸水素ナトリウムを加えて水溶液を作り、これに塩酸を混合したときには、炭酸水素ナトリウムの緩衝作用により、添加する塩酸の量に対する感受性を低下させることができるが、この場合は、炭酸ガスが絶え間なく大気中に蒸散して濃度が減少することに対し、絶えず炭酸水素ナトリウムの補充が必要に成るが、作業工程上極めて作業性が悪く、現場で利用できる技術としては適さない。
本発明における大きな特徴は、本発明の一つの炭酸生成機構が所定の圧力で炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンクに次亜塩素酸水溶液と塩酸水溶液を衝突噴射する機構であるため、結果として、常に炭酸ガス充填タンクがアキュームレイターと同じ役目を果たす。つまり、タンク内の水位がある高さに減るまでは、炭酸ガス空間への噴射をせず、その所定の水位まで下がった時点で噴射を開始し、逆にタンク内水位が所定の高さまで上昇したら、噴射を停止するように制御する。しかも混合方法が、次亜塩素酸ナトリウム水溶液と塩酸水溶液を激しく衝突させながら炭酸ガス空間に噴射する方法なので、少ない量でも十分な混合作用が得られ、さらに混合と同時に炭酸ガスの溶解が行われ、殺菌水濃度やpHの保障が容易にできる。これ等2つの効果は本発明の大きな主張の1つである。
次亜塩素酸ナトリウム(NaClO)に炭酸水素ナトリウムを加えた水溶液に塩酸を混入したときのpH値は単に次亜塩素酸ナトリウムに塩酸(HCl)を混入したときのpH値に比べてpHの下がりかたが極めて緩やかである。実験に使用した各成分は次の通りである。
(1) 水道水 250ml
(2) 次亜塩素酸ナトリウム(濃度12%) 0.4ml
(3) 塩酸(濃度7.2%)
(4) 炭酸水素ナトリウム 0.3g
(1) 水道水 250ml
(2) 次亜塩素酸ナトリウム(濃度12%) 0.4ml
(3) 塩酸(濃度7.2%)
(4) 炭酸水素ナトリウム 0.3g
実験においては、塩酸7.2%液を0.1mlずつ添加してpHの変化を測定した。
炭酸水素ナトリウム無しの次亜塩素酸ナトリウムに塩酸を添加するとpH約6からpH約3まで急激にpHが低下することが分かる。これに対して、炭酸水素ナトリウムを加えた次亜塩素酸ナトリウムに塩酸を添加した場合には、pH約5までpHの低下の度合いがなだらかである。このことは、炭酸水素ナトリウム入りの次亜塩素酸ナトリウムは、次亜塩素酸による殺菌効果を確保するのに好都合な特性を有していることを意味する。
炭酸水素ナトリウム無しの次亜塩素酸ナトリウムに塩酸を添加するとpH約6からpH約3まで急激にpHが低下することが分かる。これに対して、炭酸水素ナトリウムを加えた次亜塩素酸ナトリウムに塩酸を添加した場合には、pH約5までpHの低下の度合いがなだらかである。このことは、炭酸水素ナトリウム入りの次亜塩素酸ナトリウムは、次亜塩素酸による殺菌効果を確保するのに好都合な特性を有していることを意味する。
すなわち、炭酸水素ナトリウム入りの次亜塩素酸ナトリウムは、次亜塩素酸を生成するのに最も適したpH領域において酸の添加量に対して鈍感になるという特性を備えることになる。この原因は、液中に炭酸が生成されるからである。炭酸ガスが水に多量に溶解した場合も同じように液中に炭酸が生成されるため同じような効果が得られる。
したがって、本発明の次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とする殺菌水の生成方法によれば、一つの観点にあっては、次亜塩素酸塩又は亜塩素酸塩と酸とを混合することにより次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とする殺菌水を生成する場合に、次亜塩素酸塩又は亜塩素酸塩と酸とを混合する前又は混合時に炭酸ガスを添加することを特徴とする。
本発明の他の観点によれば、電解により塩酸を分解し、陽極から発生する酸素と反応させて次亜塩素酸を生成し希釈水により所定の次亜塩素酸濃度の殺菌水を生成するときに、希釈水または希釈された殺菌水に炭酸ガスが添加される。
また、分離膜を有し、プラス極とマイナス極の直流電解により、塩化ナトリウム水溶液から高濃度の次亜塩素酸を生成してアルカリ水と混合して所望の次亜塩素酸水溶液を生成するときには、電解槽に供給される塩化ナトリウム水溶液または生成された次亜塩素酸水に炭酸ガスが添加される。
また、無離膜の電解槽で、プラス極とマイナス極の直流電解により、塩化ナトリウム水溶液と塩酸を混合した液から高濃度の次亜塩素酸を生成して希釈水と混合して所望の次亜塩素酸水溶液を生成するときには、生成した高濃度の次亜塩素酸水溶液を希釈する水または生成された次亜塩素酸水溶液に、炭酸ガスが添加される。
また、水で次亜塩素酸ナトリウム溶液を希釈した液と、水で塩酸を希釈した液を混合して所望のpH及び次亜塩素酸濃度の殺菌水を生成するときには、希釈するための水に炭酸ガスを添加するか、次亜塩素酸ナトリウムが添加された水溶液に炭酸ガスを添加するか、混合時に同時に炭酸ガスを添加するか、生成された弱酸性の次亜塩素酸水溶液に炭酸ガスが添加される。また、塩酸を使用せず、次亜塩素酸ナトリウム溶液だけを使用し、希釈するための水に炭酸ガスを添加するか、次亜塩素酸ナトリウムが添加された水溶液に炭酸ガスを添加する方法もある。
また、タンクに一定の容量の水を供給し、所定の次亜塩素酸ナトリウムと塩酸水溶液を添加して、所望の濃度の次亜塩素酸を主成分とする殺菌水を生成するときには、タンク内に炭酸ガスを細かい気泡状態で底部より噴射させて炭酸成分を生成させ、炭酸成分を生成させても良い。
本発明は近年、市場においては、様々な次亜塩素酸水溶液による殺菌を目的とした機械類が販売されてきた、またカット野菜の殺菌などにおいて食品製造工場などでも、こうした機械類が使われるようになった。しかし、反面、次亜塩素酸のpH範囲はpH5〜6の範囲が最も強力に殺菌効果が期待できるが、この範囲の保持は非常に難しく、こうしたpH範囲に保持するための安価で食品添加物の規制法規にかなった緩衝剤が見つからなかった。このため、高濃度の次亜塩素酸が使用できなかった。カット野菜では、キュウリの、イボイボの中の殺菌は不可能に近いとされていたが、高濃度の次亜塩素酸を使用することにより、これが可能になり野菜の持ちが改善され、生野菜として市場に提供できる種類が大きく増加する。
しかし、上述した次亜塩素酸水溶液は酸に対して敏感であり、pH5から急激にpHが下がる傾向があり、塩素ガスの発生と言う極めて危険なpH領域に入ってしまう虞がある。これを解決できるならば高濃度の次亜塩素酸による殺菌が可能になり、我々の生活において、ウイルスや芽胞菌などの被害から食生活や食品製造企業を守ることが容易になる。
本発明によれば、炭酸ガスを混入することにより、最も殺菌効果が得られるpH領域で酸に対してpHの変化を鈍感にすることができるため、高濃度の次亜塩素酸又は亜塩素酸を生成することが容易になる。また、本発明にあっては、次亜塩素酸又は亜塩素酸による殺菌水に炭酸ガス添加することで、高濃度の殺菌水の経時的なpHの低下を抑えるようにしてもよい。
以下に図面を参照して本発明の実施例を説明する。図1乃至図20は、典型例として次亜塩素酸を主成分とする殺菌水の生成に関連して、本発明の実施工程図と実施例を説明するための図である。
図1〜図4は、次亜塩素酸ナトリウム溶液と希釈水及び塩酸溶液と希釈水とを混合して次亜塩素酸を主成分とする殺菌水を生成する工程図である。同図において、次亜塩素酸ナトリウム(NaClO)の注入室1の中に、外部から12%のNaClO溶液が定量ポンプ(図示せず)により供給される。
希釈水供給管2は第1、第2の分岐管3、4に分岐され、第1の分岐管3により希釈水がNaClO注入室1に供給され、第2の分岐管4により希釈水がHCl注入室5に供給される。塩酸(HCl)注入室5には、外部から6%程度の希塩酸が定量ポンプ(図示せず)によって供給される。
希釈水供給管2は第1、第2の分岐管3、4に分岐され、第1の分岐管3により希釈水がNaClO注入室1に供給され、第2の分岐管4により希釈水がHCl注入室5に供給される。塩酸(HCl)注入室5には、外部から6%程度の希塩酸が定量ポンプ(図示せず)によって供給される。
第1、第2の分岐管3、4は、NaClO注入室1、HCl注入室5の下流で殺菌水生成室6に連結され、この殺菌水生成室6で、希釈水で希釈された塩酸と、希釈水で希釈された次亜塩素酸ナトリウムとが混合されて、次亜塩素酸(HClO)を主成分とする所定濃度の殺菌水(次亜塩素酸水溶液)が生成される。
