JP2005319424A - 液滴吐出装置、電気光学装置、および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】基体上にバンクでマトリクス形状に区画された被吐出部に均一な膜厚の薄膜を形成することが可能な液滴吐出装置、電気光学装置、および電子機器を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の液滴吐出装置は、バンクでマトリクス状に区画された被吐出部が形成されている基体を保持するステージと、１または複数のヘッドからなり、前記ステージに対してＹ軸方向に相対移動して前記基体の被吐出部に液滴を吐出するヘッド群と、を備え、前記ヘッドは、１または複数のノズル列がＸ軸方向に沿って形成されており、前記ヘッド群のノズルピッチの誤差を、前記ステージに保持される基体のＸ軸方向のバンク幅Ｌの１／２以内としたものである。
【選択図】 図１

Description

本発明は、液滴吐出装置、電気光学装置、および電子機器に関し、詳細には、カラーフィルタ基板や、マトリクス型表示装置などにおいて周期的に配置された領域に液状の材料を塗布するのに好適な液滴吐出装置、電気光学装置、および電子機器に関する。

薄膜の形成には、例えば、薄膜塗布方法の１つであるスピンコート法が一般的に用いられている。このスピンコート法は、液状体を基板上に滴化した後に、基板を回転させて遠心力により基板全面に塗布を行って薄膜を形成する方法であり、回転数、回転保持時間および液状体の粘度などにより膜厚を制御するものである。

しかしながら、スピンコート法では、供給された液状体の大部分が飛散してしまうため、多くの液状体を供給する必要があるとともに無駄が多く、生産コストが高くなるという問題がある。また、基板を回転させるため、遠心力により液状体が内側から外側へと流動し、外周領域の膜厚が内側よりも厚くなる傾向があるため、膜厚が不均一になるという問題がある。

かかる背景から、近時、インクジェット法などの液滴吐出法が提案され、この塗布法を実施するためのものとして、インクジェット装置が提案されている。このインクジェット装置は、所定量の液状体を所望する位置に配することができることから主に薄膜を形成するのに好適に用いられている。例えば、インクジェット装置を用いてカラーフィルタ基板のフィルタエレメントや、マトリクス型表示装置においてマトリクス状に配置された発光部を形成することが知られている（例えば特許文献１）。

特開２００３−１２７３４３号公報

近時、カラー表示装置等の高画素化に伴い、カラーフィルタ基板のフィルタエレメント等においては、材料が塗布されるべき複数の被吐出部も高密度に形成する必要がある。ここで、被吐出部とは、例えばフィルタエレメントが設けられるべき部位である。このため、インクジェット装置のインクジェットヘッドも高密度化が要求されている。

通常のインクジェットヘッドに設けられたノズル数は多くても２００程度であるため、大きな基体に対して描画する場合には、基体を走査方向に移動させてその一部を描画した後、描画幅分インクジェットヘッドを副走査方向に移動し、同様に基体を走査方向に移動させながら描画を行い、基体の全塗布面を描画するまで同じ動作を繰り返すことが必要となる。

インクジェットヘッドの複数のノズルを精度良く形成することは非常に難しく、実際には、各ノズルのノズル間距離（以下「ノズルピッチ」と称する）は、実際に製造されたインクジェットヘッドのノズルピッチは、目標値に対して誤差を有している。基体上に複数のバンクで区画された複数の被吐出部に液滴を吐出する場合に、インクジェットヘッドのノズルピッチに誤差があると、目標とする被吐出部に液滴が着弾されずに、隣の被吐出部に着弾してしまう場合がある。各被吐出部に着弾する液滴の量を一定にできないと、各被吐出部に均一な膜厚の薄膜を形成することができない。例えば、各被吐出部の薄膜の膜厚が不均一であると、表示装置の場合には色度ムラが生じてしまうという問題がある。

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、基体上にバンクでマトリクス形状に区画された各被吐出部に均一な膜厚の薄膜を形成することが可能な液滴吐出装置、電気光学装置、および電子機器を提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、バンクでマトリクス状に区画された被吐出部が形成されている基体を保持するためのステージと、１または複数のヘッドからなり、前記ステージに対してＹ軸方向に相対移動して前記基体の被吐出部に液滴を吐出するヘッド群と、を備え、前記ヘッドは、所定のノズルピッチで配置された１または複数のノズル列がＸ軸方向に沿って形成されており、前記ヘッド群のノズルピッチの誤差を、前記ステージに保持される基体のＸ軸方向のバンク幅Ｌの１／２以内としたことを特徴とする。

これにより、ヘッド群のノズルで所望の被吐出部に液滴を吐出する場合に、当該吐出部にＸ軸方向に隣接するバンクの中心位置から内側に着弾させることができ、当該吐出部に液滴が転がり込んで配されるため、所望の被吐出部に液滴を配することが可能となり、各被吐出部吐出部に形成する薄膜の膜厚を均一にすることができる。この結果、基体上にバンクでマトリクス形状に区画された各被吐出部に均一な膜厚の薄膜を形成することが可能な液滴吐出装置を提供することができる。

また、本発明の好ましい態様によれば、前記被吐出部の表面は、親液化処理が施されており、前記バンクの表面は、撥液化処理が施されていることが望ましい。基体上に着弾した液滴が、バンクで弾かれ、かつ、被吐出部で塗れやすくなり、被吐出部に均一に液滴を配することができる。

