JP2005336150A - Diimmonium compound and use of the same - Google Patents

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JP2005336150A
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Masaaki Ikeda
征明 池田
Takaaki Kurata
高明 倉田
Toshitaka Toriniwa
俊孝 鳥庭
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Nippon Kayaku Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a near infrared light absorbing compound having excellent stability, especially, having heat resistance, light resistance, and resistance to moist heat, without containing antimony, nor arsenic, to provide an infrared light absorbing filter manufactured by using the near infrared light absorbing compound and having excellent resistance, such as the light resistance, and to provide an optical memory medium. <P>SOLUTION: A diimmonium compound is expressed formula (1) (R<SB>1</SB>to R<SB>8</SB>are each H or an aliphatic hydrocarbon residue which may be substituted; R<SB>9</SB>and R<SB>10</SB>are each an aliphatic hydrocarbon residue which may have a halogen; and ring A and ring B may be further substituted). The near infrared light absorbing filter is obtained by using the compound. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は赤外領域に吸収を有するジイモニウム化合物及びその用途に関する。特に劇物に該当せず、耐熱性、耐光性及び溶解度等に優れ、その用途が拡大されたジイモニウム化合物及びそれを用いた赤外線吸収フィルター、光記憶媒体及びその樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a diimonium compound having absorption in the infrared region and its use. In particular, the present invention relates to a diimonium compound that is not a deleterious substance, has excellent heat resistance, light resistance, solubility, and the like, and whose applications are expanded, an infrared absorption filter using the compound, an optical storage medium, and a resin composition thereof.

従来、近赤外線吸収剤としてのジイモニウム化合物は、広く知られており(例えば特許文献1〜3参照)、近赤外線吸収フィルター、断熱フィルム及びサングラス等に広く利用されている。しかしながら、これらの化合物の中で、対イオンが六フッ化アンチモン酸イオン、六フッ化砒素イオンなどであるものが耐熱性に優れ、中でも六フッ化アンチモン酸イオンの化合物が主に使用されていた。しかしアンチモンを含む化合物は、劇物に該当する為、近年、重金属等の使用が規制を受ける産業分野、特に電気材料分野ではこれらの金属を含まない化合物が望まれていた。これを解決する手段として、過塩素酸イオン、六フッ化リン酸イオン、ホウフッ化イオン等を対イオンとして用いる方法があるが、耐熱性や耐湿熱性を考えると、これらの対イオンでは不十分である。更にナフタレンジスルホン酸などの有機対イオンを使用した化合物も提案されているが(例えば特許文献2参照)、モル吸光係数が低く、化合物自体が緑味を帯びている為、実際上使用することができなかった。またトリフルオロメタンスルホン酸イオンなどを用いたものも知られている(例えば特許文献1参照)が、それらでは未だ十分な耐熱性や耐湿熱性を有しているとはいえず(例えば特許文献4参照)、さらに優れた材料が求められていた。   Conventionally, diimonium compounds as near-infrared absorbers are widely known (see, for example, Patent Documents 1 to 3), and are widely used in near-infrared absorption filters, heat insulating films, sunglasses, and the like. However, among these compounds, those whose counter ions are hexafluoroantimonate ions, arsenic hexafluoride ions, etc. have excellent heat resistance, and among them, compounds of hexafluoroantimonate ions were mainly used. . However, since compounds containing antimony fall under the category of deleterious substances, compounds that do not contain these metals have been desired in recent years in the industrial field where the use of heavy metals and the like is restricted, particularly in the field of electrical materials. As a means to solve this, there is a method using perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, borofluoride ion, etc. as a counter ion. However, in view of heat resistance and moist heat resistance, these counter ions are not sufficient. is there. Further, compounds using an organic counter ion such as naphthalenedisulfonic acid have been proposed (see, for example, Patent Document 2), but since the molar extinction coefficient is low and the compound itself is greenish, it can be used in practice. could not. Further, those using trifluoromethanesulfonic acid ions or the like are also known (see, for example, Patent Document 1), but they still cannot be said to have sufficient heat resistance and heat-and-moisture resistance (see, for example, Patent Document 4). ), And better materials were sought.

特公平7−51555号公報(第2頁)Japanese Patent Publication No. 7-51555 (2nd page) 特開平10−316633号公報(第5頁)JP 10-316633 A (page 5) 特公昭43−25335号公報(第7−14頁)Japanese Patent Publication No. 43-25335 (pages 7-14) 特願2003−017537号公報Japanese Patent Application No. 2003-017537

本発明はこの様な状況に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、アンチモンを含有せず、さらに優れた安定性、特に耐熱性、耐光性、耐湿熱性を有する近赤外線吸収化合物、さらにそのような化合物を用いた、溶解度等に優れ、その用途が拡大された赤外線吸収フィルター(特にプラズマディスプレーパネル用)を提供すること、更には耐候性等の耐性に優れた光記憶媒体及び樹脂組成物を提供することにある。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to contain a near-infrared absorbing compound that does not contain antimony and has excellent stability, in particular, heat resistance, light resistance, and heat and humidity resistance, Furthermore, it is possible to provide an infrared absorption filter (especially for a plasma display panel) having excellent solubility and the use of such a compound, and an optical storage medium and a resin excellent in resistance such as weather resistance. It is to provide a composition.

本発明者らは前記したような課題を解決すべく鋭意努力した結果、特定の構造を有するジイモニウム化合物が前記諸課題を解決するものであることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち本発明は、
(1)下記式(1)で示されるジイモニウム化合物
As a result of diligent efforts to solve the above-described problems, the present inventors have found that a diimonium compound having a specific structure can solve the above-mentioned problems, and completed the present invention.
That is, the present invention
(1) A diimonium compound represented by the following formula (1)

Figure 2005336150
Figure 2005336150

(式(1)中、R1〜R8はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有しても良い脂肪族炭化水素残基を、R9及びR10はそれぞれ独立にハロゲン原子を有しても良い脂肪族炭化水素をそれぞれ表す。また環A及びBはさらに置換基を有してもよい。)、
(2)式(1)のR9及びR10がフッ素原子を有する脂肪族炭化水素残基である(1)に記載のジイモニウム化合物、
(3)式(1)のR9及びR10がトリフルオロメチル基である(2)に記載のジイモニウム化合物、
(4)式(1)のR1乃至R8のうち少なくとも1つが直鎖又は分鎖の(C1−C6)アルキル基である(1)乃至(3)のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物、
(5)式(1)のR1乃至R8のうち少なくとも1つが直鎖(C1−C3)アルキル基である(4)に記載のジイモニウム化合物、
(6)式(1)のR1乃至R8のうち少なくとも1つが分鎖のアルキル基である(4)に記載のジイモニウム化合物、
(7)式(1)のR1乃至R8がすべて末端で分鎖しているアルキル基である(6)に記載のジイモニウム化合物、
(8)式(1)のR1乃至R8がiso−ブチル基又はiso−アミル基である(7)に記載のジイモニウム化合物、
(9)式(1)のR1乃至R8の置換基を有しても良い脂肪族炭化水素残基の置換基がハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボンアミド基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アリール基又はアルコキシル基である(1)乃至(3)のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物、
(10)式(1)のR1乃至R8がすべてシアノ基で置換されたアルキル基である(9)に記載のジイモニウム化合物、
(11)R1乃至R8のうち少なくとも1個はシアノ基で置換されたアルキル基で、同じく少なくとも1個はアルキル基である(9)に記載のジイモニウム化合物、
(12)(1)乃至(11)のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物及び樹脂を含有することを特徴とする組成物、
(13)(1)乃至(12)のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物を含有する層を有する近赤外線吸収フィルター、
(14)(13)に記載の近赤外線吸収フィルター備えたプラズマディスプレー、
(15)(1)乃至(11)のいずれか一項に記載ジイモニウムの化合物を記録層に含有することを特徴とする光情報記録媒体、
に関する。
(In Formula (1), R 1 to R 8 each independently represents an aliphatic hydrocarbon residue which may have a hydrogen atom or a substituent, and R 9 and R 10 each independently have a halogen atom. Each represents a good aliphatic hydrocarbon, and rings A and B may further have a substituent).
(2) The diimonium compound according to (1), wherein R 9 and R 10 in the formula (1) are aliphatic hydrocarbon residues having a fluorine atom,
(3) The diimonium compound according to (2), wherein R 9 and R 10 in formula (1) are trifluoromethyl groups,
(4) The diimonium compound according to any one of (1) to (3), wherein at least one of R 1 to R 8 in Formula (1) is a linear or branched (C1-C6) alkyl group. ,
(5) The diimonium compound according to (4), wherein at least one of R 1 to R 8 in formula (1) is a linear (C1-C3) alkyl group,
(6) The diimonium compound according to (4), wherein at least one of R 1 to R 8 in formula (1) is a branched alkyl group,
(7) The diimmonium compound according to (6), wherein R 1 to R 8 in formula (1) are all alkyl groups branched at the ends,
(8) The diimonium compound according to (7), wherein R 1 to R 8 in formula (1) are an iso-butyl group or an iso-amyl group,
(9) The substituent of the aliphatic hydrocarbon residue which may have a substituent of R 1 to R 8 in the formula (1) is a halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxyl group, carboxyl group, carbonamide group , A diimonium compound according to any one of (1) to (3), which is an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an aryl group or an alkoxyl group,
(10) The diimonium compound according to (9), wherein R 1 to R 8 in formula (1) are all alkyl groups substituted with a cyano group,
(11) The diimonium compound according to (9), wherein at least one of R 1 to R 8 is an alkyl group substituted with a cyano group, and at least one is an alkyl group,
(12) A composition comprising the diimonium compound according to any one of (1) to (11) and a resin,
(13) A near-infrared absorption filter having a layer containing the diimonium compound according to any one of (1) to (12),
(14) A plasma display comprising the near-infrared absorbing filter according to (13),
(15) An optical information recording medium comprising the diimonium compound according to any one of (1) to (11) in a recording layer,
About.

本発明の近赤外線吸収性のジイミニウム化合物は、アンチモン及び砒素などを含まず、劇物に該当せず、モル吸光係数が9万以上と高く、耐熱性、耐光性及び溶解度等に優れた化合物である。また従来の六フッ化リン酸イオン、過塩素酸イオン、ホウフッ化イオンを有するジイモニウム塩に比べ、特に耐熱性、耐湿熱性に優れている。本発明のジイミニウム化合物を用いた近赤外線吸収フィルターは、アンチモン等を含有せず、耐熱性に極めて優れた近赤外線吸収フィルターであり、熱による分解などの反応を起こしにくく、可視部の着色がほとんど認められない。この様な特徴を有していることから、本発明のジイミニウム化合物は、近赤外線吸収フィルターや、例えば断熱フィルム及びサングラスのような近赤外吸収フィルムに好適に用いることができ、特に、プラズマディスプレー用の近赤外線吸収フィルターに好適である。
また本発明の光情報記録媒体は、従来のジイモニウム化合物を含有するる光情報記録媒体に比べ、耐光性を大幅に向上することができる。またこれらのジイモニウム化合物は、光情報記録媒体を調製する上での溶解度も十分であり加工性にも優れている。また、例えば光情報記録媒体の記録層に当たる有機色素薄膜に、この化合物を含有させた場合、繰り返し再生における耐久性、耐光安定性を著しく向上させた光情報記録媒体を提供することができる。
The near-infrared absorbing diiminium compound of the present invention does not contain antimony or arsenic, does not correspond to a deleterious substance, has a high molar extinction coefficient of 90,000 or more, and is excellent in heat resistance, light resistance, solubility and the like. is there. Moreover, it is particularly excellent in heat resistance and moist heat resistance as compared with conventional diimonium salts having hexafluorophosphate ions, perchlorate ions, and borofluoride ions. The near-infrared absorption filter using the diiminium compound of the present invention is a near-infrared absorption filter that does not contain antimony or the like and is extremely excellent in heat resistance, hardly undergoes a reaction such as decomposition due to heat, and is hardly colored in the visible region. unacceptable. Because of having such a feature, the diiminium compound of the present invention can be suitably used for a near-infrared absorption filter, a near-infrared absorption film such as a heat insulating film and sunglasses, in particular, a plasma display. It is suitable for a near-infrared absorption filter.
Further, the optical information recording medium of the present invention can greatly improve the light resistance as compared with the conventional optical information recording medium containing a diimonium compound. In addition, these diimonium compounds have sufficient solubility in preparing an optical information recording medium and are excellent in processability. Further, for example, when this compound is contained in an organic dye thin film corresponding to the recording layer of the optical information recording medium, an optical information recording medium having remarkably improved durability and light resistance stability in repeated reproduction can be provided.

