JP2005347305A - 位置ずれ検出用マークおよび位置ずれ検出方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 第1マーク10Aは線状パターン11,12が十字形状に配置され、第2マーク10Bは線状パターン13,14が十字形状に配置されたものである。第1マークと第2マークは、2つのパターンの位置ずれが無いときに、線状パターン11,13の直線方向、線状パターン12,14の直線方向がそれぞれ一致する。長さの長い線状パターン11は、長さの短い線状パターン13と重ならないように、直線方向の一端側と他端側とに分割された部分パターン11(1),11(2)からなる。長さの長い線状パターン12は、長さの短い線状パターン14と重ならないように、直線方向の一端側と他端側とに分割された部分パターン12(1),12(2)からなる。
【選択図】 図1
Description
請求項4に記載の発明は、請求項1から請求項3の何れか1項に記載の位置ずれ検出用マークにおいて、前記第1の線状パターンと前記第3の線状パターンのうち前記長さの長い方の線状パターンに外接すると共に、前記第2の線状パターンと前記第4の線状パターンのうち前記長さの長い方の線状パターンに外接する矩形領域の内側で、前記第1マークと前記第2マークにより仕切られた4つの領域のうち、少なくとも1つの領域には、前記2つのパターンのうち少なくとも一方の他の基準位置を示す第3マークが含まれるものである。
(第1実施形態)
ここでは、半導体素子や液晶表示素子の製造工程における重ね合わせ検査を例に説明する。重ね合わせ検査の対象となる基板(半導体ウエハや液晶基板)は、1つ前のパターン形成工程で形成された下地パターンの上に別の回路パターンを形成する工程の途中(つまりレジスト膜に対する露光・現像後で且つレジスト膜の直下の材料膜に対する加工前)の状態にある。基板の異なる層に形成された複数のパターンの重ね合わせ検査(つまり下地パターンに対するレジストパターンの重ね合わせ検査)は、下地パターンとレジストパターンとの位置ずれ検出により行われる。
これらの下地マーク10Aとレジストマーク10Bは、下地パターンとレジストパターンの位置ずれが無いときに、線状パターン11,13の直線方向S11,S13が互いに一致し、かつ、線状パターン12,14の直線方向S12,S14が互いに一致する。このとき、下地マーク10Aの中心CAとレジストマーク10Bの中心CBも一致する。以下の説明では、線状パターン11,13の直線方向S11,S13に平行な方向をX方向とし、線状パターン12,14の直線方向S12,S14に平行な方向をY方向とする。
次に、第1実施形態の位置ずれ検出用マーク10(下地マーク10Aとレジストマーク10B)を用いて、下地パターンとレジストパターンの位置ずれ検出(重ね合わせ検査)を行う方法について説明する。また、その方法を説明する前に、図2に示す重ね合わせ測定装置20の説明を行う。
また、下地マーク10Aの線状パターン11の直線方向S11と、レジストマーク10Bの線状パターン13の直線方向S13は、共に、光軸6Aを原点とする直交座標系の2軸(図2(b)に示すX軸とY軸)のうち、一方の軸(以下「X軸」)に平行で、X軸の近傍に位置することになる。同様に、下地マーク10Aの線状パターン12の直線方向S12と、レジストマーク10Bの線状パターン14の直線方向S14は、共に、他方の軸(以下「Y軸」)に平行で、Y軸の近傍に位置することになる。なお、図2(b)に示す視野領域は、撮像素子31の撮像面の大きさと結像系(25〜28)の倍率により規定される。
下地マーク10Aとレジストマーク10BのX軸方向の位置ずれ検出を行う場合、画像処理部32は、位置ずれ検出用マーク10の画像35(図3(a),(b))から、Y軸に平行な線状パターン12(図1(b)に示す下地マーク10Aの一部)に関わる2つの部分画像36(1),36(2)を切り出すと共に、Y軸に平行な線状パターン14(図1(c)に示すレジストマーク10Bの一部)に関わる2つの部分画像37(1),37(2)を切り出す。