また、本発明の好ましい態様によれば、前記被吐出部の平面像は、長辺と短辺で定まる略矩形形状を呈し、前記ステージは、前記長辺の方向が前記Ｘ軸に平行になるとともに、前記短辺方向が前記Ｙ軸に平行になるように、前記基板を保持することが望ましい。これにより、ヘッド群のノズル列の配列方向に対して、被吐出部の長辺方向を配置することができ、高精度に被吐出部に対して液滴を配することができる。

また、本発明の好ましい態様によれば、前記塗布領域は、親液化処理が施されていることが望ましい。これにより、第１の液状体が塗布領域に塗れやすくなり、塗布領域に均一に第１の液状態を塗布することができる。

また、本発明の好ましい態様によれば、電気光学装置を本発明の液滴吐出装置を用いて製造することが望ましい。これにより、各画素領域で均一な膜厚の薄膜を形成でき、高品位な表示特性を得ることが可能な電気光学装置を提供することができる。

また、本発明の好ましい態様によれば、電子機器に本発明の電気光学装置を搭載することが望ましい。これにより、高品位な表示特性を有する電気光学装置を搭載した電子機器を提供することができる。

以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施例における構成要素には、当業者が容易に想定できるものまたは実質的に同一のものが含まれる。

本発明に係る液滴吐出装置、電気光学装置、および電子機器の好適な実施例を、［液滴吐出装置］、［電気光学装置の製造］、［電子機器への適用］の順に詳細に説明する。

［液滴吐出装置］
本発明の実施例に係る液滴吐出装置を（液滴吐出装置の全体構成）、（キャリッジ）、（ヘッド）、（ヘッド群）、（制御部）、（吐出方法）、（ヘッド群の選択）の順に詳細に説明する。

（液滴吐出装置の全体構成）
図１に示すように、液滴吐出装置１００は、液状の材料１１１を保持するタンク１０１と、チューブ１１０と、チューブ１１０を介してタンク１０１から液状の材料１１１が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２は、複数のヘッド１１４（図２）を保持するキャリッジ１０３と、キャリッジ１０３の位置を制御する第１位置制御装置１０４と、後述する基体３００を保持するステージ１０６と、ステージ１０６の位置を制御する第２位置制御装置１０８と、制御部１１２と、を備えている。タンク１０１と、キャリッジ１０３における複数のヘッド１１４と、はチューブ１１０で連結されており、タンク１０１から複数のヘッド１１４のそれぞれに液状の材料１１１が圧縮空気によって供給される。

第１位置制御装置１０４は、制御部１１２からの信号に応じて、キャリッジ１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向に直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りでキャリッジ１０３を回転させる機能も有する。本実施例では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。第２位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方に直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、第２位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。なお、本明細書では、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８を、「走査部」と表記することもある。

ステージ１０６は、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な平面を有する。また、ステージ１０６は、所定の材料を塗布すべき被吐出部を有する基体をその平面上に固定、または保持できるように構成されている。なお、本明細書では、被吐出部を有する基体を「受容基板」と表記することもある。

本明細書におけるＸ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向は、キャリッジ１０３およびステージ１０６のどちらか一方が他方に対して相対移動する方向に一致している。また、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向を規定するＸＹＺ座標系の仮想的な原点は、液滴吐出装置１００の基準部分に固定されている。本明細書において、Ｘ座標、Ｙ座標、およびＺ座標とは、このようなＸＹＺ座標系における座標である。なお、上記の仮想的な原点は、ステージ１０６に固定されていてもよいし、キャリッジ１０３に固定されていてもよい。

上述のように、キャリッジ１０３は第１位置制御装置１０４によってＸ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６は第２位置制御手段１０８によってＹ軸方向に移動させられる。つまり、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対するヘッド１１４の相対位置が変わる。より具体的には、これらの動作によって、キャリッジ１０３、ヘッド群１１４Ｇ（図２）、ヘッド１１４、またはノズル１１８(図３）は、ステージ１０６上で位置決めされた被吐出部に対して、Ｚ軸方向に所定の距離を保ちながら、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動、すなわち相対的に走査する。ここで、静止した被吐出部に対してキャリッジ１０３がＹ軸方向に移動してもよい。
そしてキャリッジ１０３がＹ軸方向に沿って所定の２点間を移動する期間内に、静止した被吐出部に対してノズル１１８から材料１１１を吐出してもよい。「相対移動」または「相対走査」とは、液状の材料１１１を吐出する側と、そこからの吐出物が着弾する側（被吐出部側）の少なくとも一方を他方に対して移動することを含む。

さらに、キャリッジ１０３、ヘッド群１１４Ｇ（図２）、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図３）が相対移動するとは、ステージ、基体、または被吐出部に対するこれらの相対位置が変わることである。このため、本明細書では、キャリッジ１０３、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が液滴吐出装置１００に対して静止して、ステージ１０６のみが移動する場合であっても、キャリッジ１０３、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が、ステージ１０６、基体、または被吐出部に対して相対移動すると表記する。また、相対走査または相対移動と、材料の吐出と、の組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。

キャリッジ１０３およびステージ１０６は上記以外の平行移動および回転の自由度をさらに有している。ただし、本実施例では、上記自由度以外の自由度に関する記載は説明を平易にする目的で省略されている。

制御部１１２は、液状の材料１１１を吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１２の詳細な構成および機能は、後述する。

（キャリッジ）
図２は、キャリッジ１０３をステージ１０６側から観察した図であり、図２の紙面に垂直な方向がＺ軸方向である。また、図２の紙面の左右方向がＸ軸方向であり、紙面の上下方向がＹ軸方向である。

