JP2005277009A - Equipment and method for chip transfer - Google Patents

Equipment and method for chip transfer Download PDF

Info

Publication number
JP2005277009A
JP2005277009A JP2004086646A JP2004086646A JP2005277009A JP 2005277009 A JP2005277009 A JP 2005277009A JP 2004086646 A JP2004086646 A JP 2004086646A JP 2004086646 A JP2004086646 A JP 2004086646A JP 2005277009 A JP2005277009 A JP 2005277009A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
pusher
tray
wafer ring
chips
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004086646A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaru Mizunashi
大 水梨
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JOYO KIKAI KK
Original Assignee
JOYO KIKAI KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JOYO KIKAI KK filed Critical JOYO KIKAI KK
Priority to JP2004086646A priority Critical patent/JP2005277009A/en
Publication of JP2005277009A publication Critical patent/JP2005277009A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide chip transfer equipment that does not cause the generation of a flaw and contamination on a chip surface by transferring a chip while making the chip not contact with the chip surface by pushing the chip from the side of a film adhered to a wafer ring, or contact with only a limited region in the vicinity of the chip surface. <P>SOLUTION: The chip transfer equipment comprises a wafer ring 10 that includes a film 12 with a chip 11 bonded thereto, a pusher 30, and a tray 20 supporting the chip 11. The pusher 30 is disposed adjacent to the top of the wafer ring 10, and the tray 20 is disposed adjacent to the bottom of the wafer ring 10. The pusher 30 is moved downward to push out the chip 11 from the film 12 side, and then the chip 11 is transferred into a recess 21 of the tray 20. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明はチップを移載する装置およびその方法に係り、更に詳細にはウエーハリングに設けられたフィルム上に貼り付けられ、ダイシングされたチップをトレーに移載する装置およびその方法に係る。   The present invention relates to an apparatus and method for transferring chips, and more particularly, to an apparatus and method for transferring chips diced on a film provided on a wafer ring and transferred to a tray.

従来からウエーハリングに設けられたフィルム上に貼り付けられ、ダイシングされたチップをトレーに移載する作業がおこなわれている。ここでチップとは、例えば表面に大規模集積回路が形成されたウエーハをダイシング装置で切断した半導体チップや、表面にフィルター膜を蒸着したガラス基板をダイシング装置で切断して細分化したフィルターチップ等を言う。   Conventionally, an operation of transferring chips diced and pasted on a film provided on a wafer ring to a tray has been performed. Here, the chip is, for example, a semiconductor chip obtained by cutting a wafer having a large-scale integrated circuit formed on the surface with a dicing device, a filter chip obtained by cutting a glass substrate having a filter film deposited on the surface and cutting the wafer with a dicing device, or the like. Say.

この移載作業は手作業で行う場合や、自動化された装置で行う場合がある。手作業で移載作業を行う場合には、フィルムを横方向に引っ張ることによりダイシングされたチップの間隔を広げるように予め処理され、ウエーハリングのフィルム上に貼り付けられたチップを、一つ一つピンセット等で挟み、これをトレーに設けられた窪みの中に移載していくものである。このような手作業で移載作業を行う場合、作業を人手に頼るため速度が遅く、チップ表面にピンセットの先端で傷をつけてしまうという問題があった。   This transfer operation may be performed manually or with an automated apparatus. When the transfer operation is performed manually, chips that have been processed in advance so as to widen the distance between the diced chips by pulling the film in the lateral direction and are stuck on the wafer ring film are separated one by one. It is sandwiched between two tweezers and transferred to a recess provided in the tray. When performing the transfer work by such a manual work, there is a problem that the speed is slow because the work is relied on manually, and the tip surface is damaged by the tip of the tweezers.

また、自動化された装置で移載作業を行う場合であっても、従来の装置は、例えば特開2001-332521において開示されているように、吸着ヘッド等を使用してウエーハリング上に貼り付けられたチップを吸着し、ウエーハリングからトレー上に移載していた。   Even when the transfer operation is performed by an automated apparatus, the conventional apparatus is pasted on the wafer ring by using a suction head or the like as disclosed in, for example, JP-A-2001-332521. The chip was adsorbed and transferred from the wafer ring onto the tray.

この場合、吸着ヘッドはウエーハリング上のチップに接近するため下降し、チップを吸着した後再び上昇し、トレー上まで水平移動する。更に吸着ヘッドはトレーの窪みに接近するため下降し、チップを移載する。チップの移載が終了した後吸着ヘッドは逆の運動をしてウエーハリング上の次のチップの上まで戻り、再びチップの移載を繰り返す。   In this case, the suction head is lowered to approach the chip on the wafer ring, and is lifted again after sucking the chip and horizontally moved onto the tray. Further, the suction head moves down to approach the recess of the tray and transfers the chip. After the transfer of the chip is completed, the suction head moves in the reverse direction and returns to the top of the next chip on the wafer ring, and the transfer of the chip is repeated again.

しかし、このような自動化された装置で移載作業を行った場合、吸着ヘッドがチップの表面に接触するため、チップ表面の回路や蒸着膜等を傷つけたり、汚染させてしまうという問題があった。この汚染された表面を清浄にするために、移載が完了した後洗浄工程を設ける必要があった。また、洗浄工程を設けたとしても、完全に汚染物質を除去するのは困難であり、チップの品質上のウィークポイントにもなっていた。   However, when a transfer operation is performed with such an automated apparatus, the suction head comes into contact with the surface of the chip, so that there is a problem that a circuit on the chip surface, a deposited film, or the like is damaged or contaminated. . In order to clean this contaminated surface, it was necessary to provide a cleaning step after the transfer was completed. Further, even if a cleaning process is provided, it is difficult to completely remove contaminants, which is a weak point in terms of chip quality.

また、従来の自動化された装置では、吸着ヘッドが上述したように複雑な運動を繰り返すために移載速度を上げることができず、生産性を向上させることが困難であった。
特開2001-332521号公報
Further, in the conventional automated apparatus, since the suction head repeats complicated movement as described above, the transfer speed cannot be increased, and it is difficult to improve productivity.
JP 2001-332521 JP

本発明は、上記した従来技術の欠点を除くためになされたものであり、その目的とするところは、ウエーハリングに貼り付けられたフィルム側からチップを押すようにすることによりチップ表面に接触しないで、あるいはチップ表面の周辺の限定された領域にのみに接触して移載することにより、チップ表面の傷の発生、および汚染を生じさせないようにすることである。   The present invention has been made in order to eliminate the above-mentioned drawbacks of the prior art, and the object of the present invention is not to contact the chip surface by pushing the chip from the film side attached to the wafer ring. In other words, it is possible to prevent the chip surface from being scratched and contaminated by transferring only in a limited area around the chip surface.

また他の目的は、移載のための運動を簡単化する、または同時作業を可能にすることによってチップ移載のサイクルタイムを圧縮し、移載速度を向上させることである。   Another object is to reduce the cycle time of the chip transfer by improving the transfer speed by simplifying the movement for transfer or enabling simultaneous operation.

上記課題を解決するため、請求項1に記載した装置発明においては次のような構成とした。   In order to solve the above-mentioned problem, the apparatus invention described in claim 1 has the following configuration.

