JP2005345347A - 微小試料作製装置、微小試料設置具及び微小試料加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 試料作製装置における微小試料を固定する微小試料設置具1a,1bを、金属製で、大部分の厚さを30〜100μmにして機械的強度を持たすと共に、微小試料固定部2a,2bを厚さ5μm以下、高さ10μm以上の薄壁状の構造とする。
【選択図】 図1
Description
(1)観察領域に比較して摘出するサンプル形状が大きく、加工体積(摘出試料周囲の除去する体積)が大きいため、余分な加工による試料作製時間が長い。
(2)EDX分析時に微小試料設置具からの信号がノイズ信号として混入し、所望の領域の高精度な組成分析ができない。
(3)微小試料設置具に設置した微細試料へのFIBによる加工において、微小試料設置具からのスパッタ粒子が加工試料面に付着するため、高分解能の観察が阻害される。
(1)同じ観察領域を有する微小試料を作製する時間を短縮すること、
(2)EDX分析時に微小試料設置具からのノイズ信号を削減すること、
(3)微小試料設置具からのスパッタ粒子の加工試料面への付着を削減させること、である。
図1は、本発明による試料作製装置における微小試料設置具の一実施例を示す斜視図である。微小試料設置具1a、1bの全体形状はTEMホールダ形状やFIB装置における取付け部の構造に依存するため、図1(a)に示すような半円形でも、図1(b)に示すような矩形でも良く、自由度は大きい。摘出した微小試料3の微小試料固定部2a、2bは薄板の側面部である点は従来と同じであるが、本発明の主な特徴とするところは、微小試料固定部2a、2bの厚みが極端に薄くなっていて、かつ、その高さは10μm以上ある薄壁の形状となっていることである。具体的寸法例として、図1(a)の微小試料設置具の場合を例にとると、全体形状は直径が2.98mmの銅製、大半の厚さが40μmの半円板であり、微小試料固定部2aの厚さは3μmで、薄壁4aの高さは20μmとした。
微小試料設置具は非常に小さく、特に微小試料固定部の数μmの薄さと数μm以下の平坦性が求められるため、通常のフライス盤や研磨機などの機械加工機では加工できず、本発明の微小試料設置具は電鋳と呼ばれる方法を用いる。特許文献1ではシリコンのへき開面を利用した凸断面形状の試料固定具が開示されているが、シリコン片を部分的に数μmまで薄く機械加工できないこと、シリコン半導体デバイスをEDX分析する際、微小試料設置具からのシリコンの信号が混在して正確な定量分析ができないなどの問題を有している。このため、強度面、組成面、作製面の観点から金属で作製することが得策であるとの結論に至った。
本発明による微小試料設置具は図1に示した形状に限ることはなく、図3(a)から(c)に記した形状であってもよい。図3(a)から(c)において、微小試料設置具80a〜80cにおける微小試料固定部(薄壁部)81a〜81cは長手方向の一部であってもよく、このような形状によって微小試料固定部81a〜81cの倒れに対する機械的強度は高まる。微小試料設置具の取り扱い時に微小試料固定部81に固定した微小試料(図示せず)が他の部材へ接触することを防ぐために図3(b)のように微小試料の固定面を周囲より低めた構造としてもよい。微小試料設置具をハンドリングし易いようにピンセット等による掴み部82cを設けてもよい。要点は、微小試料設置具80のうち、試料固定部81が厚さ1〜5μm、高さが10〜50μmの薄い壁状になっていることであり、全体形状はTEMホールダ形状に適合できるように種々改変すればよい。一般化すると、微小試料設置具は、厚さWの板状金属からなる本体と前記本体に設けられた厚さwで高さhからなる微小試料固定部とを有し、この時、比h/Wが1/3以上、比h/wが2以上を満足していればよい。
次に、本発明で用いた試料作製装置の構成について図6で説明する。図6において、試料作製装置101は、試料移動ステージ102に載置した母試料103に対してFIB104を照射するFIB照射光学系105、FIB104の照射部から発生する二次電子や二次イオン等二次粒子を検出する二次粒子検出器106、FIB照射領域にFIBアシストデポジション膜を形成するために必要なガスを供給するガス供給手段107、このガス供給手段107は先端のガス照射部が口径100μm程度のノズル108を有しており、FIB照射領域に限定してガスを供給することができる。