図２に示すように、キャリッジ１０３は、それぞれほぼ同じ構造を有する複数のヘッド１１４を保持している。本実施例では、キャリッジ１０３に保持されるヘッド１１４の数は２４個である。それぞれのヘッド１１４は、後述する複数のノズル１１８が設けられた底面を有している。それぞれのヘッド１１４のこの底面の形状は、２つの長辺と２つの短辺とを有する多角形である。図２に示すように、キャリッジ１０３に保持されたヘッド１１４の底面はステージ１０６側を向いており、さらに、ヘッド１１４の長辺方向と短辺方向とは、それぞれＸ軸方向とＹ軸方向とに平行である。なお、ヘッド１１４同士の相対位置関係の詳細は、後述する。ここでは、ヘッド群１１４Ｇが４つのヘッド１１４を有する構成であるが、ヘッド群１１４Ｇが有するヘッドの数は限定されるものではなく、また、ヘッドは１つでも良い。本明細書において、ヘッド群とは、１つまたは複数のヘッドの纏まりをいう。

本明細書では、Ｙ軸方向に隣接する４つのヘッド１１４を「ヘッド群１１４Ｇ」と表記することもある。この表記によれば、図２のキャリッジ１０３は、６つのヘッド群１１４Ｇを保持していると表現し得る。

（ヘッド）
図３は、ヘッド１１４の底面を示す。ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に並んだ複数のノズル１１８を有する。これら複数のノズル１１８は、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが約７０μｍとなるように配置されている。ここで、「ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。

本実施例では、ヘッド１１４における複数のノズル１１８は、ともにＸ軸方向に延びるノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂと、をなす。ノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとは、Ｙ軸方向に並んでいる。そして、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれにおいて、９０個のノズル１１８が一定間隔でＸ軸方向に一列に並んでいる。本実施例では、この一定間隔は約１４０μｍである。つまり、ノズル列１１６ＡのノズルピッチＬＮＰおよびノズル列１１６ＢのノズルピッチＬＮＰは、ともに約１４０μｍである。

ノズル列１１６Ｂの位置は、ノズル列１１６Ａの位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの半分の長さ（約７０μｍ）だけＸ軸方向の正の方向（図３の右方向）にずれている。このため、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズルピッチＬＮＰの半分の長さ（約７０μｍ）である。

したがって、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズル線密度は、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズル線密度の２倍である。なお、本明細書において「Ｘ軸方向のノズル線密度」とは、複数のノズルをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像の単位長さ当たりの数に相当する。

もちろん、ヘッド１１４が含むノズル列の数は、２つだけに限定されない。ヘッド１１４はＭ個のノズル列を含んでもよい。ここで、Ｍは１以上の自然数である。この場合には、Ｍ個のノズル列のそれぞれにおいて複数のノズル１１８は、ノズルピッチＨＸＰのＭ倍の長さのピッチで並ぶ。さらに、Ｍが２以上の自然数の場合には、Ｍ個のノズル列のうちの一つに対して、他の（Ｍ−１）個のノズル列は、ノズルピッチＨＸＰのｉ倍の長さだけ重複無くＸ軸方向にずれている。ここで、ｉは１から（Ｍ−１）までの自然数である。

さて、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれが９０個のノズルからなるため、１つのヘッド１１４は１８０個のノズルを有する。ただし、ノズル列１１６Ａの両端のそれぞれ５ノズルは「休止ノズル」として設定されている。同様に、ノズル列１１６Ｂの両端のそれぞれ５ノズルも「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは液状の材料１１１が吐出されない。このため、ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が液状の材料１１１を吐出するノズルとして機能する。本明細書では、これら１６０個のノズル１１８を「吐出ノズル」と表記することもある。

本明細書では、ヘッド１１４同士の相対位置関係を説明する目的で、ノズル列１１６Ａに含まれる９０個のノズル１１８のうち、左から６番目のノズル１１８をヘッド１１４の「基準ノズル１１８Ｒ」と表記する。つまり、ノズル列１１６Ａにおける８０個の吐出ノズルのうち、最も左側の吐出ノズルがヘッド１１４の「基準ノズル１１８Ｒ」である。なお、すべてのヘッド１１４に対して、「基準ノズル１１８Ｒ」の指定の仕方が同じであればよいので、「基準ノズル１１８Ｒ」の位置は、上記位置でなくてもよい。

図４−１および図４−２に示すように、それぞれのヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２６と、の間には、タンク１０１から孔１３１を介して供給される液状の材料１１１が常に充填される液たまり１２９が位置している。

また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から液状の材料１１１が供給される。

振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂとの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液状の材料１１１が吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に液状の材料が吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。

ここで、本明細書において「液状の材料」とは、ノズルから吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。

制御部１１２（図１）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出される材料１１１の体積が、制御部１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。そのような場合には、ノズル１１８のそれぞれから吐出される材料１１１の体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変である。また、制御部１１２は、後述するように、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。

本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４と、を含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。吐出部１２７は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部１２７は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。

（ヘッド群）
次に、ヘッド群１１４Ｇにおける４つのヘッド１１４の相対位置関係を説明する。図５には、図２のキャリッジ１０３においてＹ軸方向に隣接する２つのヘッド群１１４Ｇが示されている。

図５に示すように、それぞれのヘッド群１１４Ｇは、４つのヘッド１１４からなる。そして、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰが、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍の長さとなるように、ヘッド群１１４において４つのヘッド１１４が配置されている。より具体的には、１つのヘッド１１４の基準ノズル１１８ＲのＸ座標に対して、他のヘッド１１４の基準ノズル１１８ＲのＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰのｊ／４倍の長さだけ、Ｘ軸方向に重複無くずれて位置している。ここで、ｊは１から３までの自然数である。このため、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、ノズルピッチＨＸＰの１／４倍である。