複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、突起を下端面に設けたプッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーから成り、
該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、および該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの水平面内の位置が合うように、該プッシャーは該ウエーハリングの上方に近接して配置され、更に該トレーは該ウエーハリングの下方に近接して配置され、
該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを押出し、該窪みの中へチップを移載する。
It consists of a wafer ring with a film with a plurality of chips attached, a pusher with protrusions on the bottom surface, and a tray with a plurality of depressions to hold the chips,
The pusher is positioned on the wafer ring such that the pusher, any one of the plurality of chips, and any one of the plurality of depressions in the tray are aligned in a horizontal plane. Placed close to the top, and the tray is placed close to the bottom of the wafer ring,
The pusher is moved downward to extrude the chip from the film side, and the chip is transferred into the recess.

また、請求項2に記載した装置発明においては次のような構成とした。   Further, the apparatus invention described in claim 2 has the following configuration.

複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、該チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、吸引ヘッドから成り、
該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、および該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの水平面内の位置が合うように、該プッシャーは該ウエーハリングの上方に近接して配置され、該トレーは該ウエーハリングの下方に近接して配置され、更に該吸引ヘッドは該窪みの下方に配置され、
該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該吸引ヘッドによりチップを吸引して該窪みの中へ移載する。
A wafer ring including a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, and a suction head;
The pusher is positioned on the wafer ring such that the pusher, any one of the plurality of chips, and any one of the plurality of depressions in the tray are aligned in a horizontal plane. Placed close to the top, the tray is placed close to the bottom of the wafer ring, and the suction head is placed below the well;
The pusher is moved downward to project the chip from the film side, and the chip is sucked by the suction head and transferred into the recess.

更に、請求項3に記載した装置発明においては次のような構成とした。   Furthermore, the apparatus invention described in claim 3 has the following configuration.

複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、負圧源並びに正圧源に連通すると共にチップの周辺部のみを支持するチャック座を有する回転チャックから成り、
該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、該チャック、および該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの水平面内の位置が合うように、該プッシャーは該ウエーハリングの上方に近接して配置され、該回転チャックは該ウエーハリングの下方に近接して配置され、更に該トレーは該回転チャックの下方に配置され、
該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該回転チャックは負圧によりチップを吸引して保持し、180°回転した後に正圧によりチップを該窪みの中へ移載する。
A wafer ring having a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, a negative pressure source and a positive pressure source, and a peripheral portion of the chips only. A rotating chuck having a chuck seat to support,
The pusher is arranged so that the position of any one of the plurality of chips, the chuck, and the plurality of depressions of the tray in the horizontal plane is aligned. Positioned close to the top of the wafer ring, the rotating chuck is positioned close to the bottom of the wafer ring, and the tray is positioned below the rotating chuck,
The pusher is moved downward to protrude the chip from the film side, and the rotary chuck sucks and holds the chip by negative pressure, and after rotating 180 °, the chip is transferred into the recess by positive pressure.

また、請求項4に記載した装置発明においては次のような構成とした。   Further, the device invention described in claim 4 has the following configuration.

複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、負圧源並びに正圧源に連通すると共にチップの周辺部のみを支持するチャック座を有するチャックから成り、
該プッシャーおよび該複数個のチップの内のいずれか一つのチップの水平面内の位置が合うように、該プッシャーは該ウエーハリングの下方に配置され、該チャックは該ウエーハリングの上方に配置され、更に該トレーは該ウエーハリングの側方に配置され、
該プッシャーを上方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該チャックがチップ上方へ接近した後負圧によりチップを吸引して保持し、更に該窪みの上方へ移動接近した後に正圧によりチップを該窪みの中へ移載する。
A wafer ring having a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, a negative pressure source and a positive pressure source, and a peripheral portion of the chips only. A chuck having a chuck seat to support,
The pusher is disposed below the wafer ring and the chuck is disposed above the wafer ring so that the positions of the pusher and any one of the plurality of chips in a horizontal plane are aligned. Furthermore, the tray is arranged on the side of the wafer ring,
The pusher is moved upward to project the chip from the film side, and after the chuck approaches the chip, the chip is sucked and held by negative pressure, and further moved toward the upper part of the recess and then moved to the chip by positive pressure. Is transferred into the recess.

また、請求項5に記載した装置発明においては、請求項1から4までに記載されたチップの移載装置の発明に対して、更にウエーハリング上のチップの水平面内位置を検出する位置検出装置を備えた構成とした。   Further, in the device invention described in claim 5, in addition to the chip transfer device invention described in claims 1 to 4, the position detection device further detects the position of the chip on the wafer ring in the horizontal plane. It was set as the structure provided with.

また、請求項6に記載した装置発明においては、請求項1, 2, 4に記載されたチップの移載装置の発明に対して、トレーの窪みの上方に更にチップガイドを配置した構成とした。   Further, in the apparatus invention described in claim 6, in contrast to the chip transfer apparatus invention described in claims 1, 2, and 4, a chip guide is further disposed above the recess of the tray. .

また、請求項7に記載した装置発明においては、請求項3に記載されたチップの移載装置の発明に対して、トレーの窪みの上方、および回転チャックがウエーハリングの下方に近接して配置されたときに回転チャックの上方に更にチップガイドを配置した構成とした。   Further, in the device invention described in claim 7, in contrast to the chip transfer device invention described in claim 3, the upper portion of the tray recess and the rotating chuck are disposed close to the lower portion of the wafer ring. In this case, a chip guide is further arranged above the rotary chuck.

また、請求項8に記載した方法発明においては次のような構成とした。   The method invention described in claim 8 has the following configuration.

複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、突起を下端面に設けたプッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーを使用し、
(1) 該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、および該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの水平面内の位置を合わせると共に、該プッシャーを該ウエーハリングの上方に近接して配置し、更に該トレーを該ウエーハリングの下方に近接して配置するステップと、
(2) 該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを押出し、該窪みの中へチップを移載するステップと、
から成るチップの移載方法。
Using a wafer ring with a film with a plurality of chips attached, a pusher with protrusions on the lower end, and a tray with a plurality of depressions to hold the chips,
(1) The pusher, any one of the plurality of chips, and any one of the plurality of depressions of the tray are aligned in a horizontal plane, and the pusher is moved to the wafer. Placing close to the top of the ring and further placing the tray close to the bottom of the wafer ring;
(2) moving the pusher downward to extrude the chip from the film side and transferring the chip into the recess;
A chip transfer method comprising:

また、請求項9に記載した方法発明においては次のような構成とした。   The method invention described in claim 9 has the following configuration.

複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、該チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、吸引ヘッドを使用し、
(1) 該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、および該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの水平面内の位置が合うように、該プッシャーを該ウエーハリングの上方に近接して配置し、該トレーを該ウエーハリングの下方に近接して配置し、該吸引ヘッドを該トレーの下方に近接して配置するステップと、
(2) 該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該吸引ヘッドによりチップを吸引して該窪みの中へ移載するステップと、
から成るチップの移載方法。
Using a wafer ring provided with a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, and a suction head,
(1) The pusher is placed in the horizontal plane so that any one of the plurality of chips and any one of the plurality of depressions in the tray are aligned in a horizontal plane. Placing close to the top of the wafer ring, placing the tray close to the bottom of the wafer ring, and placing the suction head close to the bottom of the tray;
(2) moving the pusher downward to project the chip from the film side, and sucking the chip by the suction head and transferring it into the recess;
A chip transfer method comprising:

また、請求項10に記載した方法発明においては次のような構成とした。   The method invention described in claim 10 has the following configuration.