図6に示した試料作製装置を用いたTEM試料作製方法の一例について、図7を用いて小図番に沿って説明する。
(a)最初に観察領域(TEM観察用薄膜の形成領域)に対応する母試料131表面に、マーク132、132’を施す。このマークは例えば、TEM観察部となる観察用薄膜部の両端にFIB等で施す。マーク132、132’の形状は種々あるが、本例では断面位置を示すため最も単純な形状のマイナス形状とした。次に、観察領域に対応する試料131表面にFIBアシストデポジション膜による保護膜133を形成する。保護膜133は、FIB照射時の母試料表面損傷を低減するためと、試料加工断面の平坦性を向上するために形成する。大きさは例えば3×10μm程度、厚さは1μm程度である。
(b)観察領域を含み、上記2個のマーク132、132’と保護膜133の外周にFIB(図示せず)照射により垂直方向に堀134を形成する。この堀134の最外周寸法は、本例では、30μm×30μm,深さ15μmとした。この作業により摘出すべき微小試料135が長方形の柱状に残される。
(d)次に、導電性で先端半径が0.5μm程度まで先鋭化されたプローブ137を摘出試料135の一端に接触させる。プローブ137先端を含むように摘出試料135に1.5μm×1.5μm程度のデポジション膜138を形成し、プローブ137を摘出試料135に接続させる。なお、プローブ137の接続位置は摘出試料135の母試料131における表面に限ることはなく、垂直加工面136であってもよい。
(e)摘出すべき試料135の垂直加工面136の下部138を横切るようにFIB照射する。これにより摘出試料135は母試料131と分離できる。
(g)摘出試料135を母試料131から十分離間した状態(摘出試料135を母試料131上空に保持した状態)を維持させ、微小試料設置具139をFIB観察視野に移動させる。微小試料設置具139の微小試料固定部に向けて微小試料135を降下させて接触させる。摘出試料135の微小試料設置具139への接触確認は、FIB画像からでも可能であるし、両者の導通によって電気的に確認しても良い。摘出試料135と微小試料設置具139との接触部(摘出試料135の最下端)に両者に掛かるようにデポジション膜140を形成して両者を接続させる。
(h)プローブ137と微小試料片135とを固定接続しているデポジション膜138にFIBを照射して、このデポジション膜138をスパッタ除去することで、もしくは、プローブ137先端付近をFIB照射によって切断することで、プローブ137は摘出試料135から分離できる。これにより、微小試料片135は試料取付け具139上に固定保持され、完全に自立する。
本発明で用いる微小試料設置具は、微小試料固定部が平滑で、幅が数μmと薄いため、摘出すべき試料を高さ方向に余分な嵩上げをする必要がなくなり、観察領域のみを含む試料を作成すればよくなるため試料作製時間が短縮できる。つまり、図7(b)において、外周の堀134を従来のように深く加工する必要がない。そのため、この工程の加工時間を短縮でき、全体の加工時間を短縮できる。
次に、本発明による微小試料設置具を用いた場合と従来の微小試料設置具を用いた場合で、微小試料の組成分析を行なった結果を比較する。微小試料設置具の素材は両者とも銅製である。用いた試料はシリコン結晶である。ほぼ同じ形状に作製した微細試料をそれぞれの微小試料設置具に固定した。分析方法は、EDX付きTEMを用いて同じ条件で計測した。試料はシリコン結晶であるので、本来はシリコンのみの信号を得られるはずで、その他の元素が検出されれば、試料に付着した不純物と見なすことができる。
図12(b)、(c)に見られた、微小試料のFIB加工時に発生する微小試料設置具30のスパッタ粒子47が加工試料面45に付着するために、高倍率観察や高分解能組成分析が損なわれる問題は本発明の微小試料設置具では生じない。本発明の微小試料設置具では、図8に示すように、微小試料135を加工したFIB61は直下の微小試料設置具139に当たることは無く、数10μm下にある段差部62に当たる。ここで発生するスパッタ粒子63は観察部142まで届くことは無く、高倍率観察や高分解能組成分析が可能となる。なお、図8では微小試料135は、同図中、段差部62の上部に固定したが、微小試料設置具139の薄壁状の微小試料固定部143の右側に固定し、微小試料135の下には段差部62も無い状態にしても同じ効果が得られる。
