JP2003284988A - 吐出方法およびその装置、電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 組立が良好で電気ノイズの影響を防止した吐
出装置を提供する。 【解決手段】 カラーフィルタを製造する液滴吐出装置
の各色に対応した液滴吐出処理装置に、各色のフィルタ
エレメント材料をそれぞれ吐出するヘッドユニット４２
０を設ける。短冊状のプリント基板の長手方向の一端側
にインクジェットヘッドを設け、他端側にコネクタを配
設したヘッド装置４３３を、平板状のキャリッジ４２６
に直線状に２つグループである２列で略千鳥状にコネク
タ４４１が位置する部分が対向することなく反対側に突
出する状態で配設してヘッドユニット４２０を構成す
る。ヘッドユニット４２０をヘッド装置４３３の配列方
向に対して交差方向に移動させつつ、フィルタエレメン
ト材料を所定位置に重ねて吐出し、マザー基板上にフィ
ルタエレメントをドットパターン状に形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、流動性を有した液
状体を吐出する吐出方法およびその装置に関する。そし
て、本発明は、液晶装置、ＥＬ装置、電気泳動装置、電
子放出装置およびＰＤＰ装置などの電気光学装置、この
電気光学装置を製造する電気光学素装置の製造方法およ
びその製造装置に関する。また、本発明は、電気光学装
置に用いられるカラーフィルタ、このカラーフィルタを
製造する製造方法およびその製造装置に関する。さら
に、本発明は、電気光学部材、半導体装置、光学部材、
試薬検査部材などの基材を有するデバイス、この基材を
有したデバイスを製造する製造方法およびその製造装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型コンピュータ
などといった電子機器の表示部に液晶装置、エレクトロ
ルミネッセンス装置（以下ＥＬ（electoro luminescen
ce）装置という）などといった電気光学装置である表示
装置が広く用いられている。また、最近では、表示装置
によってフルカラー表示することが多くなっている。こ
の液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液晶層に
よって変調される光をカラーフィルタに通すことによっ
て表示される。そして、カラーフィルタは、例えば、ガ
ラス、プラスチックなどによって形成された基板の表面
に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のドット状の各色の
フィルタエレメントをいわゆるストライプ配列、デルタ
配列またはモザイク配列などといった所定の配列で並べ
ることによって形成される。

【０００３】また、ＥＬ装置によるフルカラー表示は、
例えばガラス、プラスチックなどによって形成された基
板の表面に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のドット状
の各色のＥＬ発光層をいわゆるストライプ配列、デルタ
配列またはモザイク配列などといった所定の配列で並
べ、これらのＥＬ発光層を一対の電極で挟持して絵素ピ
クセルを形成する。そして、これらの電極に印加する電
圧を絵素ピクセル毎に制御することにより、これら絵素
ピクセルを希望の色で発光させてフルカラー表示する。

【０００４】従来、カラーフィルタのＲ、Ｇ、Ｂなどの
各色のフィルタエレメントをパターニングする場合や、
ＥＬ装置のＲ、Ｇ、Ｂなどの各色の絵素ピクセルをパタ
ーニングする場合、フォトリソグラフィー法を用いるこ
とが知られている。しかしながら、このフォトリソグラ
フィー法を用いる場合には、工程が複雑であることや、
各色の材料あるいはフォトレジストなどを多量に消費す
るので、コストが高くなるなどといった問題がある。

【０００５】この問題を解決するために、インクジェッ
ト法によってフィルタエレメント材料やＥＬ発光材料な
どをドット状に吐出することにより、ドット状配列のフ
ィラメントやＥＬ発光層などを形成する方法が提案され
ている（例えば特許文献１）。

【０００６】ここで、インクジェット法によってドット
状配列のフィラメントやＥＬ発光層などを形成する方法
について説明する。図２９（ａ）において、ガラス、プ
ラスチックなどによって形成された大面積の基板、いわ
ゆるマザーボード３０１の表面に設定される複数のパネ
ル領域３０２の内部領域に、図２９（ｂ）に示すよう
に、ドット状に配列された複数のフィルタエレメント３
０３をインクジェット法に基づいて形成する場合につい
て考える。この場合には、例えば図２９（ｃ）に示すよ
うに、複数のノズル３０４を列状に配列してなるノズル
列３０５を有するインクジェットヘッド３０６を、図２
９（ｂ）の矢印Ａ１および矢印Ａ２で示すように、１個
のパネル領域３０２に関して複数回（図２９では２回）
主走査させながら、それらの主走査の間に複数のノズル
から選択的にインクすなわちフィルタ材料を吐出するこ
とによって希望位置にフィルタエレメント３０３を形成
する。

【０００７】このフィルタエレメント３０３は、上述し
たように、Ｒ、Ｇ、Ｂなどの各色をいわゆるストライプ
配列、デルタ配列、モザイク配列などといった適宜の配
列形態で配列することによって形成されるものである。
このことから、図２９（ｂ）に示すインクジェットヘッ
ド３０６によるインク吐出処理は、Ｒ、Ｇ、Ｂの単色を
吐出するインクジェットヘッド３０６をＲ、Ｇ、Ｂの３
色分だけあらかじめ設けておく。そして、これらのイン
クジェットヘッド３０６を順次に用いて１つのマザーボ
ード３０１上にＲ、Ｇ、Ｂなどの３色配列を形成する。

【０００８】なお、マザーボード３０１に複数のパネル
領域３０２を形成する場合、インクジェットヘッドの主
走査方向に対して幅方向となるマザーボード３０１の幅
寸法略全域にインクジェットヘッドが位置するように長
手状のインクジェットヘッドを用いることにより、効率
よくフィルタエレメント３０３を形成することが考えら
れる。しかしながら、パネル領域３０２の大きさに対応
して異なる大きさのマザーボード３０１を用いる場合に
は、その都度異なるインクジェットヘッドが必要とな
り、コストが増大することから、複数のインクジェット
ヘッドを複数配設する構成が考えられる。

【０００９】

【特許文献１】 特開平２−１７３７０３号公報

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ところで、インクジェ
ットヘッドは、例えば組み込まれ圧電素子を適宜動作さ
せてインクに圧力を加えて吐出させる構造で、圧電素子
に適宜電気信号を送信するための電気配線が必要とな
る。このことから、取付基板にインクジェットヘッドお
よびこのインクジェットヘッドに電気的に接続され圧電
素子を制御するための電気配線が接続されるコネクタを
一体的に組立形成されたヘッド装置を用いる構成が考え
られる。

【００１１】しかしながら、複数のヘッド装置を配設す
る際、インクジェットヘッドへの電気配線の配線などの
作業性や、所望の描画が得られるヘッド装置の配設位
置、電気ノイズなどを考慮する必要がある。

【００１２】本発明は、このような点に鑑みて、組立性
が良好で電気ノイズによる影響を防止した吐出方法およ
びその装置、電気光学装置、その製造方法およびその製
造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造
装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法お
よびその製造装置を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】（１）本発明の吐出装置
は、流動性を有した液状体を被吐出物上に吐出するノズ
ルが設けられた液滴吐出ヘッド、この液滴吐出ヘッドが
取り付けられた取付基板およびこの取付基板に配設され
たコネクタを備えた複数の吐出手段と、前記複数の吐出
手段を複数グループに分けて配列させ、かつ前記取付基
板におけるコネクタの配設された部分が他のグループに
おいて配列した前記吐出手段と互いに対向しないように
配置させてなり、前記液滴吐出ヘッドのノズルが設けら
れた一面が前記被吐出物の表面に間隙を介して対向する
ように前記複数の吐出手段を配置する保持手段と、この
保持手段および前記被吐出物のうちの少なくともいずれ
か一方を前記液滴吐出ヘッドが前記被吐出物の表面に沿
う状態で相対的に移動させる移動手段とを具備したこと
を特徴とする。

【００１４】この発明では、流動性を有した液状体を吐
出するノズルを一面に設けた液滴吐出ヘッドとコネクタ
とを取付基板に取り付けた複数の吐出手段を、複数のグ
ループに分けて配列するとともに、取付基板におけるコ
ネクタの配設された部分が他のグループにおいて配列し
た吐出手段と互いに対向しないように保持手段に配置
し、配置された液滴吐出ヘッドをノズルを有する一面が
被吐出物の表面に沿う状態で被吐出物に対して相対的に
移動させ、ノズルから液状体を被吐出物上の所定位置に
適宜吐出する。

【００１５】この構成により、取付基板に液滴吐出ヘッ
ドおよびコネクタを設けた吐出手段を保持手段に複数配
置させるので、複数の液滴吐出ヘッドおよびこれら液滴
吐出ヘッドに対応するコネクタを別々に配設する場合に
比して組立が容易となり、製造性が向上する。また、コ
ネクタが取付基板に配設される部分が他のグループの吐
出手段と互いに対向することなく配置するので、コネク
タが配設された部分が液滴吐出ヘッドに対して対向方向
と反対側である外側に向く状態となり、コネクタへの配
線作業が容易で組立作業性が向上するとともに、コネク
タが位置する部分での電気ノイズが互いに影響し合うこ
とが防止され、安定した良好な液状体の吐出が得られ
る。

【００１６】そして、本発明では、取付基板は長手状に
形成され、吐出手段は、前記取付基板の長手方向の一端
側に液滴吐出ヘッドが配設され、前記取付基板の長手方
向の他端側にコネクタが配設されたことが好ましい。こ
の構成により、コネクタが取付基板に配設される部分が
他のグループの吐出手段に互いに対向することなく、液
滴吐出ヘッドに対して対向方向と反対側である外側に向
く状態で複数の吐出手段を保持手段に配置する構成が容
易に得られるとともに、簡単な構成で液滴吐出ヘッドか
らコネクタの位置が離れた状態が得られ、コネクタへの
配線作業も容易となる。

【００１７】また、本発明では、コネクタの配設された
部分が対向しないように配列された吐出手段のグループ
同士は略点対称となる状態で当該吐出手段が並べて配置
されたことが好ましい。この構成により、コネクタの位
置が略点対称となる他方のグループの吐出手段のコネク
タの位置から最も遠い位置となり、確実に電気ノイズに
よる影響の防止および配線作業性の向上が図れる。

【００１８】さらに、本発明では、液状体を吐出手段に
供給する給液手段を具備し、給液手段は、複数の吐出手
段のグループの間の位置から各グループにおける各吐出
手段に供給管を接続し、この供給管を通して各吐出手段
に液状体を供給することが好ましい。この構成により、
給液手段にて複数の吐出手段のグループの配置位置の間
の位置から各グループの吐出手段に接続した供給管を通
して液状体を供給するので、液状体を供給するための流
路が途中までまとまった状態となり、配管作業および保
守管理が容易となるとともに、配管された流路が他の部
位に干渉することにより、保持手段の移動が規制された
り、配管の外れや損傷などの不都合が防止される。

【００１９】そして、本発明では、給液手段は、液状体
を貯留するタンクと、前記液状体を流通する供給管と、
前記タンク内の液状体を前記供給管を通して吐出手段の
液滴吐出ヘッドに供給するポンプとを備え、前記供給管
は、前記吐出手段の液滴吐出ヘッドに対応して複数設け
られ、複数の吐出手段のグループの配置位置の間の位置
から各吐出手段に配管されたことが好ましい。この構成
により、タンクに貯留された液状体を流通する供給管
を、吐出手段の液滴吐出ヘッドに対応して複数設け、複
数の吐出手段のグループの配置位置の間の位置から各吐
出手段にそれぞれ配管するので、例えば液状体を分流し
て供給する構成における分流位置から先端までの流通抵
抗を一致させて各吐出手段の液滴吐出ヘッド間での吐出
量のバラツキを防止するための煩雑な構成が不要で、同
一形状で同一長さの供給管を用いて配管することで、各
液滴吐出ヘッド間での均一な吐出量となる構成が容易に
得られ、製造性が向上する。

【００２０】また、本発明では、制御手段から各吐出手
段のコネクタに接続される複数の電気配線を備え、これ
ら電気配線は、保持手段の外周側から各吐出手段のコネ
クタに向けてそれぞれ配線されたことが好ましい。この
構成により、制御手段から各吐出手段のコネクタに接続
する複数の電気配線を、保持手段の外周側から各吐出手
段のコネクタに向けてそれぞれ配線するので、電気配線
による電気ノイズの影響も防止され、安定した良好な液
状体の吐出が得られる。

【００２１】さらに、本発明では、複数の吐出手段は、
移動手段によって液滴吐出ヘッドが被吐出物の表面に沿
って相対的に移動される方向に対して交差する方向に沿
って前記液滴吐出ヘッドが複数列に並んだ状態に配置さ
れたことが好ましい。この構成により、例えば被吐出物
の表面にドット状に吐出される液状体のドット間ピッチ
に対応してノズル間ピッチが対応するように移動手段に
よる移動方向に対して液滴吐出ヘッドが傾斜する状態で
複数列に配設しても、コネクタが配設された位置が隣接
する吐出手段同志で干渉することなく容易に配設され、
製造性が向上するとともに、配線による電気ノイズの影
響も防止される。

【００２２】（２）本発明では、吐出する液状体として
ＥＬ発光材料を含有する液状体を用い、被吐出物である
基板上に吐出させてＥＬ発光層を形成して電気光学装置
を製造することに好都合である。

【００２３】（３）本発明では、吐出する液状体として
カラーフィルタ材料を含有する液状体を用い、被吐出物
として液晶を挟持する一対の基板の一方に吐出させてカ
ラーフィルタを形成して電気光学装置を製造することに
好都合である。

【００２４】（４）本発明では、吐出する液状体として
カラーフィルタ材料を含有する液状体を用い、被吐出物
である基板上に吐出させて異なる色を呈するカラーフィ
ルタを製造することに好都合である。

【００２５】（５）本発明では、流動性を有する液状体
を被吐出物である基材上に吐出して所定の層が設けられ
る基材を有するデバイスを製造することに好都合であ
る。

【００２６】

【発明の実施の形態】（カラーフィルタの製造方法およ
び製造装置に関する実施の形態）次に、本発明のカラー
フィルタの製造装置の実施の形態について図面を参照し
て説明する。まず、このカラーフィルタの製造装置の説
明に先立って、製造されるカラーフィルタについて説明
する。図３３はカラーフィルタを示す部分拡大図で、図
３３（Ａ）は平面図であり、図３３（Ｂ）は図３３
（Ａ）のＸ−Ｘ線断面図である。なお、この図３３に示
すカラーフィルタにおいて、図５に示す実施形態のカラ
ーフィルタ１と同一の構成については、同一の符号を付
して説明する。

【００２７】〔カラーフィルタの構造〕まず、本発明の
カラーフィルタの製造装置により形成されるカラーフィ
ルタについて図面を参照して説明する。図１２はカラー
フィルタを示す部分拡大図で、図１２（Ａ）は平面図で
あり、図１２（Ｂ）は図１２（Ａ）のＸ−Ｘ線断面図で
ある。

【００２８】〔カラーフィルタの構成〕図１２（Ａ）に
おいて、カラーフィルタ１は、マトリックス状に並んだ
複数の画素１Ａを備えている。これら画素１Ａの境目
は、隔壁６によって区切られている。画素１Ａの１つ１
つには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのイ
ンクである液状体としてのカラーフィルタ材料すなわち
フィルタエレメント材料１３が導入されている。この図
１２に示すカラーフィルタは、赤、緑、青の配置をいわ
ゆるモザイク配列として説明したが、上述したように、
ストライプ配列やデルタ配列など、いずれの配置でも適
用できる。

【００２９】カラーフィルタ１は、図１２（Ｂ）に示す
ように、透光性の基板２と、透光性の隔壁６とを備えて
いる。この隔壁６が形成されていない、すなわち除去さ
れた部分は、上記画素１Ａを構成する。この画素１Ａに
導入された各色のフィルタエレメント材料１３は、着色
層となるフィルタエレメント３を構成する。隔壁６およ
びフィルタエレメント３の上面には、保護層である保護
膜４および電極層５が形成されている。

【００３０】〔カラーフィルタ製造装置の構造〕次に、
上記カラーフィルタを製造する製造装置の構成について
図面を参照して説明する。図１は、本発明に係るカラー
フィルタの製造装置の液滴吐出処理装置を示す一部を切
り欠いた斜視図である。

【００３１】カラーフィルタ製造装置は、電気光学装置
としてのカラー液晶パネルを構成するカラーフィルタ１
を製造する。このカラーフィルタ製造装置は、図示しな
い液滴吐出装置を備えている。

【００３２】〔液滴吐出処理装置の構成〕そして、液滴
吐出装置は、図１に示すような３台の液滴吐出処理装置
４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂを有している。これら液
滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂは、液状
体としてのインクすなわちカラーフィルタ材料である例
えばＲ、Ｇ、Ｂのフィルタエレメント材料１３をマザー
基板１２にそれぞれ吐出するＲ、Ｇ、Ｂの３色に対応し
ている。なお、これら液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０
５Ｇ、４０５Ｂは、略直列状に配置されて液滴吐出装置
を構成する。また、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０
５Ｇ、４０５Ｂには、各構成部材の動作を制御する図示
しない制御装置が一体的に設けられている。

【００３３】なお、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０
５Ｇ、４０５Ｂには、これら液滴吐出処理装置４０５
Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂにマザー基板１２を一枚ずつ搬
入および搬出する図示しない搬送ロボットがそれぞれ接
続される。また、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５
Ｇ、４０５Ｂには、マザー基板１２が例えば６枚収容可
能で、マザー基板１２を熱処理、例えば１２０℃、５分
間加熱して吐出されたフィルタエレメント材料１３を乾
燥させる図示しない多段ベーク炉が接続されている。

【００３４】そして、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ，４
０５Ｇ，４０５Ｂは、図１に示すように、中空箱状の本
体ケースであるサーマルクリーンチャンバ４２２を有し
ている。このサーマルクリーンチャンバ４２２内は、イ
ンクジェット方式による安定した良好な描画が得られる
ように、内部が例えば２０±０．５℃に調整されて外部
から塵埃が侵入不可能に形成されている。このサーマル
クリーンチャンバ４２２内には、液滴吐出処理本体４２
３が配設されている。

【００３５】液滴吐出処理装置本体４２３は、図１に示
すように、Ｘ軸エアースライドテーブル４２４を有して
いる。このＸ軸エアースライドテーブル４２４上には、
図示しないリニアモータが配設された主走査駆動装置４
２５が配設されている。この主走査駆動装置４２５は、
マザー基板１２を例えば吸引により取付固定する図示し
ない台座部を有し、この台座部をＸ軸方向であるマザー
基板１２に対して主走査方向に移動させる。

【００３６】液滴吐出処理装置本体４２３には、図１に
示すように、Ｘ軸エアースライドテーブル４２４の上方
に位置して、Ｙ軸テーブルとしての副走査駆動装置４２
７が配設されている。この副走査駆動装置４２７は、フ
ィルタエレメント材料１３を例えば上下方向に沿って吐
出させるヘッドユニット４２０をＹ軸方向であるマザー
基板１２に対して副走査方向に移動させる。なお、図１
において、ヘッドユニット４２０は、位置関係を明確化
するために、空中に浮いた状態で実線により表示してい
る。

【００３７】また、液滴吐出処理装置本体４２３には、
後述する液滴吐出ヘッドとしてのインクジェットヘッド
４２１の位置やマザー基板１２の位置を制御するために
位置を認識する位置認識手段である図示しない各種カメ
ラが配設されている。なお、ヘッドユニット４２０や台
座部の位置制御は、パルスモータを用いた位置制御の
他、サーボモータを用いたフィードバック制御や、その
他任意の制御方法によって実現できる。

【００３８】また、液滴吐出処理装置本体４２３には、
図１に示すように、ヘッドユニット４２０におけるフィ
ルタエレメント材料１３を吐出する面を洗浄するワイピ
ングユニット４８１が設けられている。このワイピング
ユニット４８１は、例えば布部材およびゴムシートが一
体的に積層された図示しないワイピング部材の一端側を
適宜巻き取り、順次新しい面でフィルタエレメント材料
１３を吐出する面をワイピングする構成となっている。
これにより、吐出面に付着したフィルタエレメント材料
１３の除去を実施し、後述するノズルの目詰まりが起こ
らないようにしている。

【００３９】さらに、液滴吐出処理装置本体４２３に
は、図１に示すように、インクシステム４８２が設けら
れている。このインクシステム４８２は、フィルタエレ
メント材料１３を貯留するインクタンク４８３、フィル
タエレメント材料１３が流通可能な供給管４７８、およ
び、インクタンク４８３から供給管４７８を介してフィ
ルタエレメント材料１３をヘッドユニット４２０へ供給
する図示しないポンプを有している。なお、図１におい
て、供給管４７８の配管は、模式的に示したもので、イ
ンクタンク４８３からヘッドユニット４２０の移動に影
響しないように副走査駆動装置４２７に配線され、ヘッ
ドユニット４２０を走査する副走査駆動装置４２７の上
方からヘッドユニット４２０にフィルタエレメント材料
１３を供給するようになっている。

【００４０】また、液滴吐出処理装置本体４２３には、
ヘッドユニット４２０から吐出されるフィルタエレメン
ト材料１３の吐出量を検出する重量測定ユニット４８５
が設けられている。

【００４１】さらに、液滴吐出処理装置本体４２３に
は、例えば図示しない光センサを有しヘッドユニット４
２０からのフィルタエレメント材料１３の吐出状態を検
出するドット抜け検出ユニット４８７が一対の配設され
ている。このドット抜け検出ユニット４８７は、ヘッド
ユニット４２０から液状体が吐出させる方向に対して交
差する方向、例えばＸ軸方向に沿って図示しない光セン
サの光源および受光部が、ヘッドユニット４２０から吐
出された液滴が通過する空間を挟んで対向するように配
設されている。また、ヘッドユニット４２０の搬送方向
であるＹ軸方向側に位置して配設され、フィルタエレメ
ント材料１３を吐出するためにヘッドユニット４２０を
副走査移動させる毎に吐出状態を検出してドット抜けを
検出する。

【００４２】なお、詳しくは後述するが、ヘッドユニッ
ト４２０には、フィルタエレメント材料１３を吐出する
ヘッド装置４３３を２列に配置している。このため、ド
ット抜け検出ユニット４８７は、各列各ヘッド装置毎に
吐出状態を検出するために一対設けられている。

【００４３】〔ヘッドユニットの構成〕次に、ヘッドユ
ニット４２０の構成について説明する。図２は、液滴吐
出処理装置に設けられたヘッドユニットを示す平面図で
ある。図３は、ヘッドユニットを示す側面図である。図
４は、ヘッドユニットを示す正面図である。図５は、ヘ
ッドユニットを示す断面図である。

【００４４】ヘッドユニット４２０は、図２ないし図５
に示すように、ヘッド本体部４３０と、インク供給部４
３１とを有している。また、ヘッド本体部４３０は、平
板状のキャリッジ４２６と、このキャリッジ４２６に複
数取り付けられた実質的に略同一形状のヘッド装置４３
３とを有している。

【００４５】（ヘッド装置の構成）図６はヘッドユニッ
ト４２０に配設されたヘッド装置４３３を示す分解斜視
図である。ヘッド装置４３３は、図６に示すように、短
冊状のプリント基板４３５を有している。このプリント
基板４３５には、各種電気部品４３６が実装され図示し
ない電気配線が設けられている。また、プリント基板４
３５には、長手方向の一端側（図６中右側）に位置して
窓部４３７が貫通形成されている。さらに、プリント基
板４３５には、インクであるフィルタエレメント材料１
３が流通可能な流通路４３８が窓部４３７の両側に位置
して設けられている。

【００４６】そして、このプリント基板４３５の一面側
（図６中下面側）には、長手方向の略一端側（図６中右
側）に位置してインクジェットヘッド４２１が取付部材
４４０により一体的に取り付けられている。このインク
ジェットヘッド４２１は、長手矩形状に形成され、長手
方向がプリント基板４３５の長手方向に沿う状態で取り
付けられる。

