JP2002275134A - Infrared light-absorbing compound and its use - Google Patents

Infrared light-absorbing compound and its use

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JP2002275134A
JP2002275134A JP2001072773A JP2001072773A JP2002275134A JP 2002275134 A JP2002275134 A JP 2002275134A JP 2001072773 A JP2001072773 A JP 2001072773A JP 2001072773 A JP2001072773 A JP 2001072773A JP 2002275134 A JP2002275134 A JP 2002275134A
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JP
Japan
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group
compound
resin
ion
present
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Application number
JP2001072773A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuyuki Kitayama
靖之 北山
Masayuki Kiyoyanagi
正幸 清柳
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new infrared light-absorbing compound, and develop a photo-recording medium and an infrared light-cutting filter by using the same compound. SOLUTION: This infrared light-absorbing compound is obtained by oxidizing a compound expressed by the following formula (1) [wherein, R1 to R16 are each H, a (substituted) alky, cycloalkyl alkenyl or aryl, and may be the same or different; and also rings A, B, C each may have substituents], and its use.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は赤外領域に吸収を有
する新規な化合物(以下赤外吸収化合物という)及びそ
の用途に関する。具体的には、光記録用材料色素、赤外
線カットフィルター用色素、データコード用色素、遮光
フィルター用色素、熱線遮断用色素、レーザープリンタ
ー用色素、一重項酸素クエンチャー、退色防止剤、有機
電界素子における正孔輸送材料などに用いる赤外線吸収
剤に関する。特に該赤外吸収化合物を記録層に含有する
光記録媒体、及び該赤外吸収化合物を含有する赤外カッ
トフィルターに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel compound having an absorption in the infrared region (hereinafter referred to as an infrared absorption compound) and its use. Specifically, dyes for optical recording materials, dyes for infrared cut filters, dyes for data codes, dyes for light-shielding filters, dyes for blocking heat rays, dyes for laser printers, singlet oxygen quencher, anti-fading agents, organic electric field elements The present invention relates to an infrared absorber used for a hole transport material and the like in the above. In particular, the present invention relates to an optical recording medium containing the infrared absorbing compound in a recording layer, and an infrared cut filter containing the infrared absorbing compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、赤外線吸収剤であるジイモニウム
塩化合物は、断熱フィルム及びサングラス等に広く利用
されている。また、有機色素を含有する光記録媒体、特
に1回のみ記録可能なCD−R、DVD−R等光ディス
ク及び光カード等に利用する色素として、シアニン系色
素等の有機色素が種々提案されているが、一般に、熱お
よび光に対して、物質が変化しやすい等の原因から記録
再生特性および保存安定性が低下するという問題があっ
た。この様な問題の解決手段として、すでに特公平6−
26028、特開平1−99885等に記載の如く、ア
ミニウム塩、ジイモニウム塩等を添加することが知られ
ている。
2. Description of the Related Art Hitherto, a diimmonium salt compound as an infrared absorber has been widely used for heat insulating films, sunglasses and the like. Various organic dyes such as cyanine dyes have been proposed as dyes used in optical recording media containing organic dyes, particularly optical disks such as CD-Rs and DVD-Rs that can be recorded only once, optical cards, and the like. However, generally, there is a problem that the recording / reproducing characteristics and the storage stability are deteriorated due to the fact that the substance is easily changed by heat and light. As a solution to such a problem, Japanese Patent
It is known to add an aminium salt, a diimonium salt or the like as described in JP-A-26028, JP-A-1-99885 and the like.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこの様な状況
に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、従来の
ジイモニウム塩及びアミニウム塩と同様に利用できる新
規赤外線吸収化合物、更に該化合物を用いた光記録媒体
及び赤外線カットフィルターを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a novel infrared absorbing compound which can be used in the same manner as conventional diimonium salts and aminium salts. An object of the present invention is to provide an optical recording medium using a compound and an infrared cut filter.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記したよ
うな課題を解決すべく鋭意努力した結果、下記式(1)
の構造の赤外線吸収性の新規化合物を合成し本発明を完
成した。すなわち本発明は、(1)下記式(1)
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive efforts to solve the above-mentioned problems, and as a result, the following formula (1) has been obtained.
The present invention was completed by synthesizing a novel infrared absorbing compound having the following structure. That is, the present invention provides (1) the following formula (1)

【0005】[0005]

【化2】 Embedded image

【0006】(式(1)中、R1〜16は水素原子、置
換されても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケ
ニル基、アリール基を示し、それぞれ同じであっても異
なっていても良い。また環A、B、Cは置換基を有して
いても良い。)で示される化合物を酸化して得られる赤
外線吸収化合物、(2)環A、B、Cが無置換である
か、又は置換基として1ないし4個のハロゲン原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、水酸基を
有する請求項1に記載の化合物、(3)R1〜R16が
それぞれ独立に無置換のアルキル基、ハロゲン置換アル
キル基、アルコキシ置換アルキル基、シアノ置換アルキ
ル基、置換もしくは未置換のアルキニル基である請求項
2に記載の化合物、(4)(1)ないし(3)のいずれ
か一項に記載の化合物を記録層に含有することを特徴と
する光記録媒体、(5)(1)ないし(3)のいずれか
一項に記載の化合物を含有することを特徴とする赤外カ
ットフィルター、(6)(1)ないし(3)のいずれか
一項に記載の化合物の酸化前駆体、に関する。
(In the formula (1), R1 to R16 represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or an aryl group, which may be the same or different. Rings A, B and C may have a substituent.) An infrared absorbing compound obtained by oxidizing a compound represented by the formula (2): Rings A, B and C are unsubstituted or substituted The compound according to claim 1, wherein the group has 1 to 4 halogen atoms, lower alkyl groups, lower alkoxy groups, cyano groups, and hydroxyl groups, and (3) R1 to R16 each independently represent an unsubstituted alkyl group or halogen substitution. The compound according to claim 2, which is an alkyl group, an alkoxy-substituted alkyl group, a cyano-substituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkynyl group, and the compound according to any one of (4) (1) to (3). (5) An infrared cut filter comprising the compound according to any one of (1) to (3), (6) An oxidation precursor of the compound according to any one of (1) to (3).

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明による、式(1)の化合物
を酸化して得られる化合物は、赤外領域に吸収を有する
赤外吸収化合物であって、種々の機能性色素、例えば光
記録用材料色素、赤外線カットフィルター用色素、デー
タコード用色素、遮光フィルター用色素、熱線遮断用色
素、レーザープリンター用色素、一重項酸素クエンチャ
ー、退色防止剤、有機電界素子における正孔輸送材料な
どとして使用することができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The compound obtained by oxidizing the compound of the formula (1) according to the present invention is an infrared-absorbing compound having an absorption in the infrared region, and various functional dyes such as optical recording Material dye, infrared cut filter dye, data code dye, light shielding filter dye, heat ray blocking dye, laser printer dye, singlet oxygen quencher, anti-fading agent, hole transport material in organic electric field element, etc. Can be used.

【0008】本発明の赤外線吸収化合物は、上記式
(1)で示される構造の化合物を酸化する事によって得
られる。このような赤外線吸収化合物の代表例を化学式
で示すと下記式(2)で表される。式(1)の化合物は
式(2)の化合物の酸化前駆体である。
The infrared absorbing compound of the present invention can be obtained by oxidizing a compound having the structure represented by the above formula (1). A typical example of such an infrared absorbing compound is represented by the following chemical formula (2). The compound of formula (1) is an oxidation precursor of the compound of formula (2).

【0009】[0009]

【化3】 Embedded image

【0010】(式(2)中、R1〜R16、環A、B、
Cは前記と同じ。Xは陰イオンであり、nは1から6の
整数である。) 式(2)において〔〕内は偶数の酸化状態の場合、特開
2000-80071号記載のようなキノン構造を有するジイモニ
ウム塩になる。例えば2価の場合は環A,B,Cどの部
分でもキノン構造を有することができ、4価の場合は環
Aと環Cで2つ、環Bで2つのキノン構造等の構造が考
えられ、6価の場合は環Aと2つの環Cで3つのキノン
構造を有する構造が考えられる。奇数の酸化状態の場
合、特開2000-229931号記載のアミニウム塩のようなラ
ジカルカチオンが存在する構造が考えられる。例えば1
価の場合はどの窒素原子上でラジカルカチオンを有する
ことができ、3価の場合は上述した2価体で存在するキ
ノン構造以外のどの窒素原子上で有することができ、5
価では同様に4価体で存在するキノン構造以外の窒素原
子上でラジカルカチオンを有することが出来る。これら
全て述べた構造はもちろん共役を考えれば、多数の構造
をとり得ることができる
(In the formula (2), R1 to R16, rings A and B,
C is the same as above. X is an anion, and n is an integer from 1 to 6. In the formula (2), [] indicates an even oxidation state.
It becomes a diimmonium salt having a quinone structure as described in 2000-80071. For example, in the case of divalent, any of the rings A, B and C can have a quinone structure, and in the case of tetravalent, a structure such as two rings A and C and two quinone structures of ring B can be considered. In the case of hexavalent, a structure having three quinone structures in ring A and two rings C is considered. In the case of an odd oxidation state, a structure in which a radical cation exists, such as an aminium salt described in JP-A-2000-229931, can be considered. For example, 1
In the case of valence, the radical cation can be present on any nitrogen atom, and in the case of trivalent, it can be present on any nitrogen atom other than the quinone structure present in the above-mentioned divalent form.
In terms of valency, it can also have a radical cation on a nitrogen atom other than the quinone structure present in the tetravalent form. Of course, all of these structures can take many structures, considering conjugation.