複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、負圧源並びに正圧源に連通すると共にチップの周辺部のみを支持するチャック座を有する回転チャックを使用し、
(1) 該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、該回転チャック、および該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの水平面内の位置が合うように、該プッシャーを該ウエーハリングの上方に近接して配置し、該回転チャックを該ウエーハリングの下方に近接して配置し、更に該トレーを該回転チャックの下方に配置するステップと、
(2) 該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該回転チャックが負圧によりチップを吸引して保持するステップと、
(3) 該回転チャックが180°回転した後に正圧によりチップを該窪みの中へ移載するステップと、
から成るチップの移載方法。
A wafer ring having a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, a negative pressure source and a positive pressure source, and a peripheral portion of the chips only. Use a rotating chuck with a chuck seat to support,
(1) The pusher, any one of the plurality of chips, the rotary chuck, and any one of the plurality of depressions in the tray are aligned in a horizontal plane. Disposing the pusher proximate above the wafer ring, disposing the rotating chuck proximate to the bottom of the wafer ring, and disposing the tray below the rotating chuck;
(2) moving the pusher downward to project the chip from the film side, and the rotary chuck sucks and holds the chip with negative pressure; and
(3) transferring the chip into the recess by positive pressure after the rotary chuck has rotated 180 °;
A chip transfer method comprising:

また、請求項11に記載した方法発明においては次のような構成とした。   The method invention described in claim 11 has the following configuration.

複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、負圧源並びに正圧源に連通すると共にチップの周辺部のみを支持するチャック座を有するチャックを使用し、
(1) 該プッシャーおよび該複数個のチップの内のいずれか一つのチップの水平面内の位置が合うように、該プッシャーを該ウエーハリングの下方に配置し、該チャックを該ウエーハリングの上方に配置し、更に該トレーを該ウエーハリングの側方に配置するステップと、
(2) 該プッシャーを上方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該チャックがチップ上方へ接近した後負圧によりチップを吸引して保持するステップと、
(3) 該チャックを該窪みの上方へ移動接近させた後に、正圧によりチップを該窪みの中へ移載するステップと、
から成るチップの移載方法。
A wafer ring having a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, a negative pressure source and a positive pressure source, and a peripheral portion of the chips only. Use a chuck with a chuck seat to support,
(1) The pusher is disposed below the wafer ring so that any one of the pusher and the plurality of chips is aligned in a horizontal plane, and the chuck is disposed above the wafer ring. Placing and further placing the tray to the side of the wafer ring;
(2) moving the pusher upward to protrude the chip from the film side, and sucking and holding the chip with negative pressure after the chuck approaches the chip; and
(3) After moving the chuck upward and close to the recess, transferring the chip into the recess by positive pressure;
A chip transfer method comprising:

本発明は、上記した構成とすることにより、チップ表面に接触しないで、あるいはチップ表面の周辺の限定された領域にのみに接触して移載することにより、チップ表面の傷の発生、および汚染を生じさせないようにすることができる。その結果、チップの移載作業を終了した後、更に洗浄工程を設ける必要が無く工程短縮による生産性の向上に寄与し、またチップ表面の傷の発生や、汚染物質の残存も生じないことからチップ品質の向上に果たす効果は多大である。   By adopting the above-described configuration, the present invention does not contact the chip surface, or only contacts a limited area around the chip surface, thereby transferring and flawing the chip surface. Can be prevented. As a result, it is not necessary to provide a further cleaning process after the chip transfer operation is completed, which contributes to the improvement of productivity by shortening the process, and the generation of scratches on the chip surface and the remaining contaminants do not occur. The effect of improving the chip quality is great.

更に、移載のための運動を簡単化する、または同時作業を可能にすることによってチップ移載のサイクルタイムを圧縮し、移載速度を向上させることができる。   Furthermore, by simplifying the movement for transfer or enabling simultaneous operation, the cycle time of chip transfer can be compressed and the transfer speed can be improved.

以下本発明を図面に示す実施例に基いて説明する。   Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.

図1は、本発明の移載の対象となるチップ11を例示した図であり、ウエーハリング10のフィルム12上に貼り付けられ、ダイシングされた後、フィルム12を横方向(面内方向)に引っ張ることによりチップ11の間隔が広げられている。チップ11は一般的には矩形状の薄い板を形成しており、その一辺は数mm程度のものが多い。   FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a chip 11 to be transferred according to the present invention, which is attached to a film 12 of a wafer ring 10 and diced, and then the film 12 is laterally (in-plane direction). The distance between the chips 11 is widened by pulling. The chip 11 generally forms a rectangular thin plate, and many of its sides are about several mm.

図2は、チップを移載するトレー20を例示した図であり、トレー20には複数個の窪み21が設けられている。この窪み21はチップ11の形状に対応した形状をしており、一般的にはチップの寸法よりわずかに大きい寸法を有する矩形状のものが多い。窪み21の底の周辺部にはチップ11の周辺を支える支持部22が設けられ、更に窪みの底21の中央部は開口して底部空間23を形成している。   FIG. 2 is a diagram illustrating a tray 20 on which chips are transferred. The tray 20 is provided with a plurality of depressions 21. The recess 21 has a shape corresponding to the shape of the chip 11, and generally has a rectangular shape having a size slightly larger than the size of the chip. A support portion 22 that supports the periphery of the chip 11 is provided in the peripheral portion of the bottom of the recess 21, and the central portion of the bottom 21 of the recess is opened to form a bottom space 23.

図3は本発明の第一の実施例を示した図である。ウエーハリング10はウエーハリング・キャリア120に固定されており、このウエーハリング・キャリア120はチップを所定の位置に位置決めするため、あるいはウエーハリング10の交換をするために水平面内に移動することができるようになっている。ウエーハリング10の下方にはトレー・キャリア110に固定されたトレー20が配置されており、このトレー・キャリア110はトレーの窪み21を所定の位置に位置決めするため、あるいはトレー20の交換をするために水平面内に移動することができるようになっている。更にウエーハリング10の上方にはプッシャー駆動機構31に連結されたプッシャー30が配置されている。プッシャー30の下端面にはフィルム12側からチップ11の背面を押し、チップ11を下方へ突き落とすための、一つまたは複数の突起32が設けられている。この突起32を針状にして移載することもできる。また、このプッシャー30は、プッシャー駆動機構31によって上下方向へ移動できるようになっている。   FIG. 3 is a view showing a first embodiment of the present invention. The wafer ring 10 is fixed to a wafer ring carrier 120, which can be moved in a horizontal plane to position the chip in place or to replace the wafer ring 10. It is like that. A tray 20 fixed to the tray carrier 110 is disposed below the wafer ring 10, and the tray carrier 110 is used to position the tray recess 21 in a predetermined position or to replace the tray 20. It can be moved in the horizontal plane. Further, a pusher 30 connected to a pusher drive mechanism 31 is disposed above the wafer ring 10. One or a plurality of projections 32 are provided on the lower end surface of the pusher 30 to push the back surface of the chip 11 from the film 12 side and push the chip 11 downward. The projection 32 can be transferred in a needle shape. The pusher 30 can be moved in the vertical direction by a pusher drive mechanism 31.