【００４７】なお、各ヘッド装置４３３における各イン
クジェットヘッド４２１は、実質的に略同一形状、すな
わち例えば所定の規格の製品であって、所定の品質に選
別されたものなどであればよい。具体的には、これらイ
ンクジェットヘッド４２１が同一個数の後述するノズル
を有し、ノズルの形成位置が互いに同一であることが、
キャリッジ４２６に対してインクジェットヘッド４２１
を組み立てる際に効率的となり、また組み立て精度も高
まるので、好ましい。さらに、同一の製造・組立工程を
経て作られた製品を用いれば、特別な製品を作る必要が
無くなり、低コストとすることができる。

【００４８】また、プリント基板４３５の他面側（図６
中上面側）には、長手方向の略他端側（図６中左側）に
位置してインクジェットヘッド４２１に電気配線４４２
にて電気的に接続されるコネクタ４４１が一体的に取り
付けられている。これらコネクタ４４１には、図１に模
式的に示すように、ヘッドユニット４２０の移動に影響
しないように副走査駆動装置４２７に配線された電気配
線４４２（電源配線、信号配線を含む）が接続される。
この電気配線４４２は図示しない制御装置とヘッドユニ
ット４２０を接続するものとなる。すなわち、これら電
気配線４４２は、図２および図５に二点鎖線の矢印で模
式的に示すように、副走査駆動装置４２７からヘッドユ
ニット４２０の２列のヘッド装置４３３の配列方向の両
側であるヘッドユニット４２０の外周側に配線されてコ
ネクタ４４１に接続され、電気ノイズが生じないように
なっている。

【００４９】さらに、プリント基板４３５の他面側（図
６中上面側）には、長手方向の略一端側（図６中右側）
でインクジェットヘッド４２１に対応してインク導入部
４４３が取り付けられている。このインク導入部４４３
は、取付部材４４０に設けられプリント基板４３５を貫
通する位置決めピン部４４４を嵌合する略円筒状の位置
決め筒部４４５と、プリント基板４３５に係止する係止
爪部４４６とを有している。

【００５０】また、インク導入部４４３には、先端先細
り形状の略円筒状の連結部４４８が一対突設されてい
る。これら連結部４４８は、プリント基板４３５側とな
る基端部にプリント基板４３５の流通路４３８に略液密
に連通する図示しない開口を有し、先端部にフィルタエ
レメント材料１３が流通可能な図示しない孔を有してい
る。

【００５１】さらに、これら連結部４４８には、図３な
いし図６に示すように、先端側に位置してシール連結部
４５０がそれぞれ取り付けられている。これらシール連
結部４５０は、内周側に連結部４４８を略液密に嵌着す
る略円筒状に形成され、先端部にシール部材４４９が設
けられている。

【００５２】（インクジェットヘッドの構成）図７は、
インクジェットヘッド４２１を示す分解斜視図である。
図８はインクジェットヘッド４２１のフィルタエレメン
ト材料１３を吐出する動作をインクジェットヘッド４２
１の断面に対応して説明する模式図で、図８（Ａ）はフ
ィルタエレメント材料１３を吐出する前の状態、図８
（Ｂ）は圧電振動子４５２を収縮させてフィルタエレメ
ント材料１３を吐出している状態、図８（Ｃ）はフィル
タエレメント材料１３を吐出した直後の状態である。図
９は、インクジェットヘッド４２１におけるフィルタエ
レメント材料１３の吐出量を説明する説明図である。図
１０は、インクジェットヘッド４２１の配置状態を説明
する概略的な模式図である。図１１は、図１０における
部分拡大図である。

【００５３】インクジェットヘッド４２１は、図７に示
すように、略矩形状のホルダ４５１を有している。この
ホルダ４５１には、長手方向に沿って例えば１８０個の
ピエゾ素子などの圧電振動子４５２が２列設けられてい
る。また、ホルダ４５１には、プリント基板４３５の流
通路４３８に連通し長手方向の両側略中央にインクであ
るフィルタエレメント材料１３が流通する貫通孔４５３
がそれぞれ設けられている。

【００５４】また、ホルダ４５１の圧電振動子４５２が
位置する一面である上面には、図７に示すように、合成
樹脂にてシート状に形成された弾性板４５５が一体的に
設けられている。この弾性板４５５には、貫通孔４５３
に連続する連通孔４５６がそれぞれ設けられている。そ
して、弾性板４５５には、ホルダ４５１の上面略四隅に
突設された位置決め爪部４５７に係合する係合孔４５８
が設けられ、ホルダ４５１の上面に位置決めされて一体
的に取り付けられている。

【００５５】さらに、弾性板４５５の上面には、平板状
の流路形成板４６０が設けられている。この流路形成板
４６０には、ホルダ４５１の幅方向に長手状で圧電振動
子４５２に対応してホルダ４５１の長手方向に１８０個
の直列状に２列設けられたノズル溝４６１と、ノズル溝
４６１の一側にホルダの長手方向に長手状に設けられた
開口部４６２と、弾性板４５５の連通孔４５６に連続す
る流通孔４６３とが設けられている。そして、弾性板４
５５には、ホルダ４５１の上面略四隅に突設された位置
決め爪部４５７に係合する係合孔４５８が設けられ、ホ
ルダ４５１の上面に弾性板４５５とともに位置決めされ
て一体的に取り付けられている。

【００５６】また、流路形成板４６０の上面には、略平
板状のノズルプレート４６５が設けられている。このノ
ズルプレート４６５には、流路形成板４６０のノズル溝
４６１に対応して略円形のノズル４６６がホルダ４５１
の長手方向に１８０個で２５．４ｍｍ（１ｉｎｃｈ）の
長さ範囲に直列状で２列設けられている。また、ノズル
プレート４６５には、ホルダ４５１の上面略四隅に突設
された位置決め爪部４５７に係合する係合孔４５８が設
けられ、ホルダ４５１の上面に弾性板４５５および流路
形成板４６０とともに位置決めされて一体的に取り付け
られている。

【００５７】そして、積層する弾性板４５５、流路形成
板４６０およびノズルプレート４６５により、図８に模
式的に示すように、流路形成板４６０の開口部４６２に
て液リザーバ４６７が区画形成されるとともに、この液
リザーバ４６７は各ノズル溝４６１に液供給路４６８を
介して連続する。このことにより、インクジェットヘッ
ド４２１は、圧電振動子４５２の動作により、ノズル溝
４６１内の圧力が増大しノズルからフィルタエレメント
材料１３を２〜１３ｐｌ例えば約１０ｐｌの液滴量で７
±２ｍ／ｓで吐出する。すなわち、図８に示すように、
圧電振動子４５２に対して所定の印加電圧Ｖｈをパルス
状に印加することで、図８（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）に順
次示すようにして、圧電振動子４５２を矢印Ｑ方向に適
宜伸縮させることで、インクであるフィルタエレメント
材料１３を加圧して所定量の液滴８でノズル４６６から
吐出させる。

【００５８】また、このインクジェットヘッド４２１
は、上述したように、図９に示すような配列方向の両端
部側の吐出量が多くなる吐出量のバラツキがある。この
ことから、例えば吐出量バラツキが５％以内となる範囲
のノズル４６６すなわち両端部の１０個ずつのノズル４
６６からはフィルタエレメント材料１３を吐出しないよ
うに制御される。

【００５９】そして、ヘッドユニット４２０を構成する
ヘッド本体部４３０は、図１ないし図５に示すように、
インクジェットヘッド４２１を有したヘッド装置４３３
が複数互いに並んで配置されて構成されている。このヘ
ッド装置４３３のキャリッジ４２６における配置は、図
１０に模式的に示すように、副走査方向であるＹ軸方向
よりもＹ軸方向と直交する主走査方向であるＸ軸方向側
に対して傾斜した方向にオフセットしながら配列される
状態である。すなわち、すなわち、副走査方向であるＹ
軸方向より若干傾斜した方向に例えば６個並べて配置さ
れ、この列が１つのグループとして複数列、例えば２つ
のグループである２列で配置されている。これは、イン
クジェットヘッド４２１よりもヘッド装置４３３の短辺
方向の幅が広く、互いに隣接するインクジェットヘッド
４２１同士の配置間隔を狭めることができない一方で、
ノズル４６６の列がＹ軸方向に連続して配列されている
ようにしなければならない状況から考えられた配置の仕
方である。

【００６０】さらに、ヘッド本体部４３０は、ヘッド装
置４３３が、インクジェットヘッド４２１の長手方向が
Ｘ軸方向に対して交差する方向に傾斜する状態で、かつ
コネクタ４４１が相対向方向と反対側に位置する状態で
略点対称に配設されている。このヘッド装置４３３の傾
斜する配置状態は、例えばインクジェットヘッド４２１
の長手方向であるノズル４６６の配設方向がＸ軸方向に
対して５７．１°傾斜する。

【００６１】また、ヘッド装置４３３は、略千鳥状すな
わち配列方向に対して並列状態に位置しないように配置
されている。すなわち、図２ないし図５および図１０に
示すように、１２個のインクジェットヘッド４２１のノ
ズル４６６がＹ軸方向に連続して配列されるように、イ
ンクジェットヘッド４２１は２列に配列され且つそのＹ
軸方向への配列順序が互い違いの交互に配置される。

【００６２】具体的には、図１０および図１１に基づい
て、より詳細に説明する。ここで、インクジェットヘッ
ド４２１は、長手方向であるノズル４６６の配列方向が
Ｘ軸方向に対して傾斜する。このため、インクジェット
ヘッド４２１に設けられた２列のノズル４６６の一列目
において、フィルタエレメント材料１３を吐出する１１
個目のノズル４６６が位置するＸ軸方向の直線上で、２
列目のノズル４６６の他方は吐出しない１０個以内の位
置となる領域Ａがある（図１１中のＡ）。すなわち、１
つのインクジェットヘッド４２１では、Ｘ軸方向での直
線上に２個のノズル４６６が存在しない領域Ａが生じ
る。

【００６３】したがって、図１０および図１１に示すよ
うに、１つのインクジェットヘッド４２１でＸ軸方向の
直線上に２個のノズル４６６が位置する領域Ｂ（図１１
中のＢ）では、列をなすヘッド装置４３３はＸ軸方向で
並列状態に位置させない。さらに、一方の列をなすヘッ
ド装置４３３のＸ軸方向での直線上に１個しか位置しな
い領域Ａと、他方の列をなすヘッド装置４３３のＸ軸方
向での直線上に１個しか位置しない領域Ａとは、Ｘ軸方
向で互いに並列状態に位置させ、一方の列のインクジェ
ットヘッド４２１と他方の列のインクジェットヘッド４
２１とにてＸ軸方向の直線上に合計で２個のノズル４６
６が位置する状態とする。すなわち、インクジェットヘ
ッド４２１が配設されている領域においては、どの位置
でもＸ軸方向の直線上に必ず合計２個のノズル４６６が
位置するように２列に千鳥状（互い違い）に配設する。
なお、フィルタエレメント材料１３を吐出しないノズル
４６６の領域Ｘは、このＸ軸方向の直線上における２個
のノズル４６６の数として数えない。

【００６４】このように、主走査されるＸ軸方向に対し
てインクを吐出するノズル４６６は２個が直線上に位置
し、口述するように、この２個のノズルから１つの個所
にインクが吐出されることになる。１つのノズルからの
吐出だけで１つのエレメントを構成すると、ノズル間の
吐出量のバラツキがエレメントの特性バラツキや歩留ま
り劣化に繋がるので、このように別々のノズルから吐出
により１つのエレメントを形成すれば、ノズル間の吐出
のバラツキを分散し、エレメント間での特性の均一化お
よび歩留まり向上を図ることができる。

【００６５】（インク供給部の構成）インク供給部４３
１は、図２ないし図５に示すように、ヘッド本体部４３
０の２列に対応してそれぞれ設けられた一対の平板状の
取付板４７１と、これら取付板４７１に複数取り付けら
れた供給本体部４７２とを有している。そして、供給本
体部４７２は、略細長円筒状の進退部４７４を有してい
る。この進退部４７４は、取付治具４７３にて取付板４
７１を貫通する状態で軸方向に沿って移動可能に取り付
けられる。また、供給本体部４７２の進退部４７４は、
例えばコイルスプリング４７５などにより取付板４７１
からヘッド装置４３３に向けて進出する方向に付勢され
て取り付けられる。なお、図２において、説明の都合
上、インク供給部４３１は、２列のヘッド装置４３３の
うちの一方の列に対してのみ図示し、他方はそれを省略
して図示している。

【００６６】この進退部４７４のヘッド装置４３３に対
向する側の端部には、フランジ部４７６が設けられてい
る。このフランジ部４７６は、進退部４７４の外周縁に
鍔状に突出し、端面がヘッド装置４３３のインク導入部
４４３のシール部材４４９に、コイルスプリング４７５
の付勢に抗して略液密に当接する。また、進退部４７４
のフランジ部４７６が設けられた側と反対側の端部に
は、ジョイント部４７７が設けられている。このジョイ
ント部４７７は、図１に模式的に示すように、フィルタ
エレメント材料１３が流通する供給管４７８の一端が接
続される。

【００６７】この供給管４７８は、上述したように、図
１に模式的に示すように、ヘッドユニット４２０の移動
に影響しないように副走査駆動装置４２７に配線され、
図２および図４に一点鎖線の矢印で模式的に示すよう
に、副走査駆動装置４２７からヘッドユニット４２０上
方より２列で配列されたインク供給部４３１の間の略中
央に配管され、さらに放射状に配管されて先端がインク
供給部４３１のジョイント部４７７に接続されて配管さ
れる。

【００６８】そして、インク供給部４３１は、供給管を
介して流通するフィルタエレメント材料１３をヘッド装
置４３３のインク導入部４４３に供給する。また、イン
ク導入部４４３に供給されたフィルタエレメント材料１
３はインクジェットヘッド４２１に供給され、電気制御
されたインクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６か
ら適宜液滴８状に吐出される。

【００６９】〔カラーフィルタの製造動作〕（前処理）
次に、上記実施の形態のカラーフィルタ製造装置を用い
てカラーフィルタ１を形成する動作を図面を参照して説
明する。図１３は上記カラーフィルタの製造装置を用い
てカラーフィルタ１を製造する手順を説明する製造工程
断面図である。

【００７０】まず、例えば膜厚寸法が０．７ｍｍ、縦寸
法が３８ｃｍ、横寸法が３０ｃｍの無アルカリガラスの
透明基板であるマザー基板１２の表面を、熱濃硫酸に過
酸化水素水を１質量％添加した洗浄液で洗浄する。この
洗浄後、純水でリンスして空気乾燥し、清浄表面を得
る。このマザー基板１２の表面に、例えばスパッタ法に
よりクロム膜を平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層
６ａを得る（図１３中手順Ｓ１）。

【００７１】このマザー基板１２をホットプレート上
で、８０℃で５分間乾燥させた後、金属層６ａの表面
に、例えばスピンコートにより図示しないフォトレジス
ト層を形成する。このマザー基板１２の表面に、例えば
所要のマトリックスパターン形状を描画した図示しない
マスクフィルムを密着させ、紫外線で露光する。次に、
この露光したマザー基板１２を、例えば水酸化カリウム
を８質量％の割合で含有するアルカリ現像液に浸漬し、
未露光部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパ
ターニングする。続いて、露出した金属層６ａを、例え
ば塩酸を主成分とするエッチング液でエッチング除去す
る。このようにして、所定のマトリックスパターンを有
するブラックマトリックスである遮光層６ｂが得られる
（図１３中手順Ｓ２）。なお、遮光層６ｂの膜厚はおお
よそ０．２μｍで、遮光層６ｂの幅寸法はおおよそ２２
μｍである。

【００７２】この遮光層６ｂが設けられたマザー基板１
２上に、さらにネガ型の透明アクリル系の感光性樹脂組
成物６ｃを例えばスピンコート法で塗布形成する（図１
３中手順Ｓ３）。この感光性樹脂組成物６ｃを設けたマ
ザー基板１２を１００℃で２０分間プレベークした後、
所定のマトリックスパターン形状を描画した図示しない
マスクフィルムを用いて紫外線露光する。そして、未露
光部分の樹脂を、例えば上述したようなアルカリ性の現
像液で現像し、純水でリンスした後にスピン乾燥する。
最終乾燥としてのアフターベークを例えば２００℃で３
０分間実施し、樹脂部分を十分に硬化させ、バンク層６
ｄを形成する。このバンク層６ｄの膜厚は平均で約２．
７μｍ、幅寸法は約１４μｍである。このバンク層６ｄ
と遮光層６ｂとにて隔壁６が形成される（図１３中手順
Ｓ４）。

【００７３】上記得られた遮光層６ｂおよびバンク層６
ｄで区画された着色層形成領域であるフィルタエレメン
ト形成領域７（特にマザー基板１２の露出面）のインク
濡れ性を改善するため、ドライエッチング、すなわちプ
ラズマ処理をする。具体的には、例えばヘリウムに酸素
を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加し、プラズマ処
理でエッチングスポットに形成し、マザー基板１２を形
成したエッチングスポット下を通過させてエッチング
し、マザー基板１２の前処理工程を実施する。

【００７４】（フィルタエレメント材料の吐出）次に、
上述の前処理が実施されたマザー基板１２の隔壁６で区
切られて形成されたフィルタエレメント形成領域７内
に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各フィルタエレメ
ント材料をインクジェット方式により導入、すなわち吐
出する（図１３中手順Ｓ５）。

【００７５】このインクジェット方式によるフィルタエ
レメント材料１３の吐出に際しては、あらかじめヘッド
ユニット４２０を組立形成しておく。そして、液滴吐出
装置の各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５
Ｂにおいて、各インクジェットヘッド４２１の１つのノ
ズル４６６から吐出されるフィルタエレメント材料１３
の吐出量が所定量、例えば１０ｐｌ程度となるように調
整しておく。一方、マザー基板１２の一面に、あらかじ
め隔壁６を格子状パターンに形成しておく。

【００７６】そして、上述したように前処理したマザー
基板１２を、図示しない搬送ロボットにより、まずＲ色
用の液滴吐出処理装置４０５Ｒ内に搬入し、液滴吐出処
理装置４０５Ｒ内の台座部上に載置する。この台座部上
に載置されたマザー基板１２は、例えば吸引により位置
決め固定される。そして、マザー基板１２を保持した台
座部は、各種カメラなどにてマザー基板１２の位置が確
認され、適宜所定の位置となるように主走査駆動装置４
２５を制御して移動する。また、副走査駆動装置４２７
にてヘッドユニット４２０を適宜移動させ、その位置を
認識する。この後、ヘッドユニット４２０を副走査方向
に移動させドット抜け検出ユニット４８７にて、ノズル
４６６からの吐出状態を検出し、吐出不良を生じていな
いことを認識して初期位置に移動させる。

【００７７】この後、主走査駆動装置４２５により可動
される台座部に保持されたマザー基板１２をＸ方向に走
査して、マザー基板１２に対して相対的にヘッドユニッ
ト４２０を移動させつつ、適宜インクジェットヘッド４
２１の所定のノズル４６６から適宜フィルタエレメント
材料１３を吐出させ、マザー基板１２の隔壁６にて区画
された凹部内に充填する。このノズル４６６からの吐出
は、図示しない制御装置により、図１１に示すノズル４
６６の配設方向の両端部に位置する所定領域Ｘ、例えば
両端１０個ずつのノズル４６６からはフィルタエレメン
ト材料１３は吐出させない制御をし、中間部分に位置す
る比較的に吐出量が一様な１６０個から吐出させる。

【００７８】また、ノズル４６６からの吐出は、走査方
向の直線上、すなわち走査ライン上に２つのノズル４６
６が位置するので、移動中に１つの凹部に１ノズル４６
６から２ドット、より詳しくは１ノズル４６６から１ド
ットとして２液滴分を吐出させるので、計８液滴分が吐
出される。この１走査移動毎にドット抜け検出ユニット
４８７より吐出状態を検出してドット抜けが生じていな
いか確認する。

【００７９】ドット抜けを認識しない場合、ヘッドユニ
ット４２０を副走査方向に所定量移動させ、再びマザー
基板１２を保持する台座部を主走査方向に移動させつつ
フィルタエレメント材料１３を吐出させる動作を繰り返
し、所定のカラーフィルタ形成領域１１の所定のフィル
タエレメント形成領域７にフィルタエレメント３を形成
する。

【００８０】（乾燥・硬化）そして、Ｒ色のフィルタエ
レメント材料１３が吐出されたマザー基板１２は、図示
しない搬送ロボットにより液滴吐出処理装置４０５Ｒか
ら採り出され、図示しない多段ベーク炉にて、フィルタ
エレメント材料１３を例えば１２０℃で５分間乾燥させ
る。この乾燥後、搬送ロボットにより多段ベーク炉から
マザー基板１２を採り出し、冷却しつつ搬送する。この
後、液滴吐出処理装置４０５Ｒから順次Ｇ色用の液滴吐
出処理装置４０５ＧおよびＢ色用の液滴吐出処理装置４
０５Ｂに搬送し、Ｒ色の形成の場合と同様に、所定のフ
ィルタエレメント形成領域７にＧ色およびＢ色のフィル
タエレメント材料１３を順次吐出する。そして、各３色
のフィルタエレメント材料１３が吐出されて乾燥された
マザー基板１２を回収し、熱処理、すなわちフィルタエ
レメント材料１３を加熱により固化定着させる（図１３
中手順Ｓ６）。

【００８１】（カラーフィルタの形成）この後、フィル
タエレメント３が形成されたマザー基板１２の略全面に
保護膜４を形成する。さらに、この保護膜４の上面にＩ
ＴＯ（Indium-Tin Oxide）にて電極層５を所要パターン
で形成する。この後、別途カラーフィルタ形成領域１１
毎に切断して複数のカラーフィルタ１を切り出し形成す
る（図１３中手順Ｓ７）。このカラーフィルタ１が形成
された基板は、液晶装置における一対の基板の一方とし
て用いられる。

【００８２】〔カラーフィルタの製造装置の効果〕この
図１ないし図１３に示す一実施の形態によれば、以下に
示す作用効果を奏する。すなわち、流動性を有した液状
体としてのカラーフィルタ材料であるフィルタエレメン
ト材料１３をマザー基板１２に吐出するノズル４６６を
一面に設けたインクジェットヘッド４２１を取付基板で
あるプリント基板４３５の一面に設けるとともに、ノズ
ル４６６からフィルタエレメント材料１３を吐出させる
制御をする制御手段が電気的に接続されるコネクタ４４
１をプリント基板４３５のインクジェットヘッド４２１
の周面から突出する位置に設けた吐出手段であるヘッド
装置４３３を、プリント基板４３５のコネクタ４４１が
配設された部分が互いに対向することなく互いに並べて
複数配置した保持手段としてのキャリッジ４２６を用
い、ノズル４６６を有するインクジェットヘッド４２１
の一面がマザー基板１２の表面に所定の間隙を介して対
向する状態でこのマザー基板１２の表面に沿う方向にキ
ャリッジ４２６を相対的に移動させ、ノズル４６６から
フィルタエレメント材料１３をマザー基板１２の所定位
置に適宜吐出する。このため、キャリッジ４２６にイン
クジェットヘッド４２１およびコネクタ４４１を設けた
ヘッド装置４３３を用いてキャリッジ４２６に複数互い
に並べて配置させるので、複数のインクジェットヘッド
４２１およびこれらインクジェット４２１に対応するコ
ネクタ４４１を別々に配設する場合に比して組立が容易
となり、製造性を向上できる。

【００８３】また、インクジェットヘッド４２１のノズ
ル４６６からフィルタエレメント材料１３を吐出させる
制御をする制御装置が電気的に接続されるコネクタ４４
１がプリント基板４３５に配設される部分が他のグルー
プのインクジェットヘッド４２１に互いに対向すること
なく複数のヘッド装置４３３をキャリッジ４２６に保持
させるので、コネクタ４４１が配設された部分がインク
ジェットヘッド４２１に対して対向方向と反対側である
外側に向く状態となり、コネクタ４４１への配線作業が
容易で組立作業性を向上できるとともに、コネクタ４４
１が位置する部分での電気ノイズが互いに影響し合うこ
とを防止でき、安定した良好なフィルタエレメント材料
１３の吐出が得られる。