本発明のジイモニウム化合物はジイモニウムカチオンと、対イオンとしてジ(アルキルスルホニル)イミドアニオンの塩を2個有するものであり式(1)で表される。   The diimonium compound of the present invention has a diimonium cation and two salts of a di (alkylsulfonyl) imide anion as a counter ion, and is represented by the formula (1).

Figure 2005336150
Figure 2005336150

式(1)においてR9及びR10は互いに独立にハロゲン原子を有しても良い脂肪族炭化水素を表す。脂肪族炭化水素としては飽和及び不飽和の直鎖、分鎖及び環状のアルキル基が挙げられ、炭素数は1乃至36が好ましく、さらに好ましくは置換基を有しても良い飽和の直鎖アルキル基で、炭素数は1乃至20であるものが挙げられ、炭素数1〜4が最も好ましい。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子が好ましく、さらにはフッ素、塩素、臭素原子が好ましく、最もフッ素原子が好ましい。具体的な例を挙げるとR9とR10が互いに独立にメチル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、モノフルオロメチル基、ジクロロメチル基、モノクロロメチル基、ジブロモメチル基、ジフルオロクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、トリフルオロクロロエチル基、ジフルオロエチル基、モノフルオロエチル基、トリフルオロヨードエチル基、プロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘキサフルオロプロピル基、ペンタフルオロプロピル基、テトラフルオロプロピル基、トリフルオロプロピル基、ジフルオロプロピル基、モノフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロオクチルエチル基などの飽和の直鎖アルキル基、アリル基、テトラフルオロアリル基、トリフルオロエチレン基、ペルフルオロブチルエチレン基などの不飽和のアルキル基、イソプロピル基、ペンタフルオロイソプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、ペルフルオロ−3−メチルブチル基、ペルフルオロ−3−メチルヘキシル基などの分鎖のアルキル基、シクロヘキシル基などの環状アルキル基などが挙げられ、R9とR10が同じであるものが好ましい。さらにR9とR10が結合し、環状のアルキル基を形成することも出来る。 In the formula (1), R 9 and R 10 independently represent an aliphatic hydrocarbon which may have a halogen atom. Examples of the aliphatic hydrocarbon include saturated and unsaturated linear, branched and cyclic alkyl groups, preferably having 1 to 36 carbon atoms, more preferably saturated linear alkyl which may have a substituent. Group having 1 to 20 carbon atoms, most preferably 1 to 4 carbon atoms. The halogen atom is preferably a fluorine, chlorine, bromine or iodine atom, more preferably a fluorine, chlorine or bromine atom, and most preferably a fluorine atom. As specific examples, R 9 and R 10 are each independently a methyl group, a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a monofluoromethyl group, a dichloromethyl group, a monochloromethyl group, a dibromomethyl group, a difluorochloromethyl group, Ethyl group, pentafluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, trifluoroethyl group, trifluorochloroethyl group, difluoroethyl group, monofluoroethyl group, trifluoroiodoethyl group, propyl group, heptafluoropropyl group, hexafluoropropyl Group, pentafluoropropyl group, tetrafluoropropyl group, trifluoropropyl group, difluoropropyl group, monofluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, perfluorooctylethyl group, etc. Saturated linear alkyl group, allyl group, tetrafluoroallyl group, trifluoroethylene group, perfluorobutylethylene group and other unsaturated alkyl groups, isopropyl group, pentafluoroisopropyl group, heptafluoroisopropyl group, perfluoro-3-methylbutyl Groups, branched alkyl groups such as perfluoro-3-methylhexyl group, cyclic alkyl groups such as cyclohexyl group, and the like, and those in which R 9 and R 10 are the same are preferred. Furthermore, R 9 and R 10 can be bonded to form a cyclic alkyl group.

9とR10が共にフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基であるものが好ましく、その具体例としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、モノフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、ジフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘキサフルオロプロピル基、ペンタフルオロプロピル基、テトラフルオロプロピル基、トリフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基などが挙げられ、好ましくはトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、テトラフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基であり、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。上記の各基において、特に断りのない限りアルキル部分はノルマルである。 R 9 and R 10 are both preferably aliphatic hydrocarbon groups having a fluorine atom. Specific examples thereof include trifluoromethyl group, difluoromethyl group, monofluoromethyl group, pentafluoroethyl group, tetrafluoroethyl group. Group, trifluoroethyl group, difluoroethyl group, heptafluoropropyl group, hexafluoropropyl group, pentafluoropropyl group, tetrafluoropropyl group, trifluoropropyl group, perfluorobutyl group, etc., preferably trifluoromethyl group Group, difluoromethyl group, pentafluoroethyl group, trifluoroethyl group, heptafluoropropyl group, tetrafluoropropyl group and perfluorobutyl group, more preferably trifluoromethyl group. In each of the above groups, the alkyl moiety is normal unless otherwise specified.

式(1)において環A及びBにはそれぞれ、1,4−位以外に1〜4個の置換基を有していても、有していなくても良い。結合しうる置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒドロキシル基、低級アルコキシ基、シアノ基、低級アルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等のC1〜C5のアルコキシ基が挙げられ、低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基等のC1〜C5のアルキル基が挙げられる。A及びBが共に置換基を有していないか、又はハロゲン原子(特に塩素原子、臭素原子、フッ素原子)、メチル基若しくはシアノ基で置換されているものが好ましい。
尚、Bに置換基を有する場合は、4つのB環がすべて同じであるもの、更に置換基の位置はフェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対してm−位であるものが好ましい。さらに環A及びBには1,4−位以外に置換基を有していていないものが好ましい。
In formula (1), rings A and B may or may not have 1 to 4 substituents other than the 1,4-position. Examples of the substituent that can be bonded include a halogen atom, a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a cyano group, and a lower alkyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Examples of the alkoxy group include C1-C5 alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, and examples of the lower alkyl group include C1-C5 alkyl groups such as methyl group and ethyl group. It is preferable that both A and B have no substituent, or are substituted with a halogen atom (especially chlorine atom, bromine atom, fluorine atom), methyl group or cyano group.
When B has a substituent, it is preferable that all four B rings are the same, and that the position of the substituent is m-position with respect to the nitrogen atom bonded to the phenylenediamine skeleton. Further, rings A and B preferably have no substituent other than the 1,4-position.

1乃至R8は互いに独立に水素原子又は置換基を有しても良い脂肪族炭化水素残基をあらわす。脂肪族炭化水素残基とは飽和及び不飽和の直鎖、分鎖及び環状の脂肪族炭化水素から水素原子1個を除いた基を意味する。炭素数としては1〜36、好ましくは炭素数が1〜20であるものが挙げられる。 R 1 to R 8 independently represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon residue that may have a substituent. The aliphatic hydrocarbon residue means a group obtained by removing one hydrogen atom from a saturated and unsaturated linear, branched and cyclic aliphatic hydrocarbon. Examples of the carbon number include those having 1 to 36, preferably 1 to 20 carbon atoms.

置換基を有しない飽和脂肪族炭化水素残基又は不飽和の脂肪族炭化水素残基の具体例としてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、s−ブチル基、ter−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、ter−ペンチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ペンチニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘキサジエニル基、イソプロペニル基、イソへキセニル基、シクロへキセニル基、シクロペンタジエニル基、エチニル基、プロピニル基、へキシニル基、イソへキシニル基、シクロへキシニル基等が挙げられる。これらの中で、好ましいものとしては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、ter−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、ter−ペンチル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ペンチニル基などのC1−C5の直鎖、分鎖の飽和脂肪族炭化水素残基又は不飽和の脂肪族炭化水素残基等が挙げられる。   Specific examples of the saturated aliphatic hydrocarbon residue or unsaturated aliphatic hydrocarbon residue having no substituent include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, an iso- Butyl, s-butyl, ter-butyl, n-pentyl, iso-pentyl, ter-pentyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl, isopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, vinyl Group, allyl group, propenyl group, pentynyl group, butenyl group, hexenyl group, hexadienyl group, isopropenyl group, isohexenyl group, cyclohexenyl group, cyclopentadienyl group, ethynyl group, propynyl group, hexynyl group, An isohexynyl group, a cyclohexynyl group, etc. are mentioned. Among these, preferred are methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, ter-butyl group, n-pentyl group. , Iso-pentyl group, ter-pentyl group, vinyl group, allyl group, propenyl group, pentynyl group, etc., C1-C5 straight chain, branched chain saturated aliphatic hydrocarbon residue or unsaturated aliphatic hydrocarbon residue Groups and the like.

本発明においては、R1乃至R8のうち少なくとも1つが直鎖又は分鎖の(C1−C6)アルキル基であるもの、さらにはR1乃至R8のうち少なくとも1つが直鎖(C1−C3)アルキル基であるものが好ましく、又、R1乃至R8のうち少なくとも1つが分鎖のアルキル基であるもの、とりわけR1乃至R8がすべて末端で分鎖しているアルキル基であるものが好ましい。R1乃至R8がすべて末端で分鎖しているアルキル基であるものとしては、R1乃至R8がすべてiso−ブチル基又はiso−アミル基であるものが特に好ましい。 In the present invention, at least one of R 1 to R 8 is a linear or branched (C1-C6) alkyl group, and at least one of R 1 to R 8 is a linear (C1-C3). ) preferably has an alkyl group, also as an alkyl group of at least one branched out of R 1 to R 8, especially those wherein the alkyl groups R 1 to R 8 are branched at all ends Is preferred. As R 1 to R 8 , all of which are alkyl groups that are branched at the terminal, it is particularly preferable that R 1 to R 8 are all an iso-butyl group or an iso-amyl group.

置換基を有した脂肪族炭化水素残基における置換基の例としては、例えばハロゲン原子(例、F、Cl、Br)、ヒドロキシ基、アルコキシ基(例、メトキシ基、エトキシ基、イソブトキシ基など)、アルコキシアルコキシ基(例、メトキシエトキシ基など)、アリール基(例、フェニル基、ナフチル基などでこのアリール基はさらに置換基を有しても良い)、アリールオキシ基(例、フェノキシ基など)、アシルオキシ基(例、アセチルオキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキシリルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などこのアリールオキシ基はさらに置換基を有しても良い)、アミノ基、アルキル置換アミノ基(例、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基など)、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルボンアミド基、アルコキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など)、アシル基、アミド基(例、アセトアミド基など)、スルホンアミド基(例、メタンスルホンアミド基など)、スルホ基が挙げられる。これらの置換基のうち、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボンアミド基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アリール基又はアルコキシル基等が好ましい。   Examples of the substituent in the aliphatic hydrocarbon residue having a substituent include, for example, a halogen atom (eg, F, Cl, Br), a hydroxy group, an alkoxy group (eg, a methoxy group, an ethoxy group, an isobutoxy group, etc.) , Alkoxyalkoxy groups (eg, methoxyethoxy group, etc.), aryl groups (eg, phenyl group, naphthyl group, etc., this aryl group may further have a substituent), aryloxy groups (eg, phenoxy group, etc.) , Acyloxy groups (eg, acetyloxy group, butyryloxy group, hexyloxy group, benzoyloxy group, etc., this aryloxy group may further have a substituent), amino groups, alkyl-substituted amino groups (eg, methylamino) Group, dimethylamino group, etc.), cyano group, nitro group, carboxyl group, carbonamido group, alkoxycarbonyl (Eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), an acyl group, an amido group (e.g., such as acetamido group), a sulfonamido group (e.g., a methanesulfonamido group), a sulfo group. Of these substituents, a halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxyl group, carboxyl group, carbonamido group, alkoxycarbonyl group, acyl group, aryl group or alkoxyl group are preferred.