次亜塩素酸を主成分とする殺菌水(次亜塩素酸水溶液)の生成に関し、希釈水に炭酸ガスが炭酸生成機構70(詳しくは図10において説明する)により添加され、又は、次亜塩素酸ナトリウム(NaClO)の注入室1で次亜塩素酸ナトリウムが添加された後に、又は、殺菌水生成後に、炭酸生成機構70により炭酸ガスが添加される。
図1は、混合式殺菌水生成装置210の工程図を示す。
NaClO注入室1の上流側の希釈水供給管2に炭酸生成機構70が配置されて希釈水に炭酸ガスを添加する例を示す。
NaClO注入室1の上流側の希釈水供給管2に炭酸生成機構70が配置されて希釈水に炭酸ガスを添加する例を示す。
図2は、混合式殺菌水生成装置220の工程図を示す。
殺菌水生成室6の上流側の第1の分岐管3にある次亜塩素酸ナトリウム注入室の下流側に炭酸生成機構70が配置されて次亜塩素酸ナトリウム水溶液に炭酸ガスを添加する例を示す。
殺菌水生成室6の上流側の第1の分岐管3にある次亜塩素酸ナトリウム注入室の下流側に炭酸生成機構70が配置されて次亜塩素酸ナトリウム水溶液に炭酸ガスを添加する例を示す。
図3は、混合式殺菌水生成装置230の工程図を示す。
希釈水供給管2内から枝分かれした分岐管3に炭酸生成機構70を設置して次亜塩素酸ナトリウムを希釈する希釈水に炭酸ガスを添加する例を示す。
希釈水供給管2内から枝分かれした分岐管3に炭酸生成機構70を設置して次亜塩素酸ナトリウムを希釈する希釈水に炭酸ガスを添加する例を示す。
図4は、混合式殺菌水生成装置240の工程図を示す。
殺菌水生成室6から出た殺菌水排出管7に炭酸生成機構70が設置され、生成された殺菌水に炭酸ガスを添加する例を示す。
殺菌水生成室6から出た殺菌水排出管7に炭酸生成機構70が設置され、生成された殺菌水に炭酸ガスを添加する例を示す。
図5、図6は、有隔膜電解装置250及び、260の工程図を示す。
電解方式により次亜塩素酸を主成分とする殺菌水(次亜塩素酸水溶液)を生成する工程図である。有隔膜電解槽10の上流に電解用の希釈水として、希釈水供給管11を通じて水道水が供給され、また、薬剤供給管12を通じて塩化ナトリウム水溶液が供給される。有隔膜電解槽10の内部は、イオン透過性の隔膜13を介してプラス極14とマイナス極15が配置され、これらの間に約5〜10ボルトの電圧が印加されて電解が行われる。隔膜13を挟んでマイナス極15側には水酸化ナトリウムが生成され、プラス極14側にはHClOを主成分とする殺菌水(次亜塩素酸水溶液)が生成され、配管16を通じて殺菌水が取り出される。
電解方式により次亜塩素酸を主成分とする殺菌水(次亜塩素酸水溶液)を生成する工程図である。有隔膜電解槽10の上流に電解用の希釈水として、希釈水供給管11を通じて水道水が供給され、また、薬剤供給管12を通じて塩化ナトリウム水溶液が供給される。有隔膜電解槽10の内部は、イオン透過性の隔膜13を介してプラス極14とマイナス極15が配置され、これらの間に約5〜10ボルトの電圧が印加されて電解が行われる。隔膜13を挟んでマイナス極15側には水酸化ナトリウムが生成され、プラス極14側にはHClOを主成分とする殺菌水(次亜塩素酸水溶液)が生成され、配管16を通じて殺菌水が取り出される。
プラス極14側で生成される次亜塩素酸水溶液はpH2.7と極めて低いpHであるため、電解反応において、HClOの生成と共にガス化が絶えず発生し、このため、HClOの濃度が上がり難く、加えて、生成された次亜塩素酸水溶液も絶え間なくガス化して塩素ガスを発生する欠点がある。
これを高濃度のHClOを生成し且つ次亜塩素酸水溶液のガス化を防止するのに、プラス極14から出る配管16にマイナス極15から出る配管17を連通させ、この延長管路にバルブを配置してマイナス極から排出される溶液の排水量を規制して、プラス極14とマイナス極15から出る電解後の溶液を混合した混合液のpHが弱酸性に成るようにし、さらに配管18に炭酸生成機構70を連通させて、炭酸ガスを添加して、配管19より取り出す。
図6は図5の変形例を示す。
希釈水供給管11から枝分かれした配管20に炭酸生成機構70を配置して炭酸ガスを添加する。アルカリ側であるマイナス極15に供給される水溶液に炭酸ガスが添加され、これによりプラス極14とマイナス極15で生成されたpHの違う電解後の溶液が合流した時に、弱酸性になると同時に、pH緩衝作用でpH5近傍に調整することができる。このことから、従来のように塩素ガスの再吸収塔を配管16に設置する必要が無くなる。
希釈水供給管11から枝分かれした配管20に炭酸生成機構70を配置して炭酸ガスを添加する。アルカリ側であるマイナス極15に供給される水溶液に炭酸ガスが添加され、これによりプラス極14とマイナス極15で生成されたpHの違う電解後の溶液が合流した時に、弱酸性になると同時に、pH緩衝作用でpH5近傍に調整することができる。このことから、従来のように塩素ガスの再吸収塔を配管16に設置する必要が無くなる。
図7、図8は、無隔膜電解装置270及び280の工程図を示す。
これも電解方式により次亜塩素酸を主成分とする殺菌水を生成する工程図である。無隔膜電解槽20には、希釈水供給管11を通じて典型的には水道水が供給され、また、原料供給管21を通じてNaCl水溶液とHCl水溶液が所定の比率で混合された溶液が供給される。無隔膜電解槽20内には、原料供給管21から供給されたNaCl水溶液とHCl水溶液、希釈水供給管11から供給された水道水とが混合されながら供給される。
これも電解方式により次亜塩素酸を主成分とする殺菌水を生成する工程図である。無隔膜電解槽20には、希釈水供給管11を通じて典型的には水道水が供給され、また、原料供給管21を通じてNaCl水溶液とHCl水溶液が所定の比率で混合された溶液が供給される。無隔膜電解槽20内には、原料供給管21から供給されたNaCl水溶液とHCl水溶液、希釈水供給管11から供給された水道水とが混合されながら供給される。
無隔膜電解槽20のプラス極23とマイナス極24間には、5〜10ボルトの電圧が印加され、NaClとHClの電解作用によりHClO成分が生成され、また、塩酸を添加しないときには水酸化ナトリウムが生成されることから、この場合は、無隔膜電解槽20内はアルカリ性の傾向になる、これを弱酸性にするために塩酸をまぜて電解する。
図7では、希釈水供給管路11から分岐した管路23と電解槽20の排水管路が合流した後の管路22に炭酸生成機構70が配置されている。ここに、無隔膜電解槽20には、希釈水供給管11を通じて供給された水道水と次亜塩素酸ナトリウムと塩酸含有液が供給されて、電解によって殺菌水となって炭酸生成機構70により炭酸ガスの溶解量を調整されながら吐水される、炭酸ガスが水中で炭酸に変わり、この炭酸の存在によりpHの緩衝作用が行われる。したがって、最も効率的に次亜塩素酸を生成することのできるpH約5に維持するのも容易である。
図8は図7の変形例を示す。
無隔膜電解槽20で生成した殺菌水を取り出すための配管22に合流する希釈水供給分岐管23に炭酸ガスを添加するようにして例(図8)を示す。これによれば、炭酸ガスが無隔膜電解槽20内の反応に影響を及ぼすことが無いため従来と同様の管理が可能であり、無隔膜電解槽20で生成した次亜塩素酸水溶液のpHが低いことに伴う塩素ガス化による濃度の低下を、炭酸ガスを添加した希釈水を混合することにより抑えることができる。
無隔膜電解槽20で生成した殺菌水を取り出すための配管22に合流する希釈水供給分岐管23に炭酸ガスを添加するようにして例(図8)を示す。これによれば、炭酸ガスが無隔膜電解槽20内の反応に影響を及ぼすことが無いため従来と同様の管理が可能であり、無隔膜電解槽20で生成した次亜塩素酸水溶液のpHが低いことに伴う塩素ガス化による濃度の低下を、炭酸ガスを添加した希釈水を混合することにより抑えることができる。
したがって、図8の方式によれば、電気分解の過程で生成される塩素ガスや、生成した次亜塩素酸を主体とした殺菌水から分離した塩素ガスや電解生成により発生する塩素ガスを吸収するための塩素ガス吸収塔を設けなくても、生成した次亜塩素酸水溶液の濃度を安定化し且つ塩素臭も低減することができる。
図9においては混合式殺菌水生成装置150の混合部の構造図と全体の工程図を示す。
酸性とアルカリ性の2液に希釈水を加えて薄めながら混合するもので図1から図4までの工程図に示された混合部の実例的構造を図示したものである。この混合式による次亜塩素酸水溶液(殺菌水)の生成工程図において、給水のポンプ30を備えた希釈水供給管31を通じて希釈水(典型的には水道水)を炭酸生成機構70に供給し、炭酸ガスの溶解量が調整されてから、2液混合機構80の鉛直上方から分岐部80−1を通って2つに分岐され、各々の管路で塩酸添加ノズル80−7から塩酸が、次亜塩素酸ナトリウム添加ノズル80−8から次亜塩素酸ナトリウム溶液がパルスポンプ38により各々に希釈水の水量に比例した予め定められた所定の割合で添加される。