【００８４】そして、長手状に形成されたプリント基板
４３５の長手方向の一端側にインクジェットヘッド４２
１を配設し、長手方向の他端側にコネクタ４４１を配設
した。このため、コネクタ４４１がプリント基板４３５
に配設される部分が他の列であるグループのインクジェ
ットヘッド４２１に互いに対向することなく、インクジ
ェットヘッド４２１に対して対向方向と反対側である外
側に向く状態で配設される構成を容易に得ることができ
るとともに、簡単な構成でインクジェットヘッド４２１
からコネクタ４４１の位置が離れた状態が得られ、コネ
クタ４４１への配線作業も容易となり、保守管理も容易
にできる。

【００８５】さらに、複数のインクジェットヘッド４２
１を短冊状のプリント基板４３５の一端側に配設し、他
端側にコネクタ４４１を設けた。このため、複数直線上
に配設してもコネクタ４４１が干渉することなく配設で
き、小型化ができるとともに、主走査方向でのノズル４
６６が存在しない位置が形成されることがなく、連続し
たノズル４６６の配列を得ることができ、長手の特別な
インクジェットヘッドを用いる必要がない。

【００８６】そして、インクジェットヘッド４２１をグ
ループである２列が略点対称となるように配設した。こ
のため、フィルタエレメント材料１３を供給する供給管
４７８をヘッドユニット４２０の近傍までまとめること
ができ、装置の組立や保守管理などが容易にできる。

【００８７】また、インクジェットヘッド４２１を制御
するための電気配線４４２の配線がヘッドユニット４２
０の両側、すなわちキャリッジ４２６の外周側からとな
り、電気配線４４２による電気ノイズの影響を防止で
き、良好で安定した描画を得ることができる。さらに
は、電気配線４４２とフィルタエレメント材料１３を供
給する供給管４７８とを離して配線・配管でき、電気配
線４４２と供給管４７８とが絡まず、組み立て作業が容
易にでき、絡み合いによる損傷やフィルタエレメント材
料１３の吐出状態の変動なども防止できる。

【００８８】そして、コネクタ４４１が反対側に位置す
るように点対称で配設したため、コネクタ４４１部分で
の電気ノイズの影響を防止でき、良好で安定した描画を
得ることができる。

【００８９】また、流動性を有した液状体としての例え
ばインクであるフィルタエレメント材料１３を吐出する
ノズル４６６が一面に複数略直線上に設けられたインク
ジェットヘッド４２１を、これらインクジェットヘッド
４２１のノズル４６６が設けられた一面が被吐出物とし
てのマザー基板１２の表面に所定の間隙を介して対向す
る状態でマザー基板１２の表面に沿って相対的に移動さ
せ、インクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６のう
ちこれらノズル４６６の配設方向の両端部の所定領域XX
に位置する例えば両側１０個のノズル４６６からは吐出
させることなく所定領域XX以外の中間部分に位置するノ
ズル４６６からマザー基板１２の表面にフィルタエレメ
ント材料１３を吐出する。この構成により、吐出量が特
に多くなるノズル４６６の配設方向の両端部に位置する
所定領域XXである両端１０個ずつのノズル４６６からは
を吐出させず、吐出量が比較的一様な中間部分のノズル
４６６を用いてフィルタエレメント材料１３を吐出させ
るので、マザー基板１２の表面に平面的に均一に吐出で
き、平面的に品質が均一なカラーフィルタ１が得られ、
このカラーフィルタ１を用いた電気光学装置である表示
装置にて良好な表示が得られる。

【００９０】そして、フィルタエレメント材料１３の吐
出量の平均値より１割以上多い吐出量となるノズル４６
６からは吐出させないので、特にカラーフィルタ１のフ
ィルタエレメント材料１３やＥＬ発光材料、荷電粒子を
含有した電気泳動装置用などの機能性液状体を液状体と
して用いる場合でも、特性にバラツキが生じず、液晶装
置やＥＬ装置などの電気光学装置として良好な特性を確
実に得ることができる。

【００９１】また、各ノズル４６６から吐出量の平均値
に対して±１割以内でフィルタエレメント材料１３が吐
出されるので、吐出量が比較的一様となり、マザー基板
１２の表面に平面的に均一に吐出され、良好な特性の電
気光学装置が得られる。

【００９２】そして、ノズル４６６が略等間隔で直線上
に配設したインクジェットヘッド４２１を用いることに
より、例えばストライプ型やモザイク型、デルタ型な
ど、所定の規則性を有した構成を描画することが容易に
できる。

【００９３】さらに、ノズル４６６が略等間隔で直線上
に配設されたインクジェットヘッド４２１の構成におい
て、長手矩形状のインクジェットヘッド４２１に長手方
向に沿ってノズル４６６を略等間隔で直線上に設けたの
で、インクジェットヘッド４２１が小型化し、例えば隣
接するインクジェットヘッド４２１同志や他の部位との
干渉を防止でき、容易に小型化できる。

【００９４】また、ノズル４６６の配設方向に対して交
差する方向にインクジェットヘッド４２１を相対的に移
動させるので、ノズル４６６の配設方向が移動方向に対
して傾斜した状態となり、フィルタエレメント材料１３
の吐出される間隔であるエレメント間ピッチがノズル間
ピッチより狭くなり、傾斜する状態を適宜設定するのみ
で、マザー基板１２の表面にドット状に吐出する際の所
望のエレメント間ピッチに容易に対応でき、エレメント
間ピッチに対応してインクジェットヘッド４２１を形成
する必要がなく、汎用性を向上できる。

【００９５】そして、流動性を有した液状体としての例
えばインクであるフィルタエレメント材料１３を吐出す
るノズル４６６が一面に複数設けられた複数のインクジ
ェットヘッド４２１を、これらインクジェットヘッド４
２１のノズル４６６が設けられた一面がマザー基板１２
などの被吐出物の表面に所定の間隙を介して対向する状
態で、被吐出物の表面に沿って相対的に移動させ、複数
のインクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６から被
吐出物の表面に同一の液状体を吐出させる。このため、
例えば同一の規格品のインクジェットヘッド４２１を用
いて、広い範囲に液状体を吐出させることが可能とな
り、長手の特別なインクジェットヘッドを用いることな
く従来の規格品を複数用いることで代用でき、コストを
低減できる。さらに、例えばインクジェットヘッド４２
１を配列する配設方向の数を適宜設定することにより、
液状体を吐出する領域に対応させることが可能となり、
汎用性を向上できる。

【００９６】また、複数のインクジェットヘッド４２１
を配設するので、例えばマザー基板１２の表面に吐出す
る領域が広い場合や同じ箇所に重ねて吐出する場合など
でも、インクジェットヘッド４２１を複数回移動させる
必要がなく、また特別なインクジェットヘッドを形成す
る必要もなく、簡単な構成で容易にフィルタエレメント
材料１２を吐出できる。

【００９７】さらに、複数のインクジェットヘッド４２
１として同一形状のものを用いることにより、１種類の
インクジェットヘッド４２１でも、適宜配列させること
で液状体を吐出する領域に対応させることが可能とな
り、構成が簡略化し、製造性を向上でき、コストも低減
できる。

【００９８】また、ノズル４６６の配設方向がそれぞれ
略平行となる状態で複数のインクジェットヘッド４２１
をキャリッジ４２６に配設してヘッドユニット４２０を
構成したので、例えばノズル４６６の配列方向が略直列
状で平行となる場合には、ノズル４６６の配列領域が広
くなり、広い範囲にフィルタエレメント材料１３を吐出
でき、吐出効率を向上でき、またインクジェットヘッド
４２１の移動方向に並列状態で平行となる場合には、１
つの箇所に異なるインクジェットヘッド４２１から液状
体を重ねて吐出させることが可能となり、吐出領域での
吐出量を容易に平均化でき、安定した良好な描画を得る
ことができる。

【００９９】そして、複数のインクジェットヘッド４２
１をそれぞれ主走査方向に対して交差する方向に傾斜さ
せて略直線上に位置して配設したため、フィルタエレメ
ント材料１３の吐出される間隔であるエレメント間ピッ
チがノズル間ピッチより狭くなり、例えばフィルタエレ
メント材料１３が吐出されたマザー基板１２を表示装置
などに利用した場合、より詳細な表示形態が得られる。
さらに、隣合うインクジェットヘッド４２１の干渉を防
止でき、小型化が容易に図れる。そして、この傾斜角を
適宜設定することにより、描画のドットピッチが適宜設
定され、汎用性を向上できる。

【０１００】また、複数のインクジェットヘッド４２１
を複数列、例えば２列で略千鳥状に配設したため、長手
の特別なインクジェットヘッド４２１を用いることな
く、既製品のインクジェットヘッド４２１を用いても、
隣合うインクジェットヘッド４２１が干渉せずにインク
ジェットヘッド４２１間で液状体が吐出されない領域を
生じることがなく、連続的な液状体の良好な吐出、すな
わち連続した描画ができる。

【０１０１】そして、流動性を有した液状体である例え
ばインクであるフィルタエレメント材料１３を吐出する
ノズル４６６が一面に複数設けられたインクジェットヘ
ッド４２１を、インクジェットヘッド４２１のノズル４
６６が設けられた一面が被吐出物としてのマザー基板１
２の表面に所定の間隙を介して対向する状態でマザー基
板１２の表面に沿って相対的に移動させ、この相対的な
移動方向に沿った直線上に位置する複数、例えば２つの
ノズル４６６からフィルタエレメント材料１３を吐出さ
せる。このため、異なる２つのノズル４６６から重ねて
フィルタエレメント材料１３を吐出する構成が得られ、
仮に複数のノズル４６６間において吐出量にバラツキが
存在する場合でも、吐出されたフィルタエレメント材料
１３の吐出量が平均化されてバラツキを防止でき、平面
的に均一な吐出が得られ、平面的に品質の均一な良好な
特性の電気光学装置を得ることができる。

【０１０２】さらに、ドット抜け検出ユニット４８７を
設け、ノズル４６６からのフィルタエレメント材料１３
の吐出を検出するため、フィルタエレメント材料１３の
吐出むらを防止でき、確実で良好なフィルタエレメント
材料１３の吐出である描画を得ることができる。

【０１０３】そして、ドット抜け検出ユニット４８７に
光センサを設け、この光センサにてフィルタエレメント
材料１３の吐出方向に対して交差する方向でフィルタエ
レメント材料１３の通過を検出するので、フィルタエレ
メント材料１３を吐出する工程中でも、簡単な構成で確
実なフィルタエレメント材料１３の吐出状態を認識で
き、フィルタエレメント材料１３の吐出むらを防止で
き、確実で良好なフィルタエレメント材料１３の吐出で
ある描画を得ることができる。

【０１０４】さらに、ノズル４６６からマザー基板１２
にフィルタエレメント材料１３を吐出する工程の前後
で、ドット抜け検出ユニット４８７により吐出状態を検
出するため、描画のためのフィルタエレメント材料１３
の吐出直前および直後の吐出状態を検出でき、吐出状態
を確実に認識でき、ドット抜けを確実に防止して良好な
描画を得ることができる。なお、吐出する構成の前ある
いは後のいずれか一方の時点で行うのみでもよい。

【０１０５】また、ヘッドユニット４２０の主走査方向
側にドット抜け検出ユニット４８７を配設するため、フ
ィルタエレメント材料１３の吐出状態の検出のためにヘ
ッドユニット４２０を移動させる距離が短く、かつ吐出
のための主走査方向への移動をそのまま継続させる簡単
な構成ででき、ドット抜けの検出を効率よく簡単な構成
でできる。

【０１０６】〔カラーフィルタの適用例〕次に、上記実
施の形態のカラーフィルタを備えた電気光学装置の一例
としてカラー液晶装置を挙げて以下に説明する。図５０
は、先の実施形態のカラーフィルタを備えた液晶装置の
断面構成図である。

【０１０７】この実施形態の液晶装置７００は、互いに
対向するように配置されたカラーフィルタ基板７４１及
びアクティブ素子基板７０１と、これらの間に挟持され
た液晶層７０２と、カラーフィルタ基板７４１の上面側
（観測者側）に付設された位相差板７１５ａ、偏光板７
１６ａと、アクティブ素子基板７０１の下面側に付設さ
れた位相差板７１５ｂ、偏光板７１６ｂとが備えられた
液晶パネル７５０を主体として構成されている。この液
晶パネル７５０に、液晶駆動用ドライバチップと、電気
信号を伝達するための配線類、支持体などの付帯要素を
装着することによって、最終製品としての液晶装置が構
成される。

【０１０８】カラーフィルタ基板７４１は、光透過性基
板（基板）７４２を具備してなる観測者側に向いて設け
られる表側の基板であり、アクティブ素子基板７０１は
その反対側、換言すると裏側に設けられる基板である。
カラーフィルタ基板７４１は、プラスチックフィルム又
は厚さ３００μｍ（０.３ｍｍ）程度のガラス基板等か
らなる光透過性基板７４２と、この基板７４２の下側
（換言すると液晶層側の面）に形成されたカラーフィル
タ７５１とを主体として構成されている。カラーフィル
タ７５１は、この基板７４２の下側（換言すると液晶層
側の面）に形成された隔壁７０６と、フィルタエレメン
ト７０３…と、隔壁７０６及びフィルタエレメント７０
３…を覆う保護膜７０４と、を具備して構成されてい
る。

【０１０９】隔壁７０６は、各フィルタエレメント７０
３を形成する着色層形成領域であるフィルタエレメント
形成領域７０７をそれぞれ取り囲むように形成された格
子状のもので、基板７４２の一面７４２ａに形成されて
いる。隔壁７０６は、孔７０６ｃ…を複数有している。
各孔７０６ｃ内には基板７４２面が露出している。そし
て隔壁７０６の内壁（孔７０６ｃの壁面）と基板７４２
面とにより区画されてフィルタエレメント形成領域７０
７…が形成されている。

【０１１０】隔壁７０６は、例えば黒色感光性樹脂膜か
らなり、この黒色感光性樹脂膜としては例えば、通常の
フォトレジストに用いられるようなポジ型若しくはネガ
型の感光性樹脂と、カーボンブラック等の黒色の無機顔
料あるいは黒色の有機顔料とを少なくとも含むものが好
ましい。この隔壁７０６は、黒色の無機顔料または有機
顔料を含むもので、フィルタエレメント７０３…の形成
位置を除く部分に形成されているため、フィルタエレメ
ント７０３…同士の間の光の透過を遮断でき、従ってこ
の隔壁７０６は、遮光膜としての機能をも有する。フィ
ルタエレメント７０３…は、隔壁７０６の内壁と基板７
４２に渡って設けられたフィルタエレメント形成領域７
０７に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各フィルタエレ
メント材料をインクジェット方式により導入、すなわち
吐出し、その後乾燥させることにより形成したものであ
る。

【０１１１】更に保護膜７０４の下側（液晶層側）にＩ
ＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料からなる
液晶駆動用の電極層７０５が保護膜７０４の略全面にわ
たって形成されている。更にこの液晶駆動用の電極層７
０５を覆って液晶層側に配向膜７１９ａが設けられてお
り、また、反対側のアクティブ素子基板７０１側の後述
する画素電極７３２上にも配向膜７１９ｂが設けられて
いる。

【０１１２】アクティブ素子基板７０１は、光透過性基
板（基板）７１４上に図示略の絶縁層が形成され、さら
にこの絶縁層の上に、ＴＦＴ型のスイッチング素子とし
ての薄膜トランジスタＴと画素電極７３２が形成されて
なるものである。また、基板７１４上に形成された絶縁
層上には、実際にはマトリクス状に複数の走査線と複数
の信号線とが形成され、これら走査線と信号線とに囲ま
れた領域毎に先の画素電極７３２が設けられ、各画素電
極７３２と走査線及び信号線とが電気的に接続される位
置に薄膜トランジスタＴが組み込まれており、走査線と
信号線に対する信号の印加によって薄膜トランジスタＴ
をオン・オフして画素電７３２への通電制御を行うこと
ができるように構成されている。また、対向側のカラー
フィルタ基板７４１側に形成された電極層７０５はこの
実施形態では画素領域全体をカバーする全面電極とされ
ている。尚、ＴＦＴの配線回路や画素電極形状には様々
なものを適用できる。

【０１１３】アクティブ素子基板７０１とカラーフィル
タ基板（対向基板）７４１とは、カラーフィルタ基板７
４１の外周縁に沿って形成されたシール材７５５によっ
て所定の間隙を介して貼り合わされている。また、符号
７５６は両基板間の間隔（セルギャップ）を基板面内で
一定に保持するためのスペーサである。その結果、アク
ティブ素子基板７０１とカラーフィルタ基板７４１との
間には、平面視略額縁状のシール材７５５によって矩形
の液晶封入領域が区画形成され、この液晶封入領域内
に、液晶が封入されている。

【０１１４】図５０に示すようにカラーフィルタ基板７
４１はアクティブ素子基板７０１よりも小さく、アクテ
ィブマ素子基板７０１の周辺部分は、カラーフィルタ基
板７４１の外周縁よりはみ出た状態に貼り合わされる。
従って、アクティブ素子基板７０１では、シール材４５
５の外周側領域において、画素スイッチング用の薄膜ト
ランジスタＴと同時に駆動回路用のＴＦＴを形成するこ
とができ、もって走査線駆動回路やデータ線駆動回路を
設けることが可能になっている。この液晶パネル７５０
では、アクティブ素子基板７０１およびカラーフィルタ
基板７４１の光入射側および光出射側の面には、ノーマ
リホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じ
て、上記の偏光板７１６ａ、７１６ｂ（偏光シート）が
所定の向きに配置されている。

【０１１５】このように構成した液晶パネル７５０にお
いて、アクティブ素子基板７０１では、データ線（図示
せず。）および薄膜トランジスタＴを介して画素電極７
３２に印加した表示信号によって、画素電極７３２と対
向電極７１８との間において液晶の配向状態を画素毎に
制御し、表示信号に対応した所定の表示を行う。たとえ
ば、液晶パネル７５０をＴＮモードで構成した場合に、
一対の基板間（アクティブ素子基板７０１とカラーフィ
ルタ基板７４１）の各々に形成した配向膜７１９ａ、７
１９ｂに対してラビング処理を行う際にラビング方向を
互いに直交する方向に設定すると、液晶は、基板間で９
０°の角度をもって捩じれ配向する。このような捩じれ
配向は、基板間で液晶層７０２に電場をかけることによ
って解放される。従って、基板間に外部から電場を印加
するか否かによって、液晶の配向状態を画素電極７３２
が形成されている領域毎（画素毎）に制御することがで
きる。

【０１１６】それ故、液晶パネル７５０を透過型の液晶
パネルとして用いる場合、アクティブ素子基板７０１の
下側に配置した照明装置（図示略）からの光は、入射側
の偏光板７１６ｂによって所定の直線偏光光に揃えられ
た後、位相差板７１５ｂ、アクティブ素子基板７０１を
通って液晶層７０２に入射し、ある領域を透過する直線
偏光光は、透過偏光軸が捩じられて出射される一方、他
の領域を通過した直線偏光光は、透過偏光軸が捩じられ
ることなく出射する。このため、入射側の偏光板７１６
ｂと出射側の偏光板７１６ａを互いの透過偏光軸が直交
するように配置しておけば（ノーマリホワイト）、液晶
パネル７５０の出射側に配置された偏光板７１６ａを通
過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられた方の
直線偏光光のみである。これに対して、入射側の偏光板
７１６ｂと透過偏光軸が平行になるように出射側の偏光
板７１６ａを配置しておけば（ノーマリブラック）、液
晶パネル７５０の出射側に配置された偏光板７１６ａを
通過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられるこ
とのなかった直線偏光光のみである。よって、液晶７０
２の配向状態を画素毎に制御すれば、任意の情報を表示
することができる。

【０１１７】上記構成の液晶装置７００によれば、吐出
量を高度に制御されたインクジェット方式によりカラー
フィルタ基板７４１のフィルタエレメント７０３…が形
成されているので、平面的に品質の均一な表示を得るこ
とができる。

【０１１８】上記では、カラーフィルタを液晶装置に適
用した例について説明したが、本発明に係るカラーフィ
ルタは上記以外の用途にも適用できるのは勿論である。
例えば、カラーフィルタは白色有機ＥＬにも適用するこ
とができる。すなわち、白色有機ＥＬの前面（有機ＥＬ
の光出射側）に前述で形成したカラーフィルタを配置す
る。この構成とすることにより、白色有機ＥＬを用いな
がら、カラー表示が行える有機ＥＬ装置を提供すること
ができる。

【０１１９】なお、以下のように光は制御される。有機
ＥＬは白色光源となるように形成され、各画素毎に設け
られたトランジスタの制御により発光量を調整し、さら
にカラーフィルタを光が透過することにより所望の色を
表示させる。

【０１２０】（ＥＬ素子を用いた電気光学装置の製造方
法に関する実施の形態）次に、本発明の電気光学装置の
製造方法について図面を参照して説明する。なお、電気
光学装置として、ＥＬ表示素子を用いたアクティブマト
リックス型の表示装置について説明する。なお、この表
示装置の製造方法の説明に先立って、製造される表示装
置の構成について説明する。

【０１２１】〔表示装置の構成〕図１４は、本発明の電
気光学装置の製造装置における有機ＥＬ装置の一部を示
す回路図である。図１５は、表示装置の画素領域の平面
構造を示す拡大平面図である。

【０１２２】すなわち、図１４において、５０１は有機
ＥＬ装置であるＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリ
ックス型の表示装置で、この表示装置５０１は、基板で
ある透明の表示基板５０２上に、複数の走査線５０３
と、これら走査線５０３に対して交差する方向に延びる
複数の信号線５０４と、これら信号線５０４に並列に延
びる複数の共通給電線５０５とがそれぞれ配線された構
成を有している。そして、走査線５０３と信号線５０４
との各交点には、画素領域５０１Ａが設けられている。

【０１２３】信号線５０４に対しては、シフトレジス
タ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを
有したデータ側駆動回路５０７が設けられている。ま
た、走査線５０３に対しては、シフトレジスタおよびレ
ベルシフタを有した走査側駆動回路５０８が設けられて
いる。そして、画素領域５０１Ａのそれぞれには、走査
線５０３を介して走査信号がゲート電極に供給されるス
イッチング薄膜トランジスタ５０９と、このスイッチン
グ薄膜トランジスタ５０９を介して信号線５０４から供
給される画像信号を蓄積し保持する蓄積容量ｃａｐと、
この蓄積容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲー
ト電極に供給されるカレント薄膜トランジスタ５１０
と、このカレント薄膜トランジスタ５１０を介して共通
給電線５０５に電気的に接続したときに共通給電線５０
５から駆動電流が流れ込む画素電極５１１と、この画素
電極５１１および反射電極５１２間に挟み込まれる発光
素子５１３とが設けられている。

【０１２４】この構成により、走査線５０３が駆動され
てスイッチング薄膜トランジスタ５０９がオンすると、
その時の信号線５０４の電位が蓄積容量ｃａｐに保持さ
れる。この蓄積容量ｃａｐの状態に応じて、カレント薄
膜トランジスタ５１０のオン・オフ状態が決まる。そし
て、カレント薄膜トランジスタ５１０のチャネルを介し
て、共通給電線５０５から画素電極５１１に電流が流
れ、さらに発光素子５１３を通じて反射電極５１２に電
流が流れる。このことにより、発光素子５１３は、これ
を流れる電流量に応じて発光する。