これら基はそれぞれ独立して存在しうるものであり、例えば、1個のアミノ基に無置換の直鎖アルキル基とシアノ置換アルキル基が置換したもの、無置換の分鎖アルキル基とシアノ置換アルキル基が置換したもの、無置換の直鎖アルキル基と無置換の分鎖アルキル基が置換したものなどであってもよい。   These groups can exist independently, for example, one amino group substituted with an unsubstituted linear alkyl group and a cyano substituted alkyl group, an unsubstituted branched alkyl group and a cyano substituted alkyl. A group substituted, an unsubstituted linear alkyl group and an unsubstituted branched alkyl group may be substituted.

置換基を有した脂肪族炭化水素残基の具体例としては、シアノメチル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2−シアノプロピル基、4−シアノブチル基、3−シアノブチル基、2−シアノブチル基、5−シアノペンチル基、4−シアノペンチル基、3−シアノペンチル基、2−シアノペンチル基、3,4−ジシアノブチル基等のシアノ置換(C1〜C6)アルキル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、4−メトキシブチル基、4−エトキシブチル基、5−エトキシペンチル基、5−メトキシペンチル基等のアルコキシ置換(C1〜C6)アルキル基、トリフルオロメチル基、モノフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロブチルエチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘキシルエチル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロオクチルエチル基などのフッ化(C1〜C8)アルキル基等が挙げられる。   Specific examples of the aliphatic hydrocarbon residue having a substituent include cyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, 2-cyanopropyl group, 4-cyanobutyl group, 3-cyanobutyl group, 2-cyanobutyl group. Group, 5-cyanopentyl group, 4-cyanopentyl group, 3-cyanopentyl group, 2-cyanopentyl group, cyano-substituted (C1-C6) alkyl group such as 3,4-dicyanobutyl group, methoxyethyl group, ethoxy Alkoxy-substituted (C1-C6) alkyl groups such as ethyl group, 3-methoxypropyl group, 3-ethoxypropyl group, 4-methoxybutyl group, 4-ethoxybutyl group, 5-ethoxypentyl group, 5-methoxypentyl group, Trifluoromethyl group, monofluoromethyl group, pentafluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, trifluoroether Group, heptafluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluorobutyl ethyl group, perfluorohexyl group, perfluorohexyl ethyl group, perfluorooctyl group, fluoride, such as perfluorooctyl ethyl (C1 to C8) alkyl group, and the like.

本発明において、R1〜R8がすべてシアノ基で置換されたアルキル基であるジイモニウム化合物、あるいはR1乃至R8のうち少なくとも1個はシアノ基で置換されたアルキル基で、同じく少なくとも1個はアルキル基であるジイモニウム化合物が特に好ましい。 In the present invention, all of R 1 to R 8 are diimonium compounds each having an alkyl group substituted with a cyano group, or at least one of R 1 to R 8 is an alkyl group substituted with a cyano group, and at least one Is particularly preferably a diimonium compound which is an alkyl group.

本発明の式(1)で表されるジイモニウム化合物は、例えば特許文献3に記載された方法に準じた方法で得ることができる。即ち、p−フェニレンジアミンと1−クロロ−4−ニトロベンゼンをウルマン反応させて得られた生成物を還元することにより得られる下記式(4)   The diimonium compound represented by the formula (1) of the present invention can be obtained, for example, by a method according to the method described in Patent Document 3. That is, the following formula (4) obtained by reducing the product obtained by the Ullmann reaction of p-phenylenediamine and 1-chloro-4-nitrobenzene.

Figure 2005336150
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(式(4)中、環A及びBは前記で定義された通りである。)
で表される化合物を有機溶媒中、好ましくはDMF(ジメチルホルムアマイド)、DMI
(ジメチルイミダゾリノン)又はNMP(N−メチルピロリドン)等の水溶性極性溶媒中、30〜160℃、好ましくは50〜140℃で、所望のR1〜R8に対応するハロゲン化化合物(例えば、R1〜R8がn−C49のときはn−C49Br)と反応させて、全ての置換基(R1〜R8)が同一である化合物(以下、全置換体と記す)(式(2))を得ることができる。また、R1乃至R8のすべてが同じ置換基である化合物以外の下記式(2)を合成する場合(例えば下記化合物例No.34の化合物の前駆体)には、先に所定のモル数(上記式(4)1モル当たり4モル)の試薬(n−C49Br)と反応させてR1〜R8のうち4つにn−ブチル基を導入した後、残りの置換基(iso−ブチル基)を導入するのに必要なモル数(上記式(4)のアミン体1モル当たり4モル)の対応する試薬(iso−C49Br)と反応させることによっても式(2)の化合物は合成できる。例示したNo.34の化合物の製造方法と同様の方法により、全置換体以外の任意の化合物を得ることができる。
(In formula (4), rings A and B are as defined above.)
In an organic solvent, preferably DMF (dimethylformamide), DMI
A halogenated compound corresponding to the desired R 1 to R 8 in a water-soluble polar solvent such as (dimethylimidazolinone) or NMP (N-methylpyrrolidone) at 30 to 160 ° C., preferably 50 to 140 ° C. (for example, When R 1 to R 8 are nC 4 H 9 , they are reacted with n-C 4 H 9 Br), and all the substituents (R 1 to R 8 ) are the same (hereinafter referred to as all substituents). (Formula (2)) can be obtained. In addition, when synthesizing the following formula (2) other than a compound in which all of R 1 to R 8 are the same substituents (for example, the precursor of the compound of the following compound example No. 34), a predetermined number of moles is first obtained. After reacting with the reagent (n-C 4 H 9 Br) (4 moles per mole of the above formula (4)) to introduce n-butyl groups into four of R 1 to R 8 , the remaining substituents Also by reacting with the corresponding reagent (iso-C 4 H 9 Br) in the number of moles required to introduce (iso-butyl group) (4 moles per mole of amine body of formula (4) above) The compound (2) can be synthesized. Arbitrary compounds other than all substitution products can be obtained by the same method as the production method of the exemplified compound No. 34.

Figure 2005336150
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上記で合成した化合物を、有機溶媒中、好ましくはDMF、DMI、NMP等の水溶性極性溶媒中、0〜100℃、好ましくは5〜70℃で下記式(3)に対応する酸化剤(例えば銀塩)を2当量添加して酸化反応を行う。また上記で合成した化合物を硝酸銀、過塩素酸銀、塩化第二銅等の酸化剤で酸化した後、その反応液に、式(3)のアニオンの酸もしくは塩を添加して塩交換を行う方法によっても式(1)で表されるジイモニウム化合物を合成することが出来る。   The compound synthesized above is oxidized in an organic solvent, preferably in a water-soluble polar solvent such as DMF, DMI, NMP, etc. at 0 to 100 ° C., preferably 5 to 70 ° C. 2 equivalents of silver salt) is added to carry out the oxidation reaction. Further, the compound synthesized above is oxidized with an oxidizing agent such as silver nitrate, silver perchlorate, or cupric chloride, and then the anion acid or salt of formula (3) is added to the reaction solution to perform salt exchange. The diimonium compound represented by the formula (1) can also be synthesized by the method.

Figure 2005336150
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次に、式(1)で示される本発明のジイモニウム化合物の具体例を表1(1)から表1(4)に示す。表中、R1〜R8に関し、i−は「iso−」のように分鎖の状態を表し、Phはフェニル基を表す。A及びBに関し、1,4−位以外が無置換の場合は「4H」と表記し、置換位置はフェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対しての置換位置である。また、R1〜R8に関し、R1〜R8が全てn−ブチル基である場合には「4(n−C49,n−C49)」と略記し、また例えば、1つがiso−ペンチル基で残りがn−ブチル基である場合、即ち、4組の置換基の組み合わせの一つにiso−ペンチル基が含まれ、残りの3組が全てn−ブチル基である場合には「3(n−C49,n−C49)(n−C49,i−C511」と略記する。また、窒素原子と隣接する2つのRが結合しピペリジン環を形成したものを「(ピペリジン環)」と示す。更に、cyはシクロを意味する。又、R9及びR10で、炭素数3以上のアルキル部分はいずれもノルマルである。 Next, specific examples of the diimonium compound of the present invention represented by the formula (1) are shown in Tables 1 (1) to 1 (4). In the table, regarding R 1 to R 8 , i- represents a branched state such as “iso-”, and Ph represents a phenyl group. As for A and B, when there is no substitution at positions other than the 1,4-position, it is expressed as “4H”, and the substitution position is the substitution position for the nitrogen atom bonded to the phenylenediamine skeleton. Also relates to R 1 to R 8, when R 1 to R 8 are all n- butyl is abbreviated as "4 (n-C 4 H 9 , n-C 4 H 9) ", also for example, When one is an iso-pentyl group and the rest is an n-butyl group, that is, one of four combinations of substituents includes an iso-pentyl group, and the remaining three sets are all n-butyl groups In this case, it is abbreviated as “3 (n-C 4 H 9 , n-C 4 H 9 ) (n-C 4 H 9 , i-C 5 H 11 ). A group formed by bonding to form a piperidine ring is shown as “(piperidine ring).” Furthermore, cy means cyclo.Also, in R 9 and R 10 , all of the alkyl moieties having 3 or more carbon atoms are normal.

Figure 2005336150
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本発明の組成物は、樹脂及び式(1)で示される本発明のジイモニウム化合物を含有するものである。
用いうる樹脂の具体例として、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等のビニル化合物、及びそれらのビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデン、フッ化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、フッ化ビニリデン/テトラフルオロエチレン共重合体、シアン化ビニリデン/酢酸ビニル共重合体、等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリトリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン等のフッ素を含む樹脂、ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリペプチド、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等が挙げられる。
The composition of this invention contains resin and the diimonium compound of this invention shown by Formula (1).
Specific examples of resins that can be used include polyethylene compounds such as polyethylene, polystyrene, polyacrylic acid, polyacrylic acid esters, polyvinyl acetate, polyacrylonitrile, polyvinyl chloride, and polyvinyl fluoride, and addition polymers of these vinyl compounds. Polymethacrylic acid, polymethacrylic acid ester, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, poly (vinylidene fluoride), vinylidene fluoride / trifluoroethylene copolymer, vinylidene fluoride / tetrafluoroethylene copolymer, vinylidene cyanide / vinyl acetate Polymers such as polymers, copolymers of vinyl compounds or fluorine compounds, resins containing fluorine such as polytrifluoroethylene, polytetrafluoroethylene, polyhexafluoropropylene, polyamides such as nylon 6 and nylon 66, De, polyurethanes, polypeptides, polyesters such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyether polyoxymethylene or the like, epoxy resins, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, and the like.

本発明の組成物を作成する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば次のような、それ自体公知の方法が利用できる。
(1)樹脂に本発明のジイモニウム化合物を混練し、加熱成形して樹脂板又はフィルムを作製する方法、
(2)本発明のジイモニウム化合物と樹脂モノマー又は樹脂モノマーの予備重合体を重合触媒の存在下にキャスト重合し、樹脂板又はフィルムを作製する方法、
(3)本発明の組成物を含有する塗料を作製し、透明樹脂板、透明フィルム、又は透明ガラス板にコーティングする方法、
(4)本発明のジイモニウム化合物及び樹脂(接着剤)含有させた組成物を用いて、合わせ樹脂板、合わせ樹脂フィルム、又は合わせガラス板を作製する方法、
等である。
The method for producing the composition of the present invention is not particularly limited, and for example, the following methods known per se can be used.
(1) A method of preparing a resin plate or film by kneading the diimonium compound of the present invention into a resin and thermoforming it,
(2) A method of producing a resin plate or film by cast polymerization of the diimonium compound of the present invention and a resin monomer or a prepolymer of a resin monomer in the presence of a polymerization catalyst,
(3) A method of preparing a coating material containing the composition of the present invention and coating it on a transparent resin plate, a transparent film, or a transparent glass plate,
(4) A method for producing a laminated resin plate, a laminated resin film, or a laminated glass plate using the composition containing the diimonium compound of the present invention and a resin (adhesive),
Etc.