本実施例では、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは約７０μｍだから、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、その１／４倍の約１７．５μｍである。ここで、「ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰ」は、ヘッド群１１４Ｇにおけるノズル１１８のすべてを、Ｙ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。

もちろん、ヘッド群１１４Ｇが含むヘッド１１４の数は、４つだけに限定されない。ヘッド群１１４ＧはＮ個のヘッド１１４からなってもよい。ここで、Ｎは２以上の自然数である。この場合には、ノズルピッチＧＸＰがノズルピッチＨＸＰの１／Ｎ倍の長さになるように、ヘッド群１１４ＧにおいてＮ個のヘッド１１４が配置されればよい。あるいは、Ｎ個のヘッド１１４の一つにおける基準ノズル１１８ＲのＸ座標に対して、他の（Ｎ−１）個のヘッド１１４における基準ノズル１１８のＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰのｊ／Ｎ倍の長さだけ重複無くずれていればよい。なお、この場合には、ｊは１から（Ｎ−１）までの自然数である。

以下では、本実施例のヘッド１１４の相対位置関係をより具体的に説明する。

まず、説明を平易にする目的で、図５の左上のヘッド群１１４Ｇに含まれる４つのヘッド１１４を、上からそれぞれヘッド１１４１、ヘッド１１４２、ヘッド１１４３、ヘッド１１４４と表記する。同様に、図５の右下のヘッド群１１４Ｇに含まれる４つのヘッド１１４を、上からそれぞれヘッド１１４５、ヘッド１１４６、ヘッド１１４７、ヘッド１１４８と表記する。

そして、ヘッド１１４１におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列１Ａ、１Ｂと表記し、ヘッド１１４２におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列２Ａ、２Ｂと表記し、ヘッド１１４３におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列３Ａ、３Ｂと表記し、ヘッド１１４４におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列４Ａ、４Ｂと表記する。同様に、ヘッド１１４５におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列５Ａ、５Ｂと表記し、ヘッド１１４６におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列６Ａ、６Ｂと表記し、ヘッド１１４７におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列７Ａ、７Ｂと表記し、ヘッド１１４８におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列８Ａ、８Ｂと表記する。

これらノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれは、実際には９０個のノズル１１８からなる。そして、上述したように、ノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれにおいて、これら９０個のノズルは、Ｘ軸方向に並んでいる。ただし、図５では説明の便宜上、ノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれが、４つの吐出ノズル（ノズル１１８）からなるように描かれている。さらに、図５では、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４１の基準ノズル１１８Ｒであり、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４２の基準ノズル１１８Ｒであり、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４３の基準ノズル１１８Ｒであり、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４４の基準ノズル１１８Ｒであり、ノズル列５Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４５の基準ノズル１１８Ｒである。

ヘッド１１４１の基準ノズル１１８ＲのＸ座標と、ヘッド１１４２の基準ノズル１１８ＲのＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／２倍の長さ、である。図５の例では、ヘッド１１４１の基準ノズル１１８Ｒの位置は、ヘッド１１４２の基準ノズル１１８Ｒの基準ノズル１１８Ｒの位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さだけＸ軸方向の負の方向（図５の左方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４１がヘッド１１４２に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の正の方向（図５の右方向）であってもよい。

ヘッド１１４３の基準ノズル１１８ＲのＸ座標と、ヘッド１１４４の基準ノズル１１８ＲのＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／２倍の長さ、である。図５の例では、ヘッド１１４３の基準ノズル１１８Ｒの位置は、ヘッド１１４４の基準ノズル１１８Ｒの基準ノズル１１８Ｒの位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さだけＸ軸方向の負の方向（図５の左方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４３がヘッド１１４４に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の正の方向（図５の右方向）であってもよい。

ヘッド１１４２の基準ノズル１１８ＲのＸ座標と、ヘッド１１３の基準ノズル１１８ＲのＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／８倍または３／８倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／４倍または３／４倍の長さ、である。図５の例では、ヘッド１１４２の基準ノズル１１８Ｒの位置は、ヘッド１１４３の基準ノズル１１８Ｒの位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／８、すなわち１７．５μｍだけＸ軸方向の正の方向（図５の右方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４２がヘッド１１４３に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の負の方向（図５の左方向）であってもよい。

本実施例では、Ｙ軸方向の負の方向（図面の下方向）に向かって、ヘッド１１４１、１１４２、１１４３、１１４４が、この順番でならんでいる。しかしながら、Ｙ軸方向にならんだこれら４つのヘッド１１４の順番は、本実施例の順番でなくてもよい。具体的には、ヘッド１１４１とヘッド１１４２とが、Ｙ軸方向に互いに隣接するとともに、ヘッド１１４３とヘッド１１４４とがＹ軸方向に互いに隣接していればよい。

上記配置によって、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標とノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標との間に、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、が収まる。同様に、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標とノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標との間に、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、が収まる。ノズル列１Ａの他のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの他のノズル１１８のＸ座標と、の間にも、同様にノズル列２Ａ（または２Ｂ）のノズル１１８のＸ座標、ノズル列３Ａ（または３Ｂ）のノズル１１８のＸ座標、ノズル列４Ａ（または４Ｂ）のノズル１１８のＸ座標が収まる。

より具体的には、上記のヘッドの配置によって、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。そして、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。