【０１２５】ここで、画素領域５０１Ａは、反射電極５
１２や発光素子５１３を取り除いた状態の拡大平面図で
ある図１５に示すように、平面状態が長方形の画素電極
５１１の４辺が、信号線５０４、共通給電線５０５、走
査線５０３および図示しない他の画素電極５１１用の走
査線５０３によって囲まれた配置となっている。

【０１２６】〔表示装置の製造工程〕次に、上記ＥＬ表
示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置を
製造する製造工程の手順について説明する。図１６ない
し図１８は、ＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリッ
クス型の表示装置の製造工程の手順を示す製造工程断面
図である。

【０１２７】（前処理）まず、図１６（Ａ）に示すよう
に、透明の表示基板５０２に対して、必要に応じて、テ
トラエトキシシラン（tetraethoxysilane：ＴＥＯＳ）
や酸素ガスなどを原料ガスとしてプラズマＣＶＤ（Chem
ical Vapor Deposition）法により、厚さ寸法が約２０
００〜５０００オングストロームのシリコン酸化膜であ
る図示しない下地保護膜を形成する。次に、表示基板５
０２の温度を約３５０℃に設定し、下地保護膜の表面に
プラズマＣＶＤ法により厚さ寸法が約３００〜７００オ
ングストロームの非晶質のシリコン膜である半導体膜５
２０ａを形成する。この後、半導体膜５２０ａに対し
て、レーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程
を実施し、半導体膜５２０ａをポリシリコン膜に結晶化
する。ここで、レーザアニール法では、例えばエキシマ
レーザでビームの長寸が約４００ｎｍのラインビームを
用い、出力強度が約２００ｍＪ／ｃｍ²である。ライン
ビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度の
ピーク値の約９０％に相当する部分が各領域毎に重なる
ようにラインビームが走査される。

【０１２８】そして、図１６（Ｂ）に示すように、半導
体膜５２０ａをパターニングして島状の半導体膜５２０
ｂを形成する。この半導体膜５２０ｂが設けられた表示
基板５０２の表面に、ＴＥＯＳや酸素ガスなどを原料ガ
スとしてプラズマＣＶＤ法により厚さ寸法が約６００〜
１５００オングストロームのシリコン酸化膜あるいは窒
化膜であるゲート絶縁膜５２１ａを形成する。なお、半
導体膜５２０ｂは、カレント薄膜トランジスタ５１０の
チャネル領域およびソース・ドレイン領域となるもので
あるが、異なる断面位置においてはスイッチング薄膜ト
ランジスタ５０９のチャネル領域およびソース・ドレイ
ン領域となる図示しない半導体膜も形成されている。す
なわち、図１６ないし図１８に示す製造工程では二種類
のスイッチング薄膜トランジスタ５０９およびカレント
薄膜トランジスタ５１０が同時に形成されるが、同じ手
順で形成されるため、以下の説明では、カレント薄膜ト
ランジスタ５１０についてのみ説明し、スイッチング薄
膜トランジスタ５０９については説明を省略する。

【０１２９】この後、図１６（Ｃ）に示すように、アル
ミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステ
ンなどの金属膜である導電膜をスパッタ法により形成し
た後にパターニングし、図１５にも示すゲート電極５１
０Ａを形成する。この状態で、高温度のリンイオンを打
ち込み、半導体膜５２０ｂにゲート電極５１０Ａに対し
て自己整合的にソース・ドレイン領域５１０ａ，５１０
ｂを形成する。なお、不純物が導入されなかった部分が
チャネル領域５１０ｃとなる。

【０１３０】次に、図１６（Ｄ）に示すように、層間絶
縁膜５２２を形成した後、コンタクトホール５２３，５
２４を形成し、これらコンタクトホール５２３，５２４
内に中継電極５２６，５２７を埋め込み形成する。

【０１３１】さらに、図１６（Ｅ）に示すように、層間
絶縁膜５２２上に、信号線５０４、共通給電線５０５お
よび走査線５０３（図１６中には図示しない）を形成す
る。このとき、信号線５０４、共通給電線５０５および
走査線５０３の各配線は、配線として必要な厚さ寸法に
とらわれることなく、十分に厚く形成する。具体的に
は、各配線を例えば１〜２μｍ程度の厚さ寸法に形成す
るとよい。ここで、中継電極５２７と各配線とは、同一
工程で形成されていてもよい。このとき、中継電極５２
６は、後述するＩＴＯ膜により形成される。

【０１３２】そして、各配線の上面を覆うように層間絶
縁膜５３０を形成し、中継電極５２６に対応する位置に
コンタクトホール５３２を形成する。このコンタクトホ
ール５３２内を埋めるようにＩＴＯ膜を形成し、このＩ
ＴＯ膜をパターニングして、信号線５０４、共通給電線
５０５および走査線５０３に囲まれた所定位置に、ソー
ス・ドレイン領域５１０ａに電気的に接続する画素電極
５１１を形成する。

【０１３３】ここで、図１６（Ｅ）では、信号線５０４
および共通給電線５０５に挟まれた部分が、光学材料が
選択的に配置される所定位置に相当するものである。そ
して、その所定位置とその周囲との間には、信号線５０
４や共通給電線５０５によって段差５３５が形成され
る。具体的には、所定位置の方がその周囲よりも低く、
凹型の段差５３５が形成される。

【０１３４】（ＥＬ発光材料の吐出）次に、上述の前処
理が実施された表示基板５０２にインクジェット方式に
より、機能性液状体であるＥＬ発光材料を吐出する。す
なわち、図１７（Ａ）に示すように、前処理が実施され
た表示基板５０２の上面を上方に向けた状態で、発光素
子１４０の下層部分に当たる正孔注入層５１３Ａを形成
するための機能性液状体としての溶媒に溶かされた溶液
状の前駆体である光学材料５４０Ａを、インクジェット
方式すなわち上述した各実施の形態の装置を用いて吐出
し、段差５３５で囲まれた所定位置の領域内に選択的に
塗布する。

【０１３５】この吐出する正孔注入層５１３Ａを形成す
るための光学材料５４０Ａとしては、ポリマー前駆体が
ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフ
ェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジト
リルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒ
ドロキシキノリノール）アルミニウムなどが用いられ
る。

【０１３６】なお、この吐出の際、流動性を有した液状
体の光学材料５４０Ａは、上述した各実施の形態の隔壁
にフィルタエレメント材料１３を吐出する場合と同様
に、流動性が高いので、平面方向に広がろうとするが、
塗布された位置を取り囲むように段差５３５が形成され
ているため、光学材料５４０Ａの１回当たりの吐出量を
極端に大量にしなければ、光学材料５４０Ａは段差５３
５を越えて所定位置の外側に広がることは防止される。

【０１３７】そして、図１７（Ｂ）に示すように、加熱
あるいは光照射などにより液状の光学材料５４０Ａの溶
媒を蒸発させ、画素電極５１１上に固形の薄い正孔注入
層５１３Ａを形成する。この図１７（Ａ），（Ｂ）を必
要回数繰り返し、図１７（Ｃ）に示すように、十分な厚
さ寸法の正孔注入層５１３Ａを形成する。

【０１３８】次に、図１８（Ａ）に示すように、表示基
板５０２の上面を上に向けた状態で、発光素子５１３の
上層部分に有機半導体膜５１３Ｂを形成するための機能
性液状体としての溶媒に溶かされた溶液状の有機蛍光材
料である光学材料５４０Ｂを、インクジェット方式すな
わち上述した各実施の形態の装置を用いて吐出し、これ
を段差５３５で囲まれた所定位置である領域内に選択的
に塗布する。なお、この光学材料５４０Ｂについても、
上述したように、光学材料５４０Ａの吐出と同様に、段
差５３５を越えて所定位置の外側に広がることは防止さ
れる。

【０１３９】この吐出する有機半導体膜５１３Ｂを形成
するための光学材料５４０Ｂとしては、シアノポリフェ
ニレンビニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアルキ
ルフェニレン、２，３，６，７−テトラヒドロ−１１−
オキソ−１Ｈ・５Ｈ・１１Ｈ（１）ペンゾビラノ［６，
７，８−ｉｊ］−キノリジン−１０−カルボン酸、１，
１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シ
クロヘキサン、２−１３・４'−ジヒドロキシフェニ
ル）−３，５，７−トリヒドロキシー１−ベンゾピリリ
ウムパークロレート、トリス（８−ヒドロキシキノリノ
ール）アルミニウム、２，３・６・７−テトラヒドロ−
９−メチル−１１−オキソ−１Ｈ・５Ｈ・１１Ｈ（１）
ベンゾピラノ［６，７，８−ｉｊ］−キノリジン、アロ
マティックジアミン誘導体（ＴＤＰ）、オキシジアゾー
ルダイマ（ＯＸＤ）、オキシジアゾール誘導体（ＰＢ
Ｄ）、ジスチルアリーレン誘導体（ＤＳＡ）、キノリノ
ール系金属錯体、ベリリウムーベンゾキノリノール錯体
（Ｂｅｂｑ）、トリフェニルアミン誘導体（ＭＴＤＡＴ
Ａ）、ジスチリル誘導体、ピラゾリンダイマ、ルブレ
ン、キナクリドン、トリアゾール誘導体、ポリフェニレ
ン、ポリアルキルフルオレン、ポリアルキルチオフェ
ン、アゾメチン亜鉛錯体、ポリフイリン亜鉛錯体、ベン
ゾオキサゾール亜鉛錯体、フェナントロリンユウロピウ
ム錯体などが用いられる。

【０１４０】次に、図１８（Ｂ）に示すように、加熱あ
るいは光照射などにより、光学材料５４０Ｂの溶媒を蒸
発させ、正孔注入層５１３Ａ上に、固形の薄い有機半導
体膜５１３Ｂを形成する。この図１８（Ａ），（Ｂ）を
必要回数繰り返し、図１８（Ｃ）に示すように、十分な
厚さ寸法の有機半導体膜５１３Ｂを形成する。正孔注入
層５１３Ａおよび有機半導体膜５１３Ｂによって、発光
素子５１３が構成される。最後に、図１８（Ｄ）に示す
ように、表示基板５０２の表面全体、若しくはストライ
プ状に反射電極５１２を形成し、表示装置５０１を製造
する。

【０１４１】この図１４ないし図１８に示す実施の形態
においても、上述した各実施の形態と同様のインクジェ
ット方式を実施することにより、同様の作用効果を享受
できる。さらに、機能性液状体を選択的に塗布する際
に、それらが周囲に流れ出ることを防止でき、高精度に
パターニングできる。

【０１４２】なお、この図１４ないし図１８の実施の形
態において、カラー表示を念頭においたＥＬ表示素子を
用いたアクティブマトリックス型の表示装置について説
明したが、例えば図１９に示すように、図１４ないし図
１８に示す構成を単色表示の表示装置に適用してもでき
る。

【０１４３】すなわち、有機半導体膜５１３Ｂは、表示
基板５０２の全面に一様に形成してもよい。ただし、こ
の場合でも、クロストークを防止するために、正孔注入
層５１３Ａは各所定位置毎に選択的に配置しなければな
らないため、段差１１１を利用した塗布が極めて有効で
ある。なお、この図１９において、図１４ないし図１８
に示す実施の形態と同一の構成については、同一の符号
を付す。

【０１４４】また、ＥＬ表示素子を用いた表示装置とし
ては、アクティブマトリックス型に限らず、例えば図２
０に示すようなパッシブマトリックス型の表示装置とし
てもできる。図２０は本発明の電気光学装置の製造装置
におけるＥＬ装置であり、図２０（Ａ）は複数の第１の
バス配線５５０と、これに直交する方向に配設された複
数の第２のバス配線５６０と、の配置関係を示す平面図
で、図２０（Ｂ）は同（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。
この図２０において、図１４ないし図１８に示す実施の
形態と同様の構成には、同じ符号を付して重複する説明
は省略する。また、細かな製造工程なども図１４ないし
図１８に示す実施の形態と同様であるため、その図示お
よび説明は省略する。この図２０に示す実施の形態の表
示装置は、発光素子５１３が配置される所定位置を取り
囲むように、例えばＳｉＯ₂などの絶縁膜５７０が配設
され、これにより、所定位置とその周囲との間に段差５
３５を形成したものである。このため、機能性液状体を
選択的に塗布する際に、それらが周囲に流れ出ることを
防止でき、高精度にパターニングできる。

【０１４５】さらに、アクティブマトリックス型の表示
装置としては、図１４ないし図１８に示す実施の形態の
構成に限られない。すなわち、例えば図２１に示すよう
な構成、図２２に示すような構成、図２３に示すような
構成、図２４に示すような構成、図２５に示すような構
成、あるいは図２６に示すような構成など、いずれの構
成のものでもできる。

【０１４６】図２１に示す表示装置は、画素電極５１１
を利用して段差５３５を形成することにより、高精度に
パターニングできるようにしたものである。図２１は、
表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面
図であり、その前後の段階は上記図１４ないし図１８に
示す実施の形態と略同様であるため、その図示および説
明は省略する。この図２１に示す表示装置では、画素電
極５１１を通常よりも厚く形成し、これにより、その周
囲と間に段差５３５を形成している。つまり、この図２
１に示す表示装置では、後に光学材料が塗布される画素
電極５１１の方がその周囲よりも高くなっている凸型の
段差が形成されている。そして、上記図１４ないし図１
８に示す実施の形態と同様に、インクジェット方式によ
り、発光素子５１３の下層部分に当たる正孔注入層５１
３Ａを形成するための前駆体である光学材料５４０Ａを
吐出し、画素電極５１１の上面に塗布する。

【０１４７】ただし、上記図１４ないし図１８に示す実
施の形態の場合とは異なり、表示基板５０２を上下逆に
した状態、つまり光学材料５４０Ａが塗布される画素電
極５１１の上面を下方に向けた状態で、光学材料５４０
Ａを吐出して塗布する。このことにより、光学材料５４
０Ａは、重力と表面張力とによって、画素電極５１１の
上面（図２１中で下面）に溜まり、その周囲には広がら
ない。よって、加熱や光照射などにより固形化すれば、
図１７（Ｂ）と同様の薄い正孔注入層５１３Ａを形成で
き、これを繰り返せば正孔注入層５１３Ａが形成され
る。同様の手法で、有機半導体膜５１３Ｂも形成され
る。このため、凸型の段差を利用して高精度にパターニ
ングできる。なお、重力と表面張力とに限らず、遠心力
などの慣性力を利用して光学材料５４０Ａ，５４０Ｂの
量を調整してもよい。

【０１４８】図２２に示す表示装置も、アクティブマト
リックス型の表示装置である。図２２は、表示装置を製
造する製造工程の途中の段階における断面図であり、こ
の前後の段階では、図１４ないし図１８に示す実施の形
態と同様で、その図示および説明は省略する。この図２
２に示す表示装置では、まず、表示基板５０２上に反射
電極５１２を形成し、この反射電極５１２上に後に発光
素子５１３が配置される所定位置を取り囲むように絶縁
膜５７０を形成し、これにより所定位置の方がその周囲
よりも低くなっている凹型の段差５３５を形成する。

【０１４９】そして、上記図１４ないし図１８に示す実
施の形態と同様に、段差５３５で囲まれた領域内に、イ
ンクジェット方式により機能性液状体である光学材料５
４０Ａ，５４０Ｂを選択的に吐出して塗布することによ
り、発光素子５１３を形成する。一方、剥離用基板５８
０上に、剥離層５８１を介して、走査線５０３、信号線
５０４、画素電極５１１、スイッチング薄膜トランジス
タ５０９、カレント薄膜トランジスタ５１０および層間
絶縁膜５３０を形成する。最後に、表示基板５０２上
に、剥離用基板５８０上の剥離層５８１から剥離された
構造を転写するものである。

【０１５０】この図２２の実施の形態では、走査線５０
３、信号線５０４、画素電極５１１、スイッチング薄膜
トランジスタ５０９、カレント薄膜トランジスタ５１０
および層間絶縁膜５３０への光学材料５４０Ａ，５４０
Ｂの塗布形成によるダメージの軽減が図れる。なお、パ
ッシブマトリックス型の表示素子にも適用できる。

【０１５１】図２３に示す表示装置も、アクティブマト
リックス型の表示装置である。図２３は、表示装置を製
造する製造工程の途中の段階における断面図であり、こ
の前後の段階では、図１４ないし図１８に示す実施の形
態と同様で、その図示および説明は省略する。この図２
３に示す表示装置では、層間絶縁膜５３０を利用して凹
型の段差５３５を形成するものである。このため、特に
新たな工程が増加することなく、層間絶縁膜５３０を利
用でき、製造工程の大幅な複雑化などを防止できる。な
お、層間絶縁膜５３０をＳｉＯ₂で形成するとともに、
その表面に紫外線やＯ₂、ＣＦ₃、Ａｒなどのプラズマな
どを照射し、その後に、画素電極５１１の表面を露出さ
せ、そして液状の光学材料５４０Ａ，５４０Ｂを選択的
に吐出して塗布してもよい。このことにより、層間絶縁
膜５３０の表面に沿って撥液性の強い分布が形成され、
光学材料５４０Ａ，５４０Ｂが段差５３５と層間絶縁膜
５３０の撥液性との両方の作用によって所定位置に溜ま
り易くなる。

【０１５２】図２４に示す表示装置は、液状体である光
学材料５４０Ａ，５４０Ｂが塗布される所定位置の親水
性を、その周囲の親水性よりも相対的に強くすることに
より、塗布された光学材料５４０Ａ，５４０Ｂが周囲に
広がらないようにしたものである。図２４は、表示装置
を製造する製造工程の途中の段階における断面図であ
り、この前後の段階では、図１４ないし図１８に示す実
施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。こ
の図２４に示す表示装置では、層間絶縁膜５３０を形成
した後に、その上面に非晶質シリコン層５９０を形成す
る。非晶質シリコン層５９０は、画素電極５１１を形成
するＩＴＯよりも相対的に撥水性が強いので、ここに、
画素電極５１１の表面の親水性がその周囲の親水性より
も相対的に強い掩撥水性・親水性の分布が形成される。
そして、上記図１４ないし図１８に示す実施の形態と同
様に、画素電極５１１の上面に向けて、インクジェット
方式により液状の光学材料５４０Ａ，５４０Ｂを選択的
に吐出して塗布することにより、発光素子５１３を形成
し、最後に反射電極５１２を形成するものである。

【０１５３】なお、この図２４に示す実施の形態につい
ても、パッシブマトリックス型の表示素子に適用でき
る。さらに、図２２に示す実施の形態のように、剥離用
基板５８０上に剥離層５８１を介して形成された構造
を、表示基板５０２に転写する工程を含んでいてもよ
い。

【０１５４】そして、撥水性・親水性の分布は、金属
や、陽極酸化膜、ポリイミドまたは酸化シリコンなどの
絶縁膜や、他の材料により形成していてもよい。なお、
パッシブマトリックス型の表示素子であれば第１のバス
配線５５０、アクティブマトリックス型の表示素子であ
れば走査線５０３、信号線５０４、画素電極５１１、絶
縁膜５３０あるいは遮光層６ｂによって形成してもよ
い。

【０１５５】図２５に示す表示装置は、段差５３５や撥
液性・親液性の分布などを利用してパターニング精度を
向上させるのではなく、電位による引力や斥力などを利
用してパターニング精度の向上を図るものである。図２
５は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階におけ
る断面図であり、この前後の段階では、図１４ないし図
１８に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は
省略する。

【０１５６】この図２５に示す表示装置では、信号線５
０４や共通給電線５０５を駆動するとともに、図示しな
いトランジスタを適宜オン・オフすることにより、画素
電極５１１がマイナス電位となり、層間絶縁膜５３０が
プラス電位となる電位分布を形成する。そして、インク
ジェット方式により、プラスに帯電した液状の光学材料
５４０Ａを所定位置に選択的に吐出して塗布形成するも
のである。このことにより、光学材料５４０Ａを帯電さ
せているので、自発分極だけでなく帯電電荷も利用で
き、パターニングの精度をさらに向上できる。

【０１５７】なお、この図２５に示す実施の形態につい
ても、パッシブマトリックス型の表示素子に適用でき
る。さらに、図２２に示す実施の形態のように、剥離用
基板５８０上に剥離層５８１を介して形成された構造
を、表示基板５０２に転写する工程を含んでいてもよ
い。

【０１５８】また、画素電極５１１と、その周囲の層間
絶縁膜５３０との両方に電位を与えているが、これに限
定されるものではなく、例えば図２６に示すように、画
素電極５１１には電位を与えず、層間絶縁膜５３０にの
みプラス電位を与え、そして、液状の光学材料５４０Ａ
をプラスに帯電させてから塗布するようにしてもよい。
この図２６に示す構成によれば、塗布された後にも、液
状の光学材料５４０Ａは確実にプラスに帯電した状態を
維持できるから、周囲の層間絶縁膜５３０との間の斥力
によって、液状の光学材料５４０Ａが周囲に流れ出るこ
とをより確実に防止できる。

【０１５９】（ＥＬ素子を用いた電気光学装置の製造方
法に関する他の実施の形態）次に、本発明の電気光学装
置の製造方法の他の実施の形態について図面を参照して
説明する。以下では、電気光学装置としてＥＬ表示素子
を用いたアクティブマトリックス型の表示装置を適用し
ている点は、上記実施の形態と同様であり、その回路構
成も、図１４に示す先の実施形態の表示装置と同様であ
る。

【０１６０】〔表示装置の構成〕図３０（ａ）は、本実
施の形態の表示装置の平面模式図であり、図３０（ｂ）
は、図３０（ａ）に示すＡ−Ｂ線に沿う断面模式図であ
る。これらの図に示すように、本実施形態の表示装置３
１は、ガラス等からなる透明な基体３２と、マトリック
ス状に配置された発光素子と、封止基板を具備してい
る。基体３２上に形成された発光素子は、後述する画素
電極と、機能層と、陰極４２により形成されている。

【０１６１】基体３２は、例えばガラス等の透明基板で
あり、基体３２の中央に位置する表示領域３２ａと、基
体３２の周縁に位置して表示領域３２ａの外側に配置さ
れた非表示領域３２ｂとに区画されている。表示領域３
２ａは、マトリックス状に配置された発光素子によって
形成される領域であり、有効表示領域とも言う。また、
表示領域の外側に非表示領域３２ｂが形成されている。
そして，非表示領域３２ｂには、表示領域３２ａに隣接
するダミー表示領域３２ｄが形成されている。

【０１６２】また、図３０（ｂ）に示すように、発光素
子及びバンク部からなる発光素子部４１と基体３２との
間には回路素子部４４が備えられ、この回路素子部４４
に前述の走査線、信号線、保持容量、スイッチング用の
薄膜トランジスタ、駆動用の薄膜トランジスタ１２３等
が備えられている。

【０１６３】また、陰極４２は、その一端が基体３２上
に形成された陰極用配線４２ａに接続しており、この配
線の一端部がフレキシブル基板３５上の配線３５ａに接
続されている。また、配線３５ａは、フレキシブル基板
３５上に備えられた駆動ＩＣ３６（駆動回路）に接続さ
れている。

【０１６４】また、図３０（ａ）及び図３０（ｂ）に示
すように、回路素子部４４の非表示領域３２ｂには、前
述の電源線１０３（１０３Ｒ、１０３Ｇ、１０３Ｂ）が
配線されている。また、表示領域３２ａの図３０（ａ）
中両側には、前述の走査側駆動回路１０５、１０５が配
置されている。この走査側駆動回路１０５、１０５はダ
ミー領域３２ｄの下側の回路素子部４４内に設けられて
いる。更に回路素子部４４内には、走査側駆動回路１０
５、１０５に接続される駆動回路用制御信号配線１０５
ａと駆動回路用電源配線１０５ｂとが設けられている。
更に表示領域３２ａの図３０（ａ）中上側には検査回路
１０６が配置されている。この検査回路１０６により、
製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行う
ことができる。

