JP2005268811A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 レチクルステージ（マスクステージ）等を駆動する際に生じる駆動反力を低減し、投影光学系等へ伝達する振動の影響を小さくして、高精度な露光を行う。
【解決手段】 マスク（１）のパタ−ンの像を投影光学系（２）を介して基板（３）上に転写する露光装置において、そのマスク（１）を保持して移動させるマスクステージ（４）と、このマスクステージ（４）を移動させるマスクベース（９）と、このマスクベース（９）とその投影光学系（２）とを支持する構造体（６）と、そのマスクステージ（４）及びそのマスクベース（９）の動作を制御する制御系（５２）とを有し、そのマスクベース（９）を制御することによって、そのマスクステージ（４）の駆動反力のその構造体（６）に対する影響を低減する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、例えば、半導体素子、液晶表示素子、又は薄膜磁気ヘッド等を製造するためのリソグラフィ工程でマスクパターンを感光性の基板上に転写するために使用される露光装置に関する。

半導体素子等を製造する際に、マスクとしてのレチクルのパターンの像を投影光学系を介して基板としてのレジストが塗布されたウエハ（又はガラスプレート等）上の各ショット領域に転写する投影露光装置が使用されている。従来は、投影露光装置として、ステップ・アンド・リピート方式（一括露光型）の投影露光装置（ステッパー）が多用されていたが、最近ではレチクルとウエハとを、投影光学系に対して同期走査して露光を行うステップ・アンド・スキャン方式のような走査露光型の投影露光装置（走査型露光装置）も注目されている。

従来の露光装置では、パターン原版であるレチクルとそのパターンが転写されるウエハとをそれぞれ支持搬送するレチクルステージ、及びウエハステージの駆動部が、投影光学系を支持する構造体に固定されており、また、投影光学系も重心付近がその構造体に固定されていた。また、ウエハステージを高精度に位置決めするために、ウエハステージの位置をレーザ干渉計により計測しており、ウエハステージには、レーザ干渉計用の移動鏡が取り付けられていた。

さらに、ウエハをウエハステージ上のウエハホルダに搬送するために、ウエハをウエハカセットから取り出してウエハホルダ側に搬送するウエハ搬送アームと、ウエハをウエハホルダからウエハカセット側に運ぶウエハ搬送アームとが独立して備えられており、ウエハの搬入の際には、ウエハ搬送アームにより運ばれてきたウエハが、ウエハホルダに備えられた専用の昇降自在の支持部材に一旦仮に固定して支持され、その後搬送アームが退避してから支持部材が下降し、ウエハをウエハホルダ上に載置していた。この後に、ウエハはウエハホルダ上に真空吸着され、露光装置からウエハを搬出する際は、この逆の動作が行われていた。

上記の如く従来の露光装置では、レチクルステージ（マスクステージ）等の駆動部と投影光学系とが同一の構造体に固定されていたため、ステージの駆動反力により生じる振動が構造体に伝達し、更に投影光学系にも振動が伝達していた。そして、全ての機械構造物は所定の周波数の振動に対して機械共振するため、このような振動がその構造体に伝達すると、構造体の変形や共振現象が引き起こされ、転写パターン像の位置ずれやコントラストの低下が生じるという不都合があった。

本発明は斯かる点に鑑み、レチクルステージ（マスクステージ）等を駆動する際に生じる振動の影響を小さくして、高精度な露光を行うことができる露光装置を提供することを目的とする。

本発明の第１の露光装置は、マスク（１）のパタ−ンの像を投影光学系（２）を介して基板（３）上に転写する露光装置において、そのマスク（１）を保持して移動させるマスクステージ（４）と、このマスクステージ（４）を移動させるマスクベース（９）と、このマスクベース（９）とその投影光学系（２）とを支持する構造体（６）と、そのマスクステージ（４）及びそのマスクベース（９）の動作を制御する制御系（５２）とを有し、そのマスクベース（９）を制御することによって、そのマスクステージ（４）の駆動反力のその構造体（６）に対する影響を低減するものである。

斯かる本発明の第１の露光装置によれば、マスクステージ（４）の移動方向と反対方向に所定の速度でマスクベース（９）が移動するように制御することにより、マスクステージ（４）を駆動する際の駆動反力の構造体（６）への影響が低減され、機械共振の励起を抑え、構造体（６）、及び投影光学系（２）に伝達する振動を低減することができる。
次に、本発明の第２の露光装置は、マスク（１）のパタ−ンを基板（３）に形成する露光装置において、そのマスク（１）を保持してマスクベース（９）を移動可能なマスクステージ（４）と、このマスクステージ（４）とそのマスクベース（９）とに接続され、そのマスクステージ（４）を駆動する第１リニアモータと、この第１リニアモータによりマスクステージ（４）を駆動した際の反力により、そのマスクベース（９）がそのマスクステージ（４）とは逆方向に移動するように、マスクベース（９）を移動可能に支持する支持手段と、を備えたものである。

斯かる本発明の第２の露光装置によれば、マスクベース（９）がマスクステージ（４）を駆動した際の反力によりマスクステージ（４）とは逆方向に移動するので、マスクステージを駆動した際に発生する反力を低減することができる。
その支持手段は、流体軸受を有していることが望ましい。
また、マスクベース（９）の変位量を検出する検出手段と、この検出手段の検出結果に基づいてマスクベース（９）を駆動する第２リニアモータとを備えていてもよい。

