JP2005344955A - 着弾位置計測装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源1の光を垂直光ファイバ2v,2hで導いて標的Tの垂直範囲の一端側から標的Tの水平範囲をカバーするように垂直光ビームBvを出射すると共に標的Tの垂直範囲をカバーするように水平光ビームBhを出射し、垂直光ビームBvを垂直フォトダイオード4vで受光し、水平光ビームBhを水平フォトダイオード4hで受光し、受光状態を制御装置6で監視して着弾位置を計測する。
【効果】弾丸が着弾した標的上の位置を簡単な構成によって計測することが出来る。
【選択図】図1
Description
また、座標入力面の一方側に多数の発光素子を並べて座標入力面を横切るように多数の光ビームを形成し、座標入力面の他方側に多数の受光素子を並べて光ビームをそれぞれ受光させ、対象物で光ビームが遮断された受光素子の位置から対象物の位置を検出する光学式デジタイザが知られている(例えば、特許文献2参照。)。
他方、上記光学式デジタイザは、光ビームが遮断されたことを検出する透過光方式であり、これを弾丸の標的到達位置計測装置に応用すると、光路長が反射光方式の半分で済み、光源も受光器も、構成を簡単化できる。
ところが、上記光学式デジタイザでは、光ビームの集光性が十分でないため、対応する発光素子と受光素子の組を1組ずつ駆動して光ビームが遮断されたか否かを順に調べてゆく走査方式になっている。しかし、走査方式では、高速(例えば200[m/s]〜800[m/s])で光ビームを通過する弾丸を確実に検出することが難しい問題点がある。
そこで、本発明の目的は、弾丸が着弾した標的上の位置を簡単な構成によって計測できるようにした着弾位置計測装置を提供することにある。
上記構成において、垂直光形成手段側で垂直光ビームを形成し、水平光形成手段側で水平光ビームを形成してもよい。また、垂直光形成手段で平面的な垂直光を形成し、水平光形成手段で平面的な水平光を形成し、受光手段側で視野を制限することにより実質的に垂直光ビームや水平光ビームを形成してもよい。
なお、光ビームのピッチを3.5[mm]以下とすることにより、直径が7[mm]より大きい弾丸の必ず中央近傍が光ビームを遮断するため、検出の確実性を高めることが出来る。
また、5[μs]の光ビーム遮断状態を検知可能な受光手段とすることにより、長さ1[cm],速度400[m/s]の弾丸通過を確実に検出できるようになる。
上記第2の観点による着弾位置計測装置では、光ファイバを密に並べることが出来るため、容易に光ビームのピッチを3.5[mm]以下とすることが出来る。また、光源を任意の場所に設置できるため、空間的・熱的制約が緩和され、安価な強い光源を使用可能になる。また、一つの光源を垂直光の形成および水平光の形成の両方に兼用できる。
標的上の着弾位置を求めるためには、標的に対する垂直光ビームおよび水平光ビームの位置関係が判っている必要があるが、標的の変更などにより位置関係が変わることがある。
そこで、上記第3の観点による着弾位置計測装置では、校正モードとした上で、校正治具により垂直光ビームおよび水平光ビームを遮断し、その遮断した箇所の標的上の位置を入力する。これにより、標的に対する垂直光ビームおよび水平光ビームの位置関係を更新することが出来る。
上記第4の観点による着弾位置計測装置では、標的の画像と着弾位置とが表示されるから、射撃結果を容易に視認することが出来る。
この着弾位置計測装置100は、ハロゲンランプのような安価で強い光源1と、光源1の光を導き標的Tの前方位置で標的Tの垂直範囲の一端側から標的Tの水平範囲をカバーする3.5[mm]以下のピッチの平行な垂直光ビームBvを出射する垂直光ファイバ2vと、光源1の光を導き標的Tの前方位置で標的Tの水平範囲の一端側から標的Tの垂直範囲をカバーする3.5[mm]以下のピッチの平行な水平光ビームBhを出射する水平光ファイバ2hと、垂直光ビームBvをそれぞれ受光すると共に5[μs]の光ビーム遮断状態を検知可能な垂直フォトダイオード4vと、水平光ビームBhをそれぞれ受光すると共に5[μs]の光ビーム遮断状態を検知可能な水平フォトダイオード4hと、垂直フォトダイオード4v及び水平フォトダイオード4hからの信号を導くケーブル5と、パーソナルコンピュータの如き制御装置6とを具備している。
視野制限孔22は、連通する保持孔21に嵌着されている垂直フォトダイオード4vの視野を制限し、対向する垂直光ファイバ2vからの垂直光ビームBv以外のノイズ光が入らないようにしている。