図５の右下のヘッド群１１４Ｇにおけるヘッド１１４５、１１４６、１１４７、１１４８の配置、つまりコンフィギュレーションも、ヘッド１１４１、１１４２、１１４３、１１４４の配置と同様である。

次に、Ｘ軸方向に互いに隣接する２つのヘッド群１１４Ｇの間の相対位置関係を、ヘッド１１４５とヘッド１１４１との間の相対位置関係に基づいて説明する。

ヘッド１１４５の基準ノズル１１８Ｒの位置は、ヘッド１１４１の基準ノズル１１８Ｒの位置から、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰと、ヘッド１１４における吐出ノズルの数と、の積の長さだけＸ軸方向の正の方向にずれている。本実施例では、ノズルピッチＨＸＰは約７０μｍであるとともに、１つのヘッド１１４における吐出ノズルの数は１６０個なので、ヘッド１１４５の基準ノズル１１８Ｒの位置は、ヘッド１１４１の基準ノズル１１８Ｒの位置から１１．２ｍｍ（７０μｍ×１６０）だけＸ軸方向の正の方向にずれている。ただし、図５では、説明の便宜上、ヘッド１１４１における吐出ノズルの数は８個なので、ヘッド１１４５の基準ノズル１１８Ｒの位置が、ヘッド１１４１の基準ノズル１１４１の位置から５６０μｍ（７０μｍ×８）だけずれているように描かれている。

ヘッド１１４１とヘッド１１４５とが上述のように配置されているので、ノズル列１Ａの最も右の吐出ノズルのＸ座標と、ノズル列５Ａの最も左の吐出ノズルのＸ座標とは、ノズルピッチＬＮＰだけずれている。このため、２つのヘッド１１４Ｇ全体のＸ軸方向のノズルピッチは、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍である。

また、キャリッジ１０３全体としてのＸ軸方向のノズルピッチも、１７．５μｍ、すなわち、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍の長さになるように、６つのヘッド群１１４Ｇが配置されている。

（制御部）
次に、制御部１１２の構成を説明する。図６に示すように、制御部１１２は、入力バッファメモリ２００と、記憶手段２０２と、処理部２０４と、走査駆動部２０６と、ヘッド駆動部２０８と、を備えている。バッファメモリ２０２と処理部２０４とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と記憶手段２０２とは、相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と走査駆動部２０６とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４とヘッド駆動部２０とは相互に通信可能に接続されている。また、走査駆動部２０６は、第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッド駆動部２０８は、複数のヘッド１１４のそれぞれと相互に通信可能に接続されている。

入力バッファメモリ２００は、外部情報処理装置から液状の材料１１１の液滴の吐出を行うための吐出データを受け取る。吐出データは、基体上のすべての被吐出部の相対位置を表すデータと、すべての被吐出部に液状の材料１１１を所望の厚さにまで塗布するのに必要となる相対走査の回数を示すデータと、オンノズル１１８Ａとして機能するノズル１１８を指定するデータと、オフノズル１１８Ｂとして機能するノズル１１８を指定するデータと、を含む。オンノズル１１８Ａおよびオフノズル１１８Ｂの説明は後述する。入力バッファメモリ２００は、吐出データを処理部２０４に供給し、処理部２０４は吐出データを記憶手段２０２に格納する。図６では、記憶手段２０２はＲＡＭである。

処理部２０４は、記憶手段２０２内の吐出データに基づいて、被吐出部に対するノズル１１８の相対位置を示すデータを走査駆動部２０６に与える。走査駆動部２０６はこのデータと、後述する吐出周期ＥＰ（図７）と、に応じた駆動信号を第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８に与える。この結果、被吐出部に対してヘッド１１４が相対走査する。一方、処理部２０４は、記憶手段２０２に記憶された吐出データと、吐出周期ＥＰと、に基づいて、吐出タイミング毎のノズル１１８のオン・オフを指定する選択信号ＳＣをヘッド駆動部２０８へ与える。ヘッド駆動部２０８は、選択信号ＳＣに基づいて、液状の材料１１１の吐出に必要な吐出信号ＥＳをヘッド１１４に与える。この結果、ヘッド１１４における対応するノズル１１８から、液状の材料１１１が液滴として吐出される。

制御部１１２は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭを含んだコンピュータであってもよい。この場合には、制御部１１２の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御部１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。

次に制御部１１２におけるヘッド駆動部２０８の構成と機能を説明する。

図７−１に示すように、ヘッド駆動部２０８は、１つの駆動信号生成部２０３と、複数のアナログスイッチＡＳと、を有する。図７−２に示すように、駆動信号生成部２０３は駆動信号ＤＳを生成する。駆動信号ＤＳの電位は、基準電位Ｌに対して時間的に変化する。具体的には、駆動信号ＤＳは、吐出周期ＥＰで繰り返される複数の吐出波形Ｐを含む。ここで、吐出波形Ｐは、ノズル１１８から１つの液滴を吐出するために、対応する振動子１２４の一対の電極間に印加されるべき駆動電圧波形に対応する。

駆動信号ＤＳは、アナログスイッチＡＳのそれぞれの入力端子に供給される。アナログスイッチＡＳのそれぞれは、吐出部１２７のそれぞれに対応して設けられている。つまり、アナログスイッチＡＳの数と吐出部１２７の数（つまりノズル１１８の数）とは同じである。