このようにして部分画像36(1),36(2),37(1),37(2)の切り出しが終了すると、画像処理部32は、図3(a)の部分画像36(1),36(2)において、各画素の輝度値をY軸方向(E方向)に積算し、図3(c)に示すような波形信号を生成する(プロジェクション処理)。図3(c)の横軸は画素の位置を表し、縦軸は信号レベル(明るさ)を表す。なお、図3(a)の部分画像36(1),36(2)は中抜きの分離した状態となっているが、一続きの部分画像としてプロジェクション処理を行う。プロジェクション処理の積算方向(図3(a)のE方向)は、位置ずれ検出の方向(ここではX軸方向)と垂直な方向に相当する。また、図3(b)の部分画像37(1),37(2)においても同様のプロジェクション処理を行う。
Y軸方向の位置ずれ検出も、上記したX軸方向の位置ずれ検出と同様の手順により行われる。この場合、画像処理部32は、位置ずれ検出用マーク10の画像から、X軸に平行な線状パターン11(下地マーク10Aの一部)の部分パターン11(1),11(2)ごとに個別に部分画像を切り出す(図3(a)の部分画像36(1),36(2)参照)と共に、X軸に平行な線状パターン13(レジストマーク10Bの一部)の中で線状パターン14との交点部分を含まないように部分画像を切り出す(図3(b)の部分画像37(1),37(2)参照)。
上記したように、第1実施形態の位置ずれ検出用マーク10では、図1(b)の線状パターン11,12からなる十字形状の下地マーク10Aと、図1(c)の線状パターン13,14からなる十字形状のレジストマーク10Bとを含むため、位置ずれ検出の際に、その中心(つまり下地マーク10Aの中心CAやレジストマーク10Bの中心CB)を、視野領域の中心(光軸6A)に略一致させることで、次の効果を奏する。
また、位置ずれ検出用マーク10の画像から線状パターン11,12に関わる位置ずれ検出用の部分画像(図3(a)の部分画像36(1),36(2)参照)を切り出す際、線状パターン11では、それぞれの部分パターン11(1),11(2)ごとに個別に部分画像を切り出し、線状パターン12では、それぞれの部分パターン12(1),12(2)ごとに個別に部分画像を切り出すため、その他の線状パターンのエッジ部分に影響されることなく良好に位置ずれ検出を行うことができる。
(第2実施形態)
第2実施形態の位置ずれ検出用マークは、図4に示す通り、線状パターン11,13を「幅方向に分割された複数本の微細な線状パターン38,39の集合体(サブマーク群)」により構成し、線状パターン12,14を同様のサブマーク群により構成したものである。なお、サブマーク群による構成は、線状パターン11〜14の全てに限らず、少なくとも1つの線状パターンに適用してもよい。
また、サブマーク群の微細な線状パターン38,39の幅を対物レンズ26の解像力内にすると、線状パターン38,39の集合体である線状パターン13,11の幅方向(位置ずれ検出方向)に関して多数のエッジが存在することになり、平均化効果で位置ずれ検出の再現性が向上する。さらに、微細な線状パターン38,39の幅を回路パターンの線幅と同程度にすることで、位置ずれ検出の精度が向上する。
(第3実施形態)
第3実施形態の位置ずれ検出用マークは、図5に示す通り、線状パターン11と線状パターン12に外接する矩形領域40の内側で、下地マーク10Aとレジストマーク10B(つまり線状パターン11〜14)により仕切られた4つの領域a〜dに、下地パターンの他の基準位置を示す下地マーク(41〜44)と、レジストパターンの他の基準位置を示すレジストマーク(44〜48)とを、重ならないように配置したものである。新たな下地マーク(41〜44)とレジストマーク(44〜48)は、ライン・アンド・スペースのパターンからなる(グレーティング構造)。
さらに、第3実施形態の位置ずれ検出用マークによれば、線状パターン11,12からなる下地マーク10Aの中心CA(図1(b))と線状パターン13,14からなるレジストマーク10Bの中心CB(図1(c))を視野領域の中心(光軸6A)に略一致させた状態で、下地マーク10Aとレジストマーク10Bとの位置ずれ検出、および、下地マーク(41〜44)とレジストマーク(44〜48)との位置ずれ検出を行うことができる。