【０１６５】また図３０（ｂ）に示すように、発光素子
部４１上には封止部３３が備えられている。この封止部
３３は、基体３２に塗布された封止樹脂６０３ａと、缶
封止基板６０４とから構成されている。封止樹脂６０３
は、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等からなり、特
に、熱硬化樹脂の１種であるエポキシ樹脂よりなること
が好ましい。この封止樹脂６０３は、基体３２の周囲に
環状に塗布されており、例えば、マイクロディスペンサ
等により塗布されたものである。この封止樹脂６０３
は、基体３２と封止缶６０４を接合するもので、基体３
２と缶封止基板６０４の間から缶封止基板６０４内部へ
の水又は酸素の侵入を防いで、陰極４２または発光素子
部４１内に形成された図示略の発光層の酸化を防止す
る。

【０１６６】缶封止基板６０４は、ガラス又は金属から
なるもので、封止樹脂６０３を介して基体３２に接合さ
れており、その内側には表示素子４０を収納する凹部６
０４ａが設けられている。また凹部６０４ａには水、酸
素等を吸収するゲッター剤６０５が貼り付けられてお
り、缶封止基板６０４の内部に侵入した水又は酸素を吸
収できるようになっている。なお、このゲッター剤６０
５は省略しても良い。

【０１６７】次に図３１には、表示装置における表示領
域の断面構造を拡大した図を示す。この図３１には３つ
の画素領域Ａが図示されている。この表示装置３１は、
基体３２上に、ＴＦＴなどの回路等が形成された回路素
子部４４と、機能層１１０が形成された発光素子部４１
とが順次積層されて構成されている。

【０１６８】この表示装置３１においては、機能層１１
０から基体３２側に発した光が、回路素子部４４及び基
体３２を透過して基体３２の下側（観測者側）に出射さ
れるとともに、機能層１１０から基体３２の反対側に発
した光が陰極４２により反射されて、回路素子部４４及
び基体３２を透過して基体３２の下側（観測者側）に出
射されるようになっている。なお、陰極４２として、透
明な材料を用いることにより陰極側から発光する光を出
射させることができる。透明な材料としては、ＩＴＯ、
Ｐｔ、Ｉｒ、Ｎｉ、もしくはＰｄを用いる事ができる。
膜厚としては７５ｎｍほどの膜厚にする事が好ましく、
この膜厚よりも薄くした方がより好ましい。

【０１６９】回路素子部４４には、基体３２上にシリコ
ン酸化膜からなる下地保護膜３２ｃが形成され、この下
地保護膜３２ｃ上に多結晶シリコンからなる島状の半導
体膜１４１が形成されている。尚、半導体膜１４１に
は、ソース領域１４１ａ及びドレイン領域１４１ｂが高
濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐ
が導入されなかった部分がチャネル領域１４１ｃとなっ
ている。更に回路素子部４４には、下地保護膜３２ｃ及
び半導体膜１４１を覆う透明なゲート絶縁膜１４２が形
成され、ゲート絶縁膜１４２上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、
Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極１４３（走査線１０１）
が形成され、ゲート電極１４３及びゲート絶縁膜１４２
上には透明な第１層間絶縁膜１４４ａと第２層間絶縁膜
１４４ｂが形成されている。ゲート電極１４３は半導体
膜１４１のチャネル領域１４１ｃに対応する位置に設け
られている。

【０１７０】また、第１、第２層間絶縁膜１４４ａ、１
４４ｂを貫通して、半導体膜１４１のソース、ドレイン
領域１４１ａ、１４１ｂにそれぞれ接続されるコンタク
トホール１４５，１４６が形成されている。そして、第
２層間絶縁膜１４４ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な
画素電極１１１が所定の形状にパターニングされて形成
され、一方のコンタクトホール１４５がこの画素電極１
１１に接続されている。また、もう一方のコンタクトホ
ール１４６が電源線１０３に接続されている。このよう
にして、回路素子部４４には、各画素電極１１１に接続
された駆動用の薄膜トランジスタ１２３が形成されてい
る。尚、回路素子部４４には、前述した保持容量cap及
びスイッチング用の薄膜トランジスタ１１２も形成され
ているが、図３１ではこれらの図示を省略している。

【０１７１】次に図３１に示すように、発光素子部４１
は、複数の画素電極１１１…上の各々に積層された機能
層１１０と、各画素電極１１１及び機能層１１０の間に
備えられて各機能層１１０を区画するバンク部１１２
と、機能層１１０上に形成された陰極４２とを主体とし
て構成されている。これら画素電極（第１電極）１１
１、機能層１１０及び陰極４２（対向電極（電極））に
よって発光素子が構成されている。ここで、画素電極１
１１は、例えばＩＴＯにより形成されてなり、平面視略
矩形にパターニングされて形成されている。この画素電
極１１１の厚さは、５０〜２００ｎｍの範囲が好まし
く、特に１５０ｎｍ程度がよい。この各画素電極１１１
…の間にバンク部１１２が備えられている。

【０１７２】バンク部１１２は、図３１に示すように、
基体３２側に位置する無機物バンク層１１２ａ（第１バ
ンク層）と基体３２から離れて位置する有機物バンク層
１１２ｂ（第２バンク層）とが積層されて構成されてい
る。無機物バンク層、有機物バンク層（１１２ａ、１１
２ｂ）は、画素電極１１１の周縁部上に乗上げるように
形成されている。平面的には、画素電極１１１の周囲と
無機物バンク層１１２ａとが平面的に重なるように配置
された構造となっている。また、有機物バンク層１１２
ｂも同様であり、画素電極１１１の一部と平面的に重な
るように配置されている。また無機物バンク層１１２ａ
は、有機物バンク層１１２ｂよりも画素電極１１１の中
央側に更に形成されている。このようにして、無機物バ
ンク層１１２ａの各第１積層部１１２ｅが画素電極１１
１の内側に形成されることにより、画素電極１１１の形
成位置に対応する下部開口部１１２ｃが設けられてい
る。

【０１７３】また、有機物バンク層１１２ｂには、上部
開口部１１２ｄが形成されている。この上部開口部１１
２ｄは、画素電極１１１の形成位置及び下部開口部１１
２ｃに対応するように設けられている。上部開口部１１
２ｄは、図３１に示すように、下部開口部１１２ｃより
広く、画素電極１１１より狭く形成されている。また、
上部開口部１１２ｄの上部の位置と、画素電極１１１の
端部とがほぼ同じ位置になるように形成される場合もあ
る。この場合は、図３１に示すように、有機物バンク層
１１２ｂの上部開口部１１２ｄの断面が傾斜する形状と
なる。そしてバンク部１１２には、下部開口部１１２ｃ
及び上部開口部１１２ｄが連通することにより、無機物
バンク層１１２ａ及び有機物バンク層１１２ｂを貫通す
る開口部１１２ｇが形成されている。

【０１７４】また、無機物バンク層１１２ａは、例え
ば、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等の無機材料からなることが好ま
しい。この無機物バンク層１１２ａの膜厚は、５０〜２
００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍがよい。膜
厚が５０ｎｍ未満では、無機物バンク層１１２ａが後述
する正孔注入／輸送層より薄くなり、正孔注入／輸送層
の平坦性を確保できなくなるので好ましくない。また膜
厚が２００ｎｍを越えると、下部開口部１１２ｃによる
段差が大きくなって、正孔注入／輸送層上に積層する後
述の発光層の平坦性を確保できなくなるので好ましくな
い。

【０１７５】更に、有機物バンク層１１２ｂは、アクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のある材
料から形成されている。この有機物バンク層１１２ｂの
厚さは、０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２
μｍ程度がよい。厚さが０．１μｍ未満では、後述する
正孔注入／輸送層及び発光層の合計厚より有機物バンク
層１１２ｂが薄くなり、発光層が上部開口部１１２ｄか
ら溢れるおそれがあるので好ましくない。また、厚さが
３．５μｍを越えると、上部開口部１１２ｄによる段差
が大きくなり、有機物バンク層１１２ｂ上に形成する陰
極４２のステップガバレッジを確保できなくなるので好
ましくない。また、有機物バンク層１１２ｂの厚さを２
μｍ以上にすれば、駆動用の薄膜トランジスタ１２３と
の絶縁を高めることができる点でより好ましい。

【０１７６】また、バンク部１１２には、親液性を示す
領域と、撥液性を示す領域が形成されている。親液性を
示す領域は、無機物バンク層１１２ａの第１積層部１１
２ｅ及び画素電極１１１の電極面１１１ａであり、これ
らの領域は、酸素を処理ガスとするプラズマ処理によっ
て親液性に表面処理されている。また、撥液性を示す領
域は、上部開口部１１２ｄの壁面及び有機物バンク層１
１２の上面１１２ｆであり、これらの領域は、４フッ化
メタン、テトラフルオロメタン、もしくは四フッ化炭素
を処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処
理（撥液性に処理）されている。尚、有機物バンク層
は、フッ素ポリマーを含有する材料により形成しても良
い。

【０１７７】次に図３１に示すように、機能層１１０
は、画素電極１１１上に積層された正孔注入／輸送層１
１０ａと、正孔注入／輸送層１１０ａ上に隣接して形成
された発光層１１０ｂとから構成されている。なお、発
光層１１０ｂに隣接して電子注入輸送層などの機能を有
する他の機能層を更に形成しても良い。

【０１７８】正孔注入／輸送層１１０ａは、正孔を発光
層１１０ｂに注入する機能を有するとともに、正孔を正
孔注入／輸送層１１０ａ内部において輸送する機能を有
する。このような正孔注入／輸送層１１０ａを画素電極
１１１と発光層１１０ｂの間に設けることにより、発光
層１１０ｂの発光効率、寿命等の素子特性が向上する。
また、発光層１１０ｂでは、正孔注入／輸送層１１０ａ
から注入された正孔と、陰極４２から注入される電子が
発光層で再結合し、発光が得られる。

【０１７９】正孔注入／輸送層１１０ａは、下部開口部
１１２ｃ内に位置して画素電極面１１１ａ上に形成され
る平坦部１１０ａ１と、上部開口部１１２ｄ内に位置し
て無機物バンク層の第１積層部１１２ｅ上に形成される
周縁部１１０ａ２から構成されている。また、正孔注入
／輸送層１１０ａは、構造によっては、画素電極１１１
上であって、且つ無機物バンク層１１０ａの間（下部開
口部１１０ｃ）にのみ形成されている（前述に記載した
平坦部にのみ形成される形態もある）。この平坦部１１
０ａ1は、その厚さが一定で例えば５０〜７０ｎｍの範
囲に形成される。

【０１８０】周縁部１１０ａ2が形成される場合におい
ては、周縁部１１０ａ2は、第１積層部１１２ｅ上に位
置するとともに上部開口部１１２ｄの壁面、即ち有機物
バンク層１１２ｂに密着している。また、周縁部１１０
ａ2の厚さは、電極面１１１ａに近い側で薄く、電極面
１１１ａから離れる方向に沿って増大し、下部開口部１
１２ｄの壁面近くで最も厚くなっている。

【０１８１】周縁部１１０ａ2が上記の様な形状を示す
理由としては、正孔注入／輸送層１１０ａが、正孔注入
／輸送層形成材料及び極性溶媒を含む第１組成物を開口
部１１２内に吐出してから極性溶媒を除去して形成され
たものであり、極性溶媒の揮発が主に無機物バンク層の
第１積層部１１２ｅ上で起こり、正孔注入／輸送層形成
材料がこの第１積層部１１２ｅ上に集中的に濃縮・析出
されたためである。

【０１８２】また発光層１１０ｂは、正孔注入／輸送層
１１０ａの平坦部１１０ａ1及び周縁部１１０ａ2上に渡
って形成されており、平坦部１１２ａ1上での厚さが５
０〜８０ｎｍの範囲とされている。発光層１１０ｂは、
赤色（Ｒ）に発光する赤色発光層１１０ｂ1、緑色
（Ｇ）に発光する緑色発光層１１０ｂ2、及び青色
（Ｂ）に発光する青色発光層１１０ｂ3、の３種類を有
し、各発光層１１０ｂ1〜１１０ｂ3がストライプ配置さ
れている。

【０１８３】上記のように、正孔注入／輸送層１１０ａ
の周縁部１１０ａ2が上部開口部１１２ｄの壁面（有機
物バンク層１１２ｂ）に密着しているので、発光層１１
０ｂが有機物バンク層１１２ｂに直接に接することがな
い。従って、有機物バンク層１１２ｂに不純物として含
まれる水が発光層１１０ｂ側に移行するのを、周縁部１
１０ａ2によって阻止することができ、水による発光層
１１０ｂの酸化を防止できる。

【０１８４】また、無機物バンク層の第１積層部１１２
ｅ上に不均一な厚さの周縁部１１０ａ2が形成されるた
め、周縁部１１０ａ2が第１積層部１１２ｅによって画
素電極１１１から絶縁された状態となり、周縁部１１０
ａ2から発光層１１０ｂに正孔が注入されることがな
い。これにより、画素電極１１１からの電流が平坦部１
１２ａ1のみに流れ、正孔を平坦部１１２ａ1から発光層
１１０ｂに均一に輸送させることができ、発光層１１０
ｂの中央部分のみを発光させることができるとともに、
発光層１１０ｂにおける発光量を一定にすることができ
る。

【０１８５】また、無機物バンク層１１２ａが有機物バ
ンク層１１２ｂよりも画素電極１１１の中央側に更に延
出されているので、この無機物バンク層１１２ａによっ
て画素電極１１１と平坦部１１０ａ1との接合部分の形
状をトリミングすることができ、各発光層１１０ｂ間の
発光強度のばらつきを抑えることができる。

【０１８６】更に、画素電極１１１の電極面１１１ａ及
び無機物バンク層の第１積層部１１２ｅが親液性を示す
ので、機能層１１０が画素電極１１１及び無機物バンク
層１１２ａに均一に密着し、無機物バンク１１２ａ上で
機能層１１０が極端に薄くならず、画素電極１１１と陰
極４２との短絡を防止できる。また、有機物バンク層１
１２ｂの上面１１２ｆ及び上部開口部１１２ｄ壁面が撥
液性を示すので、機能層１１０と有機物バンク層１１２
ｂとの密着性が低くなり、機能層１１０が開口部１１２
ｇから溢れて形成されることがない。

【０１８７】尚、正孔注入／輸送層形成材料としては、
例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン等のポリチオ
フェン誘導体とポリスチレンスルホン酸等の混合物（Ｐ
ＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液を用いることができる。ま
た、発光層１１０ｂの材料としては、例えば、ポリフル
オレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカル
バゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分
子材料にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン
系色素、例えばルブレン、ペリレン、９，１０-ジフェ
ニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイル
レッド、クマリン６、キナクリドン等をドープして用い
ることができる。

【０１８８】次に陰極４２は、発光素子部４１の全面に
形成されており、画素電極１１１と対になって機能層１
１０に電流を流す役割を果たす。この陰極４２は、例え
ば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成
されている。このとき、発光層に近い側の陰極には仕事
関数が低いものを設けることが好ましく、特にこの形態
においては発光層１１０ｂに直接に接して発光層１１０
ｂに電子を注入する役割を果たす。また、フッ化リチウ
ムは発光層の材料によっては効率よく発光させるため
に、発光層１１０と陰極４２との間にＬｉＦを形成する
場合もある。

【０１８９】尚、赤色及び緑色の発光層１１０ｂ1、１
１１０ｂ2にはフッ化リチウムに限らず、他の材料を用
いても良い。従ってこの場合は青色（Ｂ）発光層１１０
ｂ3のみにフッ化リチウムからなる層を形成し、他の赤
色及び緑色の発光層１１０ｂ1、１１０ｂ2にはフッ化リ
チウム以外のものを積層しても良い。また、赤色及び緑
色の発光層１１０ｂ1、１１０ｂ2上にはフッ化リチウム
を形成せず、カルシウムのみを形成しても良い。尚、フ
ッ化リチウムの厚さは、例えば２〜５ｎｍの範囲が好ま
しく、特に２ｎｍ程度がよい。またカルシウムのの厚さ
は、例えば２〜５０ｎｍの範囲が好ましく、特に２０ｎ
ｍ程度がよい。

【０１９０】また、陰極４２を形成するアルミニウム
は、発光層１１０ｂから発した光を基体３２側に反射さ
せるもので、Ａｌ膜の他、Ａｇ膜、ＡｌとＡｇの積層膜
等からなることが好ましい。また、その厚さは、例えば
１００〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、特に２００ｎ
ｍ程度がよい。更にアルミニウム上にＳｉＯ、Ｓｉ
Ｏ₂、ＳｉＮ等からなる酸化防止用の保護層を設けても
良い。尚、このように形成した発光素子上に封止缶６０
４を配置する。図３０（ｂ）に示すように、封止缶６０
４を封止樹脂６０３により接着し、表示装置３１を形成
する。

【０１９１】〔表示装置の製造方法〕次に、本実施形態
の表示装置の製造方法を図面を参照して説明する。本実
施形態の表示装置３１の製造方法は、例えば、(1)バン
ク部形成工程、(2)プラズマ処理工程（親液化工程及び
撥液化工程を含む）、(3)正孔注入／輸送層形成工程
（機能層形成工程）、(4)発光層形成工程（機能層形成
工程）、(5)対向電極形成工程、及び(6)封止工程とを具
備して構成されている。なお、製造方法はこれに限られ
るものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場
合、また追加される場合もある。

【０１９２】(1)バンク部形成工程 バンク部形成工程では、基体３２の所定の位置にバンク
部１１２を形成する工程である。バンク部１１２は、第
１のバンク層として無機物バンク層１１２ａが形成され
てなり、第２のバンク層として有機物バンク層１１２ｂ
が形成された構造である。以下に形成方法について説明
する。

【０１９３】(1)-1無機物バンク層の形成 まず、図３２に示すように、基体上の所定の位置に無機
物バンク層１１２ａを形成する。無機物バンク層１１２
ａが形成される位置は、第２層間絶縁膜１４４ｂ上及び
電極(ここでは画素電極)１１１上である。なお、第２層
間絶縁膜１４４ｂは薄膜トランジスタ、走査線、信号
線、等が配置された回路素子部４４上に形成されてい
る。

【０１９４】無機物バンク層１１２ａは、例えば、Ｓｉ
Ｏ_２、ＴｉＯ_２等の無機物膜を材料として用いることが
できる。これらの材料は、例えばＣＶＤ法、コート法、
スパッタ法、蒸着法等によって形成される。更に、無機
物バンク層１１２ａの膜厚は５０〜２００ｎｍの範囲が
好ましく、特に１５０ｎｍがよい。

【０１９５】無機物バンク層１１２は、層間絶縁層１１
４及び画素電極１１１の全面に無機物膜を形成し、その
後無機物膜をフォトリソグラフィ法等によりパターニン
グすることにより、開口部を有する無機物バンク層１１
２が形成される。開口部は、画素電極１１１の電極面１
１１ａの形成位置に対応するもので、図３２に示すよう
に下部開口部１１２ｃとして設けられる。このとき、無
機物バンク層１１２ａは画素電極１１１の周縁部（一
部）と重なるように形成される。図３２に示すように、
画素電極１１１の一部と無機物バンク層１１２ａとが重
なるように無機物バンク層１１２ａを形成することによ
り、発光層１１０の発光領域を制御することができる。

【０１９６】(1)-2有機物バンク層１１２ｂの形成 次に、第２バンク層としての有機物バンク層１１２ｂを
形成する。図３３に示すように、無機物バンク層１１２
ａ上に有機物バンク層１１２ｂを形成する。有機物バン
ク層１１２ｂとして、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等
の耐熱性、耐溶剤性を有する材料を用いる。これらの材
料を用い、有機物バンク層１１２ｂをフォトリソグラフ
ィ技術等によりパターニングして形成される。なお、パ
ターニングする際、有機物バンク層１１２ｂに上部開口
部１１２ｄを形成する。上部開口部１１２ｄは、電極面
１１１ａ及び下部開口部１１２ｃに対応する位置に設け
られる。

【０１９７】上部開口部１１２ｄは、図３３に示すよう
に、無機物バンク層１１２ａに形成された下部開口部１
１２ｃより広く形成する事が好ましい。更に、有機物バ
ンク層１１２ｂはテーパーを有する形状が好ましく、有
機物バンク層の開口部が画素電極１１１の幅より狭く、
有機物バンク層１１２ｂの最上面では画素電極１１１の
幅とほぼ同一の幅になるように有機物バンク層を形成す
る事が好ましい。これにより、無機物バンク層１１２ａ
の下部開口部１１２ｃを囲む第１積層部１１２ｅが、有
機物バンク層１１２ｂよりも画素電極１１１の中央側に
延出された形になる。このようにして、有機物バンク層
１１２ｂに形成された上部開口部１１２ｄ、無機物バン
ク層１１２ａに形成された下部開口部１１２ｃを連通さ
せることにより、無機物バンク層１１２ａ及び有機物バ
ンク層１１２ｂを貫通する開口部１１２ｇが形成され
る。

【０１９８】なお、有機物バンク層１１２ｂの厚さは、
０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度
がよい。このような範囲とする理由は以下の通りであ
る。すなわち、厚さが０．１μｍ未満では、後述する正
孔注入／輸送層及び発光層の合計厚より有機物バンク層
１１２ｂが薄くなり、発光層１１０ｂが上部開口部１１
２ｄから溢れてしまうおそれがあるので好ましくない。
また、厚さが３．５μｍを越えると、上部開口部１１２
ｄによる段差が大きくなり、上部開口部１１２ｄにおけ
る陰極４２のステップガバレッジが確保できなくなるの
で好ましくない。また、有機物バンク層１１２ｂの厚さ
を２μｍ以上にすれば、陰極４２と駆動用の薄膜トラン
ジスタ１２３との絶縁を高めることができる点で好まし
い。

【０１９９】(2)プラズマ処理工程 次にプラズマ処理工程では、画素電極１１１の表面を活
性化すること、更にバンク部１１２の表面を表面処理す
る事を目的として行われる。特に活性化工程では、画素
電極１１１（ＩＴＯ）上の洗浄、更に仕事関数の調整を
主な目的として行っている。更に、画素電極１１１の表
面の親液化処理（親液化工程）、バンク部１１２表面の
撥液化処理（撥液化工程）を行う。

【０２００】このプラズマ処理工程は、例えば(2)-1予
備加熱工程、(2)-2活性化処理工程（親液化工程）、(2)
-3撥液化処理工程（親液化工程）、及び(2)-4冷却工程
とに大別される。なお、このような工程に限られるもの
ではなく、必要に応じて工程を削減、更なる工程追加も
行われる。

【０２０１】まず、図３４は、プラズマ処理工程で用い
られるプラズマ処理装置を示す。図３４に示すプラズマ
処理装置５０は、予備加熱処理室５１、第１プラズマ処
理室５２、第２プラズマ処理室５３、冷却処理室５４、
これらの各処理室５１〜５４に基体３２を搬送する搬送
装置５５とから構成されている。各処理室５１〜５４
は、搬送装置５５を中心として放射状に配置されてい
る。まず、これらの装置を用いた概略の工程を説明す
る。

【０２０２】予備加熱工程は、図３４に示す予備加熱処
理室５１において行われる。そしてこの処理室５１によ
り、バンク部形成工程から搬送された基体３２を所定の
温度に加熱する。予備加熱工程の後、親液化工程及び撥
液化処理工程を行う。すなわち、基体は第１，第２プラ
ズマ処理室５２，５３に順次搬送され、それぞれの処理
室５２，５３においてバンク部１１２にプラズマ処理を
行い親液化する。この親液化処理後に撥液化処理を行
う。撥液化処理の後に基体を冷却処理室に搬送し、冷却
処理室５４おいて基体を室温まで冷却する。この冷却工
程後、搬送装置により次の工程である正孔注入／輸送層
形成工程に基体を搬送する。