また、第１リニアモータの一部（１１）と前記第２リニアモータとの一部（１１）とが共用されていてもよい。
また、その検出手段がリニアエンコーダを有していてもよい。
また、その第１リニアモータがそのマスクステージ（４）に接続されたコイルと、そのマスクベース（９）に接続されたマグネット（１１）とを有していてもよい。
また、そのマスクベース（９）の移動量がそのマスクステージ（４）の移動量よりも小さくてもよい。

本発明の第１の露光装置によれば、マスクステージの移動方向と反対方向に所定の速度でマスクベースが移動するように制御することにより、マスクステージの駆動反力の構造体の影響が低減され、機械共振の励起を抑え、構造体、及び投影光学系に伝達する振動を低減することができる。従って、高精度な露光を行うことができる。
また、本発明の第２の露光装置によれば、マスクステージを駆動した際に発生する反力を低減することができるので、高精度な露光を行うことができる。

以下、本発明の好ましい実施の形態の一例につき図面を参照して説明する。本例はステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置に本発明を適用したものである。
図１は、本例の投影露光装置を示し、この図１において、露光時には照明光学系（不図示）からの水銀ランプのｉ線、又はＫｒＦ、ＡｒＦ、Ｆ₂ 等のエキシマレーザ光等の露光光が、レチクル１のパターン面の照明領域を照明する。そして、レチクル１の照明領域内のパターン像が投影光学系２を介して所定の投影倍率β（βは通常１／４，１／５等）で、フォトレジストが塗布されたウエハ３上に投影露光される。以下、振動がない状態での投影光学系２の光軸ＡＸに平行にＺ軸を取り、その光軸ＡＸに垂直な平面内での直交座標系をＸ軸、Ｙ軸として説明する。

先ず、レチクル１はレチクルステージ４上に保持され、レチクルステージ４は、レチクルベース９上でリニアモータ方式でＸ方向（走査方向）に連続移動すると共に、ＸＹ平面内でのレチクル１の位置の微調整を行う。レチクルステージ４上の移動鏡４３Ｘ，４３Ｙ、及びレーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙによりレチクルステージ４（レチクル１）の２次元的な位置が計測され、この計測値が装置全体の動作を統轄制御するコンピュータよりなる主制御系５０に供給され、主制御系５０は、その計測値に基づいてレチクルステージ制御系５２を介してレチクルステージ４の位置、及び移動速度を制御する。

一方、ウエハ３は、ウエハステージ５上に真空吸着によって保持され、ウエハステージ５はＺ方向に所定範囲内で伸縮自在の３個の支持脚３１Ａ〜３１Ｃを介してウエハベース７上に載置されている。支持脚３１Ａ〜３１Ｃの伸縮量は支持脚制御系６３（図１６参照）によって制御され、支持脚３１Ａ〜３１Ｃの伸縮量を同じにすることによって、ウエハ３のＺ方向の位置（フォーカス位置）の制御が行われ、支持脚３１Ａ〜３１Ｃの伸縮量を独立に制御することによってウエハ３表面の傾斜角の制御（レベリング）が行われる。

また、ウエハステージ５は、ウエハベース７上を例えばリニアモータ方式でＸ方向、及びＹ方向に連続移動することができる。また、その連続移動によってステッピングも行うことができる。また、ウエハ３（ウエハステージ５）の座標計測を行うために、ウエハステージ５の側面にはＸ軸にほぼ垂直な反射面を有するＸ軸の移動鏡４４Ｘ（図３参照）、及びＹ軸にほぼ垂直な反射面を有するＹ軸の移動鏡４４Ｙ（図３参照）が固定されている。これらの移動鏡に対応して、投影光学系２の側面にＸ軸の参照鏡１４、及びＹ軸の参照鏡１３が固定されている。

そして、走査露光時には、レチクルステージ４をＸ軸方向に等速移動させ、それと同期してレチクルステージ４の移動速度を投影倍率β倍で縮小した速度でウエハ３が載置されたウエハステージ５を逆方向に移動し走査露光を行う。走査露光終了後、ウエハステージ５は走査方向、又は走査方向と直交するＹ軸方向にステップ移動し、先程とは逆方向にレチクルステージ４とウエハステージ５とを同期して移動させ走査露光を行う。以下、同様の操作でウエハ３上の全部のショット領域にレチクル１のパターン像が転写される。

次に、本例の露光装置のレチクルステージ、及びレチクルベースについて説明する。
レチクルステージ４は、特開平８−６３２３１号公報に開示されているようなガイドレスステージであり、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及び投影光学系２の光軸ＡＸ回りの回転方向に駆動自在である。また、レチクルステージ４の側面に固定されたコイルと、対向してレチクルベース９上に固定された１対のモータマグネット１１Ａ，１１Ｂとからレチクルステージ４を駆動する１対のリニアモータが構成され、レチクルベース９は構造体６の上面１０に対して空気軸受けのような流体軸受け（不図示）を介して支持されている。モータマグネット１１Ａ，１１Ｂの端部から構造体６上に設置されたコイルユニット１２Ａ，１２Ｂの端部が挿入され、モータマグネット１１Ａ，１１Ｂとコイルユニット１２Ａ，１２Ｂとから構成される１対のリニアモータによって、構造体６に対して、レチクルベース９をＸ軸方向に位置決めする。そして、構造体６は４本の脚部６ａを介して防振パッド４９により床上に支持されており、床からの振動を低減する。