次に、この第一の実施例に基くチップ11の移載のシーケンスについて説明する。   Next, the transfer sequence of the chip 11 based on the first embodiment will be described.

まず、空のトレー20とチップ11が貼り付けられたウエーハリング10がそれぞれの交換位置においてトレー・キャリア110およびウエーハリング・キャリア120の所定位置に精度よく固定される。次に各キャリアは第一のチップ11と第一の窪み21の中心位置が、予め定められたプッシャー30の軸心位置と一致するようにそれぞれ移動する。   First, the wafer ring 10 to which the empty tray 20 and the chip 11 are attached is accurately fixed to predetermined positions of the tray carrier 110 and the wafer ring carrier 120 at the respective exchange positions. Next, each carrier moves so that the center positions of the first chip 11 and the first recess 21 coincide with the axial position of the pusher 30 determined in advance.

次に、図4に示すように、プッシャー駆動機構31によってプッシャー30が下降し、突起32がフィルム12側から第一のチップ11の背面を押し、それによってチップ11を下方へ突き落とすことにより、下方に配置された第一の窪み21の中へ第一のチップ11を移載する。突起32を針状にした場合には、この突起がフィルム12を突き破ってチップ11を下方へ突き落とすこともできる。第一のチップの移載が完了するとプッシャー駆動機構31によってプッシャー30が上昇し、トレー・キャリア110およびウエーハリング・キャリア120は第二の窪み21と第二のチップ11の中心位置がプッシャー30の軸心位置と一致するようにそれぞれ移動する。その後は上述した方法と同様な動作を繰り返してチップ11の移載が行われる。 Next, as shown in FIG. 4, the pusher drive mechanism 31 lowers the pusher 30, and the protrusion 32 pushes the back surface of the first chip 11 from the film 12 side, thereby pushing down the chip 11 downward. The first chip 11 is transferred into the first depression 21 arranged in the above. When the protrusion 32 is formed into a needle shape, the protrusion can break through the film 12 and push the chip 11 downward. When the transfer of the first chip is completed, the pusher drive mechanism 31 raises the pusher 30, and the tray carrier 110 and the wafer ring carrier 120 have the second recess 21 and the center position of the second chip 11 at the center of the pusher 30. Move to match the axial position. Thereafter, the chip 11 is transferred by repeating the same operation as described above.

ウエーハリング10上のチップ11の移載が全て完了した場合、あるいはトレー20の窪み21の全てがチップ11で満たされた場合には、ウエーハリング・キャリア120あるいはトレー・キャリア110がそれぞれウエーハリング10あるいはトレー20の交換位置まで移動し、ウエーハリング10あるいはトレー20の交換を行ことによって移載作業は続けられる。   When all of the transfer of the chip 11 on the wafer ring 10 is completed, or when all of the recesses 21 of the tray 20 are filled with the chip 11, the wafer ring carrier 120 or the tray carrier 110 is moved to the wafer ring 10 respectively. Alternatively, the transfer operation is continued by moving to the replacement position of the tray 20 and exchanging the wafer ring 10 or the tray 20.

図5は本発明の第二の実施例を示した図である。ウエーハリング10はウエーハリング・キャリア120に固定されており、このウエーハリング・キャリア120はチップを所定の位置に位置決めするため、あるいはウエーハリング10の交換をするために水平面内に移動することができるようになっている。ウエーハリング10の下方にはトレー・キャリア110に固定されたトレー20が配置されており、このトレー・キャリア110はトレーの窪み21を所定の位置に位置決めするため、あるいはトレー20の交換をするために水平面内に移動することができるようになっている。ウエーハリング10の上方にはプッシャー駆動機構31に連結されたプッシャー30が配置されている。プッシャー30の下端面にはフィルムを通してチップを安定して突き出せるように、一つまたは複数の小さい突起32が設けられているが、この突起は必須のものではない。このプッシャー30は、プッシャー駆動機構31によって上下方向へ移動できるようになっている。更にトレー20の下方には吸引ヘッド70が配置されている。この吸引ヘッド70は真空ポンプ等の負圧源と配管によって接続され、その配管の途中には電磁弁が設けられており、負圧源との連通のON-OFFの切り替えが行えるようになっている。また、この吸引ヘッド70の軸心はプッシャー30の軸心と一致させて配置されている。   FIG. 5 is a view showing a second embodiment of the present invention. The wafer ring 10 is fixed to a wafer ring carrier 120, which can be moved in a horizontal plane to position the chip in place or to replace the wafer ring 10. It is like that. A tray 20 fixed to the tray carrier 110 is disposed below the wafer ring 10, and the tray carrier 110 is used to position the tray recess 21 in a predetermined position or to replace the tray 20. It can be moved in the horizontal plane. A pusher 30 connected to a pusher drive mechanism 31 is disposed above the wafer ring 10. One or a plurality of small protrusions 32 are provided on the lower end surface of the pusher 30 so that the chip can be stably protruded through the film, but this protrusion is not essential. The pusher 30 can be moved in the vertical direction by a pusher drive mechanism 31. Further, a suction head 70 is disposed below the tray 20. This suction head 70 is connected to a negative pressure source such as a vacuum pump by a pipe, and an electromagnetic valve is provided in the middle of the pipe so that the communication with the negative pressure source can be switched on and off. Yes. Further, the axis of the suction head 70 is arranged so as to coincide with the axis of the pusher 30.

次に、この第二の実施例に基くチップ11の移載のシーケンスについて説明する。   Next, the transfer sequence of the chip 11 based on the second embodiment will be described.

まず、空のトレー20とチップ11が貼り付けられたウエーハリング10がそれぞれの交換位置においてトレー・キャリア110およびウエーハリング・キャリア120の所定位置に精度よく固定される。次に各キャリアは第一のチップ11と第一の窪み21の中心位置が、予め定められたプッシャー30の軸心位置と一致するようにそれぞれ移動する。   First, the wafer ring 10 to which the empty tray 20 and the chip 11 are attached is accurately fixed to predetermined positions of the tray carrier 110 and the wafer ring carrier 120 at the respective exchange positions. Next, each carrier moves so that the center positions of the first chip 11 and the first recess 21 coincide with the axial position of the pusher 30 determined in advance.

次に、図6に示すように、プッシャー駆動機構31によってプッシャー30が下降し、フィルムを通して第一のチップ11を下方へ突き出すと同時に、電磁弁が作動して吸引ヘッド70は負圧源と連通し、窪み21の底部空間23には負圧が発生する。この負圧によって下方へ突き出された第一のチップ11は、下方に配置された第一の窪み21の中へ吸引され移載が完了する。 Next, as shown in FIG. 6, the pusher drive mechanism 31 lowers the pusher 30 and pushes the first tip 11 downward through the film. At the same time, the electromagnetic valve is activated so that the suction head 70 communicates with the negative pressure source. In addition, a negative pressure is generated in the bottom space 23 of the recess 21. The first tip 11 protruded downward by this negative pressure is sucked into the first recess 21 arranged below, and the transfer is completed.