酸性とアルカリ性の2液に希釈水を加えて薄めながら混合するもので図1から図4までの工程図に示された混合部の実例的構造を図示したものである。この混合式による次亜塩素酸水溶液(殺菌水)の生成工程図において、給水のポンプ30を備えた希釈水供給管31を通じて希釈水(典型的には水道水)を炭酸生成機構70に供給し、炭酸ガスの溶解量が調整されてから、2液混合機構80の鉛直上方から分岐部80−1を通って2つに分岐され、各々の管路で塩酸添加ノズル80−7から塩酸が、次亜塩素酸ナトリウム添加ノズル80−8から次亜塩素酸ナトリウム溶液がパルスポンプ38により各々に希釈水の水量に比例した予め定められた所定の割合で添加される。
添加された塩酸は希釈水と内部に邪魔板又は乱流生成具を有する混合部80−2により均一に希釈されて2液混合部80−5の下部より流入する、また、次亜塩素酸ナトリウム溶液は混合部80−3により同じように均一に混合されて、2液混合部80−5の下部から別々に流入する。おのおの管路は2液混合部80−5の入り口部で外側を耐薬品性のゴムで覆われたステンレスボールの重さで閉鎖している逆止弁80−4とパッキン80−9により逆流が防止されるようになっている。
流入した2種類の酸性とアルカリ性の液は2液混合部80−5の中を上昇する間に邪魔板80−6により攪拌されて均一に混合され、殺菌水として必要な次亜塩素酸のpHが約5.5に調整されて吐水するように成っている。なお、2液混合部80−5の下部には排水バルブ80−11への接続部があり、通常は排水バルブ80−11が図示された管路を閉鎖するように90度回転した状態に成っている。作業が終了し、長期間使用が停止する場合や寒冷地の凍結防止の場合に図のように開放される。又この時は同時に2液混合部80−5内の液も排水できるように構成されている(図示せず)。これらのバルブは図示するようにロータリー式でなくて電磁弁によって各々の管路が開閉しても良い。
以上の
に描かれた炭酸生成機構70は図12、図14、図20、図21に示されたどの構造の形態でも良い。
図10は混合式殺菌水生成装置100における実施の形態図を示す。
混合式殺菌水生成装置100における炭酸生成機構70は図9迄に示した実施例は炭酸ガスを溶解させる機能が主であったが、これとは異なるもので、塩酸タンク63と次亜塩素酸ナトリウム溶液タンク61から塩酸水溶液と次亜塩素酸ナトリウム溶液を定量ポンプ106及び105により連通管59と連通管60を流れる希釈水に添加し、それらの水溶液を炭酸ガス充填タンク50内の噴射ノズル51から互いにぶつかり合うようにして噴射し、2つの噴射流が衝突して混合されると共に炭酸ガス空間で微細粒子となって炭酸ガス空間で舞うことにより炭酸ガスを溶解する。
混合式殺菌水生成装置100における炭酸生成機構70は図9迄に示した実施例は炭酸ガスを溶解させる機能が主であったが、これとは異なるもので、塩酸タンク63と次亜塩素酸ナトリウム溶液タンク61から塩酸水溶液と次亜塩素酸ナトリウム溶液を定量ポンプ106及び105により連通管59と連通管60を流れる希釈水に添加し、それらの水溶液を炭酸ガス充填タンク50内の噴射ノズル51から互いにぶつかり合うようにして噴射し、2つの噴射流が衝突して混合されると共に炭酸ガス空間で微細粒子となって炭酸ガス空間で舞うことにより炭酸ガスを溶解する。
炭酸ガス空間に噴射された水溶液は下に落ちて貯留され、その水位を検知する水位センサー40から43までの検出信号で配水管49の下流側にある電動バルブ(図示せず)を開閉して炭酸ガス充填タンク50からの炭酸含有殺菌水の排水を制御する。
2点鎖線で囲まれた48内は、高圧炭酸ガスボンベ35から炭酸ガスが2つの圧力メータ85の間にある減圧弁36で8kg/cm2程度に減圧されて、更に減圧弁37により1〜2kg/cm2程度まで減圧されて炭酸ガス充填タンク50の上部から供給される炭酸ガス供給機構48を示す。
電磁弁86は、電磁弁86開くと共にタンク内の水位を上昇させて、最初に炭酸ガス充填タンク50内に溜まって空気を排出するためのバルブである。
電磁弁86は、電磁弁86開くと共にタンク内の水位を上昇させて、最初に炭酸ガス充填タンク50内に溜まって空気を排出するためのバルブである。
また、炭酸生成機構70のタンク内水位調整機構において、水位センサー41−1から41−4の間に炭酸ガス充填タンク50内の水位を調整する方法は、排水用の電動バルブの開閉や希釈水供給管83からの送水を電動バルブ86−a(図示は図15と図16による)を閉鎖または絞って流量を調整することにより行う。これにより、タンク内水位を噴射ノズル51の噴射部より上または下に設定し、炭酸ガス空間での噴射流を強めたり弱めたりすることにより、炭酸ガスに触れる噴射溶液の状態を変化させ、炭酸ガスの溶解量を調整できるように成っている。
このように炭酸ガス充填タンク50内の水位を調整する理由は、タンク内の圧力がアキュームレイターと同じように排出圧力を必要とする場合に、タンク内の圧力を高くすると炭酸ガスの溶解が活発になり、必要以上に炭酸ガス濃度が高くなるため、炭酸ガス濃度を必要以上に高くしないための濃度制御ができるためである。
図11は炭酸生成機構70の変形例であり、炭酸ガス充填タンク50内の連通管50−Aに2液混合部80−5と同じ構造の混合部を有する形態の炭酸生成機構70−1を示す。
図12は炭酸生成機構70の変形例であり、炭酸ガス充填タンク50内の水面より上部空間に水溶液または希釈水が噴射ノズル47−3から、炭酸ガス空間33に向かって、2つのノズル口から互いに衝突する噴射流を形成し、激しいシャワー状の噴射流をタンク内に生成する炭酸生成機構70−2を示す。これ等の炭酸生成機構70−2はユニット形式に構成されているため全ての部品を分解修理できるような構造に成っている。取り付け台89にはバンド87とU型ボルト90で挟むように固定され、バンド87に溶接されたL型部材で取り付け台にキャップボルト止めしてある。
図13は炭酸生成機構70の変形例であり、炭酸ガス充填タンク50内の炭酸ガス空間33に伸びる連通管51−Bは内部に邪魔板が配置された混合器と成っているため、希釈された液が均一になるように構成されている。
ここに供給される殺菌剤は次亜塩素酸ナトリウムの希釈液で例えば500ppmでも良い、この希釈液が炭酸ガス空間33で炭酸ガスを効率よく溶解できるように実施例10から12のノズルのように互いに激しく衝突してシャワー状の噴射流を形成できるようになっている。
ここに供給される殺菌剤は次亜塩素酸ナトリウムの希釈液で例えば500ppmでも良い、この希釈液が炭酸ガス空間33で炭酸ガスを効率よく溶解できるように実施例10から12のノズルのように互いに激しく衝突してシャワー状の噴射流を形成できるようになっている。
このため炭酸ガスを吸収して液中に炭酸が生成されpHが5位まで下がり、次亜塩素酸が生成される、しかも炭酸の緩衝作用により安定したpHとなる。これは次亜塩素酸ナトリウムだけを用いて、次亜塩素酸ナトリウムの水道水による希釈液、例えば200ppm程度のものより6分の1程度の濃度でも同じ効果が得られる次亜塩素酸が生成される炭酸生成機構70−3を示す。
図14は炭酸生成機構70の変形例であり、炭酸ガス充填タンク50の両端が外周にネジ加工が施されたキャップ50−1と50−2により接着されている、この部材は連通管57に勘合したT型継ぎ手管に接着された内径ネジ加工付きのブッシュ50−4にパッキン50−3で液密に連結できるように構成されている。また、上部からは炭酸ガスがジョイント75を解して供給される。炭酸ガス充填タンク50の外側に直径の大きいパイプ管47−9があり、この両端が炭酸ガス充填タンク50の外形とパイプ管47−9の内径に対して、シール部材47−10により、内外径共にOリングにより液密にシールされている。
供給管47から水溶液または希釈水が導入管47−7を通り炭酸ガス充填タンク50とパイプ管47−9との間に供給されて、階層状に配置された噴射ノズル47−3から互いに衝突するように炭酸ガス空間33に噴射される。又、この場合のノズルは図18と図19に図示してある。
図19に示した形態のノズルであれば、互いに対抗する位置に配置する必要はない。このような霧状の噴霧が可能な炭酸生成機構70−4を示す。