(1)微小試料の取付け部が数μmの薄膜状になった微小試料設置具を用いることで、微小試料傾斜による視野領域の制限が無くなり、従来よりも高さの低い微小試料の観察ができる。微小試料の高さを低くすることで、微小試料作製時の微小試料周辺の加工体積が削減できため、加工時間が短縮できる。従来の一定厚さの微小試料設置具を用いた場合の加工時間に比べ約25%短縮できる。
(2)本発明による微小試料設置具に固定した微小試料をEDX分析する場合、微小試料設置具を励起したノイズピークが従来の1/3に減少した。
2a,2b,50,81…微小試料固定部
3,52,135…微小試料
4a,4b…薄壁部
32,54…入射電子
33,55…透過電子
160,162…識別マーク
Claims (12)
- 集束イオンビーム照射手段と、母試料を載置して移動する試料ステージと、集束イオンビーム照射によってガス成分を堆積させる原料ガスを供給するガス供給手段と、集束イオンビームを用いた加工によって母試料から摘出した微小試料を固定して移動可能なプローブと、前記プローブを駆動するプローブ駆動手段と、母試料から摘出した微小試料を設置する微小試料設置具を搭載した微小試料設置具搭載手段とを備える微小試料作製装置において、
前記微小試料設置具は、厚さWの板状金属からなる本体と前記本体に設けられた厚さwで高さhである薄壁状の微小試料固定部とを有し、比h/Wが1/3以上、比h/wが2以上を満足することを特徴とする微小試料作製装置。 - 請求項1記載の微小試料作製装置において、前記本体の厚さWは30〜100μm、前記微小試料固定部の厚さwは5μm以下、高さhは10μm以上であることを特徴とする微小試料作製装置。
- 請求項1又は2記載の微小試料作製装置において、前記微小試料設置具は銅、ニッケル、白金、鉄のいずれか、もしくは、これらのいずれかを含む合金からなることを特徴とする微小試料作製装置。
- 集束イオンビームを用いた加工によって母試料から摘出した微小試料を設置する微小試料設置具において、
厚さがWの板状金属からなる本体と、前記本体に設けられた厚さがwで、高さがhである薄壁状の微小試料固定部とを備え、
比h/Wが1/3以上、比h/wが2以上を満足し、
前記微小試料固定部に微小試料の固定位置の目印となる識別マークを有することを特徴とする微小試料設置具。 - 請求項4記載の微小試料設置具において、前記本体の厚さWは30〜100μm、前記微小試料固定部の厚さwは5μm以下、高さhは10μm以上であることを特徴とする微小試料作製装置。
- 請求項4又は5記載の微小試料設置具において、前記識別マークは少なくとも当該微小試料設置具の中心軸上に設けられていることを特徴とする微小試料設置具。
- 請求項4〜6のいずれか1項記載の微小試料設置具において、前記識別マークは、当該微小試料設置具の中心軸上及び前記中心軸から等間隔に複数個設けられていることを特徴とする微小試料設置具。
- 請求項4〜7のいずれか1項記載の微小試料設置具において、前記識別マークは、微小試料の固定面に設けられた凹部であることを特徴とする微小試料設置具。
- 集束イオンビームを用いた加工によって母試料から微小試料を摘出する工程と、
前記抽出した微小試料を微小試料設置具に移送して固定する工程と、
前記微小試料設置具に固定した微小試料の観察領域を集束イオンビームを用いて薄膜に加工する工程とを含む微小試料加工方法において、
前記微小試料設置具として厚さWの板状金属からなる本体と、前記本体に設けられた厚さwで高さhである薄壁状の微小試料固定部とを備え、比h/Wが1/3以上、比h/wが2以上を満足する微小試料設置具を用いることを特徴とする微小試料加工方法。 - 請求項9記載の微小試料加工方法において、前記本体の厚さWは30〜100μm、前記微小試料固定部の厚さwは5μm以下、高さhは10μm以上であることを特徴とする微小試料加工方法。
- 請求項9又は10記載の微小試料加工方法において、前記固定する工程では、前記微小試料固定部に設けられた識別マークに関連付けて前記微小試料を前記微小試料設置具に固定することを特徴とする微小試料加工方法。
- 請求項9〜11のいずれか1項記載の微小試料加工方法において、前記固定する工程では、前記微小試料を前記薄壁状の微小試料固定部から厚さ方向にはみ出すようにして固定することを特徴とする微小試料加工方法。
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