(1)の作製方法としては、用いる樹脂によって加工温度、フィルム化(樹脂板化)条件等が多少異なるが、通常、本発明のジイモニウム化合物を基材樹脂の粉体又はペレットに添加し、150〜350℃に加熱、溶解させた後、成形して樹脂板を作製する方法、あるいは押し出し機によりフィルム化(樹脂板化)する方法等が挙げられる。本発明のジイモニウム化合物の添加量は、作製する樹脂板又はフィルムの厚み、吸収強度、可視光透過率等によって異なるが、通常、基材樹脂の重量に対して0.01〜30重量%、好ましくは0.03〜15重量%使用される。   As the production method of (1), the processing temperature, filming (resin plate) conditions, etc. are slightly different depending on the resin to be used. Usually, the diimonium compound of the present invention is added to the base resin powder or pellet, and 150 Examples include a method of heating and dissolving at ˜350 ° C. and then molding to produce a resin plate, or a method of forming a film (resin plate) with an extruder. The addition amount of the diimonium compound of the present invention varies depending on the thickness, absorption strength, visible light transmittance, etc. of the resin plate or film to be produced, but is usually 0.01 to 30% by weight, preferably based on the weight of the base resin. Is used in an amount of 0.03 to 15% by weight.

(2)の方法では、上記の化合物と樹脂モノマー又は樹脂モノマーの予備重合体を重合触媒の存在下に型内に注入し、反応させて硬化させるか、又は金型に流し込んで型内で硬い製品となるまで固化させて成形する。多くの樹脂がこの過程で成形可能であり、その様な方法を採用しうる樹脂の具体例としては、アクリル樹脂、ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)樹脂、エポキシ樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリスチレン樹脂、シリコン樹脂、等が挙げられる。その中でも、硬度、耐熱性、耐薬品性に優れたアクリルシートが得られるメタクリル酸メチルの塊状重合によるキャスティング法が好ましい。   In the method (2), the above compound and a resin monomer or a prepolymer of a resin monomer are injected into a mold in the presence of a polymerization catalyst and reacted to be cured, or poured into a mold and hardened in the mold. Solidify until a product is formed. Many resins can be molded in this process, and specific examples of resins that can employ such a method include acrylic resin, diethylene glycol bis (allyl carbonate) resin, epoxy resin, phenol-formaldehyde resin, polystyrene resin, silicon Resin, and the like. Among them, the casting method by bulk polymerization of methyl methacrylate, which can obtain an acrylic sheet excellent in hardness, heat resistance, and chemical resistance, is preferable.

重合触媒としては公知のラジカル熱重合開始剤が利用でき、例えばベンゾイルパーオキシド、p−クロロベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物が挙げられる。その使用量は混合物の総量に対して、一般的に0.01〜5重量%である。熱重合における加熱温度は、通常40〜200℃であり、重合時間は通常30分〜8時間程度である。また熱重合以外に、光重合開始剤や増感剤を添加して光重合する方法も採用できる。   As the polymerization catalyst, a known radical thermal polymerization initiator can be used, and examples thereof include peroxides such as benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide and diisopropyl peroxycarbonate, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile. . The amount used is generally from 0.01 to 5% by weight, based on the total amount of the mixture. The heating temperature in the thermal polymerization is usually 40 to 200 ° C., and the polymerization time is usually about 30 minutes to 8 hours. In addition to thermal polymerization, a method of photopolymerization by adding a photopolymerization initiator or a sensitizer can also be employed.

(3)の方法としては、本発明のジイモニウム化合物をバインダー樹脂及び有機溶媒に溶解させて塗料化する方法、上記化合物を樹脂の存在下に微粒子化して分散させ、水系塗料とする方法等がある。このうち本発明のジイモニウム化合物をバインダー樹脂及び有機溶媒に溶解させて塗料化する方法では、例えば、脂肪族エステル樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニル系樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル変性樹脂等、又はそれらの共重合樹脂をバインダーとして用いる事ができる。   Examples of the method (3) include a method in which the diimonium compound of the present invention is dissolved in a binder resin and an organic solvent to form a paint, and a method in which the above compound is finely dispersed in the presence of the resin to form a water-based paint. . Among these, the method of dissolving the diimonium compound of the present invention in a binder resin and an organic solvent to form a paint includes, for example, aliphatic ester resins, acrylic resins, melamine resins, urethane resins, aromatic ester resins, polycarbonate resins, and polyvinyl resins. Resins, aliphatic polyolefin resins, aromatic polyolefin resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl-modified resins, or the like, or copolymer resins thereof can be used as a binder.

溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系の溶媒、又はそれらの混合物の溶媒を用いることができる。本発明のジイモニウム化合物の濃度は、作製するコーティングの厚み、吸収強度、可視光透過率によって異なるが、バインダー樹脂に対して、一般的に0.1〜30重量%である。   As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixture thereof can be used. The concentration of the diimonium compound of the present invention is generally 0.1 to 30% by weight with respect to the binder resin, although it varies depending on the thickness of the coating to be produced, the absorption intensity, and the visible light transmittance.

このように作製した塗料を用いて透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明ガラス等の上にスピンコーター、バーコーター、ロールコーター、スプレー等でコーティングして近赤外線吸収フィルターを得ることができる。
(4)の方法において、接着剤用の樹脂としては、シリコン系、ウレタン系、アクリル系等の樹脂用、又は合わせガラス用のポリビニルブチラール接着剤、エチレン−酢酸ビニル系接着剤等の合わせガラス用の公知の透明接着剤が使用できる。本発明のジイモニウム化合物を0.1〜30重量%添加した接着剤を用いて透明な樹脂板同士、樹脂板と樹脂フィルム、樹脂板とガラス、樹脂フィルム同士、樹脂フィルムとガラス、ガラス同士を接着して、フィルターを作製する。
尚、それぞれの方法で混練、混合の際、紫外線吸収剤、可塑剤等、樹脂成形に用いる通常の添加剤を加えても良い。
A near-infrared absorption filter can be obtained by coating the thus-prepared coating material on a transparent resin film, transparent resin plate, transparent glass or the like with a spin coater, bar coater, roll coater, spray or the like.
In the method (4), as the resin for the adhesive, the resin for silicon, urethane, acrylic, etc., or the laminated glass such as polyvinyl butyral adhesive for laminated glass, ethylene-vinyl acetate adhesive, etc. Any known transparent adhesive can be used. Bonding transparent resin plates, resin plates and resin, resin plates and glass, resin films, resin films and glass, and glasses using an adhesive containing 0.1 to 30% by weight of the dimonium compound of the present invention. Then, a filter is produced.
In addition, at the time of kneading and mixing by each method, usual additives used for resin molding such as an ultraviolet absorber and a plasticizer may be added.

次に、本発明の近赤外線吸収フィルターを説明する。本発明のジイモニウム塩を含有する樹脂層を基材上に設けたものでもよく、また基材自体が近赤外線吸収化合物を含有する樹脂組成物(又その硬化物)からなる層であっても良い。基材としては、一般に近赤外線吸収フィルターに使用し得るものであれば特に制限されないが、通常、樹脂製の基材が使用される。本発明のジイモニウム化合物を含有する層の厚みは、通常0.1μm〜10mm程度であるが、近赤外線カット率等の目的に応じて適宜決定される。また、本発明のジイモニウム化合物の含有量も目的とする近赤外線カット率に応じて、適宜決定される。用いうる樹脂としては、上記樹脂組成物と同様な樹脂が挙げられ、樹脂板又は樹脂フィルムに成形した場合、できるだけ透明性の高いものが好ましい。近赤外線吸収フィルターを作製する方法としては、上記脂組成物の作製と同様の方法が挙げられる。   Next, the near-infrared absorption filter of the present invention will be described. The resin layer containing the diimonium salt of the present invention may be provided on a substrate, or the substrate itself may be a layer made of a resin composition (or a cured product thereof) containing a near infrared absorbing compound. . The substrate is not particularly limited as long as it can be generally used for a near-infrared absorption filter, but a resin substrate is usually used. The thickness of the layer containing the diimonium compound of the present invention is usually about 0.1 μm to 10 mm, but is appropriately determined according to the purpose such as the near infrared cut rate. Further, the content of the diimonium compound of the present invention is also appropriately determined according to the target near-infrared cut rate. Examples of the resin that can be used include the same resins as those of the resin composition. When molded into a resin plate or a resin film, a resin that is as transparent as possible is preferable. Examples of the method for producing the near-infrared absorbing filter include the same methods as those for producing the fat composition.

本発明の赤外線吸収フィルターは赤外線吸収化合物として本発明の式(1)のジイモニウム化合物のみを含有しても良いが、2種類以上の本発明のジイモニウム化合物を併用することも、さらにこれらの化合物と、本発明ののジイモニウム化合物以外の近赤外線吸収化合物を併用して作製しても良い。併用し得る他の近赤外線吸収化合物としては、例えばフタロシアニン系色素、シアニン系色素、ジチオールニッケル錯体等があげられる。また、併用しうる無機金属の近赤外線吸収化合物の例としては、例えば金属銅又は硫化銅、酸化銅等の銅化合物、酸化亜鉛を主成分とする金属混合物、タングステン化合物、ITO、ATO等が挙げられる。   The infrared absorption filter of the present invention may contain only the diimonium compound of the formula (1) of the present invention as an infrared absorption compound, but it is also possible to use two or more kinds of the diimonium compounds of the present invention in combination. Alternatively, a near-infrared absorbing compound other than the diimonium compound of the present invention may be used in combination. Examples of other near infrared absorbing compounds that can be used in combination include phthalocyanine dyes, cyanine dyes, and dithiol nickel complexes. Examples of the inorganic metal near-infrared absorbing compound that can be used in combination include copper compounds such as metallic copper or copper sulfide, copper oxide, metal mixtures mainly composed of zinc oxide, tungsten compounds, ITO, and ATO. It is done.

又、フィルターの色調を変えるために、可視領域に吸収を持つ色素(調色用色素)を、本発明の効果を阻害しない範囲で加えてもよい。又、調色用色素のみを含有するフィルターを作製し、後で本発明の近赤外線吸収フィルターを貼り合わせることもできる。
この様な近赤外線吸収フィルターは、プラズマディスプレーの前面板に用いられる場合には、可視光の透過率は高いほどよく、少なくとも40%以上、好ましくは50%以上の透過率が必要である。近赤外線のカット領域は、好ましくは750〜1200nm、より好ましくは800〜1000nmであり、その領域の近赤外線の平均透過率が50%以下、より好ましくは30%以下、更に好ましくは20%以下、特に好ましくは10%以下になることが望ましい。
In order to change the color tone of the filter, a dye having a visible region absorption (toning dye) may be added within a range that does not impair the effects of the present invention. It is also possible to produce a filter containing only the color-adjusting dye, and later attach the near-infrared absorption filter of the present invention.
When such a near-infrared absorption filter is used for the front plate of a plasma display, the higher the visible light transmittance, the better, and a transmittance of at least 40% or more, preferably 50% or more is required. The near infrared cut region is preferably 750 to 1200 nm, more preferably 800 to 1000 nm, and the average near infrared transmittance of the region is 50% or less, more preferably 30% or less, still more preferably 20% or less, Particularly preferably, it is desirable to be 10% or less.