レチクルベース９は、走査露光時にレチクルステージ４が移動する際にモータマグネット１１Ａ，１１Ｂにより加えられる駆動反力を受けると、コイルユニット１２Ａ，１２Ｂを有するリニアモータによってレチクルステージ４の移動方向と反対方向に運動量を保存するように移動する。例えば、レチクルステージ４、及びレチクルベース９の質量がそれぞれ２０ｋｇ、１０００ｋｇで、レチクルベース９がレチクルステージ４の５０倍の質量であるときに、レチクルステージ４が走査時に約３００ｍｍ移動した場合には、レチクルベース９を約６ｍｍレチクルステージ４の移動方向の逆方向に移動する。運動量を保存するようにレチクルステージ４とレチクルベース９とを移動することにより、レチクルステージ４の駆動反力の構造体６への伝達を防ぎ、レチクルステージ４の位置決め時の外乱となる振動の発生を防ぐことができる。なお、レチクルベース９の変位量は常にリニアエンコーダ（不図示）により計測されており、この計測値に基づいてレチクルステージ９の駆動時の電流信号が生成されている。

また、本例の投影露光装置では、レチクルベース９よりも上部の系の重心移動がないため、レチクルベース９を支持する構造体６に変動荷重がかかることがなく、レチクルステージ４と投影光学系２との相対位置の計測に使用される参照鏡１３，１４の位置が変動することはない。なお、レチクルベース９が所定量以上に変位すると他の部材と機械的に干渉する場合には、レチクルベース９と構造体６との間に設けられた電磁駆動部であるコイルユニット１２Ａ，１２Ｂを制御し構造体６に伝達する振動を低減しつつ、常にレチクルベース９をほぼ一定の位置に保つようにすればよい。これによって、レチクルベース９が他の部材と干渉することを防ぐことができる。

次に、本例の露光装置の投影光学系の支持方法について説明する。
図２は、本例の露光装置の投影光学系２を示し、この図２において、光軸ＡＸ上で物体平面１５と像面１６を縮小投影倍率比β（＝ａ／ｂとする）で内分する点を投影光学系２の基準点１７とする。この基準点１７を中心として光軸ＡＸと直交する平面内の任意の軸に対して投影光学系２が微小回転しても、物体平面１５と像面１６の位置関係は変化しない。この基準点１７を通り光軸ＡＸに垂直な平面上に、参照鏡１３，１４の中心が設定され、これらの中心にレーザビームが照射されている。従って、投影光学系２が外乱振動により揺動した場合であっても、基準点１７を含み、かつ投影光学系２の光軸ＡＸと直交する平面と投影光学系２を包む鏡筒の外面との交点（参照鏡１３，１４）と、レチクルステージ４、及びウエハステージ５との相対変位を常にレーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙで計測し、その計測値と目標値とが一致するようにレチクルステージ４、及びウエハステージ５を制御することにより、ウエハ３上に形成されるパターンの位置ずれを防ぐことができる。

また、投影光学系２の下部は脚部６ａの間に架設された支持板６ｂの開口にギャップをあけて通されると共に、投影光学系２の支持部は、構造体６から延びる３本の柔構造のロッド１９Ａ〜１９Ｃから成り、それぞれのロッド１９Ａ〜１９Ｃの延長線は１点で交わり、その交点が基準点１７と一致するような構造になっている。従って、投影光学系２が外乱振動を受けて揺動した場合でも、投影光学系２は基準点１７を中心に微小回転するため、参照鏡１３，１４のＸ方向、Ｙ方向の位置はほとんど変位しない。また、ロッド１９Ａ〜１９Ｃは柔構造であるため、高周波の振動が減衰され、パターン転写時のコントラストの悪化がほとんど生じない。

次に、本例の露光装置のウエハステージについて説明する。
図１に示すように、ウエハステージ５は、ウエハベース７上で位置決めされ、ウエハベース７は、垂直方向に数百μｍの変位が可能なエレベータ駆動部８により支持されている。また、ウエハベース７とエレベータ駆動部８との間に粘弾性体（不図示）が備えられており、床からの振動を低減することができるようになっている。また、ウエハベース７には５つの速度センサ（図１６にその内の２つ３６Ａ，３６Ｂを示す）が備えられ、ウエハステージ５の動きが計測されている。なお速度センサの代わりに加速度センサを使用してもよい。

図３（ａ）〜（ｄ）は、本例の露光装置のウエハステージ５を拡大して示し、図３（ａ）はウエハテーブル２０の平面図、図３Ｂは図３（ａ）のＢＢ線に沿う断面図、図３（ｃ）は図３（ａ）の正面図（但し、キャリア２１は不図示）、図３（ｄ）は図３（ａ）のＤＤ線に沿う断面図である。先ず図３（ｄ）において、ウエハステージ５はウエハ３を載置するウエハテーブル２０とその駆動案内部を搬送するキャリア２１とを有している。キャリア２１は、ウエハベース７上で移動自在であり、パルスモータ方式の平面モータ（例えばソイヤモータ）によりＸ方向、Ｙ方向に駆動される。本例では、キャリア２１の駆動の際にオープンループ方式で、目標位置までの距離に応じたパルスにパルスモータ（不図示）を使用しており、目標位置までのパルスがモータコントローラに対して出力されるため、キャリア２１の位置計測装置を新たに備える必要はない。なお、平面モータとしては、超音波モータを使用することもできる。

一方、ウエハテーブル２０の上面には、図３（ａ）に示すように、ウエハ３を真空吸着するための複数の平行な浅溝３９が設けられ、浅溝３９の多数の孔が不図示の真空ポンプに連通している。また、中央の４本の浅溝３９の隙間には後述のウエハ搬送アームを出し入れするための深溝３８が、浅溝３９と干渉することなく設けられており、ウエハ３がウエハテーブル２０上に固定された際に、ウエハ３の搬送に使用するウエハ搬送アームを、ウエハテーブル２０に接触させることなく出し入れすることができるようになっている。