【０２０３】以下に、それぞれの工程について詳細に説
明する。 (2)-1予備加熱工程 予備加熱工程は予備加熱処理室５１により行う。この処
理室５１において、バンク部１１２を含む基体３２を所
定の温度まで加熱する。基体３２の加熱方法は、例えば
処理室５１内にて基体３２を載せるステージにヒータを
取り付け、このヒータで当該ステージごと基体３２を加
熱する手段がとられている。なお、これ以外の方法を採
用することも可能である。予備加熱処理室５１におい
て、例えば７０℃〜８０℃の範囲に基体３２を加熱す
る。この温度は次工程であるプラズマ処理における処理
温度であり、次の工程に合わせて基体３２を事前に加熱
し、基体３２の温度ばらつきを解消することを目的とし
ている。仮に予備加熱工程を加えなければ、基体３２は
室温から上記のような温度に加熱されることになり、工
程開始から工程終了までのプラズマ処理工程中において
温度が常に変動しながら処理される事になる。したがっ
て、基体温度が変化しながらプラズマ処理を行うこと
は、有機ＥＬ素子の特性の不均一につながる可能性があ
る。したがって、処理条件を一定に保ち、均一な特性を
得るために予備加熱を行うのである。そこで、プラズマ
処理工程においては、第１，第２プラズマ処理装置５
２，５３内の試料ステージ上に基体３２を載置した状態
で親液化工程または撥液化工程を行う場合に、予備加熱
温度を、親液化工程または撥液化工程を連続して行う試
料ステージ５６の温度にほぼ一致させることが好まし
い。

【０２０４】そこで、第１，第２プラズマ処理装置５
２，５３内の試料ステージが上昇する温度、例えば７０
〜８０℃まで予め基体３２を予備加熱することにより、
多数の基体にプラズマ処理を連続的に行った場合でも、
処理開始直後と処理終了直前でのプラズマ処理条件をほ
ぼ一定にすることができる。これにより、基体３２の表
面処理条件を同一にし、バンク部１１２の組成物に対す
る濡れ性を均一化することができ、一定の品質を有する
表示装置を製造することができる。また、基体３２を予
め予備加熱しておくことにより、後のプラズマ処理にお
ける処理時間を短縮することができる。

【０２０５】(2)-2活性化処理（親液化工程） つぎに第１プラズマ処理室５２では、活性化処理が行わ
れる。活性化処理には、画素電極１１１における仕事関
数の調整、制御、画素電極表面の洗浄、画素電極表面の
親液化工程が含まれる。親液化工程として、大気雰囲気
中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ_２プラズマ
処理）を行う。図３５には第１プラズマ処理を模式的に
示した図である。図３５に示すように、バンク部１１２
を含む基体３２は加熱ヒータ内臓の試料ステージ５６上
に載置され、基体３２の上側にはギャップ間隔０．５〜
２ｍｍ程度の距離をおいてプラズマ放電電極５７が基体
３２に対向して配置されている。基体３２は、試料ステ
ージ５６によって加熱されつつ、試料ステージ５６は図
示矢印方向に向けて所定の搬送速度で搬送され、その間
に基体３２に対してプラズマ状態の酸素が照射される。

【０２０６】Ｏ_２プラズマ処理の条件は、例えば、プラ
ズマパワー１００〜８００ｋＷ、酸素ガス流量５０〜１
００ｍｌ/ｍｉｎ、板搬送速度０．５〜１０ｍｍ／ｓｅ
ｃ、基体温度７０〜９０℃の条件で行われる。なお、試
料ステージ５６による加熱は、主として予備加熱された
基体３２の保温のために行われる。このＯ_２プラズマ処
理により、図３６に示すように、画素電極１１１の電極
面１１１ａ、無機物バンク層１１２ａの第１積層部１１
２ｅ及び有機物バンク層１１２ｂの上部開口部１１２ｄ
の壁面ならびに上面１１２ｆが親液処理される。この親
液処理により、これらの各面に水酸基が導入されて親液
性が付与される。図３７では、親液処理された部分を一
点鎖線で示している。なお、このＯ_２プラズマ処理は、
親液性を付与するのみならず、上述の通り画素電極であ
るＩＴＯ上の洗浄，仕事関数の調整も兼ねている。

【０２０７】(2)-3撥液処理工程（撥液化工程） つぎに、第２プラズマ処理室５３では、撥液化工程とし
て、大気雰囲気中でテトラフルオロメタンを処理ガスと
するプラズマ処理（ＣＦ₄プラズマ処理）を行う。第２
プラズマ処理室５３の内部構造は図３５に示した第１プ
ラズマ処理室５２の内部構造と同じである。即ち、基体
３２は、試料ステージによって加熱されつつ、試料ステ
ージごと所定の搬送速度で搬送され、その間に基体３２
に対してプラズマ状態のテトラフルオロメタン（四フッ
化炭素）が照射される。

【０２０８】ＣＦ₄プラズマ処理の条件は、例えば、プ
ラズマパワー１００〜８００ｋＷ、４フッ化メタンガス
流量５０〜１００ｍｌ/ｍｉｎ、基体搬送速度０．５〜
１０２０ｍｍ／ｓｅｃ、基体温度７０〜９０℃の条件で
行われる。なお、加熱ステージによる加熱は、第１プラ
ズマ処理室５２の場合と同様に、主として予備加熱され
た基体３２の保温のために行われる。なお、処理ガス
は、テトラフルオロメタン（四フッ化炭素）に限らず、
他のフルオロカーボン系のガスを用いることができる。

【０２０９】ＣＦ_４プラズマ処理により、図３７に示す
ように、上部開口部１１２ｄ壁面及び有機物バンク層の
上面１１２ｆが撥液処理される。この撥液処理により、
これらの各面にフッ素基が導入されて撥液性が付与され
る。図３７では、撥液性を示す領域を二点鎖線で示して
いる。有機物バンク層１１２ｂを構成するアクリル樹
脂、ポリイミド樹脂等の有機物はプラズマ状態のフルオ
ロカーボンが照射することで容易に撥液化させることが
できる。また、Ｏ_２プラズマにより前処理した方がフッ
素化されやすい、という特徴を有しており、本実施形態
には特に有効である。尚、画素電極１１１の電極面１１
１ａ及び無機物バンク層１１２ａの第１積層部１１２ｅ
もこのＣＦ₄プラズマ処理の影響を多少受けるが、濡れ
性に影響を与える事は少ない。図３７では、親液性を示
す領域を一点鎖線で示している。

【０２１０】(2)-4冷却工程 次に冷却工程として、冷却処理室５４を用い、プラズマ
処理のために加熱された基体３２を管理温度まで冷却す
る。これは、この以降の工程である液滴吐出工程（機能
層形成工程）の管理温度まで冷却するために行う工程で
ある。この冷却処理室５４は、基体３２を配置するため
のプレートを有し、そのプレートは基体３２を冷却する
ように水冷装置が内蔵された構造となっている。また、
プラズマ処理後の基体３２を室温、または所定の温度
（例えば液滴吐出工程を行う管理温度）まで冷却するこ
とにより、次の正孔注入／輸送層形成工程において、基
体３２の温度が一定となり、基体３２の温度変化が無い
均一な温度で次工程を行うことができる。したがって、
このような冷却工程を加えることにより、液滴吐出法等
の吐出手段により吐出された材料を均一に形成できる。
例えば、正孔注入／輸送層を形成するための材料を含む
第１組成物を吐出させる際に、第１組成物を一定の容積
で連続して吐出させることができ、正孔注入／輸送層を
均一に形成することができる。

【０２１１】上記のプラズマ処理工程では、材質が異な
る有機物バンク層１１２ｂ及び無機物バンク層１１２ａ
に対して、Ｏ_２プラズマ処理とＣＦ_４プラズマ処理とを
順次行うことにより、バンク部１１２に親液性の領域と
撥液性の領域を容易に設けることができる。尚、プラズ
マ処理工程に用いるプラズマ処理装置は、図３４に示し
たものに限られず、例えば図３８に示すようなプラズマ
処理装置６０を用いてもよい。図３８に示すプラズマ処
理装置６０は、予備加熱処理室６１と、第１プラズマ処
理室６２と、第２プラズマ処理室６３と、冷却処理室６
４と、これらの各処理室６１〜６４に基体３２を搬送す
る搬送装置６５とから構成され、各処理室６１〜６４
が、搬送装置６５の搬送方向両側（図中矢印方向両側）
に配置されてなるものである。このプラズマ処理装置６
０では、図３４に示したプラズマ処理装置５０と同様
に、バンク部形成工程から搬送された基体３２を、予備
加熱処理室６１、第１，第２プラズマ処理室６２，６
３、冷却処理室６４に順次搬送して各処理室にて上記と
同様な処理を行った後、基体３２を次の正孔注入／輸送
層形成工程に搬送する。また，上記プラズマ装置は，大
気圧下の装置でなくとも，真空下のプラズマ装置を用い
ても良い。

【０２１２】(3)正孔注入／輸送層形成工程（機能層形
成工程） 正孔注入／輸送層形成工程では、液滴吐出としてたとえ
ば液滴吐出装置を用いることにより、正孔注入／輸送層
形成材料を含む第１組成物（組成物）を電極面１１１ａ
上に吐出する。その後に乾燥処理及び熱処理を行い、画
素電極１１１上及び無機物バンク層１１２ａ上に正孔注
入/輸送層１１０ａを形成する。なお、正孔注入/輸送層
１１０ａが形成された無機物バンク層１１２ａをここで
は第１積層部１１２ｅという。この正孔注入／輸送層形
成工程を含めこれ以降の工程は、水、酸素の無い雰囲気
とする事が好ましい。例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰
囲気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。

【０２１３】なお、正孔注入/輸送層１１０ａは第１積
層部１１２ｅ上に形成されないこともある。すなわち、
画素電極１１１上にのみ正孔注入／輸送層が形成される
形態もある。液滴吐出による製造方法は以下の通りであ
る。本実施形態の表示装置の製造方法に好適に用いられ
る液滴吐出ヘッドとしては、先の実施形態の図２に示す
ヘッドユニット４２０とほぼ同様の基本構成を備えたヘ
ッドユニット１２０を用いることができる。更に、基体
と上記のヘッドユニット１２０の配置に関しては図３９
のように配置することが好ましい。

【０２１４】図３９に示す液滴吐出装置には、図２に示
すものとほぼ同様の構成のヘッドユニット１２０が備え
られている。また符号１１１５は基体３２を載置するス
テージであり、符号１１１６はステージ１１１５を図中
ｘ軸方向（主走査方向）に案内するガイドレールであ
る。またヘッドユニット１２０は、支持部材１１１１を
介してガイドレール１１１３により図中ｙ軸方向（副走
査方向）に移動できるようになっており、更にヘッドユ
ニット１２０は図中θ軸方向に回転できるようになって
おり、インクジェットヘッド１２１を主走査方向に対し
て所定の角度に傾けることができるようになっている。

【０２１５】図３９に示す基体３２は、マザー基板に複
数のチップを配置した構造となっている。即ち、１チッ
プの領域が１つの表示装置に相当する。ここでは、３つ
の表示領域３２ａが形成されているが、これに限られる
ものではない。例えば、基体３２上の左側の表示領域３
２ａに対して組成物を塗布する場合は、ガイドレール１
１１３を介してヘッドＨを図中左側に移動させるととも
に、ガイドレール１１１６を介して基体３２を図中上側
に移動させ、基体３２を走査させながら塗布を行う。次
に、ヘッド１２１を図中右側に移動させて基体の中央の
表示領域３２ａに対して組成物を塗布する。右端にある
表示領域３２ａに対しても前記と同様である。尚、ヘッ
ドユニット１２０及び図３９に示す液滴吐出装置は、正
孔注入／輸送層形成工程のみならず、発光層形成工程に
も用いることができる。

【０２１６】図４０には、基体３２に対してインクジェ
ットヘッド１２１を走査させた状態を示す。図４０に示
すように、インクジェットヘッド１２１は、図中Ｘ方向
に沿う方向に相対的に移動しながら第１組成物を吐出す
るが、その際、ノズルｎの配列方向Ｚが、主走査方向
（Ｘ方向に沿う方向）に対して傾斜した状態になってい
る。このように、インクジェットヘッド１２１における
ノズルｎの配列方向を主走査方向に対して傾けて配置す
ることにより、ノズルピッチを画素領域Ａのピッチに対
応させることができる。また、傾き角度調整することに
より、どのような画素領域Ａのピッチに対しても対応さ
せることができる。

【０２１７】次に、インクジェットヘッド１２１を走査
して各画素領域Ａ…に正孔注入／輸送層１１０ａを形成
する工程について説明する。この工程には、（１）イン
クジェットヘッド１２１の走査を１回で行う方法、
（２）インクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行
い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法、
（３）インクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行
い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法、の３つの
工程がある。以下、（１）〜（３）の方法を順次説明す
る。

【０２１８】（１）インクジェットヘッド１２１の走査
を１回で行う方法 図４１は、インクジェットヘッド１２１の１回の走査で
各画素領域Ａ1…に正孔注入／輸送層１１０ａを形成す
る場合の工程を示す工程図である。図４１（ａ）は、イ
ンクジェットヘッド１２１が図４０における位置から図
示Ｘ方向に沿って走査した後の状態を示し、図４１
（ｂ）は図４１（ａ）に示す状態からインクジェットヘ
ッド１２１が僅かに図示Ｘ方向に走査するとともに、図
示Ｙ方向の反対方向にシフトした状態を示し、図４１
（ｃ）は図４１（ｂ）に示す状態からインクジェットヘ
ッド１２１が僅かに図示Ｘ方向に走査するとともに、図
示Ｙ方向にシフトした状態を示している。また図４４に
は画素領域Ａ及びインクジェットヘッドの断面模式図を
示している。図４１には、インクジェットヘッド１２１
の一部に設けられた符号ｎ1a〜ｎ3bで表される６つのノ
ズルが図示されている。６つのノズルのうちのノズルｎ
1a、ｎ2a、ｎ3aの３つは、インクジェットヘッド１２１
が図示Ｘ方向に移動した場合に各画素領域Ａ1〜Ａ3上に
それぞれ位置するように配置されており、残りの３つの
ノズルｎ1b、ｎ2b、ｎ3bは、インクジェットヘッド１２
１が図示Ｘ方向に移動した場合に隣接する画素領域Ａ1
〜Ａ3の間に位置するように配置されている。

【０２１９】図４１（ａ）では、インクジェットヘッド
１２１に形成された各ノズルのうち、３つのノズルｎ1a
〜ｎ3aから正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物
を画素領域Ａ1〜Ａ3に吐出する。尚、本実施形態ではイ
ンクジェットヘッド１２１を走査することにより第１組
成物を吐出するが、基体３２を走査することによっても
可能である。更に、インクジェットヘッド１２１と基体
３２とを相対的に移動させることによっても第１組成物
を吐出させることができる。なお、これ以降の液滴吐出
ヘッドを用いて行う工程では上記の点は同様である。

【０２２０】インクジェットヘッド１２１による吐出は
以下の通りである。すなわち、図４１（ａ）及び図４４
に示すように、インクジェットヘッド１２１に形成され
てなるノズルｎ1a〜ｎ3aを電極面１１１ａに対向して配
置し、ノズルｎ1a〜ｎ3aから最初の第１組成物の液滴１
１０ｃ1を吐出する。画素領域Ａ1〜Ａ3は、画素電極１
１１と当該画素電極１１１の周囲を区画するバンク１１
２から形成されており、これらの画素領域Ａ1〜Ａ3に対
し、ノズルｎ1a〜ｎ3aから１滴当たりの液量が制御され
た最初の第１組成物の液滴１１０ｃ1を吐出する。

【０２２１】次に図４１（ｂ）に示すように、インクジ
ェットヘッド１２１を図示Ｘ方向に僅かに走査させると
ともに、図示Ｙ方向の反対方向にシフトさせることによ
ってノズルｎ1b〜ｎ3bを各画素領域Ａ1〜Ａ3上に位置さ
せる。そして、各ノズルｎ1b〜ｎ3bから第１組成物の２
滴目の液滴１１０ｃ2を画素領域Ａ1〜Ａ3に向けて吐出
する。

【０２２２】更に図４１（ｃ）に示すように、インクジ
ェットヘッド１２１を図示Ｘ方向に僅かに走査させると
ともに、図示Ｙ方向にシフトさせることによってノズル
ｎ1a〜ｎ3aを再び各画素領域Ａ1〜Ａ3上に位置させる。
そして、各ノズルｎ1a〜ｎ3aから第１組成物の３滴目の
液滴１１０ｃ3を画素領域Ａ1〜Ａ3に向けて吐出する。

【０２２３】このようにして、インクジェットヘッド１
２１を図示Ｘ方向に沿って走査させつつ、図示Ｙ方向に
沿って僅かにシフトさせることにより、一の画素領域Ａ
に対して２つのノズルから第１組成物の液滴を順次吐出
する。一の画素領域Ａに対して吐出する液滴の数は、例
えば６〜２０滴の範囲とすることができるが、この範囲
は画素の面積によって代わるものであり、この範囲より
多くても少なくても構わない。各画素領域（電極面１１
１ａ上）に吐出する第１組成物の全量は、下部、上部開
口部１１２ｃ、１１２ｄの大きさ、形成しようとする正
孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送
層形成材料の濃度等により決定される。

【０２２４】このように、１回の走査で正孔注入／輸送
層を形成する場合において、第１組成物の吐出のたびに
ノズルの切替えを行い、各画素領域Ａ1〜Ａ3に対して各
々２つのノズルから第１組成物を吐出するので、従来の
ように、１の画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回
吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキ
が相殺されるので、各画素電極１１１…における第１組
成物の吐出量のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送
層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画
素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れ
た表示装置を製造することができる。

【０２２５】（２）インクジェットヘッド１２１の走査
を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを
用いる方法 図４２は、インクジェットヘッド１２１の３回の走査で
各画素領域Ａ1…に正孔注入／輸送層１１０ａを形成す
る場合の工程を示す工程図である。図４２（ａ）は、イ
ンクジェットヘッド１２１による１回目の走査後の状態
を示し、図４２（ｂ）は２回目の走査後の状態を示し、
図４２（ｃ）は３回目の走査後の状態を示す。

【０２２６】１回目の走査では、図４１に示したインク
ジェットヘッド１２１の各ノズルのうち、ノズルｎ1a〜
ｎ3aを各画素領域Ａ1〜Ａ3に対向させて第１組成物の最
初の液滴１１０ｃ1を吐出し、更にインクジェットヘッ
ド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ1b
〜ｎ3bを各画素領域Ａ1〜Ａ3に対向させて第１組成物の
２滴目の液滴１１０ｃ2を吐出する。これにより、図４
２（ａ）に示すように、各画素領域Ａ1〜Ａ3に２つの液
滴１１０ｃ1，１１０ｃ2が吐出される。各液滴１１０ｃ
1，１１０ｃ2は、図４２（ａ）に示すように相互に間隔
を空けて吐出してもよく、重ねて吐出してもよい。

【０２２７】次に２回目の走査では、１回目の場合と同
様に、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域Ａ1〜Ａ3に対向さ
せて第１組成物の３滴目の液滴１１０ｃ3を吐出し、更
にインクジェットヘッド１２１を副走査方向に僅かにシ
フトさせてノズルｎ1b〜ｎ3bから第１組成物の４滴目の
液滴１１０ｃ4を吐出する。これにより図４２（ｂ）に
示すように、各画素領域Ａ1〜Ａ3に更に２つの液滴１１
０ｃ3，１１０ｃ4が吐出される。尚、３滴目及び４滴目
の液滴１１０ｃ3，１１０ｃ4は、図４２（ｂ）に示すよ
うに、１滴目及び２滴目の液滴１１０ｃ1，１１０ｃ2と
重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良
い。

【０２２８】更に３回目の走査では、１、２回目の場合
と同様に、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域Ａ1〜Ａ3に対
向させて第１組成物の５滴目の液滴１１０ｃ5を吐出
し、更にインクジェットヘッド１２１を副走査方向に僅
かにシフトさせてノズルｎ1b〜ｎ3bから第１組成物の６
滴目の液滴１１０ｃ6を吐出する。これにより図４２
（ｃ）に示すように、各画素領域Ａ1〜Ａ3に更に２つの
液滴１１０ｃ5，１１０ｃ6が吐出される。尚、５滴目及
び６滴目の液滴１１０ｃ5，１１０ｃ6は、図４２（ｃ）
に示すように、他の液滴１１０ｃ1〜１１０ｃ4と重なら
ないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。

【０２２９】このように、複数回の走査で正孔注入／輸
送層を形成する場合において、各走査中にノズルの切替
えを行い、各画素領域Ａ1〜Ａ3に対して各々２つのノズ
ルから第１組成物を吐出するので、従来のように、１の
画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回吐出する場合
と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺される
ので、各画素電極１１１…における第１組成物の吐出量
のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送層を同じ膜厚
で形成することができる。これにより、画素毎の発光量
を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を
製造することができる。

【０２３０】（３）インクジェットヘッド１２１の走査
を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方
法 図４３は、インクジェットヘッド１２１の２回の走査で
各画素領域Ａ1…に正孔注入／輸送層１１０ａを形成す
る場合の工程を示す工程図である。図４３（ａ）は、イ
ンクジェットヘッド１２１による１回目の走査後の状態
を示し、図４３（ｂ）は２回目の走査後の状態を示す。
更に図４３（ｃ）は１、２回目の走査後の別の状態を示
す。

【０２３１】１回目の走査では、図４１に示したインク
ジェットヘッド１２１の各ノズルのうち、ノズルｎ1a〜
ｎ3aを各画素領域Ａ1〜Ａ3に対向させて第１組成物の最
初の液滴１１０ｃ1、２、３滴目の液滴１１０ｃ2、１１
０ｃ3を順次吐出する。これにより、図４１（ａ）に示
すように、各画素領域Ａ1〜Ａ3に３つの液滴１１０ｃ
1，１１０ｃ2、１１０ｃ3が吐出される。各液滴１１０
ｃ1，１１０ｃ2、１１０ｃ3は、図４１（ａ）に示すよ
うに相互に間隔を空けて吐出してもよく、相互に重ねて
吐出してもよい。

【０２３２】次に２回目の走査では、インクジェットヘ
ッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ
1b〜ｎ3b各画素領域Ａ1〜Ａ3に対向させて第１組成物の
４、５，６滴目の液滴１１０ｃ4、１１０ｃ5、１１０ｃ
6を順次吐出する。これにより図４３（ｂ）に示すよう
に、各画素領域Ａ1〜Ａ3に更に３つの液滴１１０ｃ4，
１１０ｃ5，１１０ｃ6が吐出される。尚、４〜６滴目の
液滴１１０ｃ4，１１０ｃ5、１１０ｃ6は、図４３
（ｂ）に示すように、１〜３滴目の液滴１１０ｃ1〜１
１０ｃ3の間をうめるように吐出しても良く、１〜３滴
目の液滴１１０ｃ1〜１１０ｃ3に重ねて吐出しても良
い。

【０２３３】更に図４３（ｃ）は１、２回目の走査後の
別の状態を示す。図４３（ｃ）においては、走査回数を
２回とし、１回目の走査で１〜３滴目の液滴を吐出し、
２回目の走査でインクジェットヘッド１２１をシフトさ
せて別のノズルから４〜６滴目の液滴を吐出する点につ
いては、図４３（ａ）及び（ｂ）の場合と同様である。
図４３（ａ）及び（ｂ）との相違点は、各液滴の吐出位
置が異なることである。即ち図４３（ｃ）では、１回目
の走査により各画素領域Ａ1〜Ａ3の図中下半分の領域に
液滴１１０ｃ1〜１１０ｃ3を吐出し、２回目の走査によ
り各画素領域Ａ1〜Ａ3の図中上半分の領域に液滴１１０
ｃ4〜１１０ｃ6を吐出している。

【０２３４】尚、図４２及び図４３においては、一の画
素領域Ａに対して吐出する液滴の数をそれぞれ６滴とし
たが、６〜２０滴の範囲としてもよく、またこの範囲は
画素の面積によって代わるものであるから、この範囲よ
り多くても少なくても構わない。各画素領域（電極面１
１１ａ上）に吐出する第１組成物の全量は、下部、上部
開口部１１２ｃ、１１２ｄの大きさ、形成しようとする
正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸
送層形成材料の濃度等により決定される。