この場合も図11と同じようにユニット化されているため簡単に修理やユニットの交換ができる。
図19に示した形態のノズルであれば、互いに対抗する位置に配置する必要はない。このような霧状の噴霧が可能な炭酸生成機構70−4を示す。
この場合も図11と同じようにユニット化されているため簡単に修理やユニットの交換ができる。
図15は図10に示す混合式殺菌水生成装置100を用いた2つの異なる濃度の殺菌水を生成する機構を有する炭酸含有次亜塩素酸又は亜塩素酸を主成分とする殺菌水生成装置を構成する全体構製図を示す。
生成の流れは、希釈水が加圧用のポンプ30から第1の減圧弁81により5kg/cm2程度に減圧されて管路82から2つに分岐して1方は管路88の第2の減圧弁84を介して更に減圧されて2kg/cm2に調整され、接続する電磁弁86−bにより管路の開閉が制御される。
生成の流れは、希釈水が加圧用のポンプ30から第1の減圧弁81により5kg/cm2程度に減圧されて管路82から2つに分岐して1方は管路88の第2の減圧弁84を介して更に減圧されて2kg/cm2に調整され、接続する電磁弁86−bにより管路の開閉が制御される。
また、他方は管路83通り、定流量弁85により所定の流量に抑制され、電磁弁86−aにより管路の開閉が制御される。この下流に流量センサー87−aがあり逆止弁89を通って炭酸生成機構70に希釈液が供給され分岐部80−1から管路54−1と管路54−2に別れて各々逆止弁を通って炭酸ガス充填タンク50の炭酸ガス空間33に前述した形態の噴射ノズルにより噴射又は散水される。この2つの管路には次亜塩素酸ナトリウム溶液のタンク61から定量ポンプ105により希釈水の流量に比例して次亜塩素酸ナトリウムが所定の比率で供給される、又電磁弁62−aは管路内に溜まるガスをタンクに戻すための制御バルブである。同じ様な機構でHCL(塩酸)タンク63からも管路54−2に塩酸が供給される。
この時、炭酸生成機構70には絶えず炭酸ガス供給機構48から2kg/cm2程度の炭酸ガスが供給されている。また、管路99にはpH計が配置されてこの信号が制御部101に送られて、危険な場合や所定の値を超えた場合に塩酸や次亜塩素酸ナトリウム溶液の定量ポンプの制御により薬剤の供給停止や薬剤の送り量の調整を行うように構成されている。
また、管路99には分岐部があり管路98からバルブ97を通り逆止弁89を介して管路88に在る混合部94に連通している。また、この混合部94の上流の混合部90においてHCL(塩酸水溶液)タンク63から定量ポンプ107により所定の量の塩酸水溶液が供給されて希釈水のpHを弱酸性に調整されるように成っている。
又、管路99には流量調整用のオリヒスの役目をするバルブ97がありその下流側に減圧弁103又は圧力抑制機構があり、管路99から管路98への必要量が確保されるように構成されている。更に下流には手動式のバルブ97が配置されて任意に取水できるように構成されている。この管路からは高濃度の殺菌水が得られるようになり、他方の管路95からは数倍に希釈された殺菌水が得られるように成っている。
この両方の管路はどちらも先止め方式の管路を構成し、絶えず圧力が維持されるようになっている。先端で管路が開放されると流量計97−aと97−bのどちらか又は両方が作動して信号を制御部に伝えて薬液類の添加が成されるように構成されている。
図16は実施例15の変形例であり、炭酸生成機構70に次亜塩素酸ナトリウム溶液のみが定量ポンプで供給される形態の実施例を示す。
HCL(塩酸)タンク63は管路88へのpHを弱酸性に調整するために配置されていて、炭酸生成機構70には供給されない。これも実施例15同様、2種類の濃度の殺菌水を生成する機構の実施例を示す。
HCL(塩酸)タンク63は管路88へのpHを弱酸性に調整するために配置されていて、炭酸生成機構70には供給されない。これも実施例15同様、2種類の濃度の殺菌水を生成する機構の実施例を示す。
図17は図15と図16の電気制御構成図を示す。
図18は炭酸生成機構70−4に階層状に配置される噴射ノズル47−3を示す。ノズル形状は先端に互いに衝突するような角度に開けられた噴射口から噴射される流れが衝突して噴霧上の霧を生成して炭酸ガスの溶解を効率よく行うように構成された噴射ノズル47−3と先端47−13の断面形状を示す。
図19は炭酸生成機構70−4に階層状に配置される噴霧ノズル47−15を示す。
先端部に櫛状の突起47−17が数箇所あり回転流ガイド47−16によりながれを回転するように強制されて先端部の小さな孔から、霧化した流れが更に櫛状の突起47−17に衝突して大きな粒子が破砕され、均一な霧状の噴霧が作られるようにした噴霧ノズル47−15の断面形状を示す。
先端部に櫛状の突起47−17が数箇所あり回転流ガイド47−16によりながれを回転するように強制されて先端部の小さな孔から、霧化した流れが更に櫛状の突起47−17に衝突して大きな粒子が破砕され、均一な霧状の噴霧が作られるようにした噴霧ノズル47−15の断面形状を示す。
図20は炭酸生成機構70−4が連通管57にT型配管継ぎ手57−1により連結された下部配管管路に炭酸生成機構70−4が並列に接続された大量の炭酸生成機能を有する多連式炭酸生成機構200の実施例の形態を示す。
図1 :混合式殺菌水生成装置210の工程図を示す。
図2 :混合式殺菌水生成装置220の工程図を示す。
図3 :混合式殺菌水生成装置230の工程図を示す。
図4 :混合式殺菌水生成装置240の工程図を示す。
図5 :有隔膜電解装置250の工程図を示す。
図6 :有隔膜電解装置260の工程図を示す。
図7 :無隔膜電解装置270の工程図を示す。
図8 :無隔膜電解装置280の工程図を示す。
図9 :混合式殺菌水生成装置150の混合部の構造図と全体の工程図を示す。
図10:混合式殺菌水生成装置100における実施の形態図を示す。
図11:炭酸生成機構70の変形例である炭酸生成機構70−1を示す。
図12:炭酸生成機構70の変形例である炭酸生成機構70−2を示す。
図13:炭酸生成機構70の変形例である炭酸生成機構70−3を示す。
図14:炭酸生成機構70の変形例である炭酸生成機構70−4を示す。
図15:各種の変形例を含む塩酸を添加する、炭酸生成機構を有する2つの異なる濃度の殺菌水を生成する機構を示す。
図16:各種の変形例を含む塩酸添加のない、炭酸生成機構を有する2つの異なる濃度の殺菌水を生成する機構を示す。
図17:図15と図17の電気制御構成図を示す。
図18:炭酸生成機構70−4に階層状に配置される噴射ノズル47−3を示す。
図19:炭酸生成機構70−4に階層状に配置される噴霧ノズル47−15を示す。
図20:多連式炭酸生成機構200の実施例の形態を示す。
図2 :混合式殺菌水生成装置220の工程図を示す。
図3 :混合式殺菌水生成装置230の工程図を示す。
図4 :混合式殺菌水生成装置240の工程図を示す。
図5 :有隔膜電解装置250の工程図を示す。
図6 :有隔膜電解装置260の工程図を示す。
図7 :無隔膜電解装置270の工程図を示す。
図8 :無隔膜電解装置280の工程図を示す。
図9 :混合式殺菌水生成装置150の混合部の構造図と全体の工程図を示す。
図10:混合式殺菌水生成装置100における実施の形態図を示す。
図11:炭酸生成機構70の変形例である炭酸生成機構70−1を示す。
図12:炭酸生成機構70の変形例である炭酸生成機構70−2を示す。
図13:炭酸生成機構70の変形例である炭酸生成機構70−3を示す。
図14:炭酸生成機構70の変形例である炭酸生成機構70−4を示す。
図15:各種の変形例を含む塩酸を添加する、炭酸生成機構を有する2つの異なる濃度の殺菌水を生成する機構を示す。
図16:各種の変形例を含む塩酸添加のない、炭酸生成機構を有する2つの異なる濃度の殺菌水を生成する機構を示す。
図17:図15と図17の電気制御構成図を示す。
図18:炭酸生成機構70−4に階層状に配置される噴射ノズル47−3を示す。
図19:炭酸生成機構70−4に階層状に配置される噴霧ノズル47−15を示す。
図20:多連式炭酸生成機構200の実施例の形態を示す。
混合式殺菌水生成装置100、150、210、220、230、240、
注入室1、 注入室5、 分岐管3、4、 炭酸生成機構70、
希釈水供給管2、11、31、81、 パイプ管47−9、
殺菌水生成室6、 殺菌水排出管7、 有隔膜電解槽10、 供給管47、
薬剤供給管12、 隔膜13、 プラス極14、 マイナス極15、
配管16、17、18、19、20、 ポンプ30、 噴射ノズル51、