また、図３（ｂ）に示すように、キャリア２１上に支持部材２２Ｃを介して走査方向（Ｘ方向）に案内軸２２Ｂが架設され、ウエハテーブル２０の底面に案内軸をまたぐように案内部材２２Ａが固定されている。ウエハテーブル２０は、ウエハテーブル２０をキャリア２１上でＸ方向に案内する案内部材２２Ａ及び案内軸２２Ｂよりなる非接触式の案内軸（例えば流体軸受け、又は磁気軸受け）により拘束されている。また、図３（ｄ）において、キャリア２１に固定されたコイル部２３Ａ，２３Ｂと、ウエハテーブル２０の底面に固定されたマグネット部２４Ａ，２４Ｂとから１対のリニアモータ２３Ａ，２４Ａ、及び２３Ｂ，２４Ｂが構成され、非接触式の電磁駆動部としてのリニアモータ２３Ａ，２４Ａ、及び２３Ｂ，２４Ｂによりウエハテーブル２０がＹ方向、及び回転方向に駆動され、非接触式の位置計測器としてのリニアエンコーダ（不図示）により、キャリア２１に対するウエハテーブル２０の変位が計測されている。また、案内軸２２Ｂは、回転部材２２Ｄにより、案内軸回りに回転できる構造になっている。また、リニアモータ２３Ａ，２４Ａ、及び２３Ｂ，２４Ｂが同じ方向に駆動力を発生した場合、ウエハテーブル２０は案内軸方向（Ｘ方向）に移動し、逆に、リニアモータ２３Ａ，２４Ａ、及び２３Ｂ，２４Ｂが互いに異なる方向に駆動力を発生した場合には、ウエハテーブル２０はその重心を中心に回転する。

また、リニアモータ２３Ａ，２４Ａ、及び２３Ｂ，２４Ｂの推力の中心と、案内部材２２Ａの中心とをウエハテーブル２０の重心を含みウエハベース７の上面と平行な平面上に位置するように配置しており、ウエハテーブル２０の加速時に不要なウエハテーブルの傾斜が生じることがないようにしている。また、案内軸２２Ｂとリニアモータ２３Ａ，２４Ａ、及び２３Ｂ，２４Ｂとの大きさは走査露光時のウエハの移動に要する長さがあれば充分であるため、キャリア２１をウエハテーブル２０の下側に収まるように小型に構成し、ウエハを高速、かつ高精度に移動できるようにしている。

また、ウエハ３を授受する際に要する位置決め精度は数μｍ程度であるため、ウエハ３を授受する領域では、レーザ干渉計による計測は特に必要がなく、パルスモータの分解能、又はキャリア２１の位置計測器の分解能で十分である。従って、レーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙ用の図３のウエハテーブル２０に備える移動鏡４４Ｘ，４４Ｙは必ずしもウエハテーブル２０の全移動領域をカバーする必要がなく、ｎｍ単位の精密位置決めをする必要がある領域の長さ、即ち、ウエハ３の直径の長さだけあればよい。

本例のウエハテーブル２０の側面にはレーザ干渉計１８用の移動鏡４４Ｘ，４４Ｙが設けられており、ウエハテーブル２０の位置、及びＺ軸回りの回転角が計測される。ウエハテーブル２０の側面をレーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙ用の移動鏡４４Ｘ，４４Ｙとして使用するため、ウエハテーブル２０は、ほぼウエハ３を外接する程度の大きさであり、従来のウエハテーブルに比べ非常に小型で軽量なものとなっている。なお、ウエハテーブル２０をシリコンカーバイドを用い、３ｍｍ程度の厚さで底面にリブ構造を設けたような構造にした場合、ウエハテーブル２０は５ｋｇ程度の重量になる。

図４は、ウエハテーブル２０とキャリア２１とを制御する制御系の構成を表すブロック図であり、この図４において、主制御系５０はウエハステージ制御系２５内の減算部５４及び５７にそれぞれウエハテーブル２０及びキャリア２１の目標位置を供給する。そして、キャリア２１に対するウエハテーブル２０の相対的な変位量が、仮想的な減算部５６及び変位センサ（リニアエンコーダ）６０により検出され、テーブル制御系５５は減算部５４、又は変位センサ６０の出力に基づいてウエハテーブル２０を駆動し、キャリア制御系５８は減算部５７の出力に基づいてキャリア２１を駆動する。減算部５４は目標値からレーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙの計測値を差し引いた値を出力し、減算部５７は目標値からキャリア２１用の仮想的なリニアエンコーダ５９の計測値を差し引いた値を出力する。

モードスイッチ２６がオフの状態でレーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙ（図１参照）が使用されないとき、即ち、粗位置決め時には、ウエハステージ制御系２５はリニアエンコーダとしての変位センサ６０からの信号に基づき、ウエハテーブル２０を常にキャリア２１に対する移動範囲の中点に位置させるように図３のリニアモータ２３Ａ，２４Ａ、及び２３Ｂ，２４Ｂを制御する。そして、キャリア制御系５８は、キャリア２１の駆動部がエンコーダ５９を持つ場合はそれを参照しながら目標位置までキャリア２１を移動させ、また、本例のパルスモータのようにエンコーダを特に有しない場合には目標位置までのパルスをモータコントローラに対して出力し、キャリア２１を制御する。従って、エンコーダの有無に関わらずウエハテーブル２０がキャリア２１に追従しながら移動するように制御される。