【0011】環A、B、Cには1から4つの置換基を有
していても、いなくても良い。結合しうる置換基として
は、例えばハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、シアノ基、低級アルキル基があげられる。ハロゲン
原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等が挙げられる。アルコキシ基として
は、例えばメトキシ基、エトキシ基等のC1〜C5のアル
コキシ基が挙げられ、低級アルキル基としては、例えば
メチル基、エチル基等のC1〜C5のアルキル基が挙げら
れる。好ましくはA、B、Cが置換基を有していない
か、ハロゲン原子(特に塩素原子、臭素原子)、メチル
基またはシアノ基で置換されているものが好ましい。
Rings A, B and C may or may not have from 1 to 4 substituents. Examples of the substituent that can be bonded include a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, a cyano group, and a lower alkyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Examples of the alkoxy group include a C1 to C5 alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group. Examples of the lower alkyl group include a C1 to C5 alkyl group such as a methyl group and an ethyl group. Preferably, A, B and C have no substituent or are substituted with a halogen atom (particularly a chlorine atom or a bromine atom), a methyl group or a cyano group.

【0012】一般式(1)において、R1〜R16は水
素原子、置換されても良いアルキル基、シクロアルキル
基、アルケニル基、アリール基を示し、それぞれ同じで
あっても異なっていても良い。アルキル基としては、メ
チル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、
n−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ブチル
基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル
基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、
n−オクタデシル基等の炭素数1〜20のアルキル基、
好ましくは炭素数1〜10のアルキル基、より好ましく
は炭素数1〜6のアルキル基が挙げられる。シクロアル
キル基としてはシクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基、シクロオクチル基等の炭素数3〜10のシクロアル
キル基が挙げられる。アルケニル基としてはビニル基、
アリル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、2−
ブテニル基、1,3−ブタジエニル基、2−ペンテニル
基等の炭素数2〜10のアルケニル基が挙げられる。ア
リール基としてはフェニル基、トリル基、キシリル基、
ナフチル基等の炭素数6〜12のアリール基が挙げられ
る。
In the general formula (1), R1 to R16 each represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group or an aryl group, which may be the same or different. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group,
n-butyl group, tert-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group,
an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as an n-octadecyl group,
Preferably, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is used. Examples of the cycloalkyl group include a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. As the alkenyl group, a vinyl group,
Allyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, 2-
An alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms such as a butenyl group, a 1,3-butadienyl group and a 2-pentenyl group is exemplified. Aryl groups include phenyl, tolyl, xylyl,
An aryl group having 6 to 12 carbon atoms such as a naphthyl group is exemplified.

【0013】これらの基に結合する置換基としては、シ
アノ基;ニトロ基;ヒドロキシ基;テトラヒドロフリル
基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ
基、sec−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−
ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチ
ルオキシ基、n−デシルオキシ基等の炭素数1〜10の
アルコキシ基;メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ
基、プロポキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エト
キシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、メトキシプロ
ポキシ基、エトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ
基、エトキシブトキシ基等の炭素数2〜12のアルコキ
シアルコキシ基;メトキシメトキシメトキシ基、メトキ
シメトキシエトキシ基、メトキシエトキシメトキシ基、
メトキシエトキシエトキシ基、エトキシメトキシメトキ
シ基、エトキシメトキシエトキシ基、エトキシエトキシ
メトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基等の炭素数3
〜15のアルコキシアルコキシアルコキシ基;アリルオ
キシ基;フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキ
シ基、ナフチルオキシ基等の炭素数6〜12のアリール
オキシ基;メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニ
ルアミノ基、n−プロピルスルホニルアミノ基、イソプ
ロピルスルホニルアミノ基、n−ブチルスルホニルアミ
ノ基、tert−ブチルスルホニルアミノ基、sec−
ブチルスルホニルアミノ基、n−ペンチルスルホニルア
ミノ基、n−ヘキシルスルホニルアミノ基等の炭素数1
〜6のアルキルスルホニルアミノ基;メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニ
ル基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカル
ボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、sec−
ブトキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル
基、n−ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2〜7
のアルコキシカルボニル基;メチルカルボニルオキシ
基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニ
ルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n−ブ
チルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニル
オキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペ
ンチルカルボニルオキシ基、n−ヘキシルカルボニルオ
キシ基等の炭素数2〜7のアルキルカルボニルオキシ
基;メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニル
オキシ基、n−プロポキシカルボニルオキシ基、イソプ
ロポキシカルボニルオキシ基、n−ブトキシカルボニル
オキシ基、tert−ブトキシカルボニルオキシ基、s
ec−ブトキシカルボニルオキシ基、n−ペンチルオキ
シカルボニルオキシ基、n−ヘキシルオキシカルボニル
オキシ基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニルオキ
シ基等が挙げられる。
Examples of the substituents bonded to these groups include a cyano group; a nitro group; a hydroxy group; a tetrahydrofuryl group; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom; a methoxy group, an ethoxy group and an n-propoxy group. , Isopropoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, sec-butoxy group, n-pentyloxy group, n-
C1-C10 alkoxy groups such as hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, n-decyloxy group; methoxymethoxy group, ethoxymethoxy group, propoxymethoxy group, methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group An alkoxyalkoxy group having 2 to 12 carbon atoms such as a propoxyethoxy group, a methoxypropoxy group, an ethoxypropoxy group, a methoxybutoxy group, an ethoxybutoxy group; a methoxymethoxymethoxy group, a methoxymethoxyethoxy group, a methoxyethoxymethoxy group,
C3 such as methoxyethoxyethoxy, ethoxymethoxymethoxy, ethoxymethoxyethoxy, ethoxyethoxymethoxy, ethoxyethoxyethoxy, etc.
Aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms such as phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, naphthyloxy group; methylsulfonylamino group, ethylsulfonylamino group, n-propylsulfonylamino Group, isopropylsulfonylamino group, n-butylsulfonylamino group, tert-butylsulfonylamino group, sec-
1 carbon atom such as butylsulfonylamino group, n-pentylsulfonylamino group, n-hexylsulfonylamino group, etc.
Alkylsulfonylamino groups of methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, sec-
C 2-7 carbon atoms such as a butoxycarbonyl group, an n-pentyloxycarbonyl group and an n-hexyloxycarbonyl group
Alkoxycarbonyl group; methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, n-butylcarbonyloxy group, tert-butylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, n- An alkylcarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms such as a pentylcarbonyloxy group and an n-hexylcarbonyloxy group; a methoxycarbonyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, an n-propoxycarbonyloxy group, an isopropoxycarbonyloxy group, and an n-butoxy group Carbonyloxy group, tert-butoxycarbonyloxy group, s
Examples thereof include an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms such as an ec-butoxycarbonyloxy group, an n-pentyloxycarbonyloxy group, and an n-hexyloxycarbonyloxy group.

【0014】これらのR1〜R16の置換基のうち、好
ましいものとしては、例えば具体的にエチル基、n−プ
ロピル基、n−ブチル基等のような無置換の(C1〜C
8)アルキル基、又はトリフルオロメチル基、1,1,
2,2,2−ペンタフルオロエチル基、3−クロロプロ
ピル基、2−クロロエチル基等のハロゲン置換(C1〜
C8)アルキル基、又はメトキシメチル基、メトキシエ
チル基、メトキシプロピル基、エトキシメチル基、エト
キシエチル基、エトキシプロピル基、エトキシブチル
基、プロポキシメチル基等の(C1〜C4)アルコキシ
置換(C1〜C8)アルキル基、又はシアノメチル基、
2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2−シア
ノプロピル基、4−シアノブチル基、3−シアノブチル
基、2−シアノブチル基、5−シアノペンチル基、6−
シアノヘキシル基等のようなシアノ置換(C1〜C8)
アルキル基、アリル基等の未置換のアルキニル基が好ま
しい。
Among these substituents of R1 to R16, preferred are, for example, unsubstituted (C1 to C16) groups such as an ethyl group, an n-propyl group and an n-butyl group.
8) alkyl group or trifluoromethyl group, 1,1,
Halogen substitution such as a 2,2,2-pentafluoroethyl group, a 3-chloropropyl group, a 2-chloroethyl group (C1-
C8) Alkyl group or (C1-C4) alkoxy substitution (C1-C8) such as methoxymethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, ethoxymethyl group, ethoxyethyl group, ethoxypropyl group, ethoxybutyl group, propoxymethyl group and the like. ) Alkyl, or cyanomethyl,
2-cyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, 2-cyanopropyl group, 4-cyanobutyl group, 3-cyanobutyl group, 2-cyanobutyl group, 5-cyanopentyl group, 6-
Cyano substitution such as cyanohexyl group (C1 to C8)
Unsubstituted alkynyl groups such as an alkyl group and an allyl group are preferred.