第一のチップの移載が完了するとプッシャー駆動機構31によってプッシャー30が上昇し、トレー・キャリア110およびウエーハリング・キャリア120は第二の窪み21と第二のチップ11の中心位置がプッシャー30の軸心位置と一致するようにそれぞれ移動する。その後は上述した方法と同様な動作を繰り返してチップ11の移載が行われる。   When the transfer of the first chip is completed, the pusher drive mechanism 31 raises the pusher 30, and the tray carrier 110 and the wafer ring carrier 120 have the second recess 21 and the center position of the second chip 11 positioned at the pusher 30. Move to match the axial position. Thereafter, the chip 11 is transferred by repeating the same operation as described above.

図7は本発明の第三の実施例を示した図である。第三の実施例では、第二の実施例からトレー20の下方に配置した吸引ヘッド駆動機構71と吸引ヘッド70を取り外し、新たに回転チャック40をウエーハリング10とトレー20の間に配置している。この回転チャック40は回転が可能となっており、チャック座41は一つまたは複数個備えることができる。このチャック座41は真空ポンプ等の負圧源(図示せず)と加圧ポンプ等の正圧源(図示せず)にそれぞれ配管により接続されており、その配管の途中には電磁弁がそれぞれ設けられており、負圧源と正圧源との連通の切り替えが行えるようになっている。また、この回転チャック40の軸心はプッシャー30の軸心と一致するように回転チャック40は配置されている。   FIG. 7 is a view showing a third embodiment of the present invention. In the third embodiment, the suction head drive mechanism 71 and the suction head 70 disposed below the tray 20 from the second embodiment are removed, and a new rotating chuck 40 is disposed between the wafer ring 10 and the tray 20. Yes. The rotary chuck 40 can be rotated, and one or a plurality of chuck seats 41 can be provided. The chuck seat 41 is connected to a negative pressure source (not shown) such as a vacuum pump and a positive pressure source (not shown) such as a pressurizing pump by piping, and an electromagnetic valve is provided in the middle of the piping. It is provided so that the communication between the negative pressure source and the positive pressure source can be switched. Further, the rotary chuck 40 is arranged so that the axis of the rotary chuck 40 coincides with the axis of the pusher 30.

次に、この第三の実施例に基くチップ11の移載のシーケンスについて説明する。   Next, the transfer sequence of the chip 11 based on the third embodiment will be described.

第一のチップ11と第一の窪み21の中心位置が、予め定められたプッシャー30の軸心位置と一致するようにそれぞれ移動するまでは、第二の実施例と同様である。   The process is the same as in the second embodiment until the center positions of the first tip 11 and the first recess 21 are moved so as to coincide with the predetermined axial center position of the pusher 30, respectively.

次に、図8に示すように、プッシャー駆動機構31によってプッシャー30が下降し、フィルムを通して第一のチップ11を下方へ突き出すと同時に、回転チャック40のチャック座41は電磁弁(図示せず)によって負圧源と連通され、この負圧によって下方へ突き出された第一のチップ11は、下方に配置されたチャック座41へ移載される。次に回転チャック40は180°回転し、図9に示すようにチップ11を保持したチャック座41は第一の窪み21の上方に位置する。このとき、チャック座41は電磁弁の切り替えにより、負圧源から正圧源に接続されるようになる。この正圧源によりチャック座41には正圧が作用し、それまで保持していた第一のチップ11を下方に配置された第一の窪み21に移載する。 Next, as shown in FIG. 8, the pusher drive mechanism 31 lowers the pusher 30 to project the first chip 11 downward through the film, and at the same time, the chuck seat 41 of the rotary chuck 40 is an electromagnetic valve (not shown). The first chip 11 communicated with the negative pressure source and protruded downward by the negative pressure is transferred to the chuck seat 41 disposed below. Next, the rotary chuck 40 is rotated by 180 °, and the chuck seat 41 holding the chip 11 is positioned above the first recess 21 as shown in FIG. At this time, the chuck seat 41 is connected from the negative pressure source to the positive pressure source by switching the electromagnetic valve. A positive pressure is applied to the chuck seat 41 by the positive pressure source, and the first chip 11 held so far is transferred to the first recess 21 disposed below.

第一のチップの移載が完了するとプッシャー駆動機構31によってプッシャー30が上昇し、トレー・キャリア110およびウエーハリング・キャリア120は第二の窪み21と第二のチップ11の中心位置がプッシャー30の軸心位置と一致するようにそれぞれ移動する。その後は上述した方法と同様な動作を繰り返してチップ11の移載が行われる。   When the transfer of the first chip is completed, the pusher drive mechanism 31 raises the pusher 30, and the tray carrier 110 and the wafer ring carrier 120 have the second recess 21 and the center position of the second chip 11 at the center of the pusher 30. Move to match the axial position. Thereafter, the chip 11 is transferred by repeating the same operation as described above.

図10は本発明の第四の実施例を示した図である。ウエーハリング10はチップ11を上方に向けてウエーハリング・キャリア120に固定されており、このウエーハリング・キャリア120はチップを所定の位置に位置決めするため、あるいはウエーハリング10の交換をするために水平面内に移動することができるようになっている。ウエーハリング10の側方にはトレー・キャリア110に固定されたトレー20が配置されており、このトレー・キャリア110はトレーの窪み21を所定の位置に位置決めするため、あるいはトレー20の交換をするために水平面内に移動することができるようになっている。ウエーハリング10の下方にはプッシャー駆動機構31に連結されたプッシャー30が配置されている。プッシャー30の上端面にはフィルムを通してチップを安定して突き出せるように、一つまたは複数の小さい突起32が設けられているが、この突起は必須のものではない。このプッシャー30は、プッシャー駆動機構31によって上下方向へ移動できるようになっている。更にウエーハリング10の上方には上下方向、および横方向に移動可能なチャック駆動機構91に連結されたチャック90が配置されている。このチャック90の先端部分には、チャック座92が設けられている。このチャック座92は真空ポンプ等の負圧源(図示せず)と加圧ポンプ等の正圧源(図示せず)にそれぞれ配管により接続されており、その配管の途中には電磁弁(図示せず)がそれぞれ設けられており、負圧源と正圧源との連通の切り替えが行えるようになっている。   FIG. 10 is a diagram showing a fourth embodiment of the present invention. The wafer ring 10 is fixed to the wafer ring carrier 120 with the chip 11 facing upward, and the wafer ring carrier 120 is used to position the chip in a predetermined position or to replace the wafer ring 10 in a horizontal plane. You can move in. A tray 20 fixed to a tray carrier 110 is arranged on the side of the wafer ring 10, and this tray carrier 110 is used to position the tray recess 21 at a predetermined position or to replace the tray 20. Therefore, it can move in a horizontal plane. A pusher 30 connected to a pusher drive mechanism 31 is disposed below the wafer ring 10. One or a plurality of small protrusions 32 are provided on the upper end surface of the pusher 30 so that the chip can be stably protruded through the film, but this protrusion is not essential. The pusher 30 can be moved in the vertical direction by a pusher drive mechanism 31. Further, a chuck 90 connected to a chuck driving mechanism 91 that is movable in the vertical direction and the horizontal direction is disposed above the wafer ring 10. A chuck seat 92 is provided at the tip of the chuck 90. The chuck seat 92 is connected to a negative pressure source (not shown) such as a vacuum pump and a positive pressure source (not shown) such as a pressure pump by piping, and an electromagnetic valve (not shown) is placed in the middle of the piping. (Not shown) are provided so that the communication between the negative pressure source and the positive pressure source can be switched.