【０２３５】このように、複数回の走査で正孔注入／輸
送層を形成する場合において、各走査毎にノズルの切替
えを行い、各画素領域Ａ1〜Ａ3に対して各々２つのノズ
ルから第１組成物を吐出するので、従来のように、１つ
の画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回吐出する場
合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺され
るので、各画素電極１１１…における第１組成物の吐出
量のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送層を同じ膜
厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光
量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置
を製造することができる。尚、インクジェットヘッド１
２１の走査を複数回行う際には、インクジェットヘッド
１２１の走査方向を各回毎に同一の方向としても良く、
反対方向としても良い。

【０２３６】図４４に示すように、インクジェットヘッ
ド１２１から吐出された第１組成物の液滴１１０ｃは、
最終的には親液処理された電極面１１１ａ及び第１積層
部１１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部１１２ｃ、１
１２ｄ内に充填される。仮に、第１組成物の液滴１１０
ｃが所定の吐出位置からはずれて上面１１２ｆ上に吐出
されたとしても、上面１１２ｆが第１組成物滴１１０ｃ
で濡れることがなく、はじかれた第１組成物滴１１０ｃ
が下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に滑り込む。

【０２３７】ここで用いる第１組成物としては、例え
ば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリ
チオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の
混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることが
できる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアル
コール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクト
ン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−
２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト
−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグ
リコールエーテル類等を挙げることができる。より具体
的な第１組成物の組成としては、PEDOT/PSS混合物(PEDO
T/PSS=1:20)：２２．４重量％、PSS：１．４４重量％、
IPA：１０重量％、NMP：２７．０重量％、DMI：５０重
量％のものを例示できる。尚、第１組成物の粘度は２〜
２０Ｐｓ程度が好ましく、特に４〜１２ｃＰｓ程度が良
い。

【０２３８】上記の第１組成物を用いることにより、吐
出ノズルＨ2に詰まりが生じることがなく安定吐出でき
る。なお、正孔注入／輸送層形成材料は、赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の各発光層１１０ｂ1〜１１０ｂ3に対
して同じ材料を用いても良く、各発光層毎に変えても良
い。

【０２３９】次に、図４５に示すような乾燥工程を行
う。乾燥工程を行う事により、吐出後の第１組成物を乾
燥処理し、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、
正孔注入／輸送層１１０ａを形成する。乾燥処理を行う
と、第１組成物滴１１０ｃに含まれる極性溶媒の蒸発
が、主に無機物バンク層１１２ａ及び有機物バンク層１
１２ｂに近いところで起き、極性溶媒の蒸発に併せて正
孔注入／輸送層形成材料が濃縮されて析出する。

【０２４０】これにより図４５に示すように、第１積層
部１１２ｅ上に、正孔注入／輸送層形成材料からなる周
縁部１１０ａ2が形成される。この周縁部１１０ａ2は、
上部開口部１１２ｄの壁面（有機物バンク層１１２ｂ）
に密着しており、その厚さが電極面１１１ａに近い側で
は薄く、電極面１１１ａから離れた側、即ち有機物バン
ク層１１２ｂに近い側で厚くなっている。

【０２４１】また、これと同時に、乾燥処理によって電
極面１１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、これにより
電極面１１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材料からなる
平坦部１１０ａ1が形成される。電極面１１１ａ上では
極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正孔注入／
輸送層の形成材料が電極面１１１ａ上で均一に濃縮さ
れ、これにより均一な厚さの平坦部１１０ａが形成され
る。このようにして、周縁部１１０ａ2及び平坦部１１
０ａ1からなる正孔注入／輸送層１１０ａが形成され
る。なお、周縁部１１０ａ2には形成されず、電極面１
１１ａ上のみに正孔注入／輸送層が形成される形態であ
っても構わない。

【０２４２】上記の乾燥処理は、例えば窒素雰囲気中、
室温で圧力を例えば１３３．３〜１３．３Ｐａ（１〜
０．１Ｔｏｒｒ）程度にして行う。急激に圧力を低下さ
せると第１組成物滴１１０ｃが突沸してしまうので好ま
しくない。また、温度を高温にしてしまうと、極性溶媒
の蒸発速度が高まり、平坦な膜を形成する事ができな
い。したがって、３０℃〜８０℃の範囲が好ましい。乾
燥処理後は、窒素中、好ましくは真空中で２００℃で１
０分程度加熱する熱処理を行うことで、正孔注入／輸送
層１１０ａ内に残存する極性溶媒や水を除去することが
好ましい。

【０２４３】上記の正孔注入／輸送層形成工程では、吐
出された第１組成物滴１１０ｃが、下部、上部開口部１
１２ｃ、１１２ｄ内に満たされる一方で、撥液処理され
た有機物バンク層１１２ｂで第１組成物がはじかれて下
部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に転がり込む。こ
れにより、吐出した第１組成物滴１１０ｃを必ず下部、
上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に充填することがで
き、電極面１１１ａ上に正孔注入／輸送層１１０ａを形
成することができる。

【０２４４】また、上記の正孔注入／輸送層形成工程に
よれば、各画素領域Ａごとに最初に吐出する第１組成物
の液滴１１０ｃ1を有機物バンク層１１２ｂの壁面１１
２ｈに接触させるので、この液滴が壁面１１２ｈから第
１積層部１１２ｅ及び電極面１１１ａに転がり込むた
め、第１組成物の液滴１１０ｃを画素電極１１１の周囲
に優先的に濡れ広げて第１組成物をむらなく塗布するこ
とができ、これにより正孔注入輸送層１１０ａをほぼ均
一な膜厚で形成できる。

【０２４５】(4)発光層形成工程次に発光層形成工程
は、表面改質工程、発光層形成材料吐出工程、および乾
燥工程、とからなる。まず、正孔注入/輸送層１１０ａ
の表面を表面改質するために表面改質工程を行う。この
工程については、以下に詳述する。次に、前述の正孔注
入/輸送層形成工程と同様、液滴吐出法により第２組成
物を正孔注入／輸送層１１０ａ上に吐出する。その後、
吐出した第２組成物を乾燥処理（及び熱処理）して、正
孔注入／輸送層１１０ａ上に発光層１１０ｂを形成す
る。

【０２４６】次に発光層形成工程として、液滴吐出法に
より、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸
送層１１０ａ上に吐出した後に乾燥処理して、正孔注入
／輸送層１１０ａ上に発光層１１０ｂを形成する。図４
６に、液滴吐出方法の概略を示す。図４６に示すよう
に、インクジェットヘッド４３１と基体３２とを相対的
に移動し、インクジェットヘッドに形成された吐出ノズ
ルから各色（たとえばここでは青色（Ｂ））発光層形成
材料を含有する第２組成物が吐出される。吐出の際に
は、下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に位置する
正孔注入／輸送層１１０ａに吐出ノズルを対向させ、イ
ンクジェットヘッド１２１と基体３２とを相対移動させ
ながら、第２組成物が吐出される。吐出ノズルから吐出
される液量は１滴当たりの液量が制御されている。この
ように液量が制御された液（第２組成物滴１１０ｅ）が
吐出ノズルから吐出され、この第２組成物滴１１０ｅを
正孔注入／輸送層１１０ａ上に吐出する。

【０２４７】発光層形成工程は、正孔注入／輸送層形成
工程と同様に、１つの画素領域に対して複数のノズルに
より第２組成物の吐出を行う。即ち、図４１、図４２及
び図４３に示した場合と同様に、インクジェットヘッド
１２１を走査して各正孔注入／輸送層１１０ａ上に発光
層１１０ｂを形成する。この工程には、（４）インクジ
ェットヘッド１２１の走査を１回で行う方法、（５）イ
ンクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行い、かつ
各走査中において複数のノズルを用いる方法、（６）イ
ンクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行い、かつ
各走査毎に別のノズルを用いる方法、の３つの工程があ
る。以下、（４）〜（６）の方法を簡略に説明する。

【０２４８】（４）インクジェットヘッド１２１の走査
を１回で行う方法 この方法では、図４１の場合と同様に、インクジェット
ヘッド１２１の１回の走査で画素領域（正孔注入／輸送
層１１０ａ上）に発光層を形成する。即ち、図４１
（ａ）と同様に、インクジェットヘッド１２１のノズル
ｎ1a〜ｎ3aを各正孔注入／輸送層１１０ａに対向して配
置し、ノズルｎ1a〜ｎ3aから最初の第２組成物の液滴を
吐出する。次に図４１（ｂ）と同様に、インクジェット
ヘッド１２１を主走査方向に僅かに走査させるととも
に、副走査方向の反対方向にシフトさせることによって
ノズルｎ1b〜ｎ3bを各正孔注入／輸送層１１０ａ上に位
置させ、各ノズルｎ1b〜ｎ3bから第２組成物の２滴目の
液滴を吐出する。更に図４１（ｃ）と同様に、液滴吐出
ヘッドＨ5を主走査方向に僅かに走査させるとともに、
副走査方向にシフトさせることによってノズルｎ1a〜ｎ
3aを再び各正孔注入／輸送層１１０ａ上に位置させ、各
ノズルｎ1a〜ｎ3aから第２組成物の３滴目の液滴を各正
孔注入／輸送層１１０ａに向けて吐出する。

【０２４９】このようにして、インクジェットヘッド１
２１を主走査方向に沿って走査させつつ、副走査方向に
沿って僅かにシフトさせることにより、一の画素領域Ａ
（正孔注入／輸送層１１０ａ）に対して２つのノズルか
ら第２組成物の液滴を順次吐出する。一の画素領域に対
して吐出する液滴の数は、例えば６〜２０滴の範囲とす
ることができるが、この範囲は画素の面積によって代わ
るものであり、この範囲より多くても少なくても構わな
い。各画素領域（正孔注入／輸送層１１０ａ）に吐出す
る第２組成物の全量は、下部、上部開口部１１２ｃ、１
１２ｄの大きさ、形成しようとする発光層の厚さ、第２
組成物中の発光層形成材料の濃度等により決定される。

【０２５０】このように、１回の走査で発光層を形成す
る場合において、第２組成物の吐出のたびにノズルの切
替えを行い、画素領域に対して２つのノズルから第２組
成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域に対
して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノ
ズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素領
域における第２組成物の吐出量のバラツキが小さくな
り、発光層を同じ膜厚で形成することができる。これに
より、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品
質に優れた表示装置を製造することができる。

【０２５１】（５）インクジェットヘッド１２１の走査
を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを
用いる方法 この方法では、まず図４２（ａ）と同様に、１回目の走
査として、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域に対向させて
第２組成物の最初の液滴を吐出し、更にインクジェット
ヘッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズル
ｎ1b〜ｎ3bを各画素領域に対向させて第２組成物の２滴
目の液滴を吐出する。これにより、図４２（ａ）と同様
に、各画素領域に２つの液滴が吐出される。各液滴は、
図４２（ａ）と同様に相互に間隔を空けて吐出してもよ
く、重ねて吐出してもよい。

【０２５２】次に２回目の走査では、１回目の場合と同
様に、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域に対向させて第２
組成物の３滴目の液滴を吐出し、更にインクジェットヘ
ッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ
1b〜ｎ3bから第２組成物の４滴目の液滴を吐出する。こ
れにより図４２（ｂ）と同様に、各画素領域に更に２つ
の液滴が吐出される。尚、３滴目及び４滴目の液滴は、
１滴目及び２滴目の液滴と重ならないように吐出しても
良く、重ねて吐出しても良い。

【０２５３】更に３回目の走査では、１、２回目の場合
と同様に、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域に対向させて
第２組成物の５滴目の液滴を吐出し、更にインクジェッ
トヘッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズ
ルｎ1b〜ｎ3bから第２組成物の６滴目の液滴を吐出す
る。これにより図４２（ｃ）と同様に、各画素領域に更
に２つの液滴が吐出される。尚、５滴目及び６滴目の液
滴は、他の液滴と重ならないように吐出しても良く、重
ねて吐出しても良い。

【０２５４】このように、複数回の走査で発光層を形成
する場合において、各走査中にノズルの切替えを行い、
各画素領域に対して各々２つのノズルから第２組成物を
吐出するので、従来のように、１の画素領域に対して１
つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間
の吐出量のバラツキが相殺されるので、第２組成物の吐
出量のバラツキが小さくなり、発光層を同じ膜厚で形成
することができる。これにより、画素毎の発光量を一定
に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造す
ることができる。

【０２５５】（６）インクジェットヘッド１２１の走査
を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方
法 この方法では、まず図４３（ａ）と同様に、１回目の走
査において、インクジェットヘッド１２１のノズルｎ1a
〜ｎ3aを各画素領域に対向させて第２組成物の最初の液
滴及び２、３滴目の液滴を順次吐出する。これにより、
図４３（ａ）と同様に、各画素領域に３つの液滴が吐出
される。各液滴は、図４３（ａ）と同様に相互に間隔を
空けて吐出してもよく、相互に重ねて吐出してもよい。

【０２５６】次に２回目の走査では、インクジェットヘ
ッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ
1b〜ｎ3b各画素領域に対向させて第２組成物の４、５，
６滴目の液滴を順次吐出する。これにより図４３（ｂ）
と同様に、各画素領域に更に３つの液滴が吐出される。
尚、４〜６滴目の液滴は、１〜３滴目の液滴の間をうめ
るように吐出しても良く、１〜３滴目の液滴に重ねて吐
出しても良い。

【０２５７】更に別の方法として、図４３（ｃ）と同様
に、１回目の走査により各画素領域の半分の領域に液滴
を吐出し、２回目の走査により各画素領域のもう半分の
領域に液滴を吐出してもよい。尚、１つの画素領域に対
して吐出する第２組成物の液滴の数をそれぞれ６滴とし
たが、６〜２０滴の範囲としてもよく、またこの範囲は
画素の面積によって代わるものであるから、この範囲よ
り多くても少なくても構わない。各画素領域（正孔注入
／輸送層１１０ａ）に吐出する第２組成物の全量は、下
部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄの大きさ、形成しよ
うとする発光層の厚さ、第２組成物中の発光層形成材料
の濃度等により決定される。

【０２５８】このように、複数回の走査で発光層を形成
する場合において、各走査毎にノズルの切替えを行い、
各画素領域に対して各々２つのノズルから第２組成物を
吐出するので、従来のように、１の画素領域に対して１
つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間
の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素領域にお
ける第２組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、発光
層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画
素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れ
た表示装置を製造することができる。尚、インクジェッ
トヘッド１２１の走査を複数回行う際には、正孔注入／
輸送層形成工程と同様に、インクジェットヘッド１２１
の走査方向を各回毎に同一の方向としても良く、反対方
向としても良い。

【０２５９】また、発光層１１０ｂの材料としては、例
えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、
ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、また
はこれらの高分子材料にペリレン系色素、クマリン系色
素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、
９，１０-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブ
タジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等
をドープして用いることができる。非極性溶媒として
は、正孔注入／輸送層１１０ａに対して不溶なものが好
ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロ
ベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベン
ゼン等を用いることができる。このような非極性溶媒を
発光層１１０ｂの第２組成物に用いることにより、正孔
注入／輸送層１１０ａを再溶解させることなく第２組成
物を塗布できる。

【０２６０】図４６に示すように、吐出された第２組成
物１１０ｅは、正孔注入／輸送層１１０ａ上に広がって
下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に満たされる。
その一方で、撥液処理された上面１１２ｆでは第１組成
物滴１１０ｅが所定の吐出位置からはずれて上面１１２
ｆ上に吐出されたとしても、上面１１２ｆが第２組成物
滴１１０ｅで濡れることがなく、第２組成物滴１１０ｅ
が下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に転がり込
む。

【０２６１】次に、第２の組成物を所定の位置に吐出し
終わった後、吐出後の第２組成物滴１１０ｅを乾燥処理
することにより発光層１１０ｂ３が形成される。すなわ
ち、乾燥により第２組成物に含まれる非極性溶媒が蒸発
し、図４７に示すような青色（Ｂ）発光層１１０ｂ3が
形成される。なお、図４７においては青に発光する発光
層が１つのみ図示されているが、図３０やその他の図よ
り明らかなように本来は発光素子がマトリックス状に形
成されたものであり、図示しない多数の発光層（青色に
対応）が形成されている。

【０２６２】続けて、図４８に示すように、前述した青
色（Ｂ）発光層１１０ｂ3の場合と同様の工程を用い、
赤色（Ｒ）発光層１１０ｂ1を形成し、最後に緑色
（Ｇ）発光層１１０ｂ2を形成する。なお、発光層１１
０ｂの形成順序は、前述の順序に限られるものではな
く、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層
形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能であ
る。

【０２６３】また、発光層の第２組成物の乾燥条件は、
青色１１０ｂ3の場合、例えば、窒素雰囲気中、室温で
圧力を１３３．３〜１３．３Ｐａ（１〜０．１Ｔｏｒ
ｒ）程度として５〜１０分行う条件とする。圧力が低す
ぎると第２組成物が突沸してしまうので好ましくない。
また、温度を高温にすると、非極性溶媒の蒸発速度が高
まり、発光層形成材料が上部開口部１１２ｄ壁面に多く
付着してしまうので好ましくない。好ましくは、３０℃
〜８０℃の範囲が良い。

【０２６４】また緑色発光層１１０ｂ2、および赤色発
光層ｂ１の場合、発光層形成材料の成分数が多いために
素早く乾燥させることが好ましく、例えば、４０℃で窒
素の吹き付けを５〜１０分行う条件とするのがよい。そ
の他の乾燥の手段としては、遠赤外線照射法、高温窒素
ガス吹付法等を例示できる。このようにして、画素電極
１１１上に正孔注入／輸送層１１０ａ及び発光層１１０
ｂが形成される。

【０２６５】(5)対向電極（陰極）形成工程 次に対向電極形成工程では、図４９に示すように、発光
層１１０ｂ及び有機物バンク層１１２ｂの全面に陰極４
２（対向電極）を形成する。なお，陰極４２は複数の材
料を積層して形成しても良い。例えば、発光層に近い側
には仕事関数が小さい材料を形成することが好ましく、
例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが可能であり、また材
料によっては下層にＬｉＦ等を薄く形成した方が良い場
合もある。また、上部側（封止側）には下部側よりも仕
事関数が高い材料、例えばＡｌを用いる事もできる。こ
れらの陰極４２は、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ
法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成する
ことが、熱による発光層１１０ｂの損傷を防止できる点
で好ましい。

【０２６６】また、フッ化リチウムは、発光層１１０ｂ
上のみに形成しても良く、更に所定の色に対応して形成
する事ができる。例えば、青色（Ｂ）発光層１１０ｂ3
上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）発
光層及び緑色（Ｇ）発光層１１０ｂ1、１１０ｂ2には、
カルシウムからなる上部陰極層１２ｂが接することとな
る。

【０２６７】また陰極４２の上部には、蒸着法、スパッ
タ法、ＣＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用
いることが好ましい。また、その厚さは、例えば１００
〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、特に２００〜５００
ｎｍ程度がよい。また陰極４２上に、酸化防止のために
ＳｉＯ_２、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。

【０２６８】(6)封止工程 最後に封止工程は、発光素子が形成された基体３２と封
止基板３ｂとを封止樹脂３ａにより封止する工程であ
る。たとえば、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からな
る封止樹脂３ａを基体３２の全面に塗布し、封止樹脂３
ａ上に封止用基板３ｂを積層する。この工程により基体
３２上に封止部３３を形成する。

【０２６９】封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等
の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行
うと、陰極４２にピンホール等の欠陥が生じていた場合
にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極４２に侵入して陰
極４２が酸化されるおそれがあるので好ましくない。更
に、図３０に例示した基板５の配線３５ａに陰極４２を
接続するとともに、駆動ＩＣ３６に回路素子部４４の配
線を接続することにより、本実施形態の表示装置３１が
得られる。

【０２７０】この実施の形態においても、上述した各実
施の形態と同様のインクジェット方式を実施することに
より、同様の作用効果を享受できる。さらに、機能性液
状体を選択的に塗布する際に、１つの機能層に対して複
数のノズルを用いて液状体の吐出するのて、ノズル間の
吐出量のばらつきが相殺され、各電極間における創成物
量のばらつきが小さくなり、各機能層の膜厚を揃えるこ
とができる。これにより、画素毎の発光量が均一化され
た表示品質に優れる表示装置を製造することができる。

【０２７１】（その他の実施の形態）以上、好ましい実
施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実
施の形態に限定されるものではなく、以下に示すような
変形をも含み、本発明の目的を達成できる範囲で、他の
いずれの具体的な構造および形状に設定できる。

【０２７２】すなわち、例えば、インクジェットヘッド
４２１を主走査方向Ｘへ移動させてマザー基板１２を主
走査し、マザー基板１２を副走査駆動装置４２５によっ
て移動させることにより、インクジェットヘッド４２１
によってマザー基板１２を副走査することにしたが、こ
れとは逆に、マザー基板１２の移動によって主走査を実
行し、インクジェットヘッド４２１の移動によって副走
査を実行することもできる。さらには、インクジェット
ヘッド４２１を移動させずにマザー基板１２を移動させ
たり、双方を相対的に逆方向に移動させるなど、少なく
ともいずれか一方を相対的に移動させ、インクジェット
ヘッド４２１がマザー基板１２の表面に沿って相対的に
移動するいずれの構成とすることができる。

【０２７３】また、上記実施の形態では、圧電素子４５
２の撓み変形を利用してインクであるフィルタエレメン
ト材料１３を吐出する構造のインクジェットヘッド４２
１を用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘッ
ド、例えば加熱により発生するバブルによりインクを吐
出する方式のインクジェットヘッドなどを用いることも
できる。

【０２７４】さらに、図１ないし図１３に示す実施の形
態において、インクジェットヘッド４２１として、ノズ
ル４６６を略等間隔で略直線上でかつ２列設けて説明し
たが、２列に限らず、複数条とすることができる。ま
た、等間隔でなくてもよく、直線上に列をなして配設し
なくてもよい。

【０２７５】そして、液滴吐出装置１６，４０１が製造
に使用されるのは、カラーフィルタ１や液晶装置、ＥＬ
装置、ＦＥＤ（Field Emission Display:フィールドエ
ミッションディスプレイ）、ＰＤＰ（Plasma Display P
anel:プラズマディスプレイパネル）、電気泳動装置す
なわち荷電粒子を含有する機能性液状体であるインクを
各画素の隔壁間の凹部に吐出し、各画素を上下に挟持す
るように配設される電極間に電圧を印加して荷電粒子を
一方の電極側に寄せて各画素での表示をする装置、薄型
のブラウン管、ＣＲＴ（Cathode-Ray Tube:陰極線管）
ディスプレイなど、基板（基材）を有し、その上方の領
域に所定の層を形成する工程を有する様々な電気光学装
置に用いることができる。

【０２７６】本発明の装置や方法は、電気光学装置を含
む基板（基材）を有するデバイスであって、その基材に
液滴を吐出する工程を用いることができる各種デバイス
の製造工程において用いることができる。例えば、プリ
ント回路基板の電気配線を形成するために、液状金属や
導電性材料、金属含有塗料などをインクジェット方式に
て吐出して金属配線などとする構成、燃料電池を構成す
る電極やイオン伝導膜等をインクジェット方式にて吐出
して形成する構成、基材上に形成される微細なマイクロ
レンズをインクジェット方式による吐出にて光学部材を
形成する構成、基板上に塗布するレジストを必要な部分
だけに塗布するようにインクジェット方式にて吐出する
構成、プラスチックなどの透光性基板などに光を散乱さ
せる凸部や微小白パターンなどをインクジェット方式に
て吐出形成して光散乱板を形成する構成、試薬検査装置
などのように、ＤＮＡ（deoxyribonucleic acid:デオキ
シリボ核酸）チップ上にマトリクス配列するスパイクス
ポットにＲＮＡ（ribonucleic acid:リボ核酸）をイン
クジェット方式にて吐出させて蛍光標識プローブを作製
してＤＮＡチップ上でハイブリタゼーションさせるな
ど、基材に区画されたドット状の位置に、試料や抗体、
ＤＮＡ（deoxyribonucleic acid:デオキシリボ核酸）な
どをインクジェット方式にて吐出させてバイオチップを
形成する構成などにも利用できる。