通過する弾丸から見た視野制限孔22のピッチpは、保持孔21を千鳥状に穿設しているため、垂直フォトダイオード4vの直径より小さくすることが出来る。例えば、垂直フォトダイオード4vの直径が3.5[mm]でも、ピッチp=2[mm]にすることが出来る。
同様に、水平フォトダイオード4hもスリットブロックに嵌着されている。
全ての垂直フォトダイオード4v−1,4v−2,…が垂直光ビームBvを受光しており、マイクロプロセッサ16のリード信号READが「L」のとき、オア回路11−1,11−2,…には、全て「L」が入力されている。また、ラッチ回路12−1,12−2,…にも、全て「L」が入力されている。
弾丸が通過して、例えば垂直フォトダイオード4v−8,4v−9,4v−10に入射していた垂直光ビームBvが遮断されたとき又はマイクロプロセッサ16のリード信号READが「H」にされたとき、オア回路11−1,11−2に「H」が入力され、トリガ信号TRG−1,TRG−2が発生する。そして、トリガ信号TRG−1により、ラッチ回路12−1は、垂直フォトダイオード4v−1〜4v−8の状態を読み込んで保持する。また、トリガ信号TRG−2により、ラッチ回路12−2は、垂直フォトダイオード4v−9〜4v−16の状態を読み込んで保持する。
同様に、水平フォトダイオードの状態もマイクロプロセッサ16に読み込まれる。
校正治具30は、枠3の上面と下面を把持すると共に水平に移動させうる水平スライダ31と、水平スライダ31の側面を把持すると共に垂直に移動させうる垂直スライダ32と、垂直スライダ32に取り付けられ標的Tへ延びている指示棒33とからなっている。
ステップS1では、マイクロプロセッサ16は、メニューを表示部6bに表示する。このメニューでは「校正モード」と「計測モード」と「終了」のいずれかを選択できる。
ステップS3では、「計測モード」が選択されたらステップS5へ進み、そうでなければステップS4へ進む。
ステップS6では、マイクロプロセッサ16は、「校正モード」を行うように操作者に警告する。そして、ステップS1に戻る。
ステップS11では、操作者がエンターキーを押すまで待ち、エンターキーが押されたらステップS12へ進む。
ステップS12では、マイクロプロセッサ16は、リード信号READによりラッチ回路12−1,12−2,…にフォトダイオードの状態を読み込む。
ステップS13では、マイクロプロセッサ16は、セレクト信号SELによりバスインターフェース13−1,13−2,…を順に選択し、ラッチ回路12−1,12−2,…のデータを読み込み、「H」のデータの位置から、どの垂直光ビームBvが遮断されたのかを検出し、遮断されている垂直光ビームBvの座標の中央値をセンターCの水平座標H0とする。また、どの水平光ビームBhが遮断されたのかを検出し、遮断されている水平光ビームBhの座標の中央値をセンターCの垂直座標V0とする。
ステップS15では、操作者がエンターキーを押すまで待ち、エンターキーが押されたらステップS16へ進む。
ステップS16では、マイクロプロセッサ16は、リード信号READによりラッチ回路12−1,12−2,…にフォトダイオードの状態を読み込む。
ステップS17では、マイクロプロセッサ16は、セレクト信号SELによりバスインターフェース13−1,13−2,…を順に選択し、ラッチ回路12−1,12−2,…のデータを読み込み、「H」のデータの位置から、どの垂直光ビームBvが遮断されたのかを検出し、遮断されている垂直光ビームBvの座標の中央値を領域「3」と領域「4」の境界円の水平座標H1とする。また、どの水平光ビームBhが遮断されたのかを検出し、遮断されている水平光ビームBhの座標の中央値を領域「3」と領域「4」の境界円の垂直座標V1とする。
ステップS21では、マイクロプロセッサ16は、図8に示すように、標的Tの画像を表示部6bに表示する。
ステップS24では、操作者が操作部6aで「計測モード」の終了を指示したかチェックし、指示されていないならステップS25へ進み、指示されたなら図5のステップS1に戻る。
ステップS25では、操作者が操作部6aで「点数クリア」を指示したかチェックし、指示されていないならステップS23に戻り、指示されたならステップS20に戻る。
ステップS27では、記憶していた標的Tの領域「1」〜領域「10」の座標範囲と着弾位置の座標Hb,Vbを比較し、標的T上の着弾位置を計算する。
