JP2005327372A - 光ヘッド装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 波長λ1、λ2およびλ3(λ1<λ2<λ3)の光に応じて透過領域を制限する開口制御素子において、中間円形領域D1から最内円形領域D3を差し引いて得られる第1円環領域αに、波長λ1、λ2の入射光を透過し波長λ3の入射光を透過しない第1多層膜フィルタ12を形成し、最外円形領域D2から中間円形領域D1を差し引いて得られる第2円環領域βに、波長λ2の入射光を透過し波長λ1、λ3の入射光を透過しない第2多層膜フィルタ13を形成した。
【選択図】 図1
Description
一方、DVD用光ディスクでは、カバー厚が0.6mmのものが使用されており、光ヘッド装置として、波長が660nm帯の半導体レーザと、NAが0.6から0.65までの対物レンズとを備えたものが用いられている。
さらに、記録情報量を増大させるため、カバー厚が0.6mmの光ディスクが提案されており、この光ディスク用の光ヘッド装置では、光源として波長が405nm帯の半導体レーザと、NAが0.65の対物レンズを備えたものが提案されている。以下、波長が405nm帯の半導体レーザで使用する光ディスクを、特にHD用の光ディスクとよぶ。
ここで、開口数NA3=0.45の最内円形領域(D3)と多層膜フィルタ120が形成されたαβ領域で、波長λ2の透過光の位相がそろうように、開口数NA3のD3領域には、位相調整膜130が形成されている。
(i)DVDの開口数NA2=0.65の円形領域(D2)からHDの開口数NA1=0.65の円形領域(D1)を差し引いて形成される第2円環領域(これを「β領域」)に、波長λ2の入射光を透過し、波長λ1および波長λ3の入射光を透過しない波長選択性の機能を付加する必要がある。
(ii)また、同様に、HDの開口数NA1=0.65の円形領域(D1)からCDの開口数NA3=0.45の円形領域(D3)を差し引いて形成される第1円環領域(これを「α領域」)に、波長λ1および波長λ2の入射光を透過し、波長λ3の入射光を透過しない波長選択性の機能を付加する必要がある。
(iii)また、開口数NA3=0.45の最内円形領域(D3領域)は、波長λ1、波長λ2および波長λ3の入射光を全て透過する機能が必要である。
前記開口制御素子は、これを構成する基板の一方の面上の中央部にある第1円環領域に、第1多層膜フィルタが形成されているとともに、前記第1円環領域に外接する第2円環領域に、第2多層膜フィルタが形成されており、
前記第1多層膜フィルタは、前記波長λ1および波長λ2の入射光を透過し前記波長λ3の入射光を透過せず、
前記第2多層膜フィルタは、前記波長λ2の入射光を透過し前記波長λ1および波長λ3の入射光を透過しないことを特徴とする光ヘッド装置を提供する。
前記第2円環領域の領域を透過する波長λ2の透過光と前記第1円環領域と前記最内円形領域の各領域を透過する波長λ2の透過光との位相差が1波長となる上記の光ヘッド装置を提供する。
[第1の実施態様]
図1は本発明における第1の実施態様に係る開口制限素子51の断面図、図2は同開口制限素子51の平面図を示す。
本発明における開口制限素子51は、透光性基板11と、第1多層膜フィルタ12と、第2多層膜フィルタ13と、位相調整層14と、反射防止膜15とを備えており、後述する図4に示すように、対物レンズ6と一体でアクチュエータに搭載して光ヘッド装置10の一部として用いる。
ここで、対物レンズ6は、HD用、DVD用ともに開口数NA=0.65で用いられるが、対物レンズ6の屈折率nがn(λ1)>n(λ2)と異なる。開口数NAは
NA=開口径/(2×f)
ただし、f:レンズ焦点距離
で定義され、n(λ1)>n(λ2)の場合、f(λ1)<f(λ2)となる。
従って、開口径D=2×NA×fであるため、HD用、DVD用の開口数NAは等しいが、開口径はD(λ1)<D(λ2)と異なり、本発明の開口制限素子が有効である。
この第1多層膜フィルタ12は、波長λ1と波長λ2の光を90%以上透過し、波長λ3の光を70%以上反射するように、高屈折率および低屈折率を有する2種の透明誘電体膜の屈折率、層数および各層の膜厚が従来の多層膜フィルタ設計手法により設定される。高屈折率の透明誘電体膜としてはTiO2、Ta2O5、Nb2O5、ZrO2などが用いられ、低屈折率の透明誘電体膜としてはSiO2、MgF2などが用いられる。