本発明の近赤外線吸収フィルターは、ディスプレーの前面板の様な用途に限らず、赤外線をカットする必要があるフィルターやフィルム、例えば断熱フィルム、光学製品、サングラス等にも使用することが出来る。
本発明の近赤外線吸収フィルターは、可視光領域が非常に高い透過率でありアンチモンや砒素を含有せず、環境に優しく、近赤外領域は幅広く吸収する優れた近赤外線吸収フィルターである。また従来のアンチモンを含有しない過塩素酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ホウフッ化イオンを含有する近赤外線吸収フィルターに比べ安定性に優れている。さらに溶解度も十分であり加工性にも優れている。特に、本発明の近赤外線吸収フィルターは耐熱、耐湿熱、耐光性において非常に優れており、熱による分解などの反応を起こしにくいため、可視部の着色がほとんど起こらない近赤外線吸収フィルターを得る事ができる。更にこの様な特徴を有していることから、近赤外線吸収フィルターや例えば断熱フィルム及びサングラスのような近赤外線吸収フィルムに好適に用いることができ、特にプラズマディスプレー用の近赤外線吸収フィルターに好適である。
The near-infrared absorbing filter of the present invention is not limited to uses such as a display front plate, but can also be used for filters and films that need to cut infrared rays, such as heat insulating films, optical products, and sunglasses.
The near-infrared absorption filter of the present invention is an excellent near-infrared absorption filter that has a very high transmittance in the visible light region, does not contain antimony or arsenic, is environmentally friendly, and absorbs a wide range in the near-infrared region. Moreover, it is excellent in stability as compared with conventional near-infrared absorption filters containing perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, and borofluoride ions that do not contain antimony. Furthermore, the solubility is sufficient and the processability is also excellent. In particular, the near-infrared absorption filter of the present invention is very excellent in heat resistance, moisture heat resistance, and light resistance, and hardly undergoes a reaction such as decomposition by heat, so that a near-infrared absorption filter that hardly causes coloring in the visible part is obtained. Can do. Furthermore, since it has such characteristics, it can be suitably used for near-infrared absorbing filters and near-infrared absorbing films such as heat insulating films and sunglasses, and particularly suitable for near-infrared absorbing filters for plasma displays. is there.

次に本発明の光情報記録媒体について説明する。
本発明の光情報記録媒体は、基板上に記録層を有するもので、該記録層が本発明のジイモニウム化合物を含有することを特徴とする。この記録層は、ジイモニウム化合物のみで構成されていても良く、またバインダー等の各種添加剤と混合して含有されていても良い。この場合、本発明のジイモニウム化合物により情報が記録される。
Next, the optical information recording medium of the present invention will be described.
The optical information recording medium of the present invention has a recording layer on a substrate, and the recording layer contains the diimonium compound of the present invention. This recording layer may be composed of only a diimonium compound, or may be mixed with various additives such as a binder. In this case, information is recorded by the diimonium compound of the present invention.

また、本発明のジイモニウム化合物とこれ以外の有機色素とを含有する混合物を、該有機色素により情報が記録される光情報記録媒体の記録層に含有させることによって、該光情報記録媒体の耐光性を向上させることができる。このような光情報記録媒体において、情報の記録に供される有機色素としては、例えばシアニン系色素、スクワリリウム系色素、インドアニリン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ系色素、メロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。
このような方法において、本発明のジイモニウム化合物は、これらの有機色素1モルに対して、通常0.01〜10モル、好ましくは0.03〜3モル使用される。
Moreover, the light resistance of the optical information recording medium is obtained by including the mixture containing the diimonium compound of the present invention and the other organic dye in the recording layer of the optical information recording medium on which information is recorded by the organic dye. Can be improved. Examples of organic dyes used for recording information in such optical information recording media include cyanine dyes, squarylium dyes, indoaniline dyes, phthalocyanine dyes, azo dyes, merocyanine dyes, and polymethine dyes. Naphthoquinone dyes, pyrylium dyes, and the like.
In such a method, the diimonium compound of the present invention is generally used in an amount of 0.01 to 10 mol, preferably 0.03 to 3 mol, per 1 mol of these organic dyes.

本発明の光情報記録媒体は、基板上に本発明のジイモニウム化合物及び所望によりこれ以外の色素を含有する記録層を設けたもので、必要に応じ、反射層、保護層が設けられる。基板としては公知のものを任意に使用することが出来る。例えば、ガラス板、金属板又はプラスチック板もしくはフィルムが挙げられ、これらを製造するためのプラスチックとしてはアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、メタクリル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂等があげられる。基板の形状としては、ディスク状、カード状、シート状、ロールフィルム状等種々のものがあげられる。   The optical information recording medium of the present invention comprises a substrate provided with a recording layer containing the diimonium compound of the present invention and, if desired, a dye other than this, and a reflective layer and a protective layer are provided as necessary. Any known substrate can be used. For example, a glass plate, a metal plate, a plastic plate or a film can be mentioned, and plastics for producing these include acrylic resin, polycarbonate resin, methacrylic resin, polysulfone resin, polyimide resin, amorphous polyolefin resin, polyester resin, polypropylene Examples thereof include resins. Examples of the shape of the substrate include various shapes such as a disk shape, a card shape, a sheet shape, and a roll film shape.

ガラス又はプラスチック基板上には記録時のトラッキングを容易にするために案内溝を形成させてもよい。また、ガラス又はプラスチック基板にはプラスチックバインダー又は無機酸化物、無機硫化物等の下引き層を設けてもよく、下引層は基板より熱伝導率の低いものが好ましい。   A guide groove may be formed on a glass or plastic substrate to facilitate tracking during recording. The glass or plastic substrate may be provided with a subbing layer such as a plastic binder, inorganic oxide, or inorganic sulfide, and the subbing layer preferably has a lower thermal conductivity than the substrate.

本発明の光情報記録媒体における記録層は、例えば、本発明のジイモニウム化合物及び、より好ましくは本発明ののジイモニウム化合物と他の有機色素を公知の有機溶剤、例えばテトラフルオロプロパノール(TFP)、オクタフルオロペンタノール(OFP)、ダイアセトンアルコール、メタノール、エタノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジクロロエタン、イソホロン、シクロヘキサノン等に溶解し、必要に応じて、バインダーを加え、その溶液をスピンコーター、バーコーター、ロールコーター等により基板上に塗布することにより得ることが出来る。その他の方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法もしくは基板を溶液中に漬けるディッピング法によっても得ることができる。ここにおいてバインダ−としてはアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等が使用されうる。
記録層の膜厚は、記録感度や反射率を考慮すると、好ましくは0.01μm〜5μm、より好ましくは0.02μm〜3μmである。
The recording layer in the optical information recording medium of the present invention includes, for example, the diimonium compound of the present invention, and more preferably the diimonium compound of the present invention and other organic dyes in a known organic solvent such as tetrafluoropropanol (TFP), octane. Dissolve in fluoropentanol (OFP), diacetone alcohol, methanol, ethanol, butanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dichloroethane, isophorone, cyclohexanone, etc., add a binder as necessary, and add the solution to a spin coater or bar coater It can be obtained by coating on a substrate with a roll coater or the like. As other methods, it can also be obtained by a vacuum deposition method, a sputtering method, a doctor blade method, a casting method, or a dipping method in which a substrate is immersed in a solution. Here, acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, or the like can be used as the binder.
The film thickness of the recording layer is preferably 0.01 μm to 5 μm, more preferably 0.02 μm to 3 μm in consideration of recording sensitivity and reflectance.

本発明の光情報記録媒体には、必要により記録層の下に下引層を、また記録層上に保護層を設けることが出来、さらに記録層と保護層の間に反射層を設けることが出来る。反射層を設ける場合、反射層は金、銀、銅、アルミニウム等、好ましくは金、銀、又はアルミニウムの金属で構成され、これらの金属は単独で使用してもよく、2種以上の合金としてもよい。この層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等で形成される。このような反射層の厚さは、0.02〜2μmである。反射層の上に設けられることのある保護層は、通常、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗装した後、紫外線を照射し、塗膜を硬化させて形成されるものである。その他、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等も保護膜の形成材料に用いられる。このような保護膜の厚さは、通常、0.01〜100μmである。   In the optical information recording medium of the present invention, if necessary, an undercoat layer can be provided below the recording layer, and a protective layer can be provided on the recording layer, and a reflective layer can be provided between the recording layer and the protective layer. I can do it. When the reflective layer is provided, the reflective layer is composed of gold, silver, copper, aluminum, or the like, preferably gold, silver, or aluminum, and these metals may be used alone or as two or more alloys. Also good. This layer is formed by vacuum deposition, sputtering, ion plating, or the like. The thickness of such a reflective layer is 0.02 to 2 μm. The protective layer that may be provided on the reflective layer is usually formed by applying an ultraviolet curable resin by a spin coating method and then irradiating the ultraviolet ray to cure the coating film. In addition, an epoxy resin, an acrylic resin, a silicone resin, a urethane resin, or the like is also used as a protective film forming material. The thickness of such a protective film is usually 0.01 to 100 μm.

本発明の光情報記録媒体における情報の記録、あるいは画像の形成はレーザー、例えば、半導体レーザー、ヘリウム−ネオンレーザー、He−Cdレーザー、YAGレーザー、Arレーザー等の集光したスポット状の高エネルギービームを基板を通して、もしくは基板と反対側から記録層に照射することにより行われ、情報あるいは画像の読み出しは、低出力のレーザービームを照射することにより、ピット部とピットが形成されていない部分の反射光量もしくは透過光量の差を検出することにより行われる。   The recording of information or the formation of images on the optical information recording medium of the present invention is performed with a focused spot-like high energy beam such as a laser, for example, a semiconductor laser, a helium-neon laser, a He-Cd laser, a YAG laser, or an Ar laser. Irradiating the recording layer through the substrate or from the opposite side of the substrate, information or image reading is performed by irradiating a low-power laser beam to reflect the pits and portions where no pits are formed. This is done by detecting the difference in light quantity or transmitted light quantity.

本発明のジイモニウム化合物は最大吸収波長が900nm以上にあり、モル吸光係数も数万乃至十数万と大きい値を有している。また耐熱性、耐光性、耐湿熱性などの安定性試験の結果より、従来のものに比べ変色が少なく、安定性に優れており、また溶解性試験より十分な溶剤溶解性を有しており、加工性の良い赤外線吸収剤として使用することが出来る。   The diimonium compound of the present invention has a maximum absorption wavelength of 900 nm or more, and a molar extinction coefficient of tens of thousands to hundreds of thousands. In addition, from the results of stability tests such as heat resistance, light resistance, and moist heat resistance, there is less discoloration compared to conventional ones, it is excellent in stability, and has sufficient solvent solubility than the solubility test, It can be used as an infrared absorber with good processability.

本発明の組成物、特に赤外線吸収フィルターは、従来のジイモニウム化合物を用いた近赤外吸収フィルターに比べ、溶解度も高く加工性に優れており、更に耐熱性、耐湿熱性、耐光性などの安定性に優れている。特にこれらの安定性試験における分解などの反応が起こりにくく、可視部の着色がほとんど起こらない耐熱、耐湿熱、耐光性に優れた近赤外線吸収フィルターである。このような特徴を有していることから、近赤外線吸収フィルターや、例えば断熱フィルム及びサングラスのような近赤外線吸収フィルムとして好適に用いる事が出来、特にプラズマディスプレー用の近赤外吸収フィルターに好適である。   The composition of the present invention, particularly the infrared absorption filter, has higher solubility and excellent processability than the near-infrared absorption filter using a conventional diimonium compound, and further has stability such as heat resistance, heat and humidity resistance, and light resistance. Is excellent. In particular, it is a near-infrared absorption filter excellent in heat resistance, moist heat resistance, and light resistance, in which reaction such as decomposition in these stability tests is unlikely to occur and the visible portion is hardly colored. Since it has such characteristics, it can be suitably used as a near-infrared absorption filter and a near-infrared absorption film such as a heat insulating film and sunglasses, and is particularly suitable for a near-infrared absorption filter for plasma display. It is.