次に、この第四の実施例に基くチップ11の移載のシーケンスについて説明する。   Next, the transfer sequence of the chip 11 based on the fourth embodiment will be described.

まず、空のトレー20とチップ11が貼り付けられたウエーハリング10がそれぞれの交換位置においてトレー・キャリア110およびウエーハリング・キャリア120の所定位置に精度よく固定される。次に各キャリアは、移載を行うために予め定められた位置に第一のチップ11と第一の窪み21を配置するためにそれぞれ移動する。   First, the wafer ring 10 to which the empty tray 20 and the chip 11 are attached is accurately fixed to predetermined positions of the tray carrier 110 and the wafer ring carrier 120 at the respective exchange positions. Next, each carrier moves to place the first chip 11 and the first recess 21 at a predetermined position for transfer.

次に、図11に示すように、プッシャー駆動機構31によってプッシャー30が上昇し、フィルムを通して第一のチップ11を上方へ突き出すと同時に、チャック駆動機構91によってチャック90が下降すると共に、電磁弁が作動してチャック座92は負圧源と連通される。この負圧によって第一のチップ11はチャック座92の中に吸着される。第一のチップ11を吸着したチャック90は、チャック駆動機構91によって上昇、水平移動、そして下降して第一の窪み21の上方に移動する。移動が完了すると電磁弁が作動してチャック座92は正圧源と連通され、チャック座92の中に吸着されていた第一のチップ11は、第一の窪み21の中に移載される。   Next, as shown in FIG. 11, the pusher drive mechanism 31 raises the pusher 30 and protrudes the first chip 11 upward through the film.At the same time, the chuck drive mechanism 91 lowers the chuck 90 and the electromagnetic valve In operation, the chuck seat 92 communicates with a negative pressure source. The first chip 11 is adsorbed in the chuck seat 92 by this negative pressure. The chuck 90 that has attracted the first chip 11 is raised, horizontally moved, and lowered by the chuck drive mechanism 91 and moved above the first recess 21. When the movement is completed, the electromagnetic valve is activated, the chuck seat 92 communicates with the positive pressure source, and the first chip 11 adsorbed in the chuck seat 92 is transferred into the first recess 21. .

第一のチップの移載が完了するとプッシャー駆動機構31によってプッシャー30が下降し、チャック駆動機構91によってチャック90は初期位置まで戻る。更にトレー・キャリア110およびウエーハリング・キャリア120は第二の窪み21と第二のチップ11の中心位置が所定位置となるようにそれぞれ移動する。その後は上述した方法と同様な動作を繰り返してチップ11の移載が行われる。   When the transfer of the first chip is completed, the pusher 30 is lowered by the pusher drive mechanism 31, and the chuck 90 is returned to the initial position by the chuck drive mechanism 91. Further, the tray carrier 110 and the wafer ring carrier 120 are moved so that the center positions of the second recess 21 and the second chip 11 become predetermined positions. Thereafter, the chip 11 is transferred by repeating the same operation as described above.

以上説明した第一から第四の実施例においては、ウエーハリング上のチップの位置を正確に把握し、プッシャー30の軸心位置と正確に一致させるようにするために、ウエーハリング上のチップの水平面内位置を検出する位置検出装置50を設けることができる(図7参照)。この位置検出装置50としては、例えば公知のCCDカメラと画像処理装置を組み合わせた方式や、レーザーセンサーや光電センサーを使用した方式のものを採用することができる。ウエーハリング10上のチップ11の水平面内位置を正確に把握することによって、ウエーハリング・キャリア120を駆動してチップ11の中心位置をプッシャー30の軸心位置と正確に一致させることができ、チップ11の移載不良を防止することができる。また、治具を使用した手動による位置合わせを行うこともできる。   In the first to fourth embodiments described above, in order to accurately grasp the position of the chip on the wafer ring and accurately match the axial center position of the pusher 30, A position detection device 50 for detecting the position in the horizontal plane can be provided (see FIG. 7). As the position detection device 50, for example, a method combining a known CCD camera and an image processing device, or a method using a laser sensor or a photoelectric sensor can be adopted. By accurately grasping the position of the tip 11 on the wafer ring 10 in the horizontal plane, the wafer ring carrier 120 can be driven to accurately match the center position of the tip 11 with the axial center position of the pusher 30. 11 transfer defects can be prevented. Manual alignment using a jig can also be performed.

また、チップ11の移載を確実に行うようにするために、トレーの窪みの上方および回転チャックがウエーハリングの下方に近接して配置されたときに回転チャックの上方に更にチップガイド60を配置することもできる(図12参照)。このチップガイド60はチップ11の移載をスムースにするために設けられたものであり、チップガイド60の内側寸法は、実際のチップの寸法より大きいが、窪みの寸法より大きくとったものである。またチップガイド60の内側に、上方より下方の寸法を小さくしたテーパーを設けることもできる。   Further, in order to ensure transfer of the chip 11, a chip guide 60 is further disposed above the rotary chuck when the rotary chuck is disposed above the recess of the tray and close to the lower part of the wafer ring. (See Fig. 12). The tip guide 60 is provided to make the transfer of the tip 11 smooth, and the inner size of the tip guide 60 is larger than the actual tip size but larger than the recess size. . In addition, a taper with a lower dimension from the upper side can be provided inside the tip guide 60.

ここで開示したチップの移載装置およびチップの移載方法は、大規模集積回路が形成された半導体やガラス基板にフィルター膜を蒸着したフィルターチップの製造等に利用することができ、これらの製品の品質と生産性の向上に大きく寄与することができるものと期待されている。   The chip transfer device and chip transfer method disclosed herein can be used for manufacturing a filter chip in which a filter film is deposited on a semiconductor or glass substrate on which a large-scale integrated circuit is formed. It is expected to contribute greatly to the improvement of quality and productivity.

図1は、ウエーハリングのフィルム上に貼り付けられたチップを示した図である。FIG. 1 is a view showing a chip attached to a wafer ring film. 図2は、チップを移載するトレーを示した図である。FIG. 2 is a view showing a tray to which chips are transferred. 図3は、本発明の第一の実施例を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing a first embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第一の実施例の装置全体の概要を示した図である。FIG. 4 is a diagram showing an outline of the entire apparatus of the first embodiment of the present invention. 図5は、本発明の第二の実施例を示した図である。FIG. 5 is a diagram showing a second embodiment of the present invention. 図6は、本発明の第二の実施例の装置全体の概要を示した図である。FIG. 6 is a diagram showing an overview of the entire apparatus according to the second embodiment of the present invention. 図7は、本発明の第三の実施例を示した図である。FIG. 7 is a diagram showing a third embodiment of the present invention. 図8は、本発明の第三の実施例のウエーハリング側でのチップの受け渡し状態を示した図である。FIG. 8 is a diagram showing a chip delivery state on the wafer ring side according to the third embodiment of the present invention. 図9は、本発明の第三の実施例のトレイ側でのチップの受け渡し状態を示した図である。FIG. 9 is a diagram showing a chip delivery state on the tray side according to the third embodiment of the present invention. 図10は、本発明の第四の実施例を示した図である。FIG. 10 is a diagram showing a fourth embodiment of the present invention. 図11は、本発明の第四の実施例のチャックによってチップを吸引する状態を示した図である。FIG. 11 is a view showing a state in which the chip is sucked by the chuck according to the fourth embodiment of the present invention. 図12は、本発明の第四の実施例において、ウエーハリング側でのチップの受け渡し、およびトレイ側でのチップの受け渡しの際に、チップガイドを使用した状態を示したものである。FIG. 12 shows a state in which the chip guide is used when the chip is transferred on the wafer ring side and the chip is transferred on the tray side in the fourth embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 ウエーハリング
11 チップ
12 フィルム
20 トレー
21 窪み
30 プッシャー
31 プッシャー駆動機構
32 突起
40 回転チャック
41 チャック座
50 位置検出装置
60 チップガイド
70 吸引ヘッド
90 チャック
92 チャック座
10 Wafer ring 11 Chip 12 Film 20 Tray 21 Dimple 30 Pusher 31 Pusher drive mechanism 32 Protrusion 40 Rotating chuck 41 Chuck seat 50 Position detecting device 60 Chip guide 70 Suction head 90 Chuck 92 Chuck seat