また、図４のモードスイッチ２６がオンの状態でありウエハテーブル２０がレーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙの計測値に基づいて移動するとき、即ち、精密位置決め時には、テーブル制御系５５はレーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙの計測値を参照した減算部５４の出力に基づいて、ウエハテーブル２０に対してリニアモータ２３Ａ，２４Ａ、及び２３Ｂ，２４Ｂに推力を発生させウエハテーブル２０を移動させる。なお、キャリア２１は粗位置決め時と同様に制御される。

また、ウエハテーブル２０がレーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙを使用しながら等速移動するとき、即ち、走査露光時には、テーブル制御系５５はレーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙの計測値を減算した減算部５４の出力を参照しながら、リニアモータ２３Ａ，２４Ａ、及び２３Ｂ，２４Ｂに推力を発生させウエハテーブル２０を移動させる。このとき、キャリア２１は静止状態を保ち、ウエハテーブル２０のみが等速移動する。従って、走査露光時にウエハベース７に対して駆動反力を発生するのは軽量なウエハテーブル２０のみとなるため、発生する外乱力は極めて小さくなり、高速、且つ高精度に走査露光することができる。

次に、本例の露光装置のウエハテーブル２０の案内部材２２Ａ、及び案内軸２２Ｂについて説明する。
図５は、図３の案内部材２２Ａ及び案内軸２２Ｂを拡大して示し、この図５において、案内軸２２Ｂの両端部には弾性体としてのばね２７Ａ，２７Ｂが備えられている。ウエハテーブル２０がキャリア２１に対して往復運動を行う際には、先ず図５（ａ）に示すように、ウエハテーブル２０の持つ運動エネルギーが案内部材２２Ａを介してポテンシャルエネルギーに変換され、ばね２７Ａに貯えられる。次に、図５（ｂ）のように、ばね２７Ａに貯えられたポテンシャルエネルギーは再びウエハテーブル２０の運動エネルギーに変換され、図１のウエハステージ制御系２５はその運動エネルギーを利用してウエハテーブル２０を−Ｖの速度で等速移動するように制御する。そして、図５（ｃ）のように、支持部材２２Ａがバネ２７Ｂに当たると、バネ２７Ｂには＋Ｆの反発力が発生し再びウエハテーブル２０の運動エネルギーはポテンシャルエネルギーに変換され、ばね２７Ｂに貯えられる。従って、ウエハテーブル２０の往復運動を行う際に消費される力学的エネルギーは主にウエハテーブル２０の空気に対する粘性抵抗と弾性体が変形するときの発熱とだけになり、リニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの発熱量は極めて小さなものとなる。

図６（ａ）は、弾性体を備えていない案内軸と仮定した案内軸２２Ｂ上でウエハテーブル２０の移動速度を一定速度（０．５ｍ／ｓ）まで推移させて移動させた場合のウエハテーブル２０の速度曲線を示し、この図６（ａ）において、横軸は時間ｔ（ｓ）、縦軸はウエハテーブル２０の移動速度Ｖ（ｍ／Ｓ）を表す。また、図６（ｂ）は、そのときのリニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂ、の推力を示し、この図６（ｂ）において、横軸は時間ｔ（ｓ）、縦軸はリニアモータの推力Ｆ（Ｎ）である。なお、使用したウエハテーブル２０の重量は５ｋｇである。図７（ａ）は、図６（ａ）に対応させて所定のばねを備えた案内軸上で共振のない理想的なウエハテーブル２０を一定速度まで加速した場合を仮定して計算したウエハテーブル２０の速度曲線を示し、図７（ｂ）は、図７（ａ）の速度曲線を速度司令値として共振を行うウエハテーブル２０を制御した場合を仮定して計算したリニアモータ２３Ａ，２４Ａ、及び２３Ｂ，２４Ｂの推力Ｆ（Ｎ）を示す。図６と図７とを比較した場合、リニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの発熱量の比は１：０．９４でほぼ同じである。

図８（ａ）は、図７（ａ）の速度曲線を速度司令値として図５のばね２７Ａ，２７Ｂを備えた案内軸２２Ｂを使用してウエハテーブル２０を一定速度まで加速した場合の速度曲線を示し、図８（ｂ）は、そのときのウエハテーブル２０の推力及びリニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂが発生した推力を示し、この図８（ｂ）において、横軸は時間ｔ（ｓ）、縦軸は推力Ｆ（Ｎ）を表し、実線の曲線Ａはウエハテーブル２０に加えられた推力、一点鎖線の曲線Ｂはそのうちのリニアモータ２３Ａ，２３Ｂの推力を示す。なお、ばね２７Ａ，２７Ｂのばね定数は１０００Ｎ／ｍで、理想的なばね定数（２５００Ｎ／ｍ）の４０％である。ばね２７Ａ、２７Ｂを使用することにより、リニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの発熱量を弾性体を使用しない場合の発熱量の約３５％まで低減することができる。

図９（ａ）は、ばね定数が最適値である２５００Ｎ／ｍのばね２７Ａ，２７Ｂを備えた案内軸２２Ｂを使用してウエハテーブル２０を一定速度まで加速した場合の速度曲線を示し、図９（ｂ）は、そのときのウエハテーブル２０の推力Ｆを示す。リニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの発熱量は、弾性体を使用しない場合の１％以下まで低減される。このように、案内軸２２Ｂの両端部にばね２７Ａ，２７Ｂを備えることにより、ウエハテーブル２０を等速移動させるときのリニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの発熱量を低減することができる。