連通管59、60、 炭酸ガス充填タンク50、 分岐部80−1、
管路82、83、88、95、98、99、 定量ポンプ106、105、
2液混合部機構80、 無隔膜電解装置270及び280、
注入室1、 注入室5、 分岐管3、4、 炭酸生成機構70、
希釈水供給管2、11、31、81、 パイプ管47−9、
殺菌水生成室6、 殺菌水排出管7、 有隔膜電解槽10、 供給管47、
薬剤供給管12、 隔膜13、 プラス極14、 マイナス極15、
配管16、17、18、19、20、 ポンプ30、 噴射ノズル51、
連通管59、60、 炭酸ガス充填タンク50、 分岐部80−1、
管路82、83、88、95、98、99、 定量ポンプ106、105、
2液混合部機構80、 無隔膜電解装置270及び280、
Claims (25)
- 井水や水道水などの希釈水に次亜塩素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウム溶液を添加して次亜塩素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成工程が、前記殺菌水のペーハーを酸性にするpH調整工程を有する殺菌水生成方法において、
前記希釈水の流量に応じて予め設定された割合で、次亜塩素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウムを添加し所定の濃度のアルカリ水溶液を生成する工程を有し、該アルカリ水溶液を炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射工程、および/又は、ポンプにより加圧して前記アルカリ水溶液を前記タンク内に噴射する工程を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給工程を有し、更に前記タンク内に噴射された水溶液をタンク内の下部に貯留させる水位維持工程を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射工程が噴射された水溶液の微細粒子となるようにした炭酸ガス溶解工程を有することを特徴とする殺菌水生成方法。 - 次亜塩素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成工程が、前記希釈水が供給される第1の管路に次亜素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウム等のアルカリ水溶液を添加する工程を有し、前記希釈水が供給される第2の管路に塩酸水溶液又は酢酸や乳酸などの酸性水溶液を添加する工程を有し、これら第1、第2の管路を合流させて次亜素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とする混合工程を有し、前記第1、第2の管路に供給される希釈水、又は、前記第1の管路に次亜素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウムを添加する前の希釈水又は次亜素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウムを添加した後のアルカリ水溶液を、炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射工程、および/又は、ポンプにより加圧して前記アルカリ水溶液又は希釈水を前記タンク内に噴射する工程を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給工程を有し、更に前記タンク内に噴射された水溶液又は希釈水をタンク内の下部に貯留させる水位維持工程を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射工程が噴射された水溶液又は希釈水の微細粒子となるようにした炭酸ガス溶解工程であることを特徴とする殺菌水生成方法。
- 次亜塩素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成工程が、前記希釈水が供給される第1の管路に次亜素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウム等のアルカリ水溶液を添加する工程を有し、前記希釈水が供給される第2の管路に塩酸水溶液又は酢酸や乳酸などの酸性水溶液を添加する工程を有し、前記炭酸ガス充填タンク内に、これら第1、第2の管路を合流させて次亜素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とする混合工程を有し、該混合水溶液を炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射工程、および/又は、ポンプにより加圧して前記混合水溶液を前記タンク内に噴射する工程を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給工程を有し、更に前記タンク内に噴射された前記殺菌水をタンク内の下部に貯留させる水位維持工程を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射工程が噴射された水溶液の微細粒子となるようにした炭酸ガス溶解工程であることを特徴とする殺菌水生成方法。
- 次亜塩素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成工程が、前記希釈水などの希釈水が供給される第1の管路に次亜素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウム等のアルカリ水溶液を添加する工程を有し、前記希釈水が供給される第2の管路に塩酸水溶液又は酢酸や乳酸などの酸性水溶液を添加する工程を有し、前記炭酸ガス充填タンク内に、これら第1、第2の管路から供給される前記各水溶液を少なくとも2つ以上のノズル口から炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射工程、および/又は、ポンプにより加圧して前記各水溶液を前記タンク内に噴射する工程を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給工程を有し、更に前記タンク内に噴射される各水溶液の噴射水流をお互いに衝突させ微細粒子とすることにより、前記各水溶液の混合と炭酸ガスの溶解を同時に行う混合溶解工程を有し、該混合水溶液をタンク内の下部に貯留させる水位維持工程を有することを特徴とする殺菌水生成方法。
- 次亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成工程が、塩酸及び/又は塩化ナトリウムを含む水溶液を無隔膜電解槽で電気分解することにより次亜塩素酸水溶液又は次亜塩素酸ナトリウム水溶液を生成する工程を有し、前記電解工程後に井水や水道水などの希釈水で希釈された前記各水溶液、又は、電解槽から出る前記各水溶液を希釈する前記希釈水を、炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射工程、および/又は、ポンプにより加圧して前記水溶液又は希釈水を前記タンク内に噴射する工程を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給工程を有し、更に前記タンク内に噴射された水溶液又は希釈水をタンク内の下部に貯留させる水位維持工程を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射工程が噴射された水溶液又は希釈水の微細粒子となるようにした炭酸ガス溶解工程であることを特徴とする殺菌水生成方法。
- 次亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成工程が、塩化ナトリウム水溶液を、隔膜を有する電解槽で電気分解する工程を有し、陽極側で生成された酸性水溶液と陰極側で生成されたアルカリ水溶液を、所定のpHに成るよう混合して弱酸性領域の水溶液を生成する生成工程を有し、該水溶液を炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射工程、および/又は、ポンプにより加圧して該水溶液を前記タンク内に噴射する工程を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給工程を有し、更に前記タンク内に噴射された水溶液をタンク内の下部に貯留させる水位維持工程を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射工程が噴射された水溶液の微細粒子となるようにした炭酸ガス溶解工程であることを特徴とする殺菌水生成方法。