【0015】Xは陰イオンであり、例えば有機酸アニオ
ン、無機アニオン等があげられる。有機酸アニオンとし
ては、例えば酢酸イオン、乳酸イオン、トリフルオロ酢
酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、シュ
ウ酸イオン、コハク酸イオン、ステアリン酸イオン等の
有機カルボン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トル
エンスルホン酸イオン、ナフタレンモノスルホン酸イオ
ン、クロロベンゼンスルホン酸イオン、ニトロベンゼン
スルホン酸イオン、ドデシルベンゼンスルホン酸イオ
ン、ベンゼンスルホン酸イオン、エタンスルホン酸イオ
ン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等の有機スル
ホン酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ブチルト
リフェニルホウ酸イオン等の有機ホウ酸イオン等があげ
られ、好ましくは、トリフルオロメタンスルホン酸イオ
ン、トルエンスルホン酸イオン等のハロゲノアルキルス
ルホン酸イオンもしくはアルキルアリールスルホン酸イ
オンが挙げられる。
X is an anion, and examples thereof include an organic acid anion and an inorganic anion. Examples of the organic acid anion include organic carboxylate ions such as acetate ion, lactate ion, trifluoroacetate ion, propionate ion, benzoate ion, oxalate ion, succinate ion, and stearate ion, methanesulfonic acid ion, and toluene. Organic sulfonic acid ions such as sulfonic acid ion, naphthalene monosulfonic acid ion, chlorobenzenesulfonic acid ion, nitrobenzenesulfonic acid ion, dodecylbenzenesulfonic acid ion, benzenesulfonic acid ion, ethanesulfonic acid ion, trifluoromethanesulfonic acid ion, etc., and tetraphenyl Organic borate ions such as borate ion and butyltriphenyl borate ion, etc., are preferred. Halogenoalkyls such as trifluoromethanesulfonic acid ion and toluenesulfonic acid ion are preferred. Acid ion or alkyl arylsulfonate ion.

【0016】無機アニオンとしては、例えばフッ素イオ
ン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲ
ンイオン、チオシアン酸イオン、ヘキサフルオロアンチ
モン酸イオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、硝
酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオ
ロリン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸
イオン、チタン酸イオン、バナジン酸イオン、リン酸イ
オン、ホウ酸イオン等があげられ、好ましいものとして
は、過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロホ
ウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフル
オロアンチモン酸イオン等があげられる。
Examples of the inorganic anions include halogen ions such as fluorine ion, chloride ion, bromine ion and iodine ion, thiocyanate ion, hexafluoroantimonate ion, perchlorate ion, periodate ion, nitrate ion and tetrafluoro ion. Borate ion, hexafluorophosphate ion, molybdate ion, tungstate ion, titanate ion, vanadate ion, phosphate ion, borate ion, etc., and preferred are perchlorate ion, iodine ion and the like. , Tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion and the like.

【0017】これらの陰イオンのうち、好ましいものと
しては、例えば過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラ
フルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、
ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタ
ンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン等が挙
げられる。
Of these anions, preferred are, for example, perchlorate ion, iodine ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion,
Hexafluoroantimonate ion, trifluoromethanesulfonic acid ion, toluenesulfonic acid ion and the like can be mentioned.

【0018】次に、本発明の一般式(2)で示される赤
外線吸収化合物化合物の具体例を表1〜4に示す。表1
〜4中、TsOはトルエンスルホン酸イオンを表す。ま
た、A、B、Cが無置換の場合は「4H」と、R1〜R
16が全てシアノエチル基である場合には「8(CH2
CH2CN,CH2CH2CN)」と、またR1〜R16の
うち、例えば1つがn−ブチル基で残りがシアノエチル
基である場合には「7(CH2CH2CN,CH2CH2C
N)(CH2CH2CN,n−C4H9)」等と簡略して表
記する。
Next, specific examples of the infrared absorbing compound represented by the general formula (2) of the present invention are shown in Tables 1 to 4. Table 1
In ~ 4, TsO represents toluenesulfonic acid ion. When A, B, and C are unsubstituted, “4H” and R 1 to R
When all 16 are cyanoethyl groups, "8 (CH2
CH2CN, CH2CH2CN) "and, for example, when one of R1 to R16 is an n-butyl group and the remaining is a cyanoethyl group," 7 (CH2CH2CN, CH2CH2C)
N) (CH2CH2CN, n-C4H9) "and the like.

【0019】 表1 No. (R1,R2)(R3,R4)(R5,R6)(R7,R8)(R9,R10)(R11,R12)(R13R14)(R15,R16), A B C X n 1 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 1 2 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 2 3 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 3 4 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 4 5 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 5 6 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 6 7 8(n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H SbF6 1 8 8(n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H SbF6 2 9 8(n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H SbF6 3 10 8(n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H SbF6 4 11 8(CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H SbF6 2 12 8(CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H SbF6 4Table 1 No. (R1, R2) (R3, R4) (R5, R6) (R7, R8) (R9, R10) (R11, R12) (R13R14) (R15, R16), ABCX n 18 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 1 2 8 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 2 3 8 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 3 4 8 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 4 5 8 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 5 6 8 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H SbF6 6 7 8 (n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H SbF6 18 8 (n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H SbF6 298 (n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H SbF6 3 10 8 (n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H SbF6 4 11 8 (CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H SbF6 2 12 8 (CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H SbF6 4

【0020】 表2 No. (R1,R2)(R3,R4)(R5,R6)(R7,R8)(R9,R10)(R11,R12)(R13R14)(R15,R16), A B C X n 13 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H ClO4 1 14 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H PF6 2 15 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H BF4 3 16 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H Cl04 4 17 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H ClO4 5 18 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H BF4 6 19 8(n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H PF6 1 20 8(n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H BF4 2 21 8(n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H ClO4 3 22 8(n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H BF4 4 23 8(CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H ClO4 2 24 8(CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H ClO4 4Table 2 No. (R1, R2) (R3, R4) (R5, R6) (R7, R8) (R9, R10) (R11, R12) (R13R14) (R15, R16), ABCX n138 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H ClO4 1 14 8 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H PF6 215 8 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H BF4 3 16 8 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H Cl04 4 17 8 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H ClO4 5 18 8 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H BF4 6 198 (n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H PF6 1 208 (n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H BF4 221 8 (n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H ClO4 3 22 8 (n-C3H6CN, n-C3H6CN), 4H 4H 4H BF4 4 23 8 (CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H ClO4 2 24 8 (CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H ClO4 4

【0021】 表3 No. (R1,R2)(R3,R4)(R5,R6)(R7,R8)(R9,R10)(R11,R12)(R13R14)(R15,R16), A B C X n 25 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H TsO 2 26 8(n-C4H9, n-C4H9), Cl 4H 4H ClO4 2 27 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H Cl 4H ClO4 1 28 8(n-C4H9, n-C4H9), CH3 4H 4H ClO4 2 29 8(n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H Cl ClO4 3 30 8(n-C4H9, n-C4H9), Cl CH3 4H ClO4 4 31 8(n-C3H6CN, n-C3H6CN), Cl 4H 4H SbF6 2 32 8(CH2CH=CH2, CH2CH=CH2), 4H 4H 4H ClO4 2 33 8(n-C3H7, n-C3H7), 4H 4H 4H ClO4 2 34 8(C2H5, C2H5), 4H 4H 4H ClO4 4 35 8(CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3), Cl 4H 4H ClO4 2 36 8(CF2CF3, CF2CF3), 4H 4H 4H ClO4 4Table 3 No. (R1, R2) (R3, R4) (R5, R6) (R7, R8) (R9, R10) (R11, R12) (R13R14) (R15, R16), ABCX n258 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H 4H TsO 2 268 (n-C4H9, n-C4H9), Cl 4H 4H ClO4 2 278 (n-C4H9, n-C4H9), 4H Cl 4H ClO4 1 28 8 (n-C4H9, n-C4H9), CH3 4H 4H ClO4 229 8 (n-C4H9, n-C4H9), 4H 4H Cl ClO4 3 30 8 (n-C4H9, n-C4H9), Cl CH3 4H ClO4 4 31 8 (n-C3H6CN, n-C3H6CN), Cl 4H 4H SbF6 2 328 (CH2CH = CH2, CH2CH = CH2), 4H 4H 4H ClO4 238 (n-C3H7, n-C3H7), 4H 4H 4H ClO4 2 348 (C2H5, C2H5), 4H 4H 4H ClO4 435 8 (CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3), Cl 4H 4H ClO4 236 8 (CF2CF3, CF2CF3), 4H 4H 4H ClO4 4

