JP2005294085A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 電子線を放出する電子源と、収束レンズと検出器を備えた透過電子顕微鏡において、
   さらに、
   電子線バイプリズムと、
   該試料と該電子線の照射位置を相対的に移動させる移動装置と、
   制御装置とを備え、
   該検出器は、該電子線を試料と該試料近傍の真空を照射して得られる透過電子線を前記電子線バイプリズムで重ね合わせて形成された干渉縞を検出し、
   該制御装置は、該移動装置による該試料と該電子線の相対的な移動に合わせて該検出器で信号を検出して該干渉縞を逐次計測するように制御することを特徴とする透過電子顕微鏡。
2. 請求項１に記載の透過電子顕微鏡において、非点補正装置をさらに備え、
   前記制御装置は、
   該非点補正装置と前記収束レンズとを連動させて、前記電子線の形状を、長軸と短軸をもつ非等方的な形状に形成し、
   該長軸の方向は前記透過電子線の重ね合わせの方向とほぼ同一であり、
   該短軸の方向は前記移動装置による該試料と該電子線の相対的な移動方向とほぼ同一であることを特徴とする透過電子顕微鏡。
3. 請求項２に記載の透過電子顕微鏡において、
   該電子線の形状の該短軸と長軸の比が２よりも大きい楕円状あるいは線状であることを特徴とする透過電子顕微鏡。
4. 請求項２から３に記載の透過電子顕微鏡において、
   該制御装置は、該収束レンズの動作条件に応じて、該非点補正装置の動作条件を制御して、所定の該電子線形状を保持することを特徴とする透過電子顕微鏡。
5. 電子線を放出する工程と、
   該電子線を試料と該試料近傍の真空を照射して、得られる透過電子線を該電子線バイプリズムで重ね合わせて干渉縞を形成して検出する干渉縞検出工程と、
   該試料または該電子線の照射位置を相対的に移動させる移動工程を持ち、
   該移動工程による移動に合わせて該検出工程を動作させて該干渉縞を逐次計測する工程と、
   該電子線の形状を、長軸と短軸をもつ非等方的な形状に形成する工程をさらに含み、
   該長軸の方向は該透過電子線の重ね合わせの方向とほぼ同一であり、
   該短軸の方向は該移動装置による該試料と該電子線の相対的な移動方向とほぼ同一であることを特徴とする走査電子線干渉計測方法。