- 次亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成工程が、塩化ナトリウム水溶液を、隔膜を有する電解槽の陽極側と陰極側に別々に供給して電気分解する工程を有し、陽極側で生成された水溶液と陰極側で生成された水溶液を、所定のpHに成るよう混合して弱酸性領域の水溶液を生成する生成工程を有し、陰極側に供給される塩化ナトリウム水溶液を炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射工程、および/又は、ポンプにより加圧して前記塩化ナトリウム水溶液を前記タンク内に噴射する工程を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給工程を有し、更に前記タンク内に噴射された水溶液をタンク内の下部に貯留させる水位維持工程を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射工程が噴射された水溶液の微細粒子となるようにした炭酸ガス溶解工程であることを特徴とする殺菌水生成方法。
- 前記炭酸ガス溶解工程が少なくとも2つのノズル口から噴射され、互いに衝突して噴射された水溶液又は希釈水又は殺菌水の微細粒子となるようにするノズル構成を、タンク内に貯留する水面より上方において階層状に配置するか、及び/又は微細粒子を生成する少なくても1つ以上の噴霧ノズルが階層状に配置されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の殺菌水生成方法。
- 前記希釈水又は前記各種水溶液又は前記殺菌水を前記炭酸ガス充填タンク内の炭酸ガス空間に噴射又は散水して行う溶解工程において、前記タンク内の炭酸ガス圧力を0気圧(大気圧)〜10気圧の範囲で自在に制御するか、又は、前記タンク内に貯留される希釈水又は前記各種水溶液又は前記殺菌水の液面を前記噴射口又は散水口が水面から出る位置と水没する位置の間で、水面の水位を自在に制御して、炭酸ガス溶解量の調整を行う生成方法であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の殺菌水生成方法。
- 井水や水道水などの希釈水に次亜塩素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウム溶液を添加して次亜塩素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とし、該殺菌水のペーハーを酸性にするpH調整機構を有する殺菌水生成装置において、
前記希釈水の流量を検知する流量計を有し、該流量計の信号に応じて制御部により予め設定された割合で、次亜塩素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウムを希釈水に添加し所定の濃度のアルカリ水溶液を生成する添加用ポンプ及び添加用ノズルを有し、炭酸ガスが所定の圧力で充填されたタンクを有し、前記アルカリ水溶液を前記炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射機構、および/又は、ポンプにより加圧して前記アルカリ水溶液を前記タンク内に噴射する噴射機構を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給機構を有し、更に前記タンク内に噴射された水溶液をタンク内の下部に所定の水位で貯留させる水位維持機構を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射機構が噴射された溶液を微細粒子にする噴射機構であることを特徴とする殺菌水生成装置。 - 次亜塩素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成機構が、前記希釈水の流量を検知する流量計を有し、前記希釈水が供給される第1の管路に、前記流量計の信号に応じて制御部により予め設定された割合で、次亜塩素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウム等のアルカリ水溶液を添加する添加用ポンプ及び添加用ノズルを有し、また、前記希釈水が供給される第2の管路に、前記流量計の信号に応じて制御部により予め設定された割合で、塩酸水溶液又は酢酸や乳酸などの酸性水溶液を添加する添加用ポンプ及び添加用ノズルを有し、これら第1、第2の管路を合流させて次亜塩素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とする混合機構を有し、炭酸ガスが所定の圧力で充填されたタンクを有し、前記第1、第2の管路に供給される希釈水、又は、前記第1の管路に次亜塩素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウムを添加する前の希釈水又は次亜塩素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウムを添加した後のアルカリ水溶液を、前記炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射機構、および/又は、ポンプにより加圧して前記アルカリ水溶液又は希釈水を前記タンク内に噴射する機構を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給機構を有し、更に前記タンク内に噴射された殺菌水又は希釈水をタンク内の下部に所定の水位で貯留させる水位維持機構を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射機構が噴射された水溶液又は希釈水を微細粒子にする噴射機構であることを特徴とする殺菌水生成装置。
- 次亜塩素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成機構が、前記希釈水の流量を検知する流量計を有し、前記希釈水が供給される第1の管路に、前記流量計の信号に応じて制御部により予め設定された割合で、次亜塩素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウム等のアルカリ水溶液を添加する添加用ポンプ及び添加用ノズルを有し、また、前記希釈水が供給される第2の管路に、前記流量計の信号に応じて制御部により予め設定された割合で、塩酸水溶液又は酢酸や乳酸などの酸性水溶液を添加する添加用ポンプ及び添加用ノズルを有し、これら第1、第2の管路を合流させて次亜塩素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とする混合機構を内部に有すると共に炭酸ガスが所定の圧力で充填されたタンクを有し、該殺菌水を前記炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射機構を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給機構を有し、更に前記タンク内に噴射された殺菌水をタンク内の下部に所定の水位で貯留させる水位維持機構を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射機構が前記殺菌水を微細粒子にする噴射機構であることを特徴とする殺菌水生成装置。