【０２７７】また、液晶装置としても、ＴＦＴなどのト
ランジスタやＴＦＤのアクティブ素子を画素に備えたア
クティブマトリクス液晶パネルなど、画素電極を取り囲
む隔壁６を形成し、この隔壁６にて形成される凹部にイ
ンクをインクジェット方式にて吐出してカラーフィルタ
１を形成するような構成のもの、画素電極上にインクと
して色材および導電材を混合したものをインクジェット
方式にて吐出して、画素電極上に形成するカラーフィル
タ１を導電性カラーフィルタとして形成する構成、基板
間のギャップを保持するためのスペーサの粒をインクジ
ェット方式にて吐出形成する構成など、液晶装置の電気
光学系を構成するいずれの部分にも適用可能である。

【０２７８】さらに、カラーフィルタ１に限られず、液
晶表示装置や（有機）ＥＬ装置など、他のいずれの電気
光学装置に適用でき、ＥＬ装置としても、Ｒ、Ｇ、Ｂの
３色に対応するＥＬが帯状に形成されるストライプ型
や、上述したように、各画素毎に発光層に流す電流を制
御するトランジスタを備えたアクティブマトリックス型
の表示装置、あるいはパッシブマトリックス型に適用す
るものなど、いずれの構成でもできる。

【０２７９】そして、上記各実施の形態の電気光学装置
が組み込まれる電子機器としては、例えば図２７に示す
ようなパーソナルコンピュータ４９０に限らず、図２８
に示すような携帯電話４９１やＰＨＳ（Personal Handy
phone System）などの携帯型電話機、電子手帳、ページ
ャ、ＰＯＳ（Point Of Sales）端末、ＩＣカード、ミニ
ディスクプレーヤ、液晶プロジェクタ、エンジニアリン
グ・ワークステーション（Engineering Work Station:
ＥＷＳ）、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファイン
ダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子
卓上計算機、カーナビゲーション装置、タッチパネルを
備えた装置、時計、ゲーム機器などの様々な電子機器に
適用できる。

【０２８０】また、カラーフィルタ１の隔壁６として透
光性のない樹脂材料を用いる他、透光性の隔壁６として
透光性の樹脂材料を用いることももちろん可能である。
この場合にあっては、フィルタエレメント３間に対応す
る位置、例えば隔壁６の上、隔壁６の下などに別途遮光
性の金属膜あるいは樹脂材料を設けてブラックマスクと
しても良い。また、透光性の樹脂材料で隔壁６を形成
し、ブラックマスクを設けない構成としても良い。な
お、本発明における「隔壁」は「バンク」の意味も含ま
れている言葉として使われ、基板から見てほぼ垂直な角
度の側面や概ね９０度以上や未満の角度を持った側面を
有する基板から見て凸になる部分を指す。

【０２８１】また、フィルタエレメント３としてＲ、
Ｇ、Ｂを用いたが、もちろんＲ、Ｇ、Ｂに限定されるこ
とはなく、例えばＣ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）、Ｙ
（イエロー）を採用してもかまわない。その場合にあっ
ては、Ｒ、Ｇ、Ｂのフィルタエレメント材料１３に代え
て、Ｃ、Ｍ、Ｙの色を有するフィルタエレメント材料１
３を用いればよい。

【０２８２】その他、本発明の実施の際の具体的な構造
および手順は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構
造や手順などとしてもよい。

【０２８３】

【発明の効果】本発明によれば、液滴吐出ヘッドおよび
コネクタを取付基板に取り付けた吐出手段を、複数のグ
ループに分けて配列するとともに、取付基板におけるコ
ネクタの配設された部分が他のグループにおいて配列し
た吐出手段と互いに対向しないように保持手段に配置
し、液滴吐出ヘッドをノズルを有する一面が被吐出物の
表面に沿う状態で相対的に移動させ、ノズルから液状体
を被吐出物上の所定位置に適宜吐出するため、複数の液
滴吐出ヘッドおよび対応するコネクタを別々に配設する
場合に比して容易に組立でき、製造性を向上できる。ま
た、コネクタが取付基板に配設される部分が他のグルー
プの吐出手段と互いに対向することなく配置させるの
で、コネクタが配設された部分が液滴吐出ヘッドに対し
て対向方向と反対側である外側に向く状態となり、コネ
クタへの配線作業が容易で組立作業性を向上できるとと
もに、コネクタが位置する部分での電気ノイズが互いに
影響し合うことを防止でき、安定した良好な液状体の吐
出を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係るカラーフィルタ製造装置の液滴
吐出装置の液滴吐出処理装置を示す一部を切り欠いた斜
視図である。

【図２】 同上液滴吐出処理装置のヘッドユニットを示
す平面図である。

【図３】 同上側面図である。

【図４】 同上正面図である。

【図５】 同上断面図である。

【図６】 同上ヘッド装置を示す分解斜視図である。

【図７】 同上インクジェットヘッドを示す分解斜視図
である。

【図８】 同上インクジェットヘッドのフィルタエレメ
ント材料を吐出する動作を説明する説明図である。

【図９】 同上インクジェットヘッドのフィルタエレメ
ント材料の吐出量を説明する説明図である。

【図１０】 同上インクジェットヘッドの配置状態を説
明する概略図である。

【図１１】 同上インクジェットヘッドの配置状態を説
明する部分的に拡大した概略図である。

【図１２】 同上カラーフィルタの製造装置により製造
されるカラーフィルタを示す模式図であって、（Ａ）は
カラーフィルタの平面図で、（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ線
断面図である。

【図１３】 同上カラーフィルタを製造する手順を説明
する製造工程断面図である。

【図１４】 本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子
を用いた表示装置の一部を示す回路図である。

【図１５】 同上表示装置の画素領域の平面構造を示す
拡大平面図である。

【図１６】 同上表示装置の製造工程の前処理における
手順を示す製造工程断面図である。

【図１７】 同上表示装置の製造工程のＥＬ発光材料の
吐出における手順を示す製造工程断面図である。

【図１８】 同上表示装置の製造工程のＥＬ発光材料の
吐出における手順を示す製造工程断面図である。

【図１９】 本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子
を用いた表示装置の画素領域の平面構造を示す拡大平面
図である。

【図２０】 本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子
を用いた表示装置の画素領域の構造を示す拡大図であ
り、（Ａ）は平面構造で、（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ線断
面図である。

【図２１】 本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子
を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断
面図である。

【図２２】 本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子
を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断
面図である。

【図２３】 本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子
を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断
面図である。

【図２４】 本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子
を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断
面図である。

【図２５】 本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子
を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断
面図である。

【図２６】 本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子
を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断
面図である。

【図２７】 同上電気光学装置を備えた電気機器である
パーソナルコンピュータを示す斜視図である。

【図２８】 同上電気光学装置を備えた電気機器である
携帯電話を示す斜視図である。

【図２９】 従来のカラーフィルタの製造方法の一例を
示す図である。

【図３０】 本発明の電気光学装置の他の形態である表
示装置を示す図であって、（ａ）は表示装置の平面模式
図、（ｂ）は（ａ）のＡＢ線に沿う断面模式図。

【図３１】 同上表示装置の要部を示す図。

【図３２】 同上表示装置の製造方法を説明する工程
図。

【図３３】 同上表示装置の製造方法を説明する工程
図。

【図３４】 同上表示装置の製造に用いるプラズマ処理
装置の一例を示す平面模式図。

【図３５】 図３４に示したプラズマ処理装置の第１プ
ラズマ処理室の内部構造を示す模式図。

【図３６】 同上表示装置の製造方法を説明する工程
図。

【図３７】 同上表示装置の製造方法を説明する工程
図。

【図３８】 同上表示装置の製造に用いるプラズマ処理
装置の別の例を示す平面模式図。

【図３９】 同上表示装置の製造に用いる液滴吐出装置
を示す平面図。

【図４０】 基体に対するインクジェットヘッドの配置
状態を示す平面図。

【図４１】 インクジェットヘッドの１回の走査で正孔
注入／輸送層を形成する場合の工程を示す工程図。

【図４２】 インクジェットヘッドの３回の走査で正孔
注入／輸送層１１０ａを形成する場合の工程を示す工程
図。

【図４３】 インクジェットヘッドの２回の走査で正孔
注入／輸送層１１０ａを形成する場合の工程を示す工程
図。

【図４４】 本発明の電気光学装置の他の形態である表
示装置の製造方法を説明する工程図。

【図４５】 同上表示装置の製造方法を説明する工程
図。

【図４６】 同上表示装置の製造方法を説明する工程
図。

【図４７】 同上表示装置の製造方法を説明する工程
図。

【図４８】 同上表示装置の製造方法を説明する工程
図。

【図４９】 同上表示装置の製造方法を説明する工程
図。

【図５０】 本発明のカラーフィルタの製造装置により
製造されるカラーフィルタを備えた液晶装置の断面構成
図である。

【符号の説明】

１ 電気光学装置としてのカラー液晶パネルを構成す
るカラーフィルタ １２ 被吐出物としての基板（基材）であるマザー基
板 １３ 液状体としてのフィルタエレメント材料 ４０５Ｒ（４０５Ｇ，４０５Ｂ） 吐出装置としての
カラーフィルタの製造装置である液滴吐出処理装置 ４２１ インクジェットヘッド ４２５ 移動手段を構成する主走査駆動手段としての
主走査駆動装置 ４２６ 保持手段としてのキャリッジ ４２７ 移動手段を構成する副走査駆動手段としての
副走査駆動装置 ４３３ 吐出手段としてのヘッド装置 ４３５ 取付基板としてのプリント基板 ４４１ コネクタ ４４２ 電気配線 ４６６ ノズル ４７８ 供給管 ４８３ 給液手段としてのインクユニットを構成する
タンク ５０１ 電気光学装置である表示装置 ５０２ 被吐出物としての基板（基材）である表示基
板 ５４０Ａ，５４０Ｂ 液状体としての光学材料 Ｘ 主走査方向 Ｙ 副走査方向

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｂ 33/10 Ｈ０５Ｂ 33/14 Ａ ４Ｆ０４１ 33/14 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ ４Ｆ０４２ // Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ Ｆターム(参考） 2C056 FA04 FA10 FA15 FB01 HA09 HA10 HA22 2H048 BA64 BB02 BB44 2H091 FA02 FC01 FC29 3K007 AB17 AB18 BA06 BB07 DA05 FA01 4D075 AC07 AC09 AC88 CA47 CB08 DA06 DB13 DB31 DC18 DC21 DC24 EA07 EC07 EC11 EC17 4F041 AA05 AB01 BA13 BA21 4F042 AA06 AA10 BA08 CA01 CB02 (54)【発明の名称】 吐出方法およびその装置、電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、 その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製 造装置

Claims (25)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 流動性を有した液状体を被吐出物上に吐
   出するノズルが設けられた液滴吐出ヘッド、この液滴吐
   出ヘッドが取り付けられた取付基板およびこの取付基板
   に配設されたコネクタを備えた複数の吐出手段と、 前記複数の吐出手段を複数グループに分けて配列させ、
   かつ前記取付基板におけるコネクタの配設された部分が
   他のグループにおいて配列した前記吐出手段と互いに対
   向しないように配置させてなり、前記液滴吐出ヘッドの
   ノズルが設けられた一面が前記被吐出物の表面に間隙を
   介して対向するように前記複数の吐出手段を配置する保
   持手段と、 この保持手段および前記被吐出物のうちの少なくともい
   ずれか一方を前記液滴吐出ヘッドが前記被吐出物の表面
   に沿う状態で相対的に移動させる移動手段とを具備した
   ことを特徴とした吐出装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の吐出装置において、 取付基板は長手状に形成され、 吐出手段は、前記取付基板の長手方向の一端側に液滴吐
   出ヘッドが配設され、前記取付基板の長手方向の他端側
   にコネクタが配設されたことを特徴とした吐出装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の吐出装置にお
   いて、 コネクタの配設された部分が対向しないように配列され
   た吐出手段のグループ同士は略点対称となる状態で当該
   吐出手段が並べて配置されたことを特徴とした吐出装
   置。
4. 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の吐
   出装置において、 液状体を吐出手段に供給する給液手段を具備し、 給液手段は、複数の吐出手段のグループの間の位置から
   各グループにおける各吐出手段に供給管を接続し、この
   供給管を通して各吐出手段に液状体を供給することを特
   徴とした吐出装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の吐出装置において、 給液手段は、液状体を貯留するタンクと、前記液状体を
   流通する供給管と、前記タンク内の液状体を前記供給管
   を通して吐出手段の液滴吐出ヘッドに供給するポンプと
   を備え、 前記供給管は、前記吐出手段の液滴吐出ヘッドに対応し
   て複数設けられ、複数の吐出手段のグループの配置位置
   の間の位置から各吐出手段に配管されたことを特徴とし
   た吐出装置。
6. 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれかに記載の吐
   出装置において、 制御手段から各吐出手段のコネクタに接続される複数の
   電気配線を備え、 これら電気配線は、保持手段の外周側から各吐出手段の
   コネクタに向けてそれぞれ配線されたことを特徴とした
   吐出装置。
7. 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかに記載の吐
   出装置において、 複数の吐出手段は、移動手段によって液滴吐出ヘッドが
   被吐出物の表面に沿って相対的に移動される方向に対し
   て交差する方向に沿って前記液滴吐出ヘッドが複数列に
   並んだ状態に配置されたことを特徴とした吐出装置。
8. 【請求項８】 請求項１ないし７のいずれかに記載の吐
   出装置を備える電気光学装置の製造装置において、 被吐出物はＥＬ発光層が形成される基板であって、複数
   の液滴吐出ヘッドを前記基板に対して相対的に移動させ
   つつ、前記基板上に前記複数の液滴吐出ヘッドにおける
   所定のノズルからＥＬ発光材料を含有する液状体を吐出
   させ、前記基板上に前記ＥＬ発光層を形成することを特
   徴とした電気光学装置の製造装置。
9. 【請求項９】 請求項１ないし７のいずれかに記載の吐
   出装置を備える電気光学装置の製造装置であって、 被吐出物は液晶を挟持する一対の基板の一方であって、
   複数の液滴吐出ヘッドを前記基板に対して相対的に移動
   させつつ、前記基板上に前記複数の液滴吐出ヘッドにお
   ける所定のノズルからカラーフィルタ材料を含有する液
   状体を吐出させ、前記基板上にカラーフィルタを形成す
   ることを特徴とした電気光学装置の製造装置。
10. 【請求項１０】 請求項１ないし７のいずれかに記載の
    吐出装置を備えるカラーフィルタの製造装置であって、 被吐出物は異なる色を呈するカラーフィルタが形成され
    る基板であって、複数の液滴吐出ヘッドを前記基板に対
    して相対的に移動させつつ、前記基板上に前記複数の液
    滴吐出ヘッドにおける所定のノズルからカラーフィルタ
    材料を含有する液状体を吐出させ、前記基板上に前記カ
    ラーフィルタを形成することを特徴としたカラーフィル
    タの製造装置。
11. 【請求項１１】 電極が複数設けられた基板と、この基
    板上に前記電極に対応して複数設けられたＥＬ発光層と
    を備えた電気光学装置であって、 ＥＬ発光材料を含有する液状体を吐出するノズルが設け
    られた液滴吐出ヘッド、この液滴吐出ヘッドが取り付け
    られた取付基板およびこの取付基板に配設されたコネク
    タをそれぞれ備えた複数の吐出手段が複数のグループに
    分けて配列され、かつ前記取付基板におけるコネクタの
    配設された部分が他のグループにおいて配列した前記吐
    出手段と互いに対向しないように配置された保持手段を
    用い、 この保持手段に配置された液滴吐出ヘッドが、前記ノズ
    ルを有する一面を前記基板の表面に沿う状態で前記基板
    に対して相対的に移動されつつ、前記ノズルから前記液
    状体が前記基板上の所定の位置に適宜吐出されて、前記
    ＥＬ発光層が形成されたことを特徴とした電気光学装
    置。
12. 【請求項１２】 基板と、この基板上に形成された異な
    る色のカラーフィルタを備えた電気光学装置であって、 所定の色のフィルタ材料を含有する液状体を吐出するノ
    ズルが設けられた液滴吐出ヘッド、この液滴吐出ヘッド
    が取り付けられた取付基板およびこの取付基板に配設さ
    れたコネクタをそれぞれ備えた複数の吐出手段が複数の
    グループに分けて配列され、かつ前記取付基板における
    コネクタの配設された部分が他のグループにおいて配列
    した前記吐出手段と互いに対向しないように配置された
    保持手段を用い、 この保持手段に配置された液滴吐出ヘッドが、前記ノズ
    ルを有する一面を前記基板の表面に間隔を介して対向す
    る状態で前記基板に対して相対的に移動されつつ、前記
    ノズルから前記液状体が前記基板上の所定の位置に適宜
    吐出されて、前記カラーフィルタが形成されたことを特
    徴とした電気光学装置。
13. 【請求項１３】 基板上に異なる色を呈するように形成
    されたカラーフィルタであって、 所定の色のフィルタ材料を含有する液状体を吐出するノ
    ズルが設けられた液滴吐出ヘッド、この液滴吐出ヘッド
    が取り付けられた取付基板およびこの取付基板に配設さ
    れたコネクタをそれぞれ備えた複数の吐出手段が複数の
    グループに分けて配列され、かつ前記取付基板における
    コネクタの配設された部分が他のグループにおいて配列
    した前記吐出手段と互いに対向しないように配置された
    保持手段を用い、 この保持手段に配置された液滴吐出ヘッドが、前記ノズ
    ルを有する一面を前記基板の表面に間隔を介して対向す
    る状態で前記基板に対して相対的に移動されつつ、前記
    ノズルから前記液状体が前記基板上の所定の位置に適宜
    吐出されて形成されたことを特徴としたカラーフィル
    タ。
14. 【請求項１４】 流動性を有した液状体を吐出するノズ
    ルが設けられた液滴吐出ヘッド、この液滴吐出ヘッドが
    取り付けられた取付基板およびこの取付基板に配設され
    たコネクタをそれぞれ備えた複数の吐出手段が複数のグ
    ループに分けて配列され、かつ前記取付基板におけるコ
    ネクタの配設された部分が他のグループにおいて配列し
    た前記吐出手段と互いに対向しないように配置された保
    持手段を用い、 この保持手段に配置された液滴吐出ヘッドが、前記ノズ
    ルを有する一面を前記被吐出物の表面に沿う状態で前記
    被吐出物に対して相対的に移動されつつ、前記ノズルか
    ら前記液状体が前記被吐出物の所定位置に適宜吐出する
    ことを特徴とする吐出方法。
15. 【請求項１５】 請求項１４に記載の吐出方法におい
    て、 取付基板は長手状に形成され、 複数の吐出手段は、前記取付基板の長手方向の一端側に
    液滴吐出ヘッドが配設され、前記取付基板の長手方向の
    他端側にコネクタが配設されてそれぞれ構成され、 これら吐出手段の液滴吐出ヘッドのノズルから液状体を
    被吐出物上に吐出することを特徴とする吐出方法。
16. 【請求項１６】 請求項１４または１５に記載の吐出方
    法において、 コネクタの配設された部分が対向しないように配列され
    た吐出手段のグループ同士は略点対称となる状態で当該
    吐出手段が並べて配置され、 これら吐出手段の液滴吐出ヘッドのノズルから液状体を
    被吐出物上に吐出することを特徴とする吐出方法。
17. 【請求項１７】 請求項１４ないし１６のいずれかに記
    載の吐出方法において、 複数の吐出手段のグループの配設位置の間の位置から各
    各グループにおける吐出手段に供給管が接続され、この
    供給管を通して各吐出手段に液状体を供給し、 これら吐出手段の液滴吐出ヘッドのノズルから液状体を
    被吐出物上に吐出することを特徴とする吐出方法。
18. 【請求項１８】 請求項１４ないし１７のいずれかに記
    載の吐出方法において、 制御手段からの電気配線が保持手段の外周側から各コネ
    クタに接続された吐出手段により液状体を吐出すること
    を特徴とする吐出方法。
19. 【請求項１９】 請求項１４ないし１８のいずれかに記
    載の吐出方法において、 複数の吐出手段は、液滴吐出ヘッドが被吐出物の表面に
    沿って相対的に移動される方向に対して交差する方向に
    沿って前記液滴吐出ヘッドが複数列に並んで配置され、 これら吐出手段の液滴吐出ヘッドのノズルから液状体を
    被吐出物上に吐出することを特徴とする吐出方法。
20. 【請求項２０】 請求項１４ないし１９のいずれかに記
    載の吐出方法により液状体を吐出する電気光学装置の製
    造方法であって、 前記液状体はＥＬ発光材料を含有するものであって、 被吐出物は基板であって、 液滴吐出ヘッドを前記基板の表面に沿う状態で相対的に
    移動しつつ、ノズルから前記液状体を前記基板上の所定
    の位置に適宜吐出してＥＬ発光層を形成することを特徴
    とする電気光学装置の製造方法。
21. 【請求項２１】 請求項１４ないし１９のいずれかに記
    載の吐出方法により液状体を吐出する電気光学装置の製
    造方法であって、 前記液状体はカラーフィルタ材料を含有するものであっ
    て、 前記被吐出物は基板であって、 前記液滴吐出ヘッドを前記基板の表面に沿う状態で相対
    的に移動しつつ、ノズルから前記液状体を前記基板上の
    所定の位置に適宜吐出してカラーフィルタを形成するこ
    とを特徴とする電気光学装置の製造方法。
22. 【請求項２２】 請求項１４ないし１９のいずれかに記
    載の吐出方法により液状体を吐出するカラーフィルタの
    製造方法であって、 前記液状体はフィルタ材料を含有するものであって、 前記被吐出物は基板であって、 液滴吐出ヘッドを前記基板の表面に沿う状態で相対的に
    移動しつつ、ノズルから前記液状体を前記基板上の所定
    の位置に適宜吐出してカラーフィルタを形成することを
    特徴とするカラーフィルタの製造方法。
23. 【請求項２３】 基材と、この基材上に流動性を有する
    液状体が吐出されて形成された所定の層を有する基材を
    有するデバイスであって、 前記液状体を吐出するノズルが設けられた液滴吐出ヘッ
    ド、この液滴吐出ヘッドが取り付けられた取付基板およ
    びこの取付基板に配設されたコネクタをそれぞれ備えた
    複数の吐出手段が複数のグループに分けて配列され、か
    つ前記取付基板におけるコネクタの配設された部分が他
    のグループにおいて配列した前記吐出手段と互いに対向
    しないように配置された保持手段を用い、 この保持手段に配置された液滴吐出ヘッドが、前記ノズ
    ルを有する一面を前記基材の表面に沿う状態で前記基材
    に対して相対的に移動されつつ、所定のノズルから前記
    基材上の所定の位置に前記液状体が適宜吐出されて前記
    所定の層が形成されたことを特徴とした基材を有するデ
    バイス。
24. 【請求項２４】 請求項１ないし７のいずれかに記載の
    吐出装置を備え、 前記被吐出物はデバイスの基材であって、 所定の層を前記基材上に形成する工程において前記複数
    の液滴吐出ヘッドから液状体を前記基材上に吐出して前
    記所定の層を形成することを特徴とした基材を有するデ
    バイスの製造装置。
25. 【請求項２５】 請求項１４ないし１９のいずれかに記
    載の吐出方法により、被吐出物である基材上に液状体を
    吐出して所定の層を前記基材上に形成することを特徴と
    する基材を有するデバイスの製造方法。