Claims (11)

複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、突起を下端面に設けたプッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーから成り、
該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、および該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの水平面内の位置が合うように、該プッシャーは該ウエーハリングの上方に近接して配置され、更に該トレーは該ウエーハリングの下方に近接して配置され、
該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを押出し、該窪みの中へチップを移載することを特徴とするチップの移載装置。
It consists of a wafer ring with a film with a plurality of chips attached, a pusher with protrusions on the bottom surface, and a tray with a plurality of depressions to hold the chips,
The pusher is positioned on the wafer ring such that the pusher, any one of the plurality of chips, and any one of the plurality of depressions in the tray are aligned in a horizontal plane. Placed close to the top, and the tray is placed close to the bottom of the wafer ring,
A chip transfer device, wherein the pusher is moved downward to extrude a chip from the film side, and the chip is transferred into the recess.
複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、該チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、吸引ヘッドから成り、
該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、および該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの水平面内の位置が合うように、該プッシャーは該ウエーハリングの上方に近接して配置され、該トレーは該ウエーハリングの下方に近接して配置され、更に該吸引ヘッドは該窪みの下方に配置され、
該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該吸引ヘッドによりチップを吸引して該窪みの中へ移載することを特徴とするチップの移載装置。
A wafer ring including a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, and a suction head;
The pusher is positioned on the wafer ring such that the pusher, any one of the plurality of chips, and any one of the plurality of depressions in the tray are aligned in a horizontal plane. Placed close to the top, the tray is placed close to the bottom of the wafer ring, and the suction head is placed below the well;
A chip transfer apparatus, wherein the pusher is moved downward to project a chip from the film side, and the chip is sucked by the suction head and transferred into the recess.
複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、負圧源並びに正圧源に連通すると共にチップの周辺部のみを支持するチャック座を有する回転チャックから成り、
該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、該チャック、および該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの水平面内の位置が合うように、該プッシャーは該ウエーハリングの上方に近接して配置され、該回転チャックは該ウエーハリングの下方に近接して配置され、更に該トレーは該回転チャックの下方に配置され、
該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該回転チャックは負圧によりチップを吸引して保持し、180°回転した後に正圧によりチップを該窪みの中へ移載することを特徴とするチップの移載装置。
A wafer ring having a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, a negative pressure source and a positive pressure source, and a peripheral portion of the chips only. A rotating chuck having a chuck seat to support,
The pusher is arranged so that the position of any one of the plurality of chips, the chuck, and the plurality of depressions of the tray in the horizontal plane is aligned. Positioned close to the top of the wafer ring, the rotating chuck is positioned close to the bottom of the wafer ring, and the tray is positioned below the rotating chuck,
The pusher is moved downward to project the chip from the film side, and the rotary chuck sucks and holds the chip by negative pressure, and after 180 ° rotation, transfers the chip into the recess by positive pressure. A chip transfer device characterized by the above.
複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、負圧源並びに正圧源に連通すると共にチップの周辺部のみを支持するチャック座を有するチャックから成り、
該プッシャーおよび該複数個のチップの内のいずれか一つのチップの水平面内の位置が合うように、該プッシャーは該ウエーハリングの下方に配置され、該チャックは該ウエーハリングの上方に配置され、更に該トレーは該ウエーハリングの側方に配置され、
該プッシャーを上方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該チャックがチップ上方へ接近した後負圧によりチップを吸引して保持し、更に該窪みの上方へ移動接近した後に正圧によりチップを該窪みの中へ移載することを特徴とするチップの移載装置。
A wafer ring having a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, a negative pressure source and a positive pressure source, and a peripheral portion of the chips only. A chuck having a chuck seat to support,
The pusher is disposed below the wafer ring and the chuck is disposed above the wafer ring so that the positions of the pusher and any one of the plurality of chips in a horizontal plane are aligned. Furthermore, the tray is arranged on the side of the wafer ring,
The pusher is moved upward to project the chip from the film side, and after the chuck approaches the chip, the chip is sucked and held by negative pressure, and further moved toward the upper part of the recess and then moved to the chip by positive pressure. A chip transfer device, wherein the chip is transferred into the recess.
請求項1から4までに記載されたチップの移載装置のいずれかにおいて、前記ウエーハリング上のチップの水平面内位置を検出する位置検出装置を更に備えたことを特徴とするチップの移載装置。   5. The chip transfer device according to claim 1, further comprising a position detection device for detecting a position of the chip on the wafer ring in a horizontal plane. . 請求項1, 2, 4に記載されたチップの移載装置のいずれかにおいて、前記トレーの窪みの上方に更にチップガイドを配置したことを特徴とするチップの移載装置。   5. The chip transfer device according to claim 1, wherein a chip guide is further disposed above the recess of the tray. 請求項3に記載されたチップの移載装置において、前記トレーの窪みの上方、および前期回転チャックが前記ウエーハリングの下方に近接して配置されたときに当該回転チャックの上方に更にチップガイドを配置したことを特徴とするチップの移載装置。   4. The chip transfer device according to claim 3, wherein a chip guide is further provided above the recess of the tray and above the rotary chuck when the rotary chuck is disposed close to the lower part of the wafer ring. A chip transfer device characterized by being arranged. 複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、突起を下端面に設けたプッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーを使用し、
(1) 該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、および該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの水平面内の位置を合わせると共に、該プッシャーを該ウエーハリングの上方に近接して配置し、更に該トレーを該ウエーハリングの下方に近接して配置するステップと、
(2) 該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを押出し、該窪みの中へチップを移載するステップと、
から成ることを特徴とするチップの移載方法。
Using a wafer ring with a film with a plurality of chips attached, a pusher with protrusions on the lower end, and a tray with a plurality of depressions to hold the chips,
(1) The pusher, any one of the plurality of chips, and any one of the plurality of depressions of the tray are aligned in a horizontal plane, and the pusher is moved to the wafer. Placing close to the top of the ring and further placing the tray close to the bottom of the wafer ring;
(2) moving the pusher downward to extrude the chip from the film side and transferring the chip into the recess;
A chip transfer method comprising the steps of:
複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、該チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、吸引ヘッドを使用し、
(1) 該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの位置が合うように、該プッシャーを該ウエーハリングの上方に近接して配置し、該トレーを該ウエーハリングの下方に近接して配置し、該吸引ヘッドを該トレーの下方に近接して配置するステップと、
(2) 該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該吸引ヘッドによりチップを吸引して該窪みの中へ移載するステップと、
から成ることを特徴とするチップの移載方法。
Using a wafer ring provided with a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, and a suction head,
(1) The pusher is placed above the wafer ring so that any one of the plurality of chips and any one of the plurality of depressions in the tray are aligned. Placing the tray in proximity to the wafer ring and placing the suction head in proximity to the bottom of the tray; and
(2) moving the pusher downward to project the chip from the film side, and sucking the chip by the suction head and transferring it into the recess;
A chip transfer method comprising the steps of:
複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、負圧源並びに正圧源に連通すると共にチップの周辺部のみを支持するチャック座を有する回転チャックを使用し、
(1) 該プッシャー、該複数個のチップの内のいずれか一つのチップ、該チャック、および該トレーの複数個の窪みの内のいずれか一つの窪みの水平面内の位置が合うように、該プッシャーを該ウエーハリングの上方に近接して配置し、該回転チャックを該ウエーハリングの下方に近接して配置し、更に該トレーを該回転チャックの下方に配置するステップと、
(2) 該プッシャーを下方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該回転チャックが負圧によりチップを吸引して保持するステップと、
(3) 該回転チャックが180°回転した後に正圧によりチップを該窪みの中へ移載するステップと、
から成ることを特徴とするチップの移載方法。
A wafer ring having a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, a negative pressure source and a positive pressure source, and a peripheral portion of the chips only. Use a rotating chuck with a chuck seat to support,
(1) The pusher, any one of the plurality of chips, the chuck, and any one of the plurality of depressions of the tray are aligned with each other in a horizontal plane. Disposing a pusher proximate above the wafer ring, disposing the rotating chuck proximate to the bottom of the wafer ring, and disposing the tray below the rotating chuck;
(2) moving the pusher downward to project the chip from the film side, and the rotary chuck sucks and holds the chip with negative pressure; and
(3) transferring the chip into the recess by positive pressure after the rotary chuck has rotated 180 °;
A chip transfer method comprising the steps of:
複数個のチップを貼り付けたフィルムを備えたウエーハリングと、プッシャーと、チップを保持する複数個の窪みを設けたトレーと、負圧源並びに正圧源に連通すると共にチップの周辺部のみを支持するチャック座を有するチャックを使用し、
(1) 該プッシャーおよび該複数個のチップの内のいずれか一つのチップの水平面内の位置が合うように、該プッシャーを該ウエーハリングの下方に配置し、該チャックを該ウエーハリングの上方に配置し、更に該トレーを該ウエーハリングの側方に配置するステップと、
(2) 該プッシャーを上方へ動かして該フィルム側からチップを突き出すと共に、該チャックがチップ上方へ接近した後負圧によりチップを吸引して保持するステップと、
(3) 該チャックを該窪みの上方へ移動接近させた後に、正圧によりチップを該窪みの中へ移載するステップと、
から成ることを特徴とするチップの移載方法。
A wafer ring having a film with a plurality of chips attached thereto, a pusher, a tray provided with a plurality of depressions for holding the chips, a negative pressure source and a positive pressure source, and a peripheral portion of the chips only. Use a chuck with a chuck seat to support,
(1) The pusher is disposed below the wafer ring so that any one of the pusher and the plurality of chips is aligned in a horizontal plane, and the chuck is disposed above the wafer ring. Placing and further placing the tray to the side of the wafer ring;
(2) moving the pusher upward to protrude the chip from the film side, and sucking and holding the chip with negative pressure after the chuck approaches the chip; and
(3) After moving the chuck upward and close to the recess, transferring the chip into the recess by positive pressure;
A chip transfer method comprising the steps of:
JP2004086646A 2004-03-24 2004-03-24 Equipment and method for chip transfer Pending JP2005277009A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004086646A JP2005277009A (en) 2004-03-24 2004-03-24 Equipment and method for chip transfer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004086646A JP2005277009A (en) 2004-03-24 2004-03-24 Equipment and method for chip transfer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005277009A true JP2005277009A (en) 2005-10-06