- 次亜塩素酸又は亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成機構が、前記希釈水の流量を検知する流量計を有し、前記希釈水が供給される第1の管路に、前記流量計の信号に応じて制御部により予め設定された割合で、次亜塩素酸ナトリウム又は亜塩素酸ナトリウム等のアルカリ水溶液を添加する添加用ポンプ及び添加用ノズルを有し、また、前記希釈水が供給される第2の管路に、前記流量計の信号に応じて制御部により予め設定された割合で、塩酸水溶液又は酢酸や乳酸などの酸性水溶液を添加する添加用ポンプ及び添加用ノズルを有し、炭酸ガスが所定の圧力で充填されたタンクを有し、前記各水溶液を、前記炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射機構、および/又は、ポンプにより加圧して各水溶液を前記タンク内に噴射する機構を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給機構を有し、更に前記タンク内に噴射された水溶液をタンク内の下部に所定の水位で貯留させる水位維持機構を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射機構が前記各水溶液を別々に噴射し、噴射される各水溶液の噴射水流をお互いに衝突させ微細粒子とする噴射機構であることを特徴とする殺菌水生成装置。
- 次亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成機構が、塩酸及び/又は塩化ナトリウムを含む水溶液を次亜塩素酸水溶液又は次亜塩素酸水溶液にする無隔膜電解槽を有し、前記電解槽の下流に前記各水溶液に井水や水道水などの希釈水を混合する混合部を有し、さらに、炭酸ガスが所定の圧力で充填されたタンクを有し、前記混合水溶液、又は、前期電解槽から出る前記各水溶液に混合する前記希釈水を前記炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射機構、および/又は、ポンプにより加圧して前記混合水溶液又は希釈水を前記タンク内に噴射する機構を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給機構を有し、更に前記タンク内に噴射されたアルカリ水溶液又は希釈水をタンク内の下部に所定の水位で貯留させる水位維持機構を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射機構が噴射された水溶液又は希釈水を微細粒子にする噴射機構であることを特徴とする殺菌水生成装置。
- 次亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成機構が、塩化ナトリウム水溶液を電気分解する隔膜を有する電解槽を有し、該電解槽の陽極側で生成された水溶液と陰極側で生成された水溶液を、所定のpHに成るよう混合して弱酸性領域の水溶液を生成する混合部を有し、該混合水溶液を前記炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射機構、および/又は、ポンプにより加圧して前記混合水溶液を前記タンク内に噴射する機構を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給機構を有し、更に前記タンク内に噴射された水溶液をタンク内の下部に所定の水位で貯留させる水位維持機構を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射機構が噴射された水溶液を微細粒子にする噴射機構であることを特徴とする殺菌水生成装置。
- 次亜塩素酸を生成して殺菌水とする生成機構が、塩化ナトリウム水溶液を電気分解する隔膜を有する電解槽を有し、該電解槽の陽極側で生成された水溶液と陰極側で生成された水溶液を、所定のpHに成るよう混合して弱酸性領域の水溶液を生成する混合部を有し、陰極側に供給される塩化ナトリウム水溶液を前記炭酸ガスが充填された炭酸ガス充填タンク内に噴射する噴射機構、および/又は、ポンプにより加圧して前記塩化ナトリウム水溶液を前記タンク内に噴射する機構を有し、前記炭酸ガス充填タンクに所定の圧力で炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給機構を有し、更に前記タンク内に噴射された塩化ナトリウム水溶液をタンク内の下部に所定の水位で貯留させる水位維持機構を有し、前記炭酸ガス充填タンク内の前記噴射機構が塩化ナトリウム水溶液を微細粒子にする噴射機構であることを特徴とする殺菌水生成装置。
- 前記炭酸ガス充填タンクの水位維持機構が、タンク内水位を検知する少なくとも2つ以上のセンサーを有し、該炭酸ガス充填タンク内の噴射機構への送水管路、及び/又は、前記タンクからの排水管路に、電動開閉バルブ、及び/又は、流量調整バルブを有し、前記センサーからの信号により、電気制御部により前記バルブを制御することを特徴とする請求項10及至17項のいずれかに記載の殺菌水生成装置。
- 前記炭酸ガス充填タンクの水位維持機構が、タンク内水位を検知する少なくとも2つ以上のセンサーを有し、該炭酸ガス充填タンク内の噴射機構への送水管路と前記タンクからの排水管路をつなぐバイパス管路を有し、該バイパス管路は電動式流量調整バルブ又は電動開閉バルブ又はリリーフバルブを有し、さらに前記送水管路、及び/又は、前記排水管路に電動開閉バルブ、及び/又は、流量調整バルブを有し、前記センサーからの信号により、電気制御部により前記バルブを制御することを特徴とする請求項10及至17項のいずれかに記載の殺菌水生成装置。
- 前記炭酸ガス充填タンクの水位維持機構が、タンク内水位を検知する少なくとも2つ以上のセンサーを有し、該炭酸ガス充填タンク内の噴射機構への送水管路と前記タンクからの排水管路をつなぐバイパス管路を有し、前記送水管路とバイパス管路の分岐部に流路切り替えバルブを有し、前記排水管路に電動開閉バルブ、及び/又は、流量調整バルブを有し、前記センサーからの信号により、電気制御部により前記バルブを制御することを特徴とする請求項10及至17項のいずれかに記載の殺菌水生成装置。
- 前記炭酸ガス充填タンクの水位を検出する複数のセンサーを有し、前記タンクへの給水量と配水量を制御するバルブおよび流量調整バルブを有し、前記センサーからの信号により前記バルブを制御する制御部を有し、前記タンク内に貯留される希釈水又はアルカリ水溶液又は殺菌水の液面を前記噴射口又は散水口が水面から出る位置と水没する位置の間で、自在に制御して炭酸ガス溶解量の調整を行う事を特徴とする請求項10及至19項のいずれかに記載の殺菌水生成装置。
- 前記噴射機構が噴射ノズルで構成され、該噴射ノズル出口近傍で互いに交差し衝突する噴射流を形成する噴射孔を有するか又は、該ノズル内に回転流を生成し細孔から噴射して霧化するノズルから生成される霧が衝突して更に微細化するような櫛状の突起物を有す噴射ノズルであることを特徴とする請求項10及至20項のいずれかに記載の殺菌水生成装置。
- 前記噴射機構が噴射ノズルで構成され、該噴射ノズルは少なくとも2つのノズルで構成され、噴射流は互いに衝突して噴射された水溶液又は希釈水が微細粒子となるように、タンク内に貯留する前記水溶液または殺菌水または希釈水の水面より上方において階層状に配置されるか、微細粒子を生成する少なくても1つ以上の噴霧ノズルが階層状に配置されていることを特徴とする請求項10乃至20のいずれかに記載の殺菌水生成装置。
- 前記炭酸ガス充填タンクが、パイプ状のタンク上部に着脱可能な炭酸ガスの供給管路部を有し、前記タンク下部には着脱可能な排水管路部を有し、前記噴射機構は前記タンクの外側にタンク外径よりも大きな内径を有するパイプを設け、該外側パイプに前記各水溶液又は希釈水を供給する着脱可能な管路を有し、該外側パイプの両端は該外側パイプ内径とタンク外形の隙間の水溶液又は希釈水が外部に漏れないように液蜜に閉鎖する部材が固定及び/または分離可能に設置され、該液蜜に閉鎖された空間のタンク壁面に互いに対抗するように噴射孔、又は噴射ノズルが少なくとも2つ以上設けられ、前記タンクは炭酸ガスの供給管路、前記各水溶液又は希釈水の供給管路、排水管路から分離可能なユニット式タンク装置であることを特徴とする請求項10及至20項のいずれかに記載の殺菌水生成装置。
- 前記炭酸ガス充填タンクを並列に複数有し、該タンクのそれぞれの排水管路と噴射機構への水溶液または希釈水の供給管路をそれぞれ1本の連通管で接続した、並列型多連式タンク機構から成ることを特徴とする請求項10乃至23項のいずれかに記載の殺菌水生成装置。
- 炭酸ガス溶解機構を含む殺菌水生成機構の下流側から分岐する分岐管路と希釈水供給管路の途中から分岐し塩酸又は酢酸又は乳酸等の添加機構を有する希釈水分岐管路を合流する混合部を有し、その下流においてpH計を介して、前記混合水を供給する供給管路と、前記殺菌水生成機構から直接供給される管路の、少なくとも2つの管路を有し、濃度の異なる殺菌水を同時に取り出せるようにしたことを特徴とする請求項10乃至25のいずれかに記載の殺菌水生成装置。記載の殺菌水生成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004319860A JP2005349382A (ja) | 2004-05-11 | 2004-10-05 | 炭酸ガス充填タンクによる高濃度殺菌水生成方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004140683 | 2004-05-11 | ||
