JP2005328058A - リソグラフィ装置、デバイス製造方法および放射線システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ投影装置が、放射線ビームを提供するように構成された照明システムと、パターンが形成された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを有し、照明システムは、第1の放射線源10と、放射線源の出力を高めるように構成された少なくとも1つのミラー14とを有している。照明システムはまた第2の放射線源12と、それら放射線源の間に配置された少なくとも1つのミラー14とを有し、第2の放射線源の出力を第1の放射線源に結像させ、それによって放射線源の出力を高めるようにすることができる。放射線源は、EUV波長範囲の放射線を放出するように動作可能とすることができる。
【選択図】図3
Description
IF 位置センサ
IL 照明器
MA パターン形成デバイス、マスク
MT 支持構造体、オブジェクト・テーブル、マスク・テーブル
O 光軸線
PB 放射線ビーム
PL 投影システム
PM、PW 位置決め装置
SO 放射線線源
W 基板
WT 基板テーブル、オブジェクト・テーブル
10、12 プラズマ放射線源
14 楕円面ミラー
16、18 放物面ミラー
20、21 放射線源
22 放電プラズマ源、放射線源
24 球面ミラー
Claims (39)
- 放射線ビームを提供するように構成された照明システムと、
パターン形成デバイスを支持するように構成された支持体であって、該パターン形成デバイスは前記ビームの断面にパターンを与えるように構成されている支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターンが形成された放射線を前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと
を有するリソグラフィ投影装置であって、
前記照明システムが、放射線源と、前記ビームの放射線パワーを高めるように構成された少なくとも1つのミラーとを含むリソグラフィ投影装置。 - 前記少なくとも1つのミラーが前記放射線源の背後に設けられ、それによって前記放射線源の後方へ放出された放射線が前方へ反射されて前記ビームに加わることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記少なくとも1つのミラーが球面または非球面ミラーであり、前記放射線源が実質的に前記少なくとも1つのミラーの焦点に位置している請求項2に記載のリソグラフィ投影装置。
- 第2の放射線源をさらに有し、前記少なくとも1つのミラーは、該第2の放射線源を前記放射線源に結像するように構成されている請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記少なくとも1つのミラーが、前記放射線源と前記第2の放射線源の間に設けられている請求項4に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記少なくとも1つのミラーが、回転対称であり且つ端部が光学的に開放された単一の楕円面ミラーを含む請求項5に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記少なくとも1つのミラーが、2つの楕円面ミラーであって、第1の楕円面ミラーの第2の焦点が第2の楕円面ミラーの第1の焦点と一致するように光軸線に沿って対称に配置された2つのミラーを含み、
前記放射線源および前記第2の放射線源が、前記2つの楕円面ミラーの第1および第2の焦点にそれぞれ配置されている請求項4に記載のリソグラフィ投影装置。 - 前記少なくとも1つのミラーが、入れ子式の斜入射ミラー、ウォルター型ミラー、ウィスパリング・ギャラリー・ミラーおよび球面ミラーのうちの1つを含む請求項4に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記少なくとも1つのミラーが、互いに向かい合う1対の回転対称の放物面ミラーを含み、前記放射線源の一方が前記ミラーの第1のミラーの焦点に配置され、前記放射線源の他方が前記ミラーの他方のミラーの焦点に配置され、前記ミラーの一方の端部が光学的に開放され、それによって放射線が前記開放端を通して照明方向に伝送されることができる請求項4に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記放射線源がプラズマ放射線源である請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記プラズマ放射線源が、放電源またはレーザ生成プラズマ源である請求項10に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記放射線源がEUV範囲の放射線を放出するように動作可能である請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記放射線源と前記少なくとも1つのミラーとの間に設けられたデブリ抑制システムをさらに有する請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 基板を提供するステップと、