(第4実施形態)
第4実施形態の位置ずれ検出用マークは、図6に示す通り、線状パターン11と線状パターン12に外接する矩形領域50の内側で、下地マーク10Aとレジストマーク10B(つまり線状パターン11〜14)により仕切られた4つの領域a〜dに、下地パターンの形成に関わるプロセス情報51と、下地パターンと同時に形成されたダミーパターン52,53と、レジストパターンの形成に関わるプロセス情報54と、レジストパターンと同時に形成されたダミーパターン55,56を配置したものである。プロセス情報51,54とは、レチクルナンバーなどである。
(第5実施形態)
第5実施形態の位置ずれ検出用マークは、図7に示す通り、線状パターン11と線状パターン12に外接する矩形領域60の内側で、下地マーク10Aとレジストマーク10B(つまり線状パターン11〜14)により仕切られた4つの領域a〜dに、下地パターンとレジストパターンのうち少なくとも一方の形成に関わる露光条件の検査用マーク61〜64を配置したものである。マーク61〜64は、楔形のSMP(Self Measurement Program)マークであり、その長さが露光条件(ドーズ量やフォーカスずれ量など)に応じて変化する。
(第6実施形態)
第6実施形態の位置ずれ検出用マーク70は、図8に示す通り、図1の位置ずれ検出用マーク10のレジストマーク10Bに代えて、レジストマーク70Bを設けたものである。レジストマーク70Bは、線状パターン11に平行な線状パターン71と、線状パターン12に平行な線状パターン72とが、十字形状に配置されたものである。また、線状パターン71,72は、線状パターン11,12よりも両端間の長さが短く、互いに交差しないように、それぞれ直線方向S71,S72の一端側と他端側とに分割された2つの部分パターン71(1),71(2),72(1),72(2)からなる。
(変形例)
なお、上記した実施形態では、基板21の異なる層に形成された下地パターンに対するレジストパターンの重ね合わせ検査(位置ずれ検出)を例に説明したが、本発明はこれに限定されない。基板21の同じ層に形成された2つのパターンの位置ずれ検出を行う場合にも、本発明を適用できる。
10A,41〜44 下地マーク
10B,45〜48,70B レジストマーク
11,12,13,14,71,72 線状パターン
11(1),11(2),12(1),12(2),71(1),71(2),72(1),72(2) 部分パターン
20 重ね合わせ測定装置
21 基板
22 ステージ
23 光源
24 照明レンズ
26 対物レンズ
6A 光軸
27,29 結像レンズ
30 検出器
31 撮像素子
32 画像処理部
33 システム制御部
34 ステージ制御部
35 画像
36(1),36(2),37(1),37(2),73 部分画像
38,39 微細な線状パターン
40,50,60 矩形領域
51,54 プロセス情報
52,53,55,56 ダミーパターン
61〜64 露光条件の検査用マーク
Claims (7)
- 2つのパターンの位置ずれ検出に用いられるマークであって、
前記2つのパターンのうち一方の基準位置を示す第1マークと、前記2つのパターンのうち他方の基準位置を示す第2マークとを含み、
前記第1マークは、第1の線状パターンと該線状パターンに垂直な第2の線状パターンとが十字形状に配置され、
前記第2マークは、第3の線状パターンと前記第3の線状パターンに垂直な第4の線状パターンとが十字形状に配置され、
前記第1マークと前記第2マークは、前記2つのパターンの位置ずれが無いときに、前記第1の線状パターンと前記第3の線状パターンの直線方向が一致し、かつ、前記第2の線状パターンと前記第4の線状パターンの直線方向が一致し、
前記第1の線状パターンと前記第3の線状パターンは、長手方向の両端間の長さが互いに異なり、
前記第1の線状パターンと前記第3の線状パターンのうち、前記長さの長い方の線状パターンは、前記長さの短い方の線状パターンと重ならないように、直線方向の一端側と他端側とに分割された2つの部分パターンからなり、
