JP2005338625A - 可視光線反射フィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基盤フィルム3上にベースコート12と銀スパッタ層13とトップコート14とを順次積層形成してなる可視光線反射フィルムであって、上記ベースコート12と銀スパッタ層13との間にはベース金属スパッタ層2を設けてなる。また、上記基盤フィルム3としては白色顔料を混入した白色PETフィルムを用いる。上記ベース金属スパッタ層としては、アルミニウム、チタン、銅、亜鉛、ステンレス鋼などを形成する。
【選択図】図1
Description
そして、これら光源の明るさを増すため、或いはディスプレイの明るさの均一性を保つために、バックライトの近くに可視光線反射フィルムが用いられている。
また、上記銀スパッタ層93が腐食すると、ピンホールが発生し、このピンホールから上記光が基盤フィルムを通じて外部へ透過してしまい、可視光線反射フィルムの光反射機能が低下してしまう。
上記ベースコートと銀スパッタ層との間にはベース金属スパッタ層を設けてなり、
かつ上記基盤フィルムは、ポリエチレンテレフタレート樹脂と白色顔料とを混合した白色PETフィルムを用いてなることを特徴とする可視光線反射フィルムにある(請求項1)。
本発明においては、上記ベースコートと銀スパッタ層との間に上記ベース金属スパッタ層を介在させて、これらを積層している。
そして、上記ベース金属スパッタ層は、金属をベースコート上にスパッタリングすることにより形成している。
また、ベースコートと銀スパッタ層との間の密着性が向上するので、両者間の密着性不良による、歩留り低下がなく、生産性が高くなり、可視光線反射フィルムの低コスト化を図ることもできる。
また、白色PETフィルムはかかるポリエチレンテレフタレート樹脂中に白色顔料を混入したものであるから光反射性に優れている。そのため、仮に銀スパッタ層に上記ピンホールが発生して該ピンホールから光が漏洩しても、上記白色PETフィルムによって銀スパッタ層の方向へ光が反射される。
そのため、長期間の使用においても可視光線反射フィルムは高い光反射性を維持することができる。
ベースコートは、基盤フィルムの上にロールコーター法、ディッピン法などの手段により積層させる。
このときのスパッタリング条件としては、例えばチャンバー内圧力2×10-3Pa、基盤搬送速度0.5m/min、印加電圧450V、電流15A、スパッタリングガスArで行なう。
また、銀スパッタ層は200〜600Å(オングストローム)の厚みとすることが好ましい。200Å未満では可視光線反射フィルムとしての機能が充分でなく、一方600Åを超えるとコストが高くなり、実用上困難になるおそれがある。
この場合には、特にベース金属スパッタ層と銀スパッタ層との密着性が高い。
この場合には、密着性、耐食性、反射率等に優れている。
20Å未満では、銀スパッタ層の上記ベースコートへの密着性向上の効果が充分でなく、一方800Åを超えるとクラック発生のおそれがある。
また、ベース金属スパッタ層を複数層設ける場合には、上記ベースコートに接する部分は20〜500Åとし、銀スパッタ層と接する部分は500〜780Åと厚く形成することが好ましい。これにより、ベース金属スパッタ層と銀スパッタ層との密着性を一層高くすることができる。
この場合には、特に光反射性に優れた白色PETフィルムとすることができる。
本発明にかかる可視光線反射フィルムは、均一で高い光反射性を長期間維持することができるので、特に上記バックライト反射用として用いる場合に、その効果を発揮できる。
上記光学的ディスプレイとしては、携帯電話、ディジタルカメラ、パーソナルコンピュータ等におけるディスプレイ(表示部)がある。
本発明の実施例にかかる可視光線反射フィルムにつき図1を用いて説明する。
本例の可視光線反射フィルムは、基盤フィルム3上にベースコート12と銀スパッタ層13とトップコート14とを順次積層形成してなると共に、上記ベースコート12と銀スパッタ層13との間にはベース金属スパッタ層2を設けてなる。
また、上記基盤フィルム3は、ポリエチレンテレフタレート樹脂と白色顔料とを混合した白色PETフィルムを用いてなる。
まず、上記基盤フィルムとしての白色PETフィルムを準備し、その表面に上記ベースコートをロールコーター法により塗布し、硬化させて形成した。
この密着性は、碁盤目剥離テスト法により行なった。
その結果、本発明の実施例にかかる上記可視光線反射フィルムは、銀スパッタ層とベース金属スパッタ層との密着性は、20/100という優れた結果を得た。
一方、上記比較例の銀スパッタ層とベースコートとの密着性は0/100と低かった。
本例は、実施例1において、ベース金属スパッタ層として厚み800ÅのAl(アルミニウム)を設けたもので、その他は実施例1と同様である。
なお、ベース金属スパッタ層としてのAlをスパッタリングする条件としては、印加電圧450V、電流15Aとした。
また、銀スパッタ層とベース金属スパッタ層との上記密着性テストの結果は、20/100と高かった。
その他は、実施例1と同様である。
本例は、実施例1において、ベース金属スパッタ層として2層を形成したもので、ベースコートに対して厚み約300Åのステンレス鋼(SUS310)をスパッタリングし、次いでその上に厚み約800ÅのAlを形成した例である。
その他は、実施例1と同様である。
12 ベースコート
13 銀スパッタ層
2 ベース金属スパッタ層
3 基盤フィルム
Claims (5)
- 基盤フィルム上にベースコートと銀スパッタ層とトップコートとを順次積層形成してなる可視光線反射フィルムであって、
上記ベースコートと銀スパッタ層との間にはベース金属スパッタ層を設けてなり、
かつ上記基盤フィルムは、ポリエチレンテレフタレート樹脂と白色顔料とを混合した白色PETフィルムを用いてなることを特徴とする可視光線反射フィルム。 - 請求項1において、上記ベース金属スパッタ層は、アルミニウム、チタン、銅、亜鉛、スズ、ステンレス鋼のいずれか1種以上であることを特徴とする可視光線反射フィルム。
- 請求項1又は2において、上記ベース金属スパッタ層は複数層よりなることを特徴とする可視光線反射フィルム。
- 請求項1〜3のいずれか一項において、上記白色顔料はCaCO3、ZnO、TiO2のいずれか1種以上の粉末であることを特徴とする可視光線反射フィルム。
- 請求項1〜4のいずれか一項において、上記可視光線反射フィルムは、光学的ディスプレイにおけるバックライト反射用のフィルムであることを特徴とする可視光線反射フィルム。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008162122A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Murata Kinpaku:Kk | 金属蒸着加工物およびその製造方法 |
CN103552328A (zh) * | 2013-10-10 | 2014-02-05 | 宁波东旭成新材料科技有限公司 | 一种低翘曲耐紫外线反射膜及其制备方法 |
JP2015525146A (ja) * | 2012-05-30 | 2015-09-03 | エリコン・サーフェス・ソリューションズ・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ | ラッカー被膜に埋め込まれたpvd被膜 |
KR101656461B1 (ko) * | 2015-07-02 | 2016-09-09 | 성지산업 주식회사 | 습식 코팅 방식으로 형성된 은 나노막에 기초한 반사필름과 그의 제조방법 |
KR20190002103A (ko) * | 2017-06-29 | 2019-01-08 | 이상봉 | 백라이트 유닛용 반사시트 및 이를 포함하는 백라이트 유닛 |
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2004
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