【0022】 表4 No. (R1,R2)(R3,R4)(R5,R6)(R7,R8)(R9,R10)(R11,R12)(R13R14)(R15,R16), A B C X n 37 7(n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H ClO4 1 38 7(n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H PF6 2 39 7(n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, CH2CH2OCH3), Cl 4H 4H BF4 3 40 7(n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H Cl04 4 41 7(n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, n-C3H6CN), 4H 4H 4H ClO4 3 42 7(n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, n-C3H6CN), CH3 4H 4H BF4 4 43 7(n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, n-C3H6CN), 4H 4H 4H PF6 1 44 7(n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, n-C3H6CN), 4H 4H 4H ClO4 2 45 7(n-C3H6CN, n-C3H6CN) (n-C3H6CN, n-C4H9), 4H 4H 4H ClO4 3 46 7(n-C3H6CN, n-C3H6CN) (n-C3H6CN, n-C4H9), 4H 4H 4H BF4 4 47 7(CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3) (CH2CH2OCH3, n-C4H9), 4H 4H 4H ClO4 2 48 7(CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3) (CH2CH2OCH3, n-C4H9), 4H 4H 4H ClO4 4Table 4 No. (R1, R2) (R3, R4) (R5, R6) (R7, R8) (R9, R10) (R11, R12) (R13R14) (R15, R16), ABCX n 37 7 (n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H ClO4 138 7 (n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H PF6 2 39 7 (n -C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, CH2CH2OCH3), Cl 4H 4H BF4 3 40 7 (n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, CH2CH2OCH3), 4H 4H 4H Cl04 4 41 7 (n-C4H9 , n-C4H9) (n-C4H9, n-C3H6CN), 4H 4H 4H ClO4 3 427 (n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, n-C3H6CN), CH3 4H 4H BF4 443 7 (n -C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, n-C3H6CN), 4H 4H 4H PF6 144 7 (n-C4H9, n-C4H9) (n-C4H9, n-C3H6CN), 4H 4H 4H ClO4 2 45 7 (n-C3H6CN, n-C3H6CN) (n-C3H6CN, n-C4H9), 4H 4H 4H ClO4 3 46 7 (n-C3H6CN, n-C3H6CN) (n-C3H6CN, n-C4H9), 4H 4H 4H BF4 4 47 7 (CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3) (CH2CH2OCH3, n-C4H9), 4H 4H 4H ClO4 2 48 7 (CH2CH2OCH3, CH2CH2OCH3) (CH2CH2OCH3, n-C4H9), 4H 4H 4H ClO4 4

【0023】本発明の一般式(2)で表される化合物
は、例えば特公昭43−25335号公報に記載された
次の様な方法で得ることができる。ウルマン反応及び還
元反応で得られる下記式(3)
The compound represented by formula (2) of the present invention can be obtained, for example, by the following method described in JP-B-43-25335. The following formula (3) obtained by the Ullmann reaction and the reduction reaction

【0024】[0024]

【化4】 Embedded image

【0025】(式(3)中、R1〜16、環A、B、C
は前記と同じ。)で表されるアミノ体を再び、ウルマン
反応及び還元反応して得られる下記式(4)
(In the formula (3), R1-16, rings A, B, C
Is the same as above. ) Is again subjected to the Ullmann reaction and the reduction reaction of the amino compound represented by the following formula (4):

【0026】[0026]

【化5】 Embedded image

【0027】(式(4)中、R1〜16、環A、B、C
は前記と同じ。)で表されるアミノ体を有機溶媒中、好
ましくはDMF,DMI,NMP等の水溶性極性溶媒
中、30〜160℃、好ましくは50〜140℃でハロ
ゲン化された対応する試薬(例えば、R1がC4H9のと
きはC4H9Cl)と反応させ一般式(1)の化合物の全
置換体を得る事ができる。又、全置換体以外の化合物を
合成する場合(例えばNo.37化合物)には、先に所
定のモル数の試薬(15モルのC4H9Cl)と反応させ
た後、ハロゲン化された残りのモル数の対応する試薬
(1モルのClC3H6CN)と反応させ式(1)の化合
物を得る。
(In the formula (4), R1-16, rings A, B, C
Is the same as above. )) In an organic solvent, preferably in a water-soluble polar solvent such as DMF, DMI or NMP, at 30 to 160 ° C, preferably 50 to 140 ° C. Is C4H9), it is possible to obtain an all-substituted compound of the general formula (1). When a compound other than the all-substituted compound is synthesized (for example, No. 37 compound), it is first reacted with a predetermined number of moles of a reagent (15 moles of C4H9Cl) and then reacted with the remaining moles of halogenated moles. With 1 mol of ClC3H6CN to give a compound of formula (1).

【0028】その後、式(1)の化合物を、有機溶媒
中、好ましくはDMF、DMI、NMP等の水溶性極性
溶媒中、0〜100℃、好ましくは5〜70℃で対応す
る銀塩を添加して、酸化することにより、本発明の一般
式(2)で表される化合物が得られる。ここで酸化剤の
モル数を1等量から6等量まで任意に変えることによっ
て、1〜6酸化体を得る事ができる。また、式(1)の
化合物を硝酸銀、過塩素酸銀、塩化第二銅等の酸化剤で
酸化し、その反応液に、所望のアニオンの酸もしくは塩
を添加して塩交換を行う方法によっても一般式(2)で
表される化合物を合成することが出来る。
Thereafter, the compound of the formula (1) is added with a corresponding silver salt in an organic solvent, preferably in a water-soluble polar solvent such as DMF, DMI, NMP at 0 to 100 ° C., preferably 5 to 70 ° C. Then, by oxidation, the compound represented by the general formula (2) of the present invention is obtained. Here, by arbitrarily changing the number of moles of the oxidizing agent from 1 equivalent to 6 equivalents, 1 to 6 oxidized products can be obtained. Further, the compound of the formula (1) is oxidized with an oxidizing agent such as silver nitrate, silver perchlorate, cupric chloride or the like, and a salt exchange is performed by adding an acid or salt of a desired anion to the reaction solution. Can also synthesize the compound represented by the general formula (2).

【0029】本発明の光記録媒体は、基板上に記録層を
有するもので、該記録層は上記の本発明の赤外線吸収化
合物を含有することを特徴とする。この記録層は、本発
明の赤外線吸収化合物単独で形成されていても良く、ま
たバインダー等の各種添加剤と混合して形成されていて
も良い。この場合、本発明の赤外線吸収化合物により情
報が記録される。
The optical recording medium of the present invention has a recording layer on a substrate, and the recording layer contains the above-mentioned infrared absorbing compound of the present invention. This recording layer may be formed of the infrared absorbing compound of the present invention alone, or may be formed by mixing with various additives such as a binder. In this case, information is recorded by the infrared absorbing compound of the present invention.

【0030】また、本発明の赤外線吸収化合物を、有機
色素により情報が記録される光記録媒体の記録層に含有
させることによって、該光記録媒体の耐光性を向上させ
ることができる。このような光記録媒体も本発明の光記
録媒体の一種である。光記録媒体として、本発明の赤外
線吸収化合物と併用しうる有機色素としては、一般的に
知られている色素、例えばシアニン系色素、スクワリリ
ウム系色素、インドアニリン系色素、フタロシアニン系
色素、アゾ系色素、メロシアニン系色素、ポリメチン系
色素、ナフトキノン系色素、ピリリウム系色素等が挙げ
られる。これら有機色素1モルに対して、本発明の赤外
線吸収化合物は、一般的に0.01〜10モル、好まし
くは0.03〜3モル使用される。
Further, by including the infrared absorbing compound of the present invention in a recording layer of an optical recording medium on which information is recorded by an organic dye, the light resistance of the optical recording medium can be improved. Such an optical recording medium is also a kind of the optical recording medium of the present invention. As the optical recording medium, organic dyes that can be used in combination with the infrared absorbing compound of the present invention include commonly known dyes such as cyanine dyes, squarylium dyes, indoaniline dyes, phthalocyanine dyes, and azo dyes. And merocyanine dyes, polymethine dyes, naphthoquinone dyes, and pyrylium dyes. The infrared absorbing compound of the present invention is generally used in an amount of 0.01 to 10 mol, preferably 0.03 to 3 mol, per 1 mol of these organic dyes.