この第2多層膜フィルタ13は、波長λ2の光を90%以上透過し、波長λ1と波長λ3の光を70%以上反射するように、高屈折率および低屈折率を有する2種の透明誘電体膜の屈折率、層数および各層の膜厚が従来の多層膜フィルタ設計手法により設定される。高屈折率の透明誘電体膜としてはTiO2、Ta2O5、Nb2O5、ZrO2などが用いられ、低屈折率の透明誘電体膜としてはSiO2、MgF2などが用いられる。
図3は、透光性基板11の表面を加工して第1円環領域αと最内円形領域D3の段差がd3となるS0面を位相調整用の段差として加工する例を示す。
第1円環領域αには、透光性基板11の表面に第1多層膜フィルタ12が形成されており、表面はS2面となる。なお、S0面とS2面との段差、つまり第1多層膜フィルタ12の膜厚をd2とする。
また、第2円環領域βには、透光性基板11の表面に第2多層膜フィルタ13が形成されており、下面はS1となり、S0面とS1面との段差がd1となる。また、第2円環領域βは、表面がS4となり、S0面とS4面との段差がd4となる。
また、中間領域である第1円環領域αには、第1多層膜フィルタ12を形成することにより、特定の波長(λ3)の光のみを反射し、他の2波長(λ1およびλ2)の光を透過する。第1多層膜フィルタ12は、特定の1波長の光のみ反射し、他の波長を透過する用途に有効に用いられる。
また、内周領域である最内円形領域D3では、3波長(λ1、λ2およびλ3)を透過する。
このとき、開口数NA2=0.65のD2領域を直進透過する波長λ2の入射光の透過波面が変化して収差劣化を引き起こさないため、第1円環領域αと、第2円環領域βと、最内円形領域D3の各領域を透過する波長λ2の透過光の位相差が、波長λ2の整数倍となるようにする。具体的には第1円環領域αと最内円形領域D3の各領域を透過する波長λ2の透過光の位相差が0、第2円環領域βと最内円形領域D3の各領域を透過する波長λ2の透過光の位相差が波長λ2の1倍となるようにする。
この光ヘッド装置10は、光源である半導体レーザ(LD)2と、ビームスプリッタ(BS)3と、合成プリズム4と、コリメートレンズ5と、前述した実施形態の開口制限素子1と、対物レンズ6と、ホログラムビームスプリッタ(HBS)7と、光検出器8とを備えている。また、光源である半導体レーザ(LD)2と、ホログラムビームスプリッタ(HBS)7と、光検出器8とは、各波長ごとにそれぞれ専用のものが所定位置に設置されている。
次に、本発明における開口制限素子の第2の実施形態について、図5を参照しながら説明する。なお、本実施形態において、第1の実施形態と同一部分には同一符号を付して重複説明を避ける。
図5は、本発明における第2の実施形態に係る開口制限素子52を示すものであり、この開口制限素子52は、第1の実施態様の開口制限素子51に、位相板22が、透光性基板21に挟まれた状態で一体化されている。
また、この情報記録面で反射した信号光は、元の経路を経て、開口制限素子52の位相板22を(往きと復りで、都合2回)透過することにより、紙面内の振動方向の直線偏光となり、前述の偏光ビームスプリッタ30を透過して光検出器8Aの受光面へ集光され、電気信号に変換される。
この反射防止膜15の光路長(屈折率×膜厚)は、波長λ1(405nm)で943nm、波長λ2(660nm)で923nmであった。
この第2多層膜フィルタ13の総膜厚(d4−d1)は1473nmで、光路長は波長λ1(405nm)で2712nm、波長λ2(660nm)で2654nmであった。
一方、第2円環領域βのS0面とS4面間の光路長は、前述した(1)式で決定される。即ち、第2多層膜フィルタ13の光路長2654nm(=1.802×1473nm)と、S0面とS1面間のエッチング加工したガラス基板の光路長1216nmとの和であり、L24=3870nmとなり、ほぼL24=L34+λ2である。
したがって、第2円環領域βと最内円形領域D3を透過する波長λ2の透過光の位相差が波長λ2の1倍、つまり位相差が生じない。
このときの第1多層膜フィルタ12の総膜厚d2は、1280nmで、光路長は波長λ1(405nm)で2217nm、波長λ2(660nm)で2176nmであった。
また、第2円環領域βと最内円形領域D3とでの位相差はないため、波長λ2の入射光に対して、開口数NA2の全領域において位相差のない透過波面が得られた。