本発明の光情報記録媒体は従来のジイモニウム化合物からなる光情報記録媒体に比べ、耐光安定性に優れる。またこれらの化合物は、光情報記録媒体を調製する上で、溶解度も十分であり加工性も優れている。また例えば光情報記録媒体の記録層に当たる有機色素薄膜に、これらの化合物を光安定化材として含有させた場合、繰り返し再生における耐久性、耐光安定性を著しく向上させた光情報記録媒体を提供することができる。   The optical information recording medium of the present invention is superior in light resistance stability as compared with a conventional optical information recording medium made of a diimonium compound. In addition, these compounds have sufficient solubility and excellent processability when preparing an optical information recording medium. Further, for example, when an organic dye thin film corresponding to a recording layer of an optical information recording medium contains these compounds as a light stabilizing material, an optical information recording medium in which durability during repeated reproduction and light stability is remarkably improved is provided. be able to.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明が、これらの実施例に限定されるものではない。尚、実施例中、「部」、「%」は特に特定しない限り、重量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, “parts” and “%” are based on weight unless otherwise specified.

実施例1
(表1におけるNo.1の化合物の合成)
DMF16.5部中にN,N,N',N'−テトラキス(p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル)−p−フェニレンジアミン3部を加え、60℃に加熱溶解した後、DMF16.5部に溶解した硝酸銀1.16部とビストリフルオロメタンスルフォン酸イミドカリウム塩2.19部を加え、30分間加熱撹拌した。不溶解分を濾別した後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾過、水洗、乾燥し目的の化合物No.1を4.3部得た。
λmax 1102nm(ジクロロメタン)
融点170℃付近:熱分解点(重量減少開始温度)280℃付近(熱重量測定及び示差熱分析(TG−DTA))
Example 1
(Synthesis of No. 1 compound in Table 1)
3 parts of N, N, N ′, N′-tetrakis (p-di (n-butyl) aminophenyl) -p-phenylenediamine was added to 16.5 parts of DMF, and the mixture was dissolved by heating at 60 ° C., and then DMF 16.5. 1.16 parts of silver nitrate dissolved in 2. parts and 2.19 parts of potassium bistrifluoromethanesulfonate imide were added and stirred with heating for 30 minutes. After the insoluble matter was filtered off, water was added to the reaction solution, and the precipitated crystals were filtered, washed with water and dried to obtain the desired compound No. 4.3 parts of 1 were obtained.
λmax 1102 nm (dichloromethane)
Melting point around 170 ° C .: thermal decomposition point (weight loss start temperature) around 280 ° C. (thermogravimetry and differential thermal analysis (TG-DTA))

実施例2
(表1におけるNo.2の化合物の合成)
前記実施例1でN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミンの代わりにN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(i−ブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミンに代えた以外は同様に反応し、No.2の化合物を4.3部得た。λmax 1104nm(ジクロロメタン)
融点165℃付近:熱分解点(重量減少開始温度)282℃付近(TG−DTA測定)
Example 2
(Synthesis of compound No. 2 in Table 1)
In Example 1, instead of N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} -p-phenylenediamine, N, N, N ′, N′-tetrakis {p- The reaction was the same except that di (i-butyl) aminophenyl} -p-phenylenediamine was used. 4.3 parts of compound 2 were obtained. λmax 1104nm (dichloromethane)
Melting point around 165 ° C .: thermal decomposition point (weight loss start temperature) around 282 ° C. (TG-DTA measurement)

実施例3
(表1におけるNo.3の化合物の合成)
硝酸ナトリウム0.58部を水3部に溶解した溶液に、N,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(シアノプロピル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミン3.28部とDMF16.5部を加えた。反応液を60℃まで加熱した後、DMF16.5部に溶解した硝酸銀1.16部を加え、30分間撹拌した。不溶解分を濾別した後、反応液にビストリフルオロメタンスルフォン酸イミドカリウム塩2.19部を加え3時間撹拌、水を加えた。析出した結晶を、濾過、水洗、乾燥し目的の化合物No.3を4.5部得た。
λmax 1064nm(ジクロロメタン)
融点180℃付近:熱分解点(重量減少開始温度)282℃付近(TG−DTA測定)
Example 3
(Synthesis of compound No. 3 in Table 1)
In a solution of 0.58 parts of sodium nitrate in 3 parts of water, 3.28 parts of N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (cyanopropyl) aminophenyl} -p-phenylenediamine and DMF16. 5 parts were added. After the reaction solution was heated to 60 ° C., 1.16 parts of silver nitrate dissolved in 16.5 parts of DMF was added and stirred for 30 minutes. After insoluble components were filtered off, 2.19 parts of bistrifluoromethanesulfonic acid imide potassium salt was added to the reaction solution, stirred for 3 hours, and water was added. The precipitated crystals are filtered, washed with water and dried to obtain the desired compound No. 4.5 parts of 3 were obtained.
λmax 1064nm (dichloromethane)
Melting point around 180 ° C .: thermal decomposition point (weight reduction start temperature) around 282 ° C. (TG-DTA measurement)

実施例4
(表1におけるNo.4の化合物の合成)
前記実施例1でN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミンの代わりにN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(i−アミル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミンに代えた以外は同様に反応し、No.4の化合物を3.7部得た。λmax 1102nm(ジクロロメタン)
融点175℃付近:熱分解点(重量減少開始温度)280℃付近(TG−DTA測定)
Example 4
(Synthesis of compound No. 4 in Table 1)
In Example 1, instead of N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} -p-phenylenediamine, N, N, N ′, N′-tetrakis {p- The reaction was the same except that di (i-amyl) aminophenyl} -p-phenylenediamine was used. 3.7 parts of compound 4 were obtained. λmax 1102 nm (dichloromethane)
Melting point around 175 ° C .: thermal decomposition point (weight loss start temperature) around 280 ° C. (TG-DTA measurement)

実施例5
(表1におけるNo.9の化合物の合成)
前記実施例1でN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミンの代わりにN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(シアノブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミンに代えた以外は同様に反応し、No.9の化合物を4.1部得た。λmax 1086nm(ジクロロメタン)
融点145℃付近:熱分解点(重量減少開始温度)277℃付近(TG−DTA測定)
Example 5
(Synthesis of compound No. 9 in Table 1)
In Example 1, instead of N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} -p-phenylenediamine, N, N, N ′, N′-tetrakis {p- The reaction was the same except that di (cyanobutyl) aminophenyl} -p-phenylenediamine was used. 4.1 parts of 9 compounds were obtained. λmax 1086 nm (dichloromethane)
Melting point around 145 ° C .: thermal decomposition point (weight loss start temperature) around 277 ° C. (TG-DTA measurement)

実施例6
(表1におけるNo.12の化合物の合成)
前記実施例1でN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミンの代わりにN,N,N',N'−テトラキス{p−ジエチルアミノフェニル}−p−フェニレンジアミンに代えた以外は同様に反応し、No.12の化合物を2.1部得た。λmax 1084nm(ジクロロメタン)
融点186℃付近:熱分解点(重量減少開始温度)278℃付近(TG−DTA測定)
Example 6
(Synthesis of compound No. 12 in Table 1)
In Example 1, instead of N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} -p-phenylenediamine, N, N, N ′, N′-tetrakis {p- Reacts in the same manner except that it was replaced with diethylaminophenyl} -p-phenylenediamine. 2.1 parts of 12 compounds were obtained. λmax 1084 nm (dichloromethane)
Melting point around 186 ° C .: thermal decomposition point (weight loss start temperature) around 278 ° C. (TG-DTA measurement)

実施例7
(表1におけるNo.35の化合物の合成)
前記実施例1でN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミンの代わりにN,N,N',N'−テトラキス{p−アミノフェニル}−p−フェニレンジアミンのn−ブチル誘導体と3−シアノプロピル誘導体の混合物に代えた以外は同様に反応し、No.35の化合物を2.6部得た。
λmax 1090nm(ジクロロメタン)
融点135℃付近:熱分解点(重量減少開始温度)256℃付近(TG−DTA測定)
Example 7
(Synthesis of compound No. 35 in Table 1)
In Example 1, instead of N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} -p-phenylenediamine, N, N, N ′, N′-tetrakis {p- Aminophenyl} -p-phenylenediamine was reacted in the same manner except that it was replaced with a mixture of n-butyl derivative and 3-cyanopropyl derivative. 2.6 parts of 35 compounds were obtained.
λmax 1090nm (dichloromethane)
Melting point around 135 ° C .: Thermal decomposition point (weight loss start temperature) around 256 ° C. (TG-DTA measurement)

その他の化合物例についても上記合成例1〜合成例7と同様に対応するフェニレンジアミン誘導体を酸化剤で酸化した後、対応するアニオンと反応させることにより、合成できる。   Other compound examples can also be synthesized by oxidizing the corresponding phenylenediamine derivative with an oxidizing agent and reacting with the corresponding anion in the same manner as in Synthesis Examples 1 to 7.

実施例8
前記実施例で得られた化合物について、ジクロロメタン中でのモル吸光係数(ε)を測定した。(V−570 日本分光(株)製による)
この結果を表2に示す。
Example 8
About the compound obtained in the said Example, the molar extinction coefficient ((epsilon)) in a dichloromethane was measured. (V-570 manufactured by JASCO Corporation)
The results are shown in Table 2.

比較例1、2
特許文献2に記載の化合物であるN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}フェニレンジイモニウムの1,5−ナフタレンジスルホン酸塩(特許文献2、実施例1に記載の化合物)(比較例1:化合物No.151)及び1−ヒドロキシ−2,5−ナフタレンジスルホン酸塩(比較例2:化合物No.152)を用いた以外は同様にしてジクロロメタン中でのモル吸光係数(ε)を測定した。この結果を表2に示す。
Comparative Examples 1 and 2
1,5-Naphthalenedisulfonate of N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} phenylenediimonium which is a compound described in Patent Document 2 (Patent Document 2, Examples) 1) (Comparative Example 1: Compound No. 151) and 1-hydroxy-2,5-naphthalenedisulfonate (Comparative Example 2: Compound No. 152) were similarly used in dichloromethane. The molar extinction coefficient (ε) of was measured. The results are shown in Table 2.

表2(モル吸光係数比較試験)
化合物No. モル吸光係数(ε)
No.1 108,000
No.2 109,000
No.3 109,000
No.4 110,000
No.9 109,000
No.12 96,000
No.151(比較例1) 82,000
No.152(比較例2) 24,500
Table 2 (Molar extinction coefficient comparison test)
Compound No. Molar extinction coefficient (ε)
No. 1 108,000
No. 2 109,000
No. 3 109,000
No. 4 110,000
No. 9 109,000
No. 12 96,000
No. 151 (Comparative Example 1) 82,000
No. 152 (Comparative Example 2) 24,500

本発明のジイモニウム化合物はモル吸光係数が9.6万以上と高いことが判る。   It can be seen that the diimonium compound of the present invention has a high molar extinction coefficient of 96,000 or more.

実施例9(ジイモニウム化合物の溶解性)
前記実施例で得られた化合物について、メチルエチルケトン(MEK)及びトルエン中で室温で撹拌して溶解性を判定した。その結果を表3に示す。
Example 9 (Solubility of Diimonium Compound)
About the compound obtained in the said Example, it stirred at room temperature in methyl ethyl ketone (MEK) and toluene, and the solubility was determined. The results are shown in Table 3.