【0031】本発明の光記録媒体は、基板上に本発明の
赤外線吸収化合物及び所望により色素を含有する記録層
を設けたもので、必要に応じ、反射層、保護層が設けら
れる。基板としては既知のものを任意に使用することが
出来る。例えば、ガラス板、金属板又はプラスチック板
もしくはフィルムがあげられ、これらを製造するための
プラスチックとしてはアクリル樹脂、ポリカーボネート
樹脂、メタクリル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリイミド
樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリプロピレン樹脂等があげられる。基板の形状につい
ては、ディスク状、カード状、シート状、ロールフィル
ム状等種々のものがあげられる。
The optical recording medium of the present invention comprises a substrate on which a recording layer containing the infrared absorbing compound of the present invention and, if desired, a dye is provided. If necessary, a reflective layer and a protective layer are provided. Any known substrate can be used. For example, a glass plate, a metal plate or a plastic plate or a film may be mentioned, and as a plastic for producing these, acrylic resin, polycarbonate resin, methacrylic resin, polysulfone resin, polyimide resin, amorphous polyolefin resin, polyester resin,
Examples include polypropylene resin. The shape of the substrate includes various shapes such as a disk shape, a card shape, a sheet shape, and a roll film shape.

【0032】本発明における記録層は、例えば、一般式
(2)で表される化合物およびより好ましくは一般式
(2)で表される化合物と他の有機色素を公知の有機溶
剤、例えばテトラフルオロプロパノール(TFP)、オ
クタフルオロプロパノール(OFP)、ダイアセトンア
ルコール、メタノール、エタノール、ブタノール、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジクロロエタン、イ
ソホロン、シクロヘキサノン等に溶解し、必要に応じ
て、適当なバインダーを加え、その溶液をスピンコータ
ー、バーコーター、ロールコーター等により基板上に塗
布することにより得ることが出来る。その他の方法とし
ては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレー
ド法、キャスト法もしくは基板を溶液中に漬けるディッ
ピング法によっても得ることができる。記録層の膜厚
は、記録感度や反射率を考慮すると、好ましくは0.0
1μm〜5μm、より好ましくは0.02μm〜3μm
である。
The recording layer in the present invention may be formed, for example, by adding a compound represented by the general formula (2) and more preferably a compound represented by the general formula (2) and another organic dye to a known organic solvent such as tetrafluorocarbon. It is dissolved in propanol (TFP), octafluoropropanol (OFP), diacetone alcohol, methanol, ethanol, butanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dichloroethane, isophorone, cyclohexanone, etc., and if necessary, an appropriate binder is added. The solution can be obtained by coating the solution on a substrate with a spin coater, bar coater, roll coater or the like. Other methods include a vacuum deposition method, a sputtering method, a doctor blade method, a casting method, and a dipping method in which a substrate is immersed in a solution. The thickness of the recording layer is preferably set at 0.0 in consideration of recording sensitivity and reflectance.
1 μm to 5 μm, more preferably 0.02 μm to 3 μm
It is.

【0033】本発明の光情報記録媒体には、必要により
記録層の下に下引層を、また記録層上に保護層を設ける
ことが出来、さらに記録層と保護層の間に反射層を設け
ることが出来る。反射層を設ける場合、反射層は金、
銀、銅、アルミニウム等、好ましくは金、銀、もしくは
アルミニウムの金属で構成され、これらの金属は単独で
使用してもよく、2種以上の合金としてもよい。このも
のは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法等で成膜される。このような反射層の厚さは、
0.02〜2μmである。反射層の上に設けられること
のある保護層は、一般に、紫外線硬化樹脂をスピンコー
ト法により塗装した後、紫外線を照射し、塗膜を硬化さ
せて形成されるものである。その他、エポキシ樹脂、ア
クリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等も保護膜
の形成材料に用いられる。このような保護膜の厚さは、
通常、0.01〜100μmである。
In the optical information recording medium of the present invention, an undercoat layer can be provided below the recording layer, and a protective layer can be provided on the recording layer, if necessary. Further, a reflective layer is provided between the recording layer and the protective layer. Can be provided. When providing a reflective layer, the reflective layer is gold,
It is composed of silver, copper, aluminum or the like, preferably gold, silver or aluminum, and these metals may be used alone or as an alloy of two or more. This is formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like. The thickness of such a reflective layer is
0.02 to 2 μm. The protective layer, which may be provided on the reflective layer, is generally formed by applying an ultraviolet curable resin by a spin coating method and then irradiating ultraviolet rays to cure the coating film. In addition, an epoxy resin, an acrylic resin, a silicone resin, a urethane resin, or the like is also used as a material for forming the protective film. The thickness of such a protective film is
Usually, it is 0.01 to 100 μm.

【0034】本発明の光記録媒体における情報の記録、
あるいは画像の形成はレーザー、例えば、半導体レーザ
ー、ヘリウム−ネオンレーザー、He−Cdレーザー、
YAGレーザー、Arレーザー等の集光したスポット状
の高エネルギービームを基板を通して、もしくは基板と
反対側から記録層に照射することにより行われ、情報あ
るいは画像の読み出しは、低出力のレーザービームを照
射することにより、ピット部とピットが形成されていな
い部分の反射光量もしくは透過光量の差を検出すること
により行われる。
Recording of information on the optical recording medium of the present invention,
Alternatively, the image is formed by a laser, for example, a semiconductor laser, a helium-neon laser, a He-Cd laser,
It is performed by irradiating the recording layer with a focused high-energy beam such as a YAG laser or Ar laser through the substrate or from the opposite side of the substrate. Reading of information or images is performed by irradiating a low-output laser beam. This is performed by detecting the difference between the amount of reflected light or the amount of transmitted light between the pit portion and the portion where no pit is formed.

【0035】本発明の赤外線カットフィルターは、上記
の赤外線吸収化合物含有層を基材上に設けたものでも良
く、また基材自体が赤外線吸収化合物含有層であっても
良い。基材としては、特に制限されないが、通常樹脂製
の基材が使用される。赤外線吸収化合物含有層の厚みは
0.1μm〜10mm程度であるが、赤外線カット率等
の目的に応じて、適宜決定される。また、赤外線吸収化
合物の含有量も目的とする赤外線カット率に応じて、適
宜決定される。
The infrared cut filter of the present invention may have the above-mentioned infrared absorbing compound-containing layer provided on a substrate, or the substrate itself may be an infrared absorbing compound-containing layer. The substrate is not particularly limited, but usually a resin substrate is used. The thickness of the infrared-absorbing compound-containing layer is about 0.1 μm to 10 mm, but is appropriately determined according to the purpose such as the infrared cut rate. Also, the content of the infrared absorbing compound is appropriately determined according to the intended infrared cut ratio.

【0036】ベースとなる樹脂としては、樹脂板又は樹
脂フィルムにした場合、できるだけ透明性の高いものが
好ましく、具体例として、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリ酢
酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポ
リフッ化ビニル等のビニル化合物、及びそれらのビニル
化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリ
ル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリ
デン、ポリシアン化ビニリデン、フッ化ビニリデン/ト
リフルオロエチレン共重合体、フッ化ビニリデン/テト
ラフルオロエチレン共重合体、シアン化ビニリデン/酢
酸ビニル共重合体、等のビニル化合物又はフッ素系化合
物の共重合体、ポリトリフルオロエチレン、ポリテトラ
フルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン等の
フッ素を含む樹脂、ナイロン6、ナイロン66等のポリ
アミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリペプチド、ポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリオキシメチレン等のポリエーテル、エポ
キシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラー
ル等が挙げられる。
The resin used as the base is preferably as transparent as possible when formed into a resin plate or resin film. Specific examples include polyethylene, polystyrene, polyacrylic acid, polyacrylate, polyvinyl acetate, and polyvinyl acetate. Vinyl compounds such as acrylonitrile, polyvinyl chloride and polyvinyl fluoride, and addition polymers of those vinyl compounds, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid esters, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, polyvinylidene fluoride, vinylidene fluoride / trivinylidene Copolymers of vinyl compounds or fluorine compounds, such as fluoroethylene copolymers, vinylidene fluoride / tetrafluoroethylene copolymers, vinylidene cyanide / vinyl acetate copolymers, polytrifluoroethylene, polytetrafluoroethylene, Fluorine-containing resins such as hexafluoropropylene, polyamides such as nylon 6, nylon 66, polyimides, polyurethanes, polypeptides, polyesters such as polyethylene terephthalate, polycarbonates, polyethers such as polyoxymethylene, epoxy resins, polyvinyl alcohol, polyvinyl Butyral and the like.