放射線源を含む照明システムを用いて放射線ビームを提供するステップと、
前記放射線ビームにパターンを形成するステップと、
前記パターンが形成された放射線ビームを前記基板のターゲット部分に投影するステップと、
前記照明システムに少なくとも1つのミラーを用いて前記放射線ビームの放射線出力を高めるステップと
を含むデバイス製造方法。 - 前記少なくとも1つのミラーを前記放射線源の背後に配置するステップであって、それによって前記放射線源の後方へ放出された放射線が前方へ反射されて前記ビーム放射線に加わるステップをさらに含む請求項14に記載のデバイス製造方法。
- 前記少なくとも1つのミラーが球面または非球面ミラーであり、前記放射線源が実質的に前記ミラーの焦点に位置している請求項15に記載のデバイス製造方法。
- 第2の放射線源を提供するステップと、
前記少なくとも1つのミラーを用いて前記第2の放射線源を前記第1の放射線源に結像させるステップと
をさらに含む請求項14に記載のデバイス製造方法。 - 前記少なくとも1つのミラーが、回転対称である単一の楕円面ミラーを含む請求項17に記載のデバイス製造方法。
- 前記少なくとも1つのミラーが、前記第2の放射線源を前記第1の放射線源に結像させるためにそれら放射線源の間に設けられた2つのミラーを含む請求項17に記載のデバイス製造方法。
- 前記2つのミラーが楕円形であり、
第1の楕円面ミラーの第2の焦点が第2の楕円面ミラーの第1の焦点と一致するように、前記2つのミラーを光軸線に沿って対称に配置するステップと、
前記放射線源および前記第2の放射線源を、前記2つの楕円面ミラーの第1および第2の焦点にそれぞれ設けるステップと
をさらに含む請求項19に記載のデバイス製造方法。 - 前記少なくとも1つのミラーが、互いに向かい合う1対の回転対称の放物面ミラーを含み、前記放射線源の一方が前記ミラーの第1のミラーの焦点に配置され、前記放射線源の他方が前記ミラーの他方のミラーの焦点に配置され、前記ミラーの一方の端部が光学的に開放され、それによって放射線が前記開放端を通して照明方向に伝送されることができる請求項17に記載のデバイス製造方法。
- 前記少なくとも1つのミラーが、入れ子式の斜入射ミラー、ウォルター型ミラー、ウィスパリング・ギャラリー・ミラーおよび球面ミラーのうちの1つを含む請求項17に記載のデバイス製造方法。
- 前記放射線源がプラズマ放射線源である請求項14に記載のデバイス製造方法。
- 前記プラズマ放射線源が、放電プラズマ源またはレーザ生成プラズマ源である請求項14に記載のデバイス製造方法。
- 前記放射線源がEUV範囲の放射線を放出するように動作可能である請求項14に記載のデバイス製造方法。
- 前記放射線源に放射線を交互に放出させるステップをさらに含む請求項17に記載のデバイス製造方法。
- リソグラフィ投影装置に放射線ビームを提供するための放射線システムであって、
放射線源と、
ビームの放射線パワーを高めるように構成された少なくとも1つのミラーと
を有する放射線システム。 - 前記少なくとも1つのミラーが前記放射線源の背後に設けられ、それによって前記放射線源の後方へ放出された放射線が前方へ反射されて前記ビームに加わることを特徴とする請求項27に記載の放射線システム。
- 前記少なくとも1つのミラーが球面または非球面ミラーであり、前記放射線源が実質的に前記ミラーの焦点に位置する請求項28に記載の放射線システム。
- 第2の放射線源をさらに含み、前記少なくとも1つのミラーが該第2の放射線源を前記放射線源に結像させるように構成されている請求項27に記載の放射線システム。
- 前記第2の放射線源を前記放射線源に結像させるために、前記少なくとも1つのミラーがそれら放射線源の間に設けられている請求項30に記載の放射線システム。
- 前記少なくとも1つのミラーが、回転対称である単一の楕円面ミラーを含む請求項30に記載の放射線システム。
- 前記少なくとも1つのミラーが、2つの楕円面ミラーであって、第1の楕円面ミラーの第2の焦点が第2の楕円面ミラーの第1の焦点と一致するように光軸線に沿って対称に配置された2つのミラーを含み、
前記放射線源および前記第2の放射線源が、前記2つの楕円面ミラーの第1および第2の焦点にそれぞれ配置されている請求項30に記載の放射線システム。 - 前記少なくとも1つのミラーが、互いに向かい合う1対の回転対称の放物面ミラーを含み、前記放射線源の一方が前記ミラーの第1のミラーの焦点に配置され、前記放射線源の他方が前記ミラーの他方のミラーの焦点に配置され、前記ミラーの一方の端部が光学的に開放され、それによって放射線が前記開放端を通して照明方向に伝送されることができる請求項30に記載の放射線システム。
- 前記少なくとも1つのミラーが、入れ子式の斜入射ミラー、ウォルター型ミラー、ウィスパリング・ギャラリー・ミラーおよび球面ミラーのうちの1つを含む請求項30に記載の放射線システム。
- 前記放射線源がプラズマ放射線源である請求項27に記載の放射線システム。
- 前記プラズマ放射線源が、放電源またはレーザ生成プラズマ源である請求項36に記載の放射線システム。
- 前記放射線源がEUV範囲の放射線を放出するように動作可能である請求項27に記載の放射線システム。
- 請求項14の方法に従って製造されるデバイス。
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