比較例3,4
比較のために特許文献3に記載の化合物であるN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩(比較例3:化合物No153)及びN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(3−シアノプロピル)アミノフェニル}フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩(比較例4:化合物No154)についても前記同様の溶解性の判定を行った。その結果を表3に示す。
Comparative Examples 3 and 4
For comparison, N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} phenylenediimonium hexafluoroantimonate (Comparative Example 3: The same applies to Compound No. 153) and N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (3-cyanopropyl) aminophenyl} phenylenediimonium hexafluoroantimonate (Comparative Example 4: Compound No. 154). Solubility was determined. The results are shown in Table 3.

表3(溶解性比較試験)(%)
化合物No. MEK トルエン
No.1 20% 0.2%
No.2 5% 0.04%
No.3 2% 不溶
No.4 10% 0.1%
No.153(比較例3)4.5% 不溶
No.154(比較例4) 不溶 不溶
Table 3 (Solubility comparison test) (%)
Compound No. MEK Toluene No. 1 20% 0.2%
No. 2 5% 0.04%
No. 3 2% Insoluble No. 3 4 10% 0.1%
No. 153 (Comparative Example 3) 4.5% Insoluble No. 153 154 (Comparative Example 4) Insoluble Insoluble

以上結果より明らかなように同じ置換基を持つ誘導体に比べ、本発明のジイモニウム化合物はMEK、トルエンなど汎用に用いられる溶剤への溶解度が向上したことがわかる。   As is clear from the above results, it can be seen that the diimonium compound of the present invention has improved solubility in commonly used solvents such as MEK and toluene as compared with derivatives having the same substituent.

実施例10(近赤外線吸収フィルター及び耐湿熱安定性試験)
MEK18.8部に、前記各実施例で得られた各化合物1.2部をそれぞれ溶解させた。この溶解液に、MEK75部中にアクリル系樹脂(ダイヤナールBR−80、三菱レイヨン社製)25部を加え溶解させた樹脂液を80部を混合し、塗工用溶液を得た。これをポリエステルフィルムに厚さ2〜4μmになるように塗工し、80℃で乾燥させて本発明の近赤外線吸収フィルターを得た。
得られた近赤外線吸収フィルターを60℃、95%RHの条件の恒温恒湿機中で14日間、放置した。その後、そのフィルターを分光光度計(UVー2200 (株)島津製作所製)にて測色し、L*、a*、b*値を算出し、b*値の変化から安定性評価を行った。b*値が低い、すなわち可視部における吸収が低いほど、近赤外線吸収フィルターとして好ましい。得られた耐湿熱試験の結果を表4に示す。得られた耐熱試験の結果を表4に示す。
Example 10 (Near-infrared absorption filter and wet heat stability test)
In 18.8 parts of MEK, 1.2 parts of each compound obtained in each of the above Examples was dissolved. To this solution, 80 parts of a resin solution obtained by adding 25 parts of acrylic resin (Dianar BR-80, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) in 75 parts of MEK was mixed to obtain a coating solution. This was coated on a polyester film so as to have a thickness of 2 to 4 μm and dried at 80 ° C. to obtain a near-infrared absorbing filter of the present invention.
The obtained near-infrared absorption filter was left for 14 days in a thermo-hygrostat under conditions of 60 ° C. and 95% RH. Thereafter, the color of the filter was measured with a spectrophotometer (UV-2200, manufactured by Shimadzu Corporation), L * , a * , b * values were calculated, and stability was evaluated from changes in the b * values. . The lower the b * value, that is, the lower the absorption in the visible region, the better the near infrared absorption filter. Table 4 shows the results of the obtained moisture and heat resistance test. Table 4 shows the results of the obtained heat test.

比較例5、6
比較のために上記化合物の代わりに特許文献1に記載の化合物であるN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}フェニレンジイモニウムの六フッ化リン酸塩(比較例5:化合物No.155)、N,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}フェニレンジイモニウムのホウフッ化塩(比較例6:化合物No.156)を用いた以外は実施例10と同様にしてフィルターを作製し、同様に評価して、結果を表4に示した。
Comparative Examples 5 and 6
For comparison, N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} phenylenediimonium hexafluorophosphate which is a compound described in Patent Document 1 instead of the above compound (Comparative Example 5: Compound No. 155), N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} phenylenediimonium borofluoride (Comparative Example 6: Compound No. 156) A filter was produced in the same manner as in Example 10 except that was used, evaluated in the same manner, and the results are shown in Table 4.

表4(耐湿熱安定性試験)
*
化合物No. 初期 14日後 差
No.1 3.5 5.3 1.8
No.2 2.2 4.1 1.9
No.3 3.6 6.1 2.5
No.4 2.2 4.3 2.1
No.9 2.4 4.3 1.9
No.155(比較例5) 2.9 9.0 6.1
No.156(比較例6) 3.5 14.3 10.8
Table 4 (Moisture and heat resistance test)
b * Value Compound No. 14 days after initial Difference No. 1 3.5 5.3 1.8
No. 2 2.2 4.1 1.9
No. 3 3.6 6.1 2.5
No. 4 2.2 4.3 2.1
No. 9 2.4 4.3 1.9
No. 155 (Comparative Example 5) 2.9 9.0 6.1
No. 156 (Comparative Example 6) 3.5 14.3 10.8

これらの化合物を含有する本発明の近赤外線吸収フィルターは比較試料に対してb*値の変化が小さいことから、高温高湿の条件での安定性に優れていることが判る。とりわけ上記式(1)のR1乃至R8がすべて末端で分鎖しているアルキル基であるものが、b*値が低く近赤外線吸収フィルターとして優れている。 Since the near-infrared absorption filter of the present invention containing these compounds has a small change in b * value relative to the comparative sample, it can be seen that it is excellent in stability under high temperature and high humidity conditions. In particular, those in which R 1 to R 8 in the above formula (1) are all alkyl groups branched at the terminals are low as b * values and are excellent as near infrared absorption filters.

実施例11(光情報記録媒体の例)
前記合成例1で得られたNo.1の化合物0.02部とシアニン色素(OM−57、富士写真フィルム社製)0.10部をテトラフルオロプロパノール10部に溶解し、0.2μmのフィルターを通過させて塗布液を得た。この溶液1mlをグルーブ付5インチポリカーボネート樹脂基板上にピペットにて滴下し、スピンコーターにて塗布、乾燥し、有機薄膜記録層を形成した。塗布膜の最大吸収波長は719nmであった。(V−570 日本分光(株)製による)得られた塗布膜に金をスッパッタリング法で製膜し、反射層として、光情報記録媒体を作製した。得られた光情報記録媒体をCD−R用記録再生機で評価したところ、記録、再生が可能であった。この様に加工性も優れた光情報記録媒体を得ることができ、記録再生にも問題はなかった。
Example 11 (Example of optical information recording medium)
No. obtained in Synthesis Example 1 0.02 part of compound 1 and 0.10 part of cyanine dye (OM-57, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) were dissolved in 10 parts of tetrafluoropropanol and passed through a 0.2 μm filter to obtain a coating solution. 1 ml of this solution was dropped with a pipette onto a 5 inch polycarbonate resin substrate with a groove, and applied and dried with a spin coater to form an organic thin film recording layer. The maximum absorption wavelength of the coating film was 719 nm. Gold was deposited on the resulting coating film (by V-570 manufactured by JASCO Corporation) by the sputtering method to produce an optical information recording medium as a reflective layer. When the obtained optical information recording medium was evaluated with a CD-R recording / reproducing apparatus, recording and reproduction were possible. Thus, an optical information recording medium having excellent processability could be obtained, and there was no problem in recording and reproduction.

実施例12(シアニン色素膜の耐光安定性試験)
テトラフルオロプロパノール15部にシアニン色素(OM−57)0.3部を溶解し、その溶液に、No.3の化合物0.04部を添加し、塗液を作成した。得られた塗液をポリカーボネート基板にスピンコートし、色素膜を作成した。得られた色素膜をウエザオメータ(アトラス社製Ci4000)中で、光源出力:0.36W/m2、槽内温度:24℃、ブッラクパネル温度:40℃、湿度:30%RHの条件で、基板側から光を照射し、50時間で耐光安定性試験を行った。その後、シアニン色素の残存率を分光光度計(V−570 日本分光(株)製)にて測定した。結果を表5に示す。
Example 12 (Light stability test of cyanine dye film)
In 15 parts of tetrafluoropropanol, 0.3 part of a cyanine dye (OM-57) was dissolved. 0.04 part of the compound No. 3 was added to prepare a coating solution. The obtained coating solution was spin-coated on a polycarbonate substrate to prepare a dye film. The obtained dye film was placed in a weatherometer (Ci4000 manufactured by Atlas Co., Ltd.) under the conditions of light source output: 0.36 W / m 2 , bath temperature: 24 ° C., black panel temperature: 40 ° C., humidity: 30% RH. Light was irradiated from the side, and a light stability test was conducted in 50 hours. Thereafter, the residual ratio of the cyanine dye was measured with a spectrophotometer (V-570 manufactured by JASCO Corporation). The results are shown in Table 5.

比較例7
No.1の化合物の代わりに特許文献3に記載の化合物であるテトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩(比較例7:化合物No153)を用いた以外は同様にして色素膜を作成し、評価し、結果を表5に示した。
Comparative Example 7
No. Except that tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} phenylenediimonium hexafluoroantimonate (Comparative Example 7: Compound No. 153), which is the compound described in Patent Document 3, was used instead of the compound of No. 1. Similarly, a dye film was prepared and evaluated, and the results are shown in Table 5.

表5 (シアニン色素膜の耐光安定性試験)
シアニン色素の残存率(%)
化合物No. 初期 100時間後 150時間後
No.3 100 47 27
No.153(比較例7) 100 27 0
Table 5 (Light stability test of cyanine dye film)
Cyanine pigment remaining rate (%)
Compound No. Initial 100 hours later 150 hours later 3 100 47 27
No. 153 (Comparative Example 7) 100 27 0

以上の結果より明らかなように本発明の化合物を含有させることによってシアニン色素の耐光性を大幅に向上することができる。   As is clear from the above results, the light resistance of the cyanine dye can be greatly improved by containing the compound of the present invention.

実施例13(ジイモニウム化合物薄膜の耐光安定性試験)
テトラフルオロプロパノール10部にNo.3の化合物0.1部を添加し、塗液を作成した。得られた塗液をポリカーボネート基板にスピンコートし、ジイモニウム塩の薄膜を作成した。得られた薄膜をウエザオメータ(アトラス社製 Ci4000)中で、光源出力:0.36W/m2、槽内温度:24℃、ブッラクパネル温度:40℃、湿度:30%RHの条件で、基板側から光を照射し、50時間で耐光安定性試験を行った。その後、シアニン色素の残存率を分光光度計にて測定した。結果を表6に示す。
Example 13 (Light stability test of diimonium compound thin film)
In 10 parts of tetrafluoropropanol, no. 0.1 parts of compound 3 was added to prepare a coating solution. The obtained coating liquid was spin-coated on a polycarbonate substrate to prepare a thin film of dimonium salt. The obtained thin film was subjected to the substrate side in a weatherometer (Ci4000 manufactured by Atlas Co., Ltd.) under the conditions of light source output: 0.36 W / m 2 , bath temperature: 24 ° C., black panel temperature: 40 ° C., humidity: 30% RH. Were irradiated with light, and a light stability test was conducted in 50 hours. Thereafter, the residual ratio of the cyanine dye was measured with a spectrophotometer. The results are shown in Table 6.

比較例8
比較の為にNo.1の化合物の代わりに特許文献3に記載の化合物であるテトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩(比較例8:化合物No.153)を用いた以外は同様にして色素膜を作成し、評価し、結果を表6に示した。
Comparative Example 8
For comparison, no. Instead of the compound 1, tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} phenylenediimonium hexafluoride antimonate (Comparative Example 8: Compound No. 153) described in Patent Document 3 was used. Except for the above, a dye film was prepared and evaluated in the same manner, and the results are shown in Table 6.