【0037】上記化合物を用いて、本発明の赤外線カッ
トフィルターを作製する方法としては、特に限定される
ものではないが、例えば次の方法が利用できる。例え
ば、(1)樹脂に上記の赤外線吸収化合物を混練し、加
熱成形して樹脂板あるいはフィルムを作製する方法。
(2)化合物と樹脂モノマーまたは樹脂モノマーの予備
重合体を重合触媒の存在下にキャスト重合し、樹脂板或
いはフィルムを作製する方法。(3)化合物を含有する
塗料を作製し、透明樹脂板、透明フィルム、或いは透明
ガラス板にコーティングする方法。(4)化合物を接着
剤に含有させて、合わせ樹脂板、合わせ樹脂フィルム、
或いは合わせガラス板を作製する方法等である。
The method for producing the infrared cut filter of the present invention using the above compound is not particularly limited, but for example, the following method can be used. For example, (1) a method in which a resin plate or a film is prepared by kneading the above-mentioned infrared-absorbing compound into a resin and heat-molding the mixture.
(2) A method of producing a resin plate or film by cast polymerization of a compound and a resin monomer or a prepolymer of a resin monomer in the presence of a polymerization catalyst. (3) A method of preparing a paint containing a compound and coating it on a transparent resin plate, a transparent film, or a transparent glass plate. (4) The compound is contained in the adhesive, and a laminated resin plate, a laminated resin film,
Alternatively, it is a method of producing a laminated glass plate.

【0038】(1)の作製方法としては、用いる樹脂に
よって加工温度、フィルム化(樹脂板化)条件等が多少
異なるが、通常、本発明の化合物をベース樹脂の粉体或
いはペレットに添加し、150〜350℃に加熱、溶解
させた後、成形して樹脂板を作製する方法、押し出し機
によりフィルム化(樹脂板化)する方法等が挙げられ
る。上記の赤外線吸収化合物の添加量は、作製する樹脂
板或いはフィルムの厚み、吸収強度、可視光透過率によ
って異なるが、一般的にバインダー樹脂の重量に対し
て、0.01〜30%、好ましくは0.03〜15%使
用される。
As the production method (1), although the processing temperature, film formation (resin plate formation) conditions and the like are slightly different depending on the resin to be used, the compound of the present invention is usually added to base resin powder or pellets. After heating and melting at 150 to 350 ° C., a method of forming a resin plate by molding, a method of forming a film (resin plate) by an extruder, and the like can be given. The amount of the infrared absorbing compound to be added varies depending on the thickness, absorption intensity, and visible light transmittance of the resin plate or film to be produced, but is generally from 0.01 to 30%, preferably to the weight of the binder resin. 0.03 to 15% is used.

【0039】上記の化合物と樹脂モノマーまたは樹脂モ
ノマーの予備重合体を重合触媒の存在下にキャスト重合
し、作製する(2)の方法において、それらの混合物を
型内に注入し、反応させて硬化させるか、或いは金型に
流し込んで型内で硬い製品となるまで固化させて成形す
る。多くの樹脂がこの過程で成形可能であり、具体例と
してアクリル樹脂、ジエチレングリコールビス(アリル
カーボネート)樹脂、エポキシ樹脂、フェノール−ホル
ムアルデヒド樹脂、ポリスチレン樹脂、シリコン樹脂、
等が挙げられる。その中でも、硬度、耐熱性、耐薬品性
に優れたアクリルシートが得られるメタクリル酸メチル
の塊状重合によるキャスティング法が好ましい。
In the method (2) in which the above compound and the resin monomer or the prepolymer of the resin monomer are cast-polymerized in the presence of a polymerization catalyst, the mixture is poured into a mold, reacted and cured. Alternatively, it is poured into a mold and solidified in the mold until a hard product is formed. Many resins can be molded in this process, such as acrylic resin, diethylene glycol bis (allyl carbonate) resin, epoxy resin, phenol-formaldehyde resin, polystyrene resin, silicone resin,
And the like. Among them, a casting method by bulk polymerization of methyl methacrylate, which gives an acrylic sheet excellent in hardness, heat resistance and chemical resistance, is preferable.

【0040】重合触媒としては公知のラジカル熱重合開
始剤が利用でき、例えばベンゾイルパーオキシド、p−
クロロベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオ
キシカーボネート等の過酸化物、アゾビスイソブチロニ
トリル等のアゾ化合物が挙げられる。その使用量は混合
物の総量に対して、一般的に0.01〜5wt%であ
る。熱重合における加熱温度は、一般的に40〜200
℃であり、時間は一般的に30分〜8時間程度である。
また熱重合以外に、光重合開始剤や増感剤を添加して光
重合する方法も利用できる。
As the polymerization catalyst, known radical thermal polymerization initiators can be used. For example, benzoyl peroxide, p-
Examples include peroxides such as chlorobenzoyl peroxide and diisopropyl peroxycarbonate, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile. The amount used is generally from 0.01 to 5% by weight, based on the total amount of the mixture. The heating temperature in the thermal polymerization is generally 40 to 200.
° C, and the time is generally about 30 minutes to 8 hours.
In addition to the thermal polymerization, a method of adding a photopolymerization initiator or a sensitizer and performing photopolymerization can also be used.

【0041】(3)の方法としては、本発明の化合物を
バインダー樹脂及び有機溶媒に溶解させて塗料化する方
法、本発明の化合物を微粒子化して分散して、水系塗料
とする方法等がある。前者の方法では例えば、脂肪族エ
ステル樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン
樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リビニル系樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポ
リオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビ
ニル変性樹脂等、或いはそれらの共重合樹脂をバインダ
ーとして用いる事ができる。
Examples of the method (3) include a method in which the compound of the present invention is dissolved in a binder resin and an organic solvent to form a coating, and a method in which the compound of the present invention is formed into fine particles and dispersed to obtain an aqueous coating. . In the former method, for example, aliphatic ester resin, acrylic resin, melamine resin, urethane resin, aromatic ester resin, polycarbonate resin, polyvinyl resin, aliphatic polyolefin resin, aromatic polyolefin resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl modified resin Or a copolymer resin thereof can be used as a binder.

【0042】溶媒としては、ハロゲン系、アルコール
系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族
炭化水素系、エーテル系の溶媒、或いはそれらの混合物
の溶媒を用いることができる。本発明の赤外線吸収化合
物の濃度は、作製するコーティングの厚み、吸収強度、
可視光透過率によって異なるが、バインダー樹脂に対し
て、一般的に0.1〜30%である。
As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixture thereof can be used. The concentration of the infrared absorbing compound of the present invention, the thickness of the coating to be produced, the absorption intensity,
Although it depends on the visible light transmittance, it is generally 0.1 to 30% based on the binder resin.

【0043】上記のように作製した塗料は、透明樹脂フ
ィルム、透明樹脂板、透明ガラス等の上にスピンコータ
ー、バーコーター、ロールコーター、スプレー等でコー
ティングして得ることができる。
The paint prepared as described above can be obtained by coating a transparent resin film, a transparent resin plate, a transparent glass or the like with a spin coater, a bar coater, a roll coater, a spray or the like.

【0044】(4)の方法において、接着剤としては、
一般的なシリコン系、ウレタン系、アクリル系等の樹脂
用、或いは合わせガラス用のポリビニルブチラール接着
剤、エチレン−酢酸ビニル系接着剤等の合わせガラス用
の公知の透明接着剤が使用できる。本発明の化合物を
0.1〜30%添加した接着剤を用いて透明な樹脂板同
士、樹脂板と樹脂フィルム、樹脂板とガラス、樹脂フィ
ルム同士、樹脂フィルムとガラス、ガラス同士を接着し
て、フィルターを作製する。
In the method (4), the adhesive is
A known transparent adhesive for laminated glass such as a general silicone-based, urethane-based, acrylic-based resin, or a laminated glass such as a polyvinyl butyral adhesive or an ethylene-vinyl acetate-based adhesive can be used. A transparent resin plate, a resin plate and a resin film, a resin plate and a glass, a resin film and a resin film, a glass and a glass are bonded to each other using an adhesive containing 0.1 to 30% of the compound of the present invention. , To make a filter.

【0045】尚、それぞれの方法で混練、混合の際、紫
外線吸収剤、可塑剤などの通常の樹脂成形に用いる添加
剤を加えても良い。
In kneading and mixing by the respective methods, additives such as an ultraviolet absorber and a plasticizer which are used for ordinary resin molding may be added.

【0046】本発明の赤外線カットフィルターは、一般
式(2)で表される化合物だけでも良いが、他の近赤外
線吸収化合物と混ぜて作製しても良い。他の近赤外線吸
収化合物としては、例えばフタロシアニン系、シアニン
系色素等があげられる。また、無機金属の近赤外線吸収
化合物としては、例えば金属銅或いは硫化銅、酸化銅等
の銅化合物、酸化亜鉛を主成分とする金属混合物、タン
グステン化合物、ITO、ATO等が挙げられる。
The infrared cut filter of the present invention may be composed of only the compound represented by the general formula (2), or may be prepared by mixing it with another near infrared absorbing compound. Examples of other near-infrared absorbing compounds include phthalocyanine-based and cyanine-based dyes. Examples of the inorganic metal near-infrared absorbing compound include metallic copper or a copper compound such as copper sulfide and copper oxide, a metal mixture containing zinc oxide as a main component, a tungsten compound, ITO, and ATO.