しかし、案内軸２２Ｂの端部においてウエハテーブル２０を静止位置決めする際には、リニアモータ２３Ａ，２４Ａ，２３Ｂ，２４Ｂは、ばね２７Ａ，２７Ｂの抗力とつり合うだけの推力を発生させる必要があり、リニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの発熱量が逆に増加してしまう場合がある。
図１０は、ばね２７Ａ，２７Ｂを備えた案内軸２２Ｂの端部におけるばね２７Ａ，２７Ｂの抗力を示し、この図１０において、横軸は案内軸２２Ｂの端部からの距離Ｄ（ｍ）、縦軸はばね２７Ａ，２７Ｂの抗力Ｆ_P （Ｎ）を表す。ウエハテーブル２０を案内軸２２Ｂの端部に静止位置決めするためには、リニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂがばね２７Ａ，２７Ｂの抗力とつり合うだけの大きな推力（５０Ｎ）を発生する必要があり、発熱量が増加してしまう。そこで、このような場合には、案内軸２２Ｂの端部に磁気部材を取り付け、その吸引力を利用してウエハテーブル２０を静止位置決めする際に生じる発熱量を低減することが望ましい。

図１１は、図５に対応させて磁気部材を取り付けた案内部材２２Ａ及び案内軸２２Ｂを示し、この図１１において、案内部材２２Ａの両端に鉄板２９が、案内軸２２Ｂの両端部に磁石３０が取り付けられている。図１１（ａ）又は図１１（ｃ）に示すように、案内軸２２Ｂの端部において案内部材２２Ａを介してウエハテーブル２０を静止位置決めする際には、鉄板２９と磁石３０との吸引力を利用し、ばね２７Ａ，２７Ｂの抗力に対向するために要するリニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの推力を低減し発熱量を抑えることができる。また、ウエハテーブル２０を等速移動させる際には、図１１（ｂ）に示すように、ばね２７Ａ，２７Ｂの抗力を利用してリニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの発熱量を低減する。この場合、それらのリニアモータの発熱量は案内軸２２にばねなどを使用しない場合の約６分の１に低減される。なお、それらのリニアモータの推力に制限がない場合、案内軸２２Ｂの両端部におけるポテンシャルエネルギーを零に設定することもできる。なお、鉄板２９と磁石３０との設置関係は逆にしてもよく、案内軸２２Ｂの端部に設けるものは、ばね２７Ａ，２７Ｂ等の弾性部材の抗力に対向しうる吸引力を発生するものであればよい。

図１２（ａ）は、ばねと鉄板と磁石とを備えた案内軸２２Ｂ上で共振のない理想的なウエハテーブル２０を一定速度まで加速した場合を仮定して計算した速度曲線を示し、この図１２（ａ）において、横軸は時間ｔ（ｓ）、縦軸はウエハテーブル２０の移動速度Ｖ（ｍ／ｓ）を表す。図１２（ｂ）は、図１２（ａ）の速度曲線を速度司令値として共振を行うウエハテーブル２０を制御した場合を仮定し計算したリニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの推力を示し、この図１２（ｂ）において、横軸は時間ｔ（ｓ）、縦軸はリニアモータの推力Ｆ（Ｎ）を表す。図１３（ａ）は、図１２（ａ）の速度曲線を速度司令値として鉄板２９と磁石３０とを備えた案内軸２２上でウエハテーブル２０を一定速度まで加速したときの速度曲線を示し、図１３（ｂ）は、そのときのウエハテーブル２０に加えられた推力Ｆ（実線の曲線Ａ）、及びリニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの推力Ｆ（一点鎖線の曲線Ｂ）を示す。ばね２７Ａ，２７Ｂのばね定数は２０００Ｎ／ｍであり、最適なばね定数である。この場合のリニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの発熱量は、ばねと磁石と鉄板とを使用しない場合の場合の１％以下になる。また、磁石等を備えていない場合に比べて、移動開始時に要する推力が小さく、ウエハテーブル２０が徐々に加速していくため、ウエハテーブル２０の機械共振を和らげられるという利点もある。

図１４は、図１０に対応させて鉄板２９と磁石３０とを取り付けた案内軸２２Ｂの端部における鉄板２９と磁石３０との吸引力とばね２７Ａ，２７Ｂの抗力との合力Ｆ_P （Ｎ）を示し、この図１４において、横軸は案内軸２２Ｂの端部からの距離Ｄ（ｍ）である。案内軸２２Ｂの端部に磁石３０を、案内部材２２Ａに鉄板２９を取り付けることにより、案内軸２２Ｂの端部においてウエハテーブル２０を静止位置決めするために要するリニアモータ２３Ａ，２４Ａ及び２３Ｂ，２４Ｂの推力が低減され発熱量が抑えられる。

次に、本例の露光装置のウエハテーブル２０をウエハベース７に対して支持する支持脚３１Ａ〜３１Ｃの構造について説明する。
図１５（ａ）は、ウエハテーブル２０の支持脚３１Ａ等を示す拡大図、図１５（ｂ）はその側面図であり、この図１５において、支持脚３１Ａにはすり割り部３１Ａａ及び３１Ａｂの底部が変位部３４となっている。また変位部３４の底部に球面軸受け３５を介して流体軸受け３２Ａが回転できるように取り付けられている。流体軸受け３２Ａが回転できるように取り付けられている。同様に、図３に示すように、他の支持脚３１Ｂ，３１Ｃにも流体軸受け３２Ｂ，３２Ｃが取り付けられている。流体軸受け３２Ａは図３のウエハベース７の上に静圧気体軸受け方式で載置されている。また、図３（ｃ）の支持脚３１Ｂで示すように、支持脚３１Ａ〜３１Ｃにピエゾアクチュエータ３３が取り付けられ、ピエゾアクチュエータ３３は取り付け部材５３を介してウエハテーブル２０に固定されている。