第2円環領域βに形成された第2多層膜フィルタ13の分光透過率を(a)で、第1円環領域αに形成された第1多層膜フィルタ12の分光透過率を(b)で、最内円形領域D3に形成された反射防止膜15の分光透過率を(c)で示す。
これにより、最外部側の第2円環領域βでは、波長λ2の光が透過するが、波長λ1の光は透過させないような構成が得られており、中間部の第1円環領域αでは、波長λ1、λ2の2種の光が透過可能になっている。また、最内部の最内円形領域D3では、波長λ1、λ2、λ3のいずれの波長の光も良好な透過率で透過できる構成となっている。
この位相板22は、波長λ1=405nmに対してλ/4位相板となるように、高分子液晶層の厚さを(λ1/4)/(ne−no)=2025nmとした。
11、21 透光性基板
12 第1多層膜フィルタ
13 第2多層膜フィルタ
14 位相調整層
15 反射防止膜
2、2A、2B、2C 半導体レーザ
22 位相板
3 ビームスプリッタ
4、4A、4B 合波プリズム
5 コリメートレンズ
6 対物レンズ
7B、7C ホログラムビームスプリッタ
8A、8B、8C 光検出器
9、91、92、93 光ディスク(光記録媒体)
Claims (4)
- 波長λ1、λ2およびλ3(但し、λ1<λ2<λ3)の光を出射する光源と、この光源から出射された光を光記録媒体へ集光する対物レンズと、この対物レンズで集光され前記光記録媒体で反射された前記光を検出する光検出器と、前記光源と前記光記録媒体との間の光路中に配置され前記各波長の光に応じて透過領域を制限する開口制御素子とを備えた光ヘッド装置において、
前記開口制御素子は、これを構成する基板の一方の面上の中央部にある第1円環領域に、第1多層膜フィルタが形成されているとともに、前記第1円環領域に外接する第2円環領域に、第2多層膜フィルタが形成されており、
前記第1多層膜フィルタは、前記波長λ1および波長λ2の入射光を透過し前記波長λ3の入射光を透過せず、
前記第2多層膜フィルタは、前記波長λ2の入射光を透過し前記波長λ1および波長λ3の入射光を透過しないことを特徴とする光ヘッド装置。 - 前記開口制御素子は、前記第1円環領域、前記第2円環領域および前記第1円環領域に内接する最内円形領域の3つの領域において、前記波長λ2の透過光に位相差がなく、また前記第1円環領域および前記最内円形領域の2つの領域において、前記波長λ1の透過光に位相差がないようにするため、前記3つの領域のうち少なくとも2つの領域に位相差調整用の段差が前記開口制御素子の基板面に形成されている請求項1に記載の光ヘッド装置。
- 前記開口制御素子は、前記第2円環領域の位相調整用の段差が前記第1円環領域の位相調整用の段差よりも浅く形成されるとともに、前記第2円環領域の表面段差が前記第1円環領域および前記最内円形領域の表面段差よりも高く形成され、
前記第2円環領域の領域を透過する波長λ2の透過光と前記第1円環領域と前記最内円形領域の各領域を透過する波長λ2の透過光との位相差が1波長となる請求項1または2に記載の光ヘッド装置。 - 前記開口制御素子において、波長λ1の入射光に対して位相差がπ/2の奇数倍となる位相板が一体化されている請求項1から3のいずれか1項に記載の光ヘッド装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004144468A JP2005327372A (ja) | 2004-05-14 | 2004-05-14 | 光ヘッド装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017509879A (ja) * | 2014-02-27 | 2017-04-06 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティックEssilor International Compagnie Generale D’ Optique | 眼用レンズ上のマイクロエッチングを識別及び定位するための光学機器 |
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2004
- 2004-05-14 JP JP2004144468A patent/JP2005327372A/ja not_active Withdrawn
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