【0047】又、フィルターの色調を変えるために、可
視領域に吸収を持つ色素を、本発明の効果を阻害しない
範囲で加えることも好ましい。又、調色用色素のみを含
有するフィルターを作製し、後で張り合わせることもで
きる。
Further, in order to change the color tone of the filter, it is preferable to add a dye having absorption in the visible region as long as the effect of the present invention is not impaired. Alternatively, a filter containing only a toning dye may be prepared and then laminated later.

【0048】この様な赤外線カットフィルターは、ディ
スプレーの前面板に用いられる場合等には、可視光の透
過率は高いほど良く少なくとも40%以上、好ましくは
50%以上必要である。近赤外のカット領域は800〜
900nm、より好ましくは800〜1000nmであ
り、その領域の平均透過率が50%以下、より好ましく
は30%以下、更に好ましくは20%以下、特に好まし
くは10%以下になることが望ましい。
When such an infrared cut filter is used for a front panel of a display or the like, the higher the transmittance of visible light, the better and the transmittance is required to be at least 40%, preferably at least 50%. Near infrared cut area is 800 ~
It is preferably 900 nm, more preferably 800 to 1000 nm, and the average transmittance in that region is 50% or less, more preferably 30% or less, further preferably 20% or less, and particularly preferably 10% or less.

【0049】[0049]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明が、これらの実施例に限定されるもの
ではない。尚、実施例中、部は特に特定しない限り重量
部を表す。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, parts are parts by weight unless otherwise specified.

【0050】実施例1 <N,N,N’,N’−テトラキス{ジ(p−ニトロ
フェニル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミン
の合成>DMF90部中にN,N,N’,N’−テトラ
キス(アミノフェニル)−p−フェニレンジアミン1
0.6部、p−ニトロクロロベンゼン42部、炭酸カリ
ウム14部、銅紛1部を加え、160℃で24時間反応
する。冷却後、濾過した。この結晶を温水200部で洗
浄した後、乾燥し橙色結晶72部を得た。
Example 1 <Synthesis of N, N, N ′, N′-tetrakis-di (p-nitrophenyl) aminophenyl} -p-phenylenediamine N, N, N ′, N ′ in 90 parts of DMF -Tetrakis (aminophenyl) -p-phenylenediamine 1
0.6 part, 42 parts of p-nitrochlorobenzene, 14 parts of potassium carbonate and 1 part of copper powder are added and reacted at 160 ° C. for 24 hours. After cooling, it was filtered. The crystals were washed with 200 parts of warm water and dried to obtain 72 parts of orange crystals.

【0051】<N,N,N’,N’−テトラキス{ジ
(p−アミノフェニル)アミノフェニル}−p−フェニ
レンジアミンの合成>DMF70部中に上記で合成し
たニトロ体23部、5%パラジウムカーボン1.3部を
加え、90℃に加熱した後、水素8kg/cm2の圧力
をかけ1時間水添反応を行った。冷却後メタノール20
0部を5℃以下にし、反応液を全量加え、1時間撹拌し
た。濾過後、乾燥して、黒色結晶20部を得た。
<Synthesis of N, N, N ′, N′-tetrakis {di (p-aminophenyl) aminophenyl} -p-phenylenediamine> 23 parts of the nitro compound synthesized above in 70 parts of DMF, 5% palladium After adding 1.3 parts of carbon and heating to 90 ° C., a hydrogenation reaction was carried out for 1 hour by applying a pressure of 8 kg / cm 2 of hydrogen. After cooling methanol 20
0 parts was cooled to 5 ° C. or lower, the whole amount of the reaction solution was added, and the mixture was stirred for 1 hour. After filtration, the crystals were dried to obtain 20 parts of black crystals.

【0052】<N,N,N’,N’−テトラキス[ジ
{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}アミノフェニ
ル]−p−フェニレンジアミンの合成>DMF130部
中に上記で合成したアミノ体20部、1−ブロモブタ
ン91部、炭酸カリウム61部を加え、90℃で3時間
反応、130℃で2時間反応する。冷却後、液濾過し、
この反応液にメタノール100部を加え、5℃以下で1
時間撹拌する。生成した結晶をメタノールで洗浄した
後、乾燥し薄茶色結晶5.2部を得た。 融点 111〜121℃(DSC) 分解温度 300℃(TG−DTA)
<Synthesis of N, N, N ′, N′-tetrakis [di {p-di (n-butyl) aminophenyl} aminophenyl] -p-phenylenediamine> The amino compound synthesized above in 130 parts of DMF 20 parts, 91 parts of 1-bromobutane and 61 parts of potassium carbonate are added, and the mixture is reacted at 90 ° C. for 3 hours and at 130 ° C. for 2 hours. After cooling, liquid filtration,
100 parts of methanol is added to the reaction solution, and
Stir for hours. The generated crystals were washed with methanol and dried to obtain 5.2 parts of light brown crystals. Melting point 111-121 ° C (DSC) Decomposition temperature 300 ° C (TG-DTA)

【0053】<NO.1化合物の合成>DMF6部中
に上記で合成した化合物0.4部を加え、60℃に加
熱溶解した後、DMF6部中に溶解した六フッ化アンチ
モン酸銀0.53部(4モル等量)を加え、30分反応
する。冷却後析出した銀を濾別する。この反応液に水1
0部をゆっくりと滴下し、滴下後15分撹拌する。生成
した濃緑色結晶をろ過し、50部の水で洗浄し、得られ
たケーキを乾燥し、NO.1化合物0.5部を得た。 λmax 1043nm(ジクロロメタン) 吸光係数 114,000 分解温度 245℃(TG−DTA)
<NO. Synthesis of 1 Compound> 0.4 part of the compound synthesized above was added to 6 parts of DMF, dissolved by heating at 60 ° C., and then 0.53 part of silver hexafluoroantimonate dissolved in 6 parts of DMF (4 molar equivalents) ) And react for 30 minutes. After cooling, the precipitated silver is filtered off. Water 1
0 parts is slowly added dropwise, and the mixture is stirred for 15 minutes after the addition. The formed dark green crystals were filtered, washed with 50 parts of water, and the obtained cake was dried. 0.5 part of one compound was obtained. λmax 1043 nm (dichloromethane) Absorption coefficient 114,000 Decomposition temperature 245 ° C (TG-DTA)

【0054】実施例2 上記実施例1のの反応で六フッ化アンチモン酸銀の量
を0.26部(2モル等量)に代えた以外は同様に合成
し、No.2の化合物0.5部を得た。 λmax 1051nm(ジクロロメタン) 吸光係数 100,000 分解温度 239℃(TG−DTA)
Example 2 Synthesis was performed in the same manner as in Example 1 except that the amount of silver hexafluoroantimonate was changed to 0.26 parts (2 molar equivalents) in the reaction of Example 1 above. 0.5 part of compound 2 was obtained. λmax 1051 nm (dichloromethane) Absorption coefficient 100,000 Decomposition temperature 239 ° C (TG-DTA)

【0055】その他の化合物例についても上記合成例1
と同様に対応するフェニレンジアミン誘導体を合成し、
それを対応する銀塩はじめ前記した種々の酸化剤で酸化
した後、対応する陰イオンを反応させることにより、合
成できる。
Other examples of compounds are also described in Synthesis Example 1 above.
To synthesize the corresponding phenylenediamine derivative,
It can be synthesized by oxidizing it with the corresponding oxidizing agent such as the corresponding silver salt and then reacting with the corresponding anion.

【0056】実施例3(記録媒体例) 前記実施例1で得られたNo.1の化合物0.02部と
シアニン色素(OM−57、富士写真フィルム社製)
0.10部をテトラフルオロプロパノール10部に溶解
し、0.2μmのフィルターを通過させて塗布液を得
た。この溶液5mlをグルーブ付5インチポリカーボネ
ート樹脂基板上にピペットにて滴下し、スピンコーター
にて塗布、乾燥し、有機薄膜記録層を形成した。塗布膜
の最大吸収波長は716nmであった。得られた塗布膜
に金をスッパッタリング法で製膜し、反射層として、光
記録媒体を作製した。得られた光記録媒体をCD−R用
記録再生機で評価したところ、記録、再生が可能であっ
た。
Example 3 (Example of Recording Medium) 0.02 part of compound (1) and a cyanine dye (OM-57, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
0.10 part was dissolved in 10 parts of tetrafluoropropanol, and passed through a 0.2 μm filter to obtain a coating solution. 5 ml of this solution was dropped on a 5-inch polycarbonate resin substrate with grooves by a pipette, applied by a spin coater, and dried to form an organic thin film recording layer. The maximum absorption wavelength of the coating film was 716 nm. Gold was formed on the obtained coating film by a sputtering method to prepare an optical recording medium as a reflection layer. When the obtained optical recording medium was evaluated by a CD-R recording / reproducing apparatus, recording and reproduction were possible.