処理部２０４は、ノズル１１８のオン・オフを表す選択信号ＳＣを、アナログスイッチＡＳのそれぞれに与える。ここで、選択信号ＳＣは、アナログスイッチＡＳ毎に独立にハイレベルおよびローレベルのどちらかの状態を取り得る。一方、アナログスイッチＡＳは、駆動信号ＤＳと選択信号ＳＣとに応じて、振動子１２４の電極１２４Ａに吐出信号ＥＳを供給する。具体的には、選択信号ＳＣがハイレベルの場合には、アナログスイッチＡＳは電極１２４Ａに吐出信号ＥＳとして駆動信号ＤＳを伝播する。一方、選択信号ＳＣがローレベルの場合には、アナログスイッチＡＳが出力する吐出信号ＥＳの電位は基準電位Ｌとなる。振動子１２４の電極１２４Ａに駆動信号ＤＳが与えられると、その振動子１２４に対応するノズル１１８から液状の材料１１１が吐出される。なお、それぞれの振動子１２４の電極１２４Ｂには基準電位Ｌが与えられている。

図７−２に示す例では、２つの吐出信号ＥＳのそれぞれにおいて、吐出周期ＥＰの２倍の周期２ＥＰで吐出波形Ｐが現れるように、２つの選択信号ＳＣのそれぞれにおいてハイレベルの期間とローレベルの期間とが設定されている。これによって、対応する２つのノズル１１８のそれぞれから、周期２ＥＰで液状の材料１１１が吐出される。また、これら２つのノズル１１８に対応する振動子１２４のそれぞれには、共通の駆動信号生成部２０３からの共通の駆動信号ＤＳが与えられている。このため、２つのノズル１１８からほぼ同じタイミングで液状の材料１１１が吐出される。

以上の構成によって、液滴吐出装置１００は、制御部１１２に与えられた吐出データに応じて、液状の材料１１１の塗布走査を行う。

（塗布方法）
図８を参照して、液滴吐出装置１００の塗布方法の一例を説明する。図８は、液滴吐出装置１００の塗布方法の一例を説明するための説明図である。図８において、ステージ１０６には基体３００が保持されている。基体３００は、バンク３０１で区画される被吐出部３０２がマトリクス状に形成されている。この被吐出部３０２は、画素等が形成される領域である。被吐出部３０２の平面像は、長辺と短辺で定まる略矩形形状を呈している。バンク３０１は、Ｘ軸方向のバンク幅がＬμｍとなっている。ステージ１０６は、基板３００の被吐出部３０２の長辺方向がＸ軸方向に平行に、かつ、その短辺方向がＹ軸方向に平行になるように、基板３００を保持している。

図８において、まず、キャリッジ１０３をステージ１０６に対してＹ軸方向に相対移動させながら、Ｙ軸方向に沿ってヘッド群１１４Ｇで基体３００の被吐出部３０２に液状の材料１１１の液滴を吐出する。つぎに、キャリッジ１０３をステージ１０６に対してＸ軸方向に、ヘッド群１１４Ｇの描画幅（有効走査幅）だけ相対移動させた後、同様にＹ軸方向に相対移動させながら基体３００の被吐出部３０２に対して液状の材料１１１の液滴を吐出する。同様の動作を基体２００の全塗布面が終了するまで実行する。

（ヘッド群の選択）
図９は、ヘッド１１４のノズル間誤差（＝ノズルピッチ誤差）距離分布の一例を示す図である。図９には、ＬｏｔＡの製造ラインで製造されたヘッド１１４と、ＬｏｔＢの製造ラインで製造されたヘッド１１４のノズルピッチの誤差分布が示されている。同図において、横軸はヘッド１１４のノズルピッチの誤差、縦軸はヘッドの数を示している。ここで、ノズルピッチ誤差とは、ノズルピッチの目標値に対する誤差をいう。同図に示すように、各Ｌｏｔでヘッド１１４のノズルピッチの誤差の傾向が異なっている。

図１０および図１１は、ヘッド１１４のノズル１１８から基体３００に吐出された液滴の挙動を説明するための図である。図１０に示すように、基体３００上には、無機または有機材料からなるバンク３０１で区画される被吐出部３０２が形成されている。バンク３０１のＸ軸方向のバンク幅はＬμｍ（例えば、Ｌ＝２０μｍ）、そのＺ軸方向の長さ（高さ）はＬ２μｍ（例えば、Ｌ２＝２μｍ）となっている。被吐出部３０２のＸ軸方向の幅はＬ１μｍ（例えば、Ｌ１＝５０μｍ）となっている。液滴１１１の自己組織滴なパターニング現象を引き起こすために、バンク３０１の表面に撥液化処理を施しており、被吐出部３０２の表面に親液化処理を施している。この基体３００上に、ヘッド１１４から直径Ｌ３μｍ（例えば、Ｌ３＝２５μｍ）の液滴１１１を吐出した場合の液滴の挙動を図１１を参照して説明する。

図１１−１に示すように、ヘッド１１４のノズル１１８から液滴１１１が吐出されると、図１１−２に示すように、基板３００に着弾し、図１１−３に示すように、その衝突で変形する。液滴１１１は、図１１−４に示すように、撥液化処理が施されているバンク３０１では弾かれ、親液化処理が施されている被吐出部３０２に引っ張られて、被吐出部３０２内に転がり込んだ後、エネルギー的に安定すると、図１１−５に示すように、自己の都合の良い形状となる。このように、基体３００に着弾した液滴１１１では、自己組織的なパターニング現象が発生して、被吐出部３０２に液滴１１１を配することができる。