前記第2の線状パターンと前記第4の線状パターンは、長手方向の両端間の長さが互いに異なり、
前記第2の線状パターンと前記第4の線状パターンのうち、前記長さの長い方の線状パターンは、前記長さの短い方の線状パターンと重ならないように、直線方向の一端側と他端側とに分割された2つの部分パターンからなる
ことを特徴とする位置ずれ検出用マーク。 - 請求項1に記載の位置ずれ検出用マークにおいて、
前記第1の線状パターンと前記第3の線状パターンのうち前記長さの短い方の線状パターンと、前記第2の線状パターンと前記第4の線状パターンのうち前記長さの短い方の線状パターンは、互いに交差しないように、それぞれ直線方向の一端側と他端側とに分割された2つの部分パターンからなる
ことを特徴とする位置ずれ検出用マーク。 - 請求項1または請求項2に記載の位置ずれ検出用マークにおいて、
前記第1の線状パターンと前記第2の線状パターンと前記第3の線状パターンと前記第4の線状パターンのうち、少なくとも1つの線状パターンは、幅方向に分割された複数本の微細な線状パターンからなる
ことを特徴とする位置ずれ検出用マーク。 - 請求項1から請求項3の何れか1項に記載の位置ずれ検出用マークにおいて、
前記第1の線状パターンと前記第3の線状パターンのうち前記長さの長い方の線状パターンに外接すると共に、前記第2の線状パターンと前記第4の線状パターンのうち前記長さの長い方の線状パターンに外接する矩形領域の内側で、前記第1マークと前記第2マークにより仕切られた4つの領域のうち、少なくとも1つの領域には、前記2つのパターンのうち少なくとも一方の他の基準位置を示す第3マークが含まれる
ことを特徴とする位置ずれ検出用マーク。 - 請求項1から請求項3の何れか1項に記載の位置ずれ検出用マークにおいて、
前記第1の線状パターンと前記第3の線状パターンのうち前記長さの長い方の線状パターンに外接すると共に、前記第2の線状パターンと前記第4の線状パターンのうち前記長さの長い方の線状パターンに外接する矩形領域の内側で、前記第1マークと前記第2マークにより仕切られた4つの領域のうち、少なくとも1つの領域には、前記2つのパターンのうち少なくとも一方の形成に関わるプロセス情報が含まれる
ことを特徴とする位置ずれ検出用マーク。 - 請求項1から請求項3の何れか1項に記載の位置ずれ検出用マークにおいて、
前記第1の線状パターンと前記第3の線状パターンのうち前記長さの長い方の線状パターンに外接すると共に、前記第2の線状パターンと前記第4の線状パターンのうち前記長さの長い方の線状パターンに外接する矩形領域の内側で、前記第1マークと前記第2マークにより仕切られた4つの領域のうち、少なくとも1つの領域には、前記2つのパターンのうち少なくとも一方の形成に関わる露光条件の検査用マークが含まれる
ことを特徴とする位置ずれ検出用マーク。 - 請求項1から請求項6の何れか1項に記載の位置ずれ検出用マークを用いて、前記2つのパターンの位置ずれ検出を行う方法であって、
前記第1マークと前記第2マークの画像を取り込む第1工程と、
取り込まれた前記画像から前記第1マークの前記第1の線状パターンと前記第2の線状パターンに関わる部分画像を切り出すと共に、前記第2マークの前記第3の線状パターンと前記第4の線状パターンに関わる部分画像を切り出す第2工程と、
切り出された前記部分画像に基づいて、前記第1の線状パターンと前記第3の線状パターンの直線方向の位置ずれ量を算出すると共に、前記第2の線状パターンと前記第4の線状パターンの直線方向の位置ずれ量を算出する第3工程とを備え、
前記第2工程では、前記第1の線状パターンと前記第3の線状パターンのうち前記長さの長い方の線状パターンに関わる部分画像を切り出す際、および、前記第2の線状パターンと前記第4の線状パターンのうち前記長さの長い方の線状パターンに関わる部分画像を切り出す際、それぞれの前記部分パターンごとに個別に前記部分画像を切り出す
ことを特徴とする位置ずれ検出方法。
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