【0057】実施例4(記録媒体の耐光安定性試験) テトラフルオロプロパノール67部にシアニン色素(O
M−57)3部を溶解し、その溶液に前記実施例1で得
られたNo.1の化合物(試料1)またはNo.2の化
合物(試料2)0.4部を添加し、塗液を作成した。得
られた塗液をポリカーボネート基板にスピンコートし、
色素膜を作成した。得られた色素膜をスガ試験機製紫外
線ロングライフカーボンアーク耐光試験機(ブラックパ
ネル温度63℃)に入れ、基板側から光を照射し、10
時間、20時間で耐光安定性試験を行った。その後、シ
アニン色素の残存率を分光光度計にて測定した。結果を
表4に示す。なお、No.1化合物を含有しないで溶解
した以外は同様にして色素膜(比較1)を作成し、評価
し、結果を表5に示した。
Example 4 (Test for light stability of recording medium) Cyanine dye (O) was added to 67 parts of tetrafluoropropanol.
M-57) was dissolved in 3 parts, and the solution of No. No. 1 (sample 1) or No. 1 0.4 part of the compound (Sample 2) was added to prepare a coating solution. The obtained coating liquid is spin-coated on a polycarbonate substrate,
A dye film was formed. The obtained dye film was put into an ultraviolet long life carbon arc light resistance tester (black panel temperature: 63 ° C.) manufactured by Suga Test Machine, and irradiated with light from the substrate side to obtain 10
The light stability test was performed for 20 hours. Thereafter, the residual ratio of the cyanine dye was measured with a spectrophotometer. Table 4 shows the results. In addition, No. A dye film (Comparative 1) was prepared and evaluated in the same manner except that the compound was dissolved without containing one compound, and the results were shown in Table 5.

【0058】 表5(耐光安定性試験) シアニン色素の残存率(%) 初期 10h後 20h後 30h後 試料1 100 75 61 41 試料2 100 67 38 0 比較1 100 27 0Table 5 (Light Stability Test) Residual Rate of Cyanine Dye (%) Initial 10 hours After 20 hours After 30 hours Sample 1 100 75 61 41 Sample 2 100 67 380 Comparative 1 100 27 0

【0059】実施例5(赤外線カットフィルター例及び
耐光・耐熱安定性試験) テトラフロロプロパノール10部に前記実施例1で得ら
れたNo.1の化合物(試料3)またはNo.2の化合
物(試料4)0.1部を溶解し、その溶液約1mgをポ
リカーボネート基盤に回転速度2000rpmでスピン
コートし、本発明の赤外線カットフィルターを得た。得
られた赤外線カットフィルターをスガ試験機製紫外線ロ
ングライフカーボンアーク耐光試験機(ブラックパネル
温度63℃)に入れ、基盤側から光を照射させ、5時
間、10時間、20時間で耐光安定性試験を行った。ま
た、得られた赤外線カットフィルターを80℃の熱風乾
燥機で1日、4日、7日で耐熱安定性試験を行った。試
験後、いずれも色素残存率を分光光度計にて測定した。
耐光試験の結果を表6に、耐熱試験の結果を表7に示
す。
Example 5 (Example of infrared cut filter and light / heat stability test) No. 10 obtained in Example 1 was added to 10 parts of tetrafluoropropanol. No. 1 (sample 3) or No. 1 0.1 part of Compound 2 (Sample 4) was dissolved, and about 1 mg of the solution was spin-coated on a polycarbonate substrate at a rotation speed of 2000 rpm to obtain an infrared cut filter of the present invention. The obtained infrared cut filter was put into an ultraviolet long life carbon arc light resistance tester (black panel temperature: 63 ° C.) manufactured by Suga Test Instruments, irradiated with light from the substrate side, and subjected to a light resistance stability test in 5 hours, 10 hours, and 20 hours. went. Further, the obtained infrared cut filter was subjected to a heat stability test with a hot air dryer at 80 ° C. for 1, 4, and 7 days. After the test, the residual dye ratio was measured using a spectrophotometer.
Table 6 shows the results of the light resistance test, and Table 7 shows the results of the heat resistance test.

【0060】 表6(耐光安定性試験) 色素残存率(%) 初期 5h後 10h後 20h後 試料3 100 85 77 54 試料4 100 61 56 36Table 6 (Light Stability Test) Dye Residual Rate (%) Initial 5 hours After 10 hours After 20 hours Sample 3 100 85 77 54 Sample 4 100 61 56 36

【0061】 表7(耐熱安定性試験) 色素残存率(%) 初期 1日後 4日後 試料3 100 59 28 試料4 100 47 22Table 7 (Heat Stability Test) Dye Residual Rate (%) Initial 1 day 4 days later Sample 3 100 59 28 Sample 4 100 47 22

【0062】実施例6(赤外線カットフィルター例) 前記実施例1で得られたNo.1の化合物をPMMAに
対して、0.03%添加し、温度200℃で射出成形
し、厚さ1mmと3mmのフィルターを得た。得られた
フィルターの800〜1000nmでの平均光線透過率
を、分光光度計にて測定したところ、厚さ1mmのフィ
ルターでは20%、3mmのフィルターでは3%であっ
た。
Example 6 (Example of infrared cut filter) Compound 1 was added at 0.03% to PMMA and injection-molded at a temperature of 200 ° C. to obtain filters having a thickness of 1 mm and 3 mm. When the average light transmittance at 800 to 1000 nm of the obtained filter was measured by a spectrophotometer, it was 20% for a 1 mm thick filter and 3% for a 3 mm thick filter.

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明の赤外線吸収化合物は、極大吸収
波長が900nm以上にあり、吸光係数も数万から数十
万程度と大きい吸収ピークを持っており優れた赤外線吸
収化合物である。また光記録媒体の記録層用の素材とし
て使用でき、有機色素の耐光性を大幅に向上することが
できるので、例えば光記録媒体の記録層に当たる有機色
素薄膜に、本発明の赤外線吸収化合物を含有させた場
合、繰り返し再生における耐久性及び耐光安定性を著し
く向上させる光記録媒体を提供することができる。さら
に、本発明の赤外線吸収化合物は、赤外部に極大吸収を
持っていることから、赤外線カットフィルム、断熱フィ
ルム及びサングラスなどにも用いられる。
The infrared-absorbing compound of the present invention is an excellent infrared-absorbing compound having a maximum absorption wavelength of 900 nm or more and an absorption coefficient having a large absorption peak of about tens of thousands to hundreds of thousands. Further, it can be used as a material for a recording layer of an optical recording medium, and can greatly improve the light resistance of an organic dye.For example, the organic dye thin film corresponding to the recording layer of the optical recording medium contains the infrared absorbing compound of the present invention. In this case, it is possible to provide an optical recording medium in which durability and light stability in repeated reproduction are significantly improved. Further, since the infrared absorbing compound of the present invention has a maximum absorption in an infrared region, it is used for an infrared cut film, a heat insulating film, sunglasses, and the like.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 5/22 G11B 7/24 516 G11B 7/24 516 B41M 5/26 Y ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02B 5/22 G11B 7/24 516 G11B 7/24 516 B41M 5/26 Y

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記式(1) 【化1】 (式(1)中、R1〜R16は水素原子、置換されても
良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ア
リール基を示し、それぞれ同じであっても異なっていて
も良い。また環A、B、Cは置換基を有していても良
い。)で示される化合物を酸化して得られる化合物。
(1) The following formula (1): (In the formula (1), R1 to R16 represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or an aryl group, which may be the same or different. And B and C may have a substituent.).
【請求項2】環A、B、Cが無置換であるか、又は置換
基として1ないし4個のハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、シアノ基、水酸基を有する請求
項1に記載の化合物。
2. The method according to claim 1, wherein the rings A, B and C are unsubstituted or have 1 to 4 halogen atoms, lower alkyl groups, lower alkoxy groups, cyano groups or hydroxyl groups as substituents. Compound.
【請求項3】R1〜R16がそれぞれ独立に無置換のア
ルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ置換ア
ルキル基、シアノ置換アルキル基、置換もしくは未置換
のアルキニル基である請求項2に記載の化合物。
3. The compound according to claim 2, wherein R1 to R16 are each independently an unsubstituted alkyl group, a halogen-substituted alkyl group, an alkoxy-substituted alkyl group, a cyano-substituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkynyl group.
【請求項4】請求項1ないし3のいずれか一項に記載の
化合物を記録層に含有することを特徴とする光記録媒
体。
4. An optical recording medium comprising a recording layer containing the compound according to claim 1.
【請求項5】請求項1ないし3のいずれか一項に記載の
化合物を含有することを特徴とする赤外カットフィルタ
ー。
5. An infrared cut filter comprising the compound according to any one of claims 1 to 3.
【請求項6】請求項1ないし3のいずれか一項に記載の
化合物の酸化前駆体。
6. An oxidation precursor of the compound according to any one of claims 1 to 3.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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