Family

ID=35176364

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004086646A Pending JP2005277009A (en) 2004-03-24 2004-03-24 Equipment and method for chip transfer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005277009A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190116981A (en) * 2017-02-09 2019-10-15 본드테크 가부시키가이샤 Component mounting system, resin molding apparatus, resin mounting apparatus, component mounting method and resin molding method
CN116544132A (en) * 2023-07-07 2023-08-04 广东芯乐光光电科技有限公司 Mini-LED patch detection equipment and detection method

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190116981A (en) * 2017-02-09 2019-10-15 본드테크 가부시키가이샤 Component mounting system, resin molding apparatus, resin mounting apparatus, component mounting method and resin molding method
JPWO2018147147A1 (en) * 2017-02-09 2019-11-07 ボンドテック株式会社 Component mounting system and component mounting method
JP2020068379A (en) * 2017-02-09 2020-04-30 ボンドテック株式会社 Component mounting system and component mounting method
JP7146275B2 (en) 2017-02-09 2022-10-04 ボンドテック株式会社 Component mounting system and component mounting method
US11587804B2 (en) 2017-02-09 2023-02-21 Bondtech Co., Ltd. Component mounting system
KR102526457B1 (en) * 2017-02-09 2023-05-02 본드테크 가부시키가이샤 Component mounting system, resin molding device, resin mounting device, component mounting method, and resin molding method
CN116544132A (en) * 2023-07-07 2023-08-04 广东芯乐光光电科技有限公司 Mini-LED patch detection equipment and detection method
CN116544132B (en) * 2023-07-07 2023-12-15 广东芯乐光光电科技有限公司 Mini-LED patch detection equipment and detection method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5833959B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
TWI512876B (en) Detachment apparatus and detachment system and detachment method and non-transitory computer readable storage medium
TW201234443A (en) Peeling apparatus, peeling system, peeling method, and computer storage medium
TWI254397B (en) Apparatus and method of automatically cleaning a pick-up head
JP7483069B2 (en) Substrate Transfer System
JP2009043771A (en) Chuck table mechanism and holding method for workpiece
WO2013136982A1 (en) Peeling apparatus, peeling system, and peeling method
JP2004088109A (en) Wafer table and semiconductor package manufacturing apparatus using it
US20140158303A1 (en) Bonding system, substrate processing system, and bonding method
JP4323129B2 (en) Plate-like material transport mechanism
KR101422356B1 (en) Die pickup unit and die bonder including the same
JP6061629B2 (en) Processing equipment
JP2013172122A (en) Die bonder
JP5623213B2 (en) Cutting device
KR20140065133A (en) Buffer stage and die bonder including the same
JP4476866B2 (en) Wafer holding method
JP2003086543A (en) Carrying mechanism of plate-like object and dicing device with carrying mechanism
TWM564251U (en) Cleaning apparatus
JP2005277009A (en) Equipment and method for chip transfer
KR20200110197A (en) Bonding system and bonding method
JP2010245332A (en) Semiconductor aligner
JP6230941B2 (en) Substrate processing equipment
JP2006303105A (en) Method for machining semiconductor wafer
JP2011131284A (en) Grinding device
US20190348304A1 (en) Cleaning apparatus and method for chip-stacked structure

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070125

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090610

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090616

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20091020