図１５に戻り、支持方向に対して伸縮自在の変位拡大機構がピエゾアクチュエータ３３、及び変位部３４より構成されている。流体軸受け３２Ａは与圧のための磁石、又は真空吸着部を備えている。一般に、ピエゾアクチュエータによる変位は６０μｍ程度しかないため変位拡大機構が必要になる。本例の変位拡大機構はスコット・ラッセルの平行運動リンク構造を用いている。ピエゾアクチュエータ３３の伸縮部が支持脚３１Ａのすり割り部３１Ａａの入力点Ａを押すと、入力点Ａは微小変位領域において水平方向に直線変位する。すると、変位拡大機構の変位部３４のリンク機構部のＢ点はＣ点を中心に回転し、その結果としてＤ点は鉛直方向に変位する。本例の変位拡大機構の変位部３４ではリンクの傾きが２６．６度で変位拡大率が２倍となり、最大１２０μｍ変位することができるようになっている。そして、支持脚３１Ａ〜３１Ｃの変位部３４の変位を調整してウエハテーブル２０の傾斜角の補正（レベリング）、及びウエハベース７に対する垂直方向の位置の補正（フォーカス調整）を行う。

なお、支持脚３１Ａ〜３１Ｃを最大変位幅である１２０μｍ変位させてもフォーカス調整又はレベリングを適切に行うことができない場合には、露光開始前にウエハ３の表面位置を予め計測しておき、ウエハ３の表面の位置が所定の位置（投影光学系２の像面）に来るように図１のエレベータ駆動部８を駆動しウエハベース７を位置決めしてから、支持脚３１Ａ〜３１Ｃを調整してフォーカス調整又はレベリングを行うとよい。

図１６は、レチクルステージ４、及びウエハステージ５を制御する制御系の構成を表すブロック図を示し、この図１６において、主制御系５０はウエハステージ５のウエハテーブル２０のＸ方向、Ｙ方向の目標位置、及び支持脚３１Ａ〜３１ＣのＺ方向の変位量の目標値をそれぞれ減算部６１及び６２に供給する。減算部６１で目標位置から、レーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙの計測値を変換部６５で、−１／４倍した値を差し引いた値に基づいて、ウエハステージ制御系２５がウエハステージ５を駆動する。減算部６２は目標値に速度センサ３６Ｂで計測されるウエハベース７のＺ方向の速度を積分して得られる値を加算し、更にウエハステージ５について不図示のオートフォーカスセンサで計測されるデフォーカス量を差し引いて得られる値を支持脚制御系６３に供給し、支持脚制御系６３は、その供給される値に基づいてウエハステージ５を支持する支持脚３１Ａ〜３１Ｃの伸縮量を制御して、フォーカス調整、又はレベリングを行う。また、速度センサ３６Ａによって検出されたウエハベース７の走査方向と直交する方向の変位と投影光学系２の光軸周りの回転方向の振動成分（ヨーイング）との検出結果及び変換部６５の出力からレーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙの計測値を差し引いた値に基づいて、レチクルステージ制御系５２がレチクルステージ４の制御を行うことにより、ウエハベース７の水平方向の振動の影響を低減する。そして、ウエハベース７のＺ方向の振動は粘弾性体６４によって低減される。

次に、本例の露光装置のウエハ搬送機構について説明する。図１において、ウエハベース７の手前側に、防振台５１を介して搬送ベース４５が設置され、搬送ベース４５上にウエハ搬送アーム４０Ａ，４０Ｂ、及びウエハカセット４８等のウエハ搬送機構が載置されている。
図１７（ａ）は、本例の露光装置のウエハ搬送機構の一部を示す平面図、図１７（ｂ）はその側面図であり、この図１７において、先ず、露光を終えたウエハ３Ａを載置したウエハステージ５は露光終了位置Ａからウエハ搬出位置Ｂに移動し、ウエハ３Ａは位置Ｐ１に移動する。このとき、ウエハ搬送アーム４０Ａの３本のアームはウエハテーブル２０の深溝３８とウエハ３Ａとに囲まれた空間に入り込み、ウエハテーブル２０と接触することはない。ウエハ搬送アーム４０Ａは、回転及びＺ方向への伸縮ができる回転上下部６９Ａを介して支持部６７Ａに載置され、支持部６７Ａは駆動部６８Ａによって搬送ベース４５上を移動する。他方のウエハ搬送アーム４０Ｂにも、支持部６７Ｂ、回転上下部６９Ｂ、及び駆動部（不図示）が備えられている。ウエハステージ５が静止すると、ウエハテーブル２０がウエハ３Ａの真空吸着による固定を解除し、ウエハ搬送アーム４０Ａがウエハ３Ａを真空吸着し、回転上下部６９Ａによって上昇する。そして、露光を終えたウエハ３Ａが図１８に示されているウエハカセット４８に回収される。