JP2004319860A JP2005349382A (ja) | 2004-05-11 | 2004-10-05 | 炭酸ガス充填タンクによる高濃度殺菌水生成方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005349382A true JP2005349382A (ja) | 2005-12-22 |
Family
ID=35584273
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004319860A Pending JP2005349382A (ja) | 2004-05-11 | 2004-10-05 | 炭酸ガス充填タンクによる高濃度殺菌水生成方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2005349382A (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006263701A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-10-05 | Tatsuo Okazaki | 微量吐水可能な炭酸ガス含有殺菌水生成方法および装置 |
JP2010253373A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 気体溶解装置 |
JP2012250209A (ja) * | 2011-06-06 | 2012-12-20 | Central Filter Mfg Co Ld | 弱酸性除菌水の製造装置、及び弱酸性除菌水の製造方法 |
JP2014144406A (ja) * | 2013-01-28 | 2014-08-14 | J Morita Tokyo Mfg Corp | 殺菌水生成装置および収容容器 |
JP2014148526A (ja) * | 2014-04-14 | 2014-08-21 | Sutakku System:Kk | 殺菌消毒液の製造方法 |
JP2015131848A (ja) * | 2015-04-03 | 2015-07-23 | 株式会社スタックシステム | 殺菌消毒液の製造方法 |
CN105388921A (zh) * | 2015-12-17 | 2016-03-09 | 吉首大学 | 一种化合桶加酸系统及方法 |
IT201600124094A1 (it) * | 2016-12-07 | 2018-06-07 | Battisti Achille De | Processo e apparato per l'attivazione elettrochimica dell'acqua |
CN111346532A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-06-30 | 唐山市新概念科技有限公司 | 一种碳酸-次氯酸水制备方法 |
EP3815532A1 (en) | 2019-10-29 | 2021-05-05 | Wen Chung Shiao | Hypochlorous acid disinfectant and its production method |
EP3881678A2 (en) | 2020-02-27 | 2021-09-22 | Wen Chung Shiao | Hypochlorous acid disinfectant and its production method |
WO2021229827A1 (ja) * | 2020-05-13 | 2021-11-18 | テクノマックス株式会社 | 次亜塩素酸水生成装置 |
CN115072858A (zh) * | 2022-07-15 | 2022-09-20 | 广州市波华水处理设备有限公司 | 用于水处理的次氯酸钠智能消毒设备 |
-
2004
- 2004-10-05 JP JP2004319860A patent/JP2005349382A/ja active Pending
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006263701A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-10-05 | Tatsuo Okazaki | 微量吐水可能な炭酸ガス含有殺菌水生成方法および装置 |
JP2010253373A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 気体溶解装置 |
JP2012250209A (ja) * | 2011-06-06 | 2012-12-20 | Central Filter Mfg Co Ld | 弱酸性除菌水の製造装置、及び弱酸性除菌水の製造方法 |
JP2014144406A (ja) * | 2013-01-28 | 2014-08-14 | J Morita Tokyo Mfg Corp | 殺菌水生成装置および収容容器 |
JP2014148526A (ja) * | 2014-04-14 | 2014-08-21 | Sutakku System:Kk | 殺菌消毒液の製造方法 |
JP2015131848A (ja) * | 2015-04-03 | 2015-07-23 | 株式会社スタックシステム | 殺菌消毒液の製造方法 |
CN105388921A (zh) * | 2015-12-17 | 2016-03-09 | 吉首大学 | 一种化合桶加酸系统及方法 |
IT201600124094A1 (it) * | 2016-12-07 | 2018-06-07 | Battisti Achille De | Processo e apparato per l'attivazione elettrochimica dell'acqua |
EP3815532A1 (en) | 2019-10-29 | 2021-05-05 | Wen Chung Shiao | Hypochlorous acid disinfectant and its production method |
US11793200B2 (en) | 2019-10-29 | 2023-10-24 | Wen Chung Shiao | Hypochlorous acid disinfectant and its production method |
US11638429B2 (en) | 2020-02-27 | 2023-05-02 | Super Aqua International Co., Ltd. | Hypochlorous acid disinfectant and its production method |
EP3881678A2 (en) | 2020-02-27 | 2021-09-22 | Wen Chung Shiao | Hypochlorous acid disinfectant and its production method |
CN111346532A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-06-30 | 唐山市新概念科技有限公司 | 一种碳酸-次氯酸水制备方法 |
WO2021229827A1 (ja) * | 2020-05-13 | 2021-11-18 | テクノマックス株式会社 | 次亜塩素酸水生成装置 |
CN115072858B (zh) * | 2022-07-15 | 2022-10-28 | 广州市波华水处理设备有限公司 | 用于水处理的次氯酸钠智能消毒设备 |
CN115072858A (zh) * | 2022-07-15 | 2022-09-20 | 广州市波华水处理设备有限公司 | 用于水处理的次氯酸钠智能消毒设备 |
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