表6 (ジイモニウム化合物薄膜の耐光安定性試験)
ジイモニウム化合物の残存率(%)
化合物No. 初期 100時間後 150時間後
No.3 100 88 86
No.153(比較例8)100 81 76
Table 6 (Light stability test of diimonium compound thin film)
Residual rate of diimonium compound (%)
Compound No. Initial 100 hours later 150 hours later 3 100 88 86
No. 153 (Comparative Example 8) 100 81 76

以上の結果より明らかなように本発明の化合物は薄膜にした時の耐光性が優れている。   As is clear from the above results, the compound of the present invention has excellent light resistance when formed into a thin film.

実施例14(近赤外線吸収フィルター及び耐熱安定性試験)
実施例10と同様にしてフィルターを作製し、得られた近赤外線吸収フィルターを80℃、の条件オーブン中で21日間放置した。その後、そのフィルターを分光光度計にて測色し、L*、a*、b*値を算出し、b*値の変化から安定性評価を行った。b*値が低い、すなわち可視部における吸収が低いほど近赤外線吸収フィルターとして好ましい。得られた耐熱試験の結果を表7に示す。
Example 14 (Near-infrared absorbing filter and heat stability test)
A filter was produced in the same manner as in Example 10, and the obtained near-infrared absorption filter was left in an oven at 80 ° C. for 21 days. Thereafter, the color of the filter was measured with a spectrophotometer, L * , a * , b * values were calculated, and stability was evaluated from changes in the b * values. The lower the b * value, that is, the lower the absorption in the visible region, the better the near infrared absorption filter. Table 7 shows the results of the heat resistance test obtained.

比較例9
比較のために上記化合物の代わりにN,N,N',N'−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩(比較例9:化合物No.153)、を用いた以外は実施例4と同様にしてフィルターを作製し、同様に評価して、結果を表7に示した。
Comparative Example 9
For comparison, N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} phenylenediimonium hexafluoroantimonate instead of the above compound (Comparative Example 9: Compound No. 153) A filter was prepared in the same manner as in Example 4 except that was used, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 7.

表7(耐熱安定性試験)
*
化合物No. 初期 14日後 差
No.1 3.5 5.3 1.8
No.2 2.2 3.7 1.5
No.4 2.4 3.8 1.6
No.153(比較例9) 2.5 4.4 1.9
Table 7 (Heat resistance stability test)
b * Value Compound No. Initial 14 days later Difference No. 1 3.5 5.3 1.8
No. 2 2.2 3.7 1.5
No. 4 2.4 3.8 1.6
No. 153 (Comparative Example 9) 2.5 4.4 1.9

本発明の近赤外線吸収フィルターは比較試料に対してb*値の変化が小さいことから、高温条件下での安定性に優れていることが判る。中でも、本発明のジイモニウム化合物(1)におけるR1からR8がすべて末端で分鎖しているアルキル基であるものが、直鎖アルキル基のものに比べてb*値の変化が小さく近赤外線吸収フィルターとしてより優れていることが判る。 Since the near-infrared absorption filter of the present invention has a small change in b * value relative to the comparative sample, it can be seen that it is excellent in stability under high temperature conditions. Among them, in the diimonium compound (1) of the present invention, those in which R 1 to R 8 are all alkyl groups branched at the terminal are smaller in b * value than the linear alkyl group, and the near infrared ray It turns out that it is more excellent as an absorption filter.

実施例15(合成例8)
(式(1)において環A及び環Bが水素原子で置換されており、R1〜R8がn−ブチル基とシアノプロピル基(n−ブチル基:シアノプロピル基)=(5:3)(4:4)(3:5)(2:6)(1:7)の比である混合物で、その割合が8%、36%、35%、17%、4%であり、R9及びR10がトリフルオロメタン基である化合物の合成)
DMF16部中にN,N,N',N'−テトラキス(アミノフェニル)−p−フェニレンジアミン5.3部、炭酸カリウム20部、ヨウ化カリウム10部、1−ブロモブタン6.2部、クロロブチロニトリル23.2部を加え、90℃で3時間反応、その後130℃で1時間反応させた。冷却後、液ろ過し、この反応液にメタノール40部を加え、5℃以下で1時間撹拌した。生成した結晶をろ過し、メタノールで洗浄した後、乾燥し薄茶色結晶7.2部を得た。得られた混合物をLC(アジレント社製HP−1100)及び質量分析計(マイクロマス社LCT)を用い測定すると、R1〜R8がn−ブチル基とシアノプロピル基(n−ブチル基:シアノプロピル基)=(5:3)(4:4)(3:5)(2:6)(1:7)の混合物で、その割合が8%、36%、35%、17%、4%であった。
融点(DSC) 144℃
その混合物6.3部をDMF30部に溶解させ60℃まで加熱した。ビストリフルオロメタンスルフォン酸イミドカリウム塩4.57部を反応液に加え、さらにDMF30部に溶解した硝酸銀2.32部を加え30分間撹拌した。不溶解分を濾別した後水を加え、析出した結晶を、濾過、水洗、乾燥し目的の化合物3.5部得た。
λmax 1092nm(ジクロロメタン)
Example 15 (Synthesis Example 8)
(In Formula (1), Ring A and Ring B are substituted with hydrogen atoms, and R 1 to R 8 are an n-butyl group and a cyanopropyl group (n-butyl group: cyanopropyl group) = (5: 3) (4: 4) (3: 5) (2: 6) (1: 7) in a ratio of 8%, 36%, 35%, 17%, 4%, R 9 and Synthesis of compounds in which R 10 is a trifluoromethane group)
In 16 parts of DMF, 5.3 parts of N, N, N ′, N′-tetrakis (aminophenyl) -p-phenylenediamine, 20 parts of potassium carbonate, 10 parts of potassium iodide, 6.2 parts of 1-bromobutane, chlorobuty 23.2 parts of nitrile was added and reacted at 90 ° C. for 3 hours and then at 130 ° C. for 1 hour. After cooling, the solution was filtered, and 40 parts of methanol was added to the reaction solution, followed by stirring at 5 ° C. or lower for 1 hour. The produced crystals were filtered, washed with methanol, and dried to obtain 7.2 parts of light brown crystals. When the obtained mixture was measured using LC (HP-1100 manufactured by Agilent) and a mass spectrometer (Micromass LCT), R 1 to R 8 were an n-butyl group and a cyanopropyl group (n-butyl group: cyano). Propyl group) = (5: 3) (4: 4) (3: 5) (2: 6) (1: 7), the proportions being 8%, 36%, 35%, 17%, 4% Met.
Melting point (DSC) 144 ° C
6.3 parts of the mixture was dissolved in 30 parts of DMF and heated to 60 ° C. 4.57 parts of bistrifluoromethanesulfonic acid imide potassium salt was added to the reaction solution, and then 2.32 parts of silver nitrate dissolved in 30 parts of DMF was added and stirred for 30 minutes. After filtering the insoluble matter, water was added, and the precipitated crystals were filtered, washed with water and dried to obtain 3.5 parts of the desired compound.
λmax 1092nm (dichloromethane)

実施例16(合成例9)
(表1におけるNo.61の化合物の合成)
前記実施例1でビストリフルオロメタンスルフォン酸イミドカリウム塩の代わりにビスペンタフルオロエタンスルフォン酸イミドカリウム塩に替えた以外は同様に反応し、No.61の化合物1.6部を得た。
λmax 1098nm(ジクロロメタン)
Example 16 (Synthesis Example 9)
(Synthesis of Compound No. 61 in Table 1)
In Example 1, the reaction was performed in the same manner except that bispentafluoroethanesulfonic acid imide potassium salt was used instead of bistrifluoromethanesulfonic acid imide potassium salt. 1.6 parts of 61 compounds were obtained.
λmax 1098 nm (dichloromethane)

Claims (15)

下記式(1)で示されるジイモニウム化合物
Figure 2005336150
(式(1)中、R1〜R8はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有しても良い脂肪族炭化水素残基を、R9及びR10はそれぞれ独立にハロゲン原子を有しても良い脂肪族炭化水素をそれぞれ表す。また環A及びBはさらに置換基を有してもよい。)
Diimonium compound represented by the following formula (1)
Figure 2005336150
(In Formula (1), R 1 to R 8 each independently represents an aliphatic hydrocarbon residue which may have a hydrogen atom or a substituent, and R 9 and R 10 each independently have a halogen atom. Each represents a good aliphatic hydrocarbon, and rings A and B may further have a substituent.)
式(1)のR9及びR10がフッ素原子を有する脂肪族炭化水素残基である請求項1に記載のジイモニウム化合物 The diimonium compound according to claim 1, wherein R 9 and R 10 in the formula (1) are aliphatic hydrocarbon residues having a fluorine atom. 式(1)のR9及びR10がトリフルオロメチル基である請求項2に記載のジイモニウム化合物 The diimonium compound according to claim 2, wherein R 9 and R 10 in formula (1) are trifluoromethyl groups. 式(1)のR1乃至R8のうち少なくとも1つが直鎖又は分鎖の(C1−C6)アルキル基である請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物 The diimonium compound according to any one of claims 1 to 3, wherein at least one of R 1 to R 8 in the formula (1) is a linear or branched (C1-C6) alkyl group. 式(1)のR1乃至R8のうち少なくとも1つが直鎖(C1−C3)アルキル基である請求項4に記載のジイモニウム化合物 The diimonium compound according to claim 4, wherein at least one of R 1 to R 8 in the formula (1) is a linear (C1-C3) alkyl group. 式(1)のR1乃至R8のうち少なくとも1つが分鎖のアルキル基である請求項4に記載のジイモニウム化合物 The diimonium compound according to claim 4, wherein at least one of R 1 to R 8 in formula (1) is a branched alkyl group. 式(1)のR1乃至R8がすべて末端で分鎖しているアルキル基である請求項6に記載のジイモニウム化合物 7. The diimonium compound according to claim 6, wherein R 1 to R 8 in formula (1) are all alkyl groups branched at the ends. 式(1)のR1乃至R8がiso−ブチル基又はiso−アミル基である請求項7に記載のジイモニウム化合物 The diimonium compound according to claim 7, wherein R 1 to R 8 in the formula (1) are an iso-butyl group or an iso-amyl group. 式(1)のR1乃至R8の置換基を有しても良い脂肪族炭化水素残基の置換基がハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボンアミド基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アリール基又はアルコキシル基である請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物 The substituent of the aliphatic hydrocarbon residue which may have a substituent of R 1 to R 8 in the formula (1) is a halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxyl group, carboxyl group, carbonamido group, alkoxycarbonyl The diimonium compound according to any one of claims 1 to 3, which is a group, an acyl group, an aryl group, or an alkoxyl group. 式(1)のR1乃至R8がすべてシアノ基で置換されたアルキル基である請求項9に記載のジイモニウム化合物 The diimonium compound according to claim 9, wherein R 1 to R 8 in formula (1) are all alkyl groups substituted with a cyano group. 1乃至R8のうち少なくとも1個はシアノ基で置換されたアルキル基で、同じく少なくとも1個はアルキル基である請求項9に記載のジイモニウム化合物 The diimonium compound according to claim 9, wherein at least one of R 1 to R 8 is an alkyl group substituted with a cyano group, and at least one is an alkyl group. 請求項1乃至請求項11のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物及び樹脂を含有することを特徴とする組成物 A composition comprising the diimonium compound according to any one of claims 1 to 11 and a resin. 請求項1乃至請求項12のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物を含有する層を有する近赤外線吸収フィルター The near-infrared absorption filter which has a layer containing the diimonium compound as described in any one of Claims 1 thru | or 12. 請求項13に記載の近赤外線吸収フィルター備えたプラズマディスプレー A plasma display comprising the near-infrared absorbing filter according to claim 13. 請求項1乃至請求項11のいずれか一項に記載ジイモニウムの化合物を記録層に含有することを特徴とする光情報記録媒体 An optical information recording medium comprising the recording layer containing the diimonium compound according to any one of claims 1 to 11.
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