ウエハ搬送アーム４０Ａが上昇すると同時にウエハステージ５は高速で未露光のウエハ３Ｂを保持しているウエハ搬送アーム４０Ｂの下（ウエハ搬入位置Ｃ）に移動する。ウエハステージのウエハテーブル２０が静止すると、ウエハ搬送アーム４０Ｂが回転上下部６９Ｂによって下降し、未露光のウエハ３Ｂがウエハテーブル２０の上に載置され真空吸着される。このときも、ウエハ搬送アーム４０Ｂは深溝３８の間に入り込むため、ウエハテーブル２０と接触することはない。その後、ウエハステージ５はウエハ搬入位置Ｃから露光開始位置Ｄに高速で移動し、ウエハ３Ｂは位置Ｐ２に移動して、露光を開始する。それと同時にウエハ搬送アーム４０Ｂは新しいウエハを図１８のウエハカセット４８から取り出し待機する。

また、重ね合わせ露光をする場合には、予め露光対象のウエハの回転角を計測し、その角度を相殺するようにウエハステージ５をウエハ搬入位置Ｃにおいて位置決めする際にウエハテーブル２０を回転する。これにより、ウエハテーブル２０の向きを走査方向にあわせたときに、ウエハ上に既に格子状に配列されたショット領域に形成されているパターンとレチクル１のパターン像とが所定の位置関係になるようにすることができる。

図１８（ａ）は、ウエハ搬出時におけるウエハカセット４８の周辺部を示す平面図、図１８（ｂ）は図１８（ａ）の側面図であり、この図１８において、ウエハ搬送アーム４０Ａ，４０ＢはＺ軸回りの回転方向、走査方向（Ｘ方向）、及び鉛直方向（Ｚ方向）の３方向に駆動自在であり、ウエハカセット４８を搬送ベース４５上で支持するウエハカセット支持部４７は鉛直方向に駆動自在である。露光済みのウエハ３Ａをウエハカセット４８に回収する際には、先ず、ウエハ３Ａを保持するウエハ搬送アーム４０Ａが回転上下部６９Ａによって旋回する。ウエハ３Ａが位置Ｐ４を経てウエハカセット４８の前面にきた瞬間、ウエハ３ＡがＹ軸方向に直線移動するように、ウエハ搬送アーム４０Ａの支持部６７ＡがＸ軸方向に位置Ｐ３まで直線移動すると共に、ウエハ搬送アーム４０Ａが旋回運動する。次に、ウエハ３Ａがウエハカセット４８内の所定の位置に到達すると、ウエハ搬送アーム４０Ａによる真空吸着が解除され、ウエハカセット支持部４７が上昇し、ウエハ３Ａを持ち上げる。そして、ウエハ搬送アーム４０Ａは先程と逆の動作を行い退避する。

図１９（ａ）は、ウエハ搬入時におけるウエハカセット４８の周辺部を示す平面図、図１９（ｂ）は図１９（ａ）の側面図であり、この図１９において、未露光のウエハ３Ｂの下部に移動する。ウエハカセット４８より搬出する際に、先ずウエハ搬送アーム４０Ｂが未露光のウエハ３Ｂの下部に移動する。ウエハ搬送アーム４０Ｂが静止すると、ウエハカセット支持部４７が下降し、ウエハ３Ｂがウエハ搬送アーム４０Ｂ上に載置される。そして、ウエハ搬送アーム４０Ｂがウエハ３を真空吸着した後、ウエハ搬送アーム４０Ｂの支持部６７ＢがＸ軸方向に直線移動すると共に、回転上下部６９Ｂによってウエハ搬送アーム４０Ｂが旋回運動して、ウエハ３Ｂをウエハカセット４８から取り出す。そして、ウエハステージ５が到着するまで待機する。なお、ウエハ搬送アーム４０Ｂは装置前面と平行して直線移動することができるため、コーターデベロッパのような周辺装置とのインラインを構成することもできる。

このように、図１７のウエハステージ５をウエハの搬出位置、又は搬入位置に移動することにより、従来の露光装置のようにウエハを仮に固定して支持する必要がなくなり、また、ウエハ搬送アーム間でウエハの受け渡しを行う必要もなくなるため、ウエハに異物が付着する確率や搬送エラーの確率が減少する。また、ウエハ搬送アームで露光位置までウエハを搬送するよりもウエハの重量に起因するウエハ搬送アームの振動の影響を受けにくく、より重量の大きいウエハを搬送することができ、ウエハの大型化に対応することができる。

なお、本発明は上述の実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。

本発明の露光装置によれば、構造体及び投影光学系に伝達する振動を低減することができるか、又はマスクステージを駆動した際に発生する反力を低減することができるので、高精度な露光を行うことができる。

本発明の実施の形態の一例で使用される投影露光装置の概略構成を示す斜視図である。 図１の投影光学系２の支持方法を示す一部を切り欠いた断面図である。 （ａ）は図１のウエハステージ５を示す平面図、（ｂ）は図３（ａ）のＢＢ線に沿う断面図、（ｃ）は図３（ａ）の一部を省略した正面図、（ｄ）は図３（ａ）のＤＤ線に沿う断面図である。 ウエハテーブル２０とキャリア２１とを制御する制御系の構成を示すブロック図である。 図３のウエハテーブル２０の案内部材２２Ａ及び案内軸２２Ｂの動作説明に供する概略図である。 （ａ）は弾性体を備えていない案内軸上でウエハテーブル２０の移動速度を一定速度まで推移させて移動させた場合のウエハテーブル２０の速度を示す図、（ｂ）はそのときのリニアモータの推力を示す図である。 （ａ）はばね備えた案内軸上で共振のない理想的なウエハテーブルを一定速度まで加速した場合を仮定して計算したