JP2005314606A - ケイ素含有重合体の製造方法およびケイ素含有重合体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 単量体(A)と単量体(B)とを含む複数種の単量体を重合する重合工程を含み、単量体(A)は、以下の式(1)で表される少なくとも1種類の化合物であり、単量体(B)は、2つ以上の炭素−炭素二重結合を含む少なくとも1種類の化合物である。
【化1】
[式中、R1は水素原子またはアルキル基である。R2、R3およびR4はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基および水酸基から選ばれる1つの原子団であり、R2、R3およびR4から選ばれる少なくとも1つはハロゲン原子、アルコキシ基または水酸基である。]
【選択図】 なし
Description
以下、本発明の製造方法について説明する。本発明は、本発明の製造方法で製造されたケイ素含有重合体を含む。
次に、本発明のケイ素含有重合体について説明する。このケイ素含有重合体は、上記した本発明の製造方法によって製造できる。本発明のケイ素含有重合体は、単量体(A)に由来する構造単位(A)と単量体(B)に由来する構造単位(B)とを含む共重合体である。
(1)数平均分子量および重量平均分子量の測定
濃度が0.5重量%となるようにケイ素含有重合体をテトラヒドロフランに溶解し、GPC(Gel Permeation Chromatography)測定用サンプルとした。GPCの測定は、株式会社島津製作所製のクロマトパックCR−4A(本体)、RID−6A(屈折率検出器)、CIO−6A(カラムオーブン)を用いて行った。カラムは、HSG−4OH(株式会社島津製作所)を用いた。溶離液にはテトラヒドロフランを用い、1.0mL/分の流量で溶離液を流した。カラムオーブンは40℃に設定した。分子量を求めるための検量線は、ポリスチレンスタンダード(株式会社ケムコ製のポリスチレン標準試料)を用いて作成した。即ち、分子量が既知であるポリスチレンをテトラヒドロフランに、濃度が0.5重量%となるように溶解し、GPC測定を行い、溶出時間と分子量との関係を示す検量線を作成した。ケイ素含有重合体のGPCの溶出曲線(溶出時間−溶出量)と検量線とから、ケイ素含有重合体の数平均分子量および重量平均分子量を求めた。さらに分子量分布、即ち、「重量平均分子量/数平均分子量」の値を計算した。
1740ミリモルのトリメトキシビニルシラン(単量体(A))と、260ミリモルのジエトキシジビニルシラン(単量体(B))とを、窒素雰囲気下、還流管を付けたフラスコに加えた。単量体(A)と単量体(B)との混合物は、窒素ガスによってバブリングした。このバブリングは、重合反応を停止するまで続けた。バブリングを開始してから30分後に、130℃に調整された油浴にフラスコを浸漬し、続いて即座に100ミリモルのジクミルパーオキサイド(重合開始剤)を混合物に加えて重合を開始した。油浴にフラスコを浸漬してから5分後には、混合物の温度は130℃に達した。重合開始剤を添加してから5時間、混合物を攪拌しながら且つ油浴中において、重合反応を続けた。その後、油浴からフラスコを取り出し、フラスコ内の温度を室温まで下げた。フラスコ内の反応生成物には、単量体(A)および単量体(B)がともに残存していないことをガスクロマトグラフィーで確認した。得られた重合体の一部をテトラヒドロフランに溶解し、GPCによって分子量の測定を行なった。その結果、得られた重合体は、数平均分子量が12500、重量平均分子量が113000、分子量分布が9.0であった。
1940ミリモルのトリメトキシビニルシラン(単量体(A))と、60ミリモルのジエトキシジビニルシラン(単量体(B))とを、窒素雰囲気下、還流管を付けたフラスコに加えた。単量体(A)と単量体(B)との混合物は、窒素ガスによってバブリングした。このバブリングは、重合反応を停止するまで続けた。バブリングを開始してから30分後に、130℃に調整された油浴にフラスコを浸漬し、続いて即座に100ミリモルのジクミルパーオキサイド(重合開始剤)を混合物に加えて重合を開始した。油浴にフラスコを浸漬してから5分後には、混合物の温度が130℃に達した。重合開始剤を添加してから5時間、混合物を攪拌しながら且つ油浴中において重合反応を続けた。その後、油浴からフラスコを取り出し、フラスコ内の温度を室温まで下げた。フラスコ内の反応生成物に単量体(A)および単量体(B)がともに残存していないことを、ガスクロマトグラフィーによって確認した。
2000ミリモルのトリメトキシビニルシラン(単量体(A))を、窒素雰囲気下、還流管を付けたフラスコに加えた。単量体(A)は、窒素ガスによってバブリングした。このバブリングは、重合反応を停止するまで続けた。バブリングを開始してから30分後に、130℃に調整された油浴にフラスコを浸漬し、続いて即座に100ミリモルのジクミルパーオキサイド(重合開始剤)を加えて重合を開始した。油浴にフラスコを浸漬してから5分後には、混合物の温度が130℃に達した。重合開始剤を添加してから5時間、混合物を攪拌しながら且つ油浴中において重合反応を続けた。その後、油浴からフラスコを取り出し、フラスコ内の温度を室温まで下げた。フラスコ内の反応生成物に単量体(A)が残存していないことを、ガスクロマトグラフィーによって確認した。このようにして得られた重合体の一部をテトラヒドロフランに溶解し、GPCによって分子量の測定を行なった。その結果、得られた重合体は、数平均分子量が3200、重量平均分子量が6100、分子量分布が1.9であった。
Claims (16)
- 単量体(A)と単量体(B)とを含む複数種の単量体を重合する重合工程を含み、
前記単量体(A)は、以下の式(1)で表される少なくとも1種類の化合物であり、
前記単量体(B)は、2つ以上の炭素−炭素二重結合を含む少なくとも1種類の化合物であるケイ素含有重合体の製造方法。
- 前記単量体(B)は、(CR5=CH2)で表される基(ただしR5は水素原子またはアルキル基である)および(CR6=CH2)で表される基(ただしR6は水素原子またはアルキル基である)が結合したケイ素原子を含む少なくとも1種類の化合物である請求項1に記載のケイ素含有重合体の製造方法。
- 前記単量体(B)が、以下の式(2)で表される少なくとも1種類の化合物である請求項1に記載のケイ素含有重合体の製造方法。
- 前記R7および前記R8から選ばれる少なくとも1つが、ハロゲン原子またはアルコキシ基である請求項3に記載のケイ素含有重合体の製造方法。
- 前記重合工程が重合開始剤の存在下において80℃以上の温度で行われ、
前記重合開始剤の分解の活性化エネルギーが30kcal/mol以上である請求項1〜4のいずれか1項に記載のケイ素含有重合体の製造方法。 - 前記重合工程が重合開始剤の存在下において80℃以上の温度で行われ、
前記重合開始剤が、クメンヒドロパーオキサイド、t−ブチルヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエート、および1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)から選ばれる少なくとも1つである請求項1〜4のいずれか1項に記載のケイ素含有重合体の製造方法。 - 前記単量体(A)/前記単量体(B)のモル比が70/30〜99.5/0.5の範囲である請求項1〜6のいずれか1項に記載のケイ素含有重合体の製造方法。
- 前記複数種の単量体が、前記単量体(A)および前記単量体(B)とは異なるビニル化合物(C)を含み、
前記ビニル化合物(C)に含まれるビニル基は1つであり、
前記複数種の単量体に占める前記ビニル化合物(C)の割合が60モル%以下である請求項1〜7のいずれか1項に記載のケイ素含有重合体の製造方法。 - 前記ビニル化合物(C)が窒素含有複素環を有する請求項8に記載のケイ素含有重合体の製造方法。
- 前記重合工程によって得られた重合体から、炭化水素系溶媒に溶解する成分を除去する工程をさらに含む請求項1〜9のいずれか1項に記載のケイ素含有重合体の製造方法。
- 前記炭化水素系溶媒がn−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ヘプタン、トルエン、ベンゼンおよびキシレンから選ばれる少なくとも1つである請求項10に記載のケイ素含有重合体の製造方法。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の製造方法で製造されたケイ素含有重合体。
- 単量体(A)に由来する構造単位(A)と単量体(B)に由来する構造単位(B)とを含むケイ素含有重合体であって、
前記単量体(A)は、以下の式(1)で表される少なくとも1種類の化合物であり、
前記単量体(B)は、2つ以上の炭素−炭素二重結合を含む少なくとも1種類の化合物であり、
前記構造単位(A)/前記構造単位(B)のモル比が70/30〜99.5/0.5の範囲であり、
数平均分子量が10000以上であるケイ素含有重合体。
- 前記単量体(B)は、(CR5=CH2)で表される基(ただしR5は水素原子またはアルキル基である)および(CR6=CH2)で表される基(ただしR6は水素原子またはアルキル基である)が結合したケイ素原子を含む少なくとも1種類の化合物である請求項13に記載のケイ素含有重合体。
- 前記単量体(B)が、以下の式(2)で表される少なくとも1種類の化合物である請求項13に記載のケイ素含有重合体。
- 前記R7および前記R8から選ばれる少なくとも1つが、ハロゲン原子またはアルコキシ基である請求項15に記載のケイ素含有重合体。
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