ここで、バンク３０１上に着弾した液滴１１１の挙動を図１１−６を参照して説明する。上述した自己組織的なパターニング現象により、液滴１１１が着弾した位置が、バンク３０２の中心位置Ｌ／２から内側の場合には、液滴１１１は第１の被吐出部３０２Ａに転がり込み、外側の場合には、第２の被吐出部３０２Ｂに転がり込むことになる。このため、ヘッド群１０４Ｇのノズルピッチ誤差が基体２００のＸ軸方向のバンク幅Ｌの１／２以上である場合には、所望の被吐出部３０１に液滴１１１を配することができず、隣の被吐出部３０２に液滴１１１が配されてしまう。

隣の被吐出部３０２に液滴１１１が転がり込んでしまうと、液滴１１１を配すべき被吐出部３０２の液滴１１１の量が少なくなる一方、隣の被吐出部３０２の液滴１１１の量が多くなってしまう。このように、被吐出部３０２に目標量の液滴１１１を配することができなくなると、各吐出部３０２で均一な膜厚の薄膜を形成することができなくなるため、色度ムラ等が生じてしまうことになる。そこで、本実施例では、所望位置の被吐出部３０に液滴１１１を配するために、上述したヘッド群１１４Ｇのノズルピッチの誤差がノズル基体３００のＸ軸方向のバンク幅Ｌの１／２以内となるようにヘッド１１４を選択している。ここで、ヘッド群１１４Ｇのノズルピッチの誤差とは、ヘッド群１１４Ｇが、上記図２に示すように、４つのヘッド１１４で構成される場合には、４つのヘッド１１４でのノズルピッチの誤差をいい、ヘッド群１１４が、１つのヘッド１１４で構成される場合には、１つのヘッド１１４でのノズルピッチの誤差をいう。ヘッドを製造する場合に端部を基準にノズルを形成するとノズル間距離の誤差が積算されるため、中央を基準にノズルを形成するのが望ましい。

以上説明したように、本実施例の液滴吐出装置１００は、バンク３０１でマトリクス状に区画された被吐出部３０２が形成されている基体３００を保持するためのステージ１０６と、１または複数のヘッド１１４からなり、ステージ１０６に対してＹ軸方向に相対移動して基体３００の被吐出部３０２に液滴を吐出するヘッド群１１４Ｇと、を備え、ヘッドは、１または複数のノズル列がＸ軸方向に沿って形成されており、ヘッド群１１４Ｇのノズルピッチの誤差を、ステージ１０６に保持される基体３００のＸ軸方向のバンク幅Ｌの１／２以内としたので、ヘッド群のノズルで所望の被吐出部に液滴を吐出する場合に、当該被吐出部にＸ軸方向に隣接するバンクの中心位置Ｌ／２から内側に着弾させることができ、当該被吐出部に液滴が転がり込んで配されるため、所望の被吐出部に液滴を配することが可能となり、各被吐出部に形成する薄膜の膜厚を均一にすることができる。この結果、基体上にバンクでマトリクス形状に区画された各被吐出部に均一な膜厚の薄膜を形成することが可能な液滴吐出装置を提供することができる。

［電気光学装置の製造］
次に、本実施例の液滴吐出装置１００を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。

先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１２は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１３は、製造工程順に示した本実施例のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。

まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１）では、図１３−１に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。

続いて、バンク形成工程（Ｓ２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１３−２に示すように、基板５０１及びブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。さらに、図１３−３に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程においてヘッド１１４により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。

以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。なお、本実施例においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。

次に、着色層形成工程（Ｓ３）では、図１３−４に示すように、ヘッド１１４によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、ヘッド１１４を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ４）に移り、図１３−５に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、基板５０１を個々の有効画素領域毎に切断することによって、カラーフィルタ５００が得られる。

図１４は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１３に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。

この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。

カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１４において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料により形成されている。

液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。

通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。

本実施例の液滴吐出装置１００は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、ヘッド１１４で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布をヘッド１１４で行うことも可能である。

図１５は、本実施例において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。

カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。

液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。

図１６は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。

この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。

対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１及び信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。

また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。

なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。

次に、図１７は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。

この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３及び陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２及び基板６０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２及び基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。

回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａ及びドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。

また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６及び半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９及びゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。

そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。また、第1層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。

このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。

上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３及び機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。これら画素電極６１３、機能層６１７、及び、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。

バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。

上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸等の混合物を用いる。

発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。また、第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層１２０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロヘキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。

そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。

陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。

次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１８〜図２６を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１８に示すように、バンク部形成工程（Ｓ２１）、表面処理工程（Ｓ２２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）、発光層形成工程（Ｓ２４）、及び対向電極形成工程（Ｓ２５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。

まず、バンク部形成工程（Ｓ２１）では、図１９に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図２０に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。

表面処理工程（Ｓ２２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａ及び画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓ及び有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。この表面処理工程を行うことにより、ヘッド１１４を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。

そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１００のＸ軸テーブル２５に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）及び発光層形成工程（Ｓ２４）が行われる。

図２１に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）では、ヘッド１１４から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図２２に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入/輸送層６１７ａを形成する。

次に発光層形成工程（Ｓ２４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。

そして次に、図２３に示すように、各色のうちの何れか（図２３の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。

その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２４に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。

同様に、ヘッド１１４を用い、図２５に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａ及び発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ２５）に移行する。

対向電極形成工程（Ｓ２５）では、図２６に示すように、発光層６１７ｂ及び有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施例においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。

このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。

次に、図２７は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、及びこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。

第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。

放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。

第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。

本実施例においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、及び蛍光体７０９を、図１に示した液滴吐出装置１００を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１００のＸ軸テーブル２５に載置された状態で以下の工程が行われる。まず、ヘッド１１４により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。