ステップS28では、図9に示すように、標的Tの画像上に着弾位置を表示する。なお、図9の着弾位置「1」は1発目の着弾位置を表し、着弾位置「2」は2発目の着弾位置を表している。
ステップS29では、標的T上の着弾位置から点数を計算し、図9に示すように点数を表示する。そして、ステップS22に戻る。
フォトダイオードの代わりにフォトトランジスタを用いてもよい。
2v 垂直光ファイバ
2h 水平光ファイバ
3 枠
4v 垂直フォトダイオード
4h 水平フォトダイオード
6 制御装置
10 データ処理回路
11−1,11−2,… オア回路
12−1,12−2,… ラッチ回路
16 マイクロプロセッサ
20 スリットブロック
22 視野制限孔
30 校正治具
31 水平スライダ
32 垂直スライダ
33 支持棒
100 着弾位置計測装置
Claims (4)
- 標的の水平範囲をカバーする垂直光を形成する垂直光形成手段と、標的の垂直範囲をカバーする水平光を形成する水平光形成手段と、標的の水平範囲をカバーする3.5[mm]以下のピッチの平行な垂直光ビームおよび標的の水平範囲をカバーする3.5[mm]以下のピッチの平行な水平光ビームをそれぞれ受光すると共に5[μs]の光ビーム遮断状態を検知可能な受光手段と、前記受光手段の視野をそれぞれ制限してノイズ光の入射を防ぐ視野制限手段と、前記受光手段のいずれかが光ビーム遮断状態を検知した時にトリガ信号を発生するトリガ信号発生手段と、前記トリガ信号を検知するとどの受光手段が光ビーム遮断状態を検知したかを記憶する記憶手段と、前記トリガ信号を検知すると前記記憶手段による記憶結果および前記標的に対する前記垂直光ビームおよび前記水平光ビームの位置関係に基づいて標的上の着弾位置を求める着弾位置取得手段とを具備したことを特徴とする着弾位置計測装置。
- 請求項1に記載の着弾位置計測装置において、前記垂直光形成手段は、光源と、前記光源の光を導き前記標的の前方位置で前記標的の垂直範囲の一端側から垂直に出射する垂直光ファイバとを有してなり、前記水平光形成手段は、前記光源と、前記光源の光を導き前記標的の前方位置で前記標的の水平範囲の一端側から水平に出射する水平光ファイバとを有してなることを特徴とする着弾位置計測装置。
- 請求項1または請求項2に記載の着弾位置計測装置において、前記着弾位置取得手段は、校正モードを有し、前記校正モード中に遮断された垂直光ビームおよび水平光ビームに対応する受光手段の位置と入力された標的上の位置とに基づいて前記標的に対する前記垂直光ビームおよび前記水平光ビームの位置関係を得ることを特徴とする着弾位置計測装置。
- 請求項1から請求項3のいずれかに記載の着弾位置計測装置において、前記標的の画像を表示すると共に該画像上に前記着弾位置取得手段で求めた着弾位置を表示する表示手段を具備したことを特徴とする着弾位置計測装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004162725A JP2005344955A (ja) | 2004-06-01 | 2004-06-01 | 着弾位置計測装置 |
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Cited By (6)
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JP2009294032A (ja) * | 2008-06-04 | 2009-12-17 | Meidensha Corp | 画像計測装置及びその校正方法 |
KR101290121B1 (ko) | 2011-12-29 | 2013-07-26 | 대덕위즈주식회사 | 분리가능한 전차사격용 표적 |
KR101371556B1 (ko) * | 2011-12-29 | 2014-03-06 | 주식회사 비즈모델라인 | 전차 사격 표적기 |
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KR101466737B1 (ko) * | 2012-02-07 | 2014-11-28 | 주식회사 비즈모델라인 | 전차사격 표적틀용 프레임 유닛 |
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2004
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