補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。

ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１及び蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）をヘッド１１４から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。

次に、図２８は、電子放出装置（ＦＥＤ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。

第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した素子膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび素子膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。素子膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、素子膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。

第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、所定のパターンで配置されている。

そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、素子膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。

この場合も、他の実施例と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１００を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１００を用いて形成することができる。

また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の他、プレパラート形成を包含する装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１００を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。

［電子機器への適用］
次に、本発明に係る電気光学装置を適用可能な電子機器の具体例について図２９を参照して説明する。図２９−１は、本発明に係る電気光学装置を可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）９００の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ９００は、キーボード９０１を備えた本体部９０２と、本発明に係る電気光学装置を適用した表示部９０３とを備えている。図２９−２は、本発明に係る電気光学装置を携帯電話機９５０の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機９５０は、複数の操作ボタン９５１のほか、受話口９５２、送話口９５３とともに、本発明に係る電気光学装置を適用した表示部９５４を備えている。

本発明に係る電気光学装置は、上述した携帯電話機やノートパソコン以外にも、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）と呼ばれる携帯型情報機器、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、およびＰＯＳ端末機などの電子機器に広く適用することができる。

本発明の液滴吐出装置は、本発明に係る液滴吐出装置は、工業上の各種分野の成膜に広く利用することができる。本発明に係る電気光学装置は、有機ＥＬエレクトロルミネッセンス、液晶表示装置、有機ＴＦＴ表示装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電子放出表示装置（Field Emission DisplayおよびSurface-Conduction Electoron-Emitter Display等）、ＬＥＤ（ライトエミッティングダイオード）表示装置、エレクトロミック調光ガラス装置、および電子ペーパー装置の電気光学装置に広く利用可能である。また、本発明に係る電子機器は、携帯電話機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）と呼ばれる携帯型情報機器、携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、およびＰＯＳ端末機などの電子機器に広く利用することができる。

実施例に係る液滴吐出装置を示す模式図。 実施例に係るのキャリッジを示す模式図。 実施例に係るヘッドを示す模式図。 実施例に係るヘッドの吐出部を示す模式図。 実施例に係るヘッドの吐出部を示す模式図。 実施例に係るヘッド群におけるヘッドの相対位置関係を示す模式図。 実施例に係る制御部を示す模式図。 実施例に係るヘッド駆動部を示す模式図。 実施例に係るヘッド駆動部における駆動信号、選択信号および吐出信号を示すタイミングチャート。 実施例に係る液滴吐出装置の吐出方法を説明するための模式図。 実施例に係るヘッドのノズル間誤差距離分布の一例を示す図。 実施例に係るヘッドから基体に吐出された液滴の挙動を説明するための模式図。 実施例に係るヘッドから基体に吐出された液滴の挙動を説明するための模式図。 実施例に係るヘッドから基体に吐出された液滴の挙動を説明するための模式図。 実施例に係るヘッドから基体に吐出された液滴の挙動を説明するための模式図。 実施例に係るヘッドから基体に吐出された液滴の挙動を説明するための模式図。 実施例に係るヘッドから基体に吐出された液滴の挙動を説明するための模式図。 実施例に係るヘッドから基体に吐出された液滴の挙動を説明するための模式図。 カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャート。 製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図。 製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図。 製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図。 製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図。 製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図。 実施例に係るカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図。 実施例に係るカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図。 実施例に係るカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図。 有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図。 有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャート。 無機物バンク層の形成を説明する工程図。 有機物バンク層の形成を説明する工程図。 正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図。 正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図。 青色の発光層を形成する過程を説明する工程図。 青色の発光層が形成された状態を説明する工程図。 各色の発光層が形成された状態を説明する工程図。 陰極の形成を説明する工程図。 プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図。 電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図。 実施例に係る電気光学装置を備えたパソコンの斜視図。 実施例に係る電気光学装置を備えた携帯電話機の斜視図。

符号の説明

１００ 液滴吐出装置、１０２ 吐出走査部、１０３ キャリッジ、１０４ 第１位置制御装置、１０６ ステージ、１０８ 第２位置制御装置、１１１ 液状の材料、１１２ 制御部、１１４ ヘッド、１１４Ｇ ヘッド群、１１６Ａ，１１６Ｂ ノズル列、１１８ ノズル、１１８Ｒ 基準ノズル、１２４ 振動子、１２４Ａ，１２４Ｂ 電極、１２４Ｃ ピエゾ素子、１２７ 吐出部、２０３ 駆動信号生成部、２０８ ヘッド駆動部

Claims (5)

1. バンクでマトリクス状に区画された被吐出部が形成されている基体を保持するステージと、
   １または複数のヘッドからなり、前記ステージに対してＹ軸方向に相対移動して前記基体の被吐出部に液滴を吐出するヘッド群と、を備え、
   前記ヘッドは、１または複数のノズル列がＸ軸方向に沿って形成されており、
   前記ヘッド群のノズルピッチの誤差を、前記ステージに保持される基体のＸ軸方向のバンク幅Ｌの１／２以内としたことを特徴とする液滴吐出装置。
2. 前記被吐出部の表面は、親液化処理が施されており、前記バンクの表面は、撥液化処理が施されていることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
3. 前記被吐出部の平面像は、長辺と短辺で定まる略矩形形状を呈し、
   前記ステージは、前記長辺の方向が前記Ｘ軸に平行になるとともに、前記短辺の方向が前記Ｙ軸に平行になるように、前記基体を保持することを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
4. 請求項１〜請求項３のいずれか１つに記載の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。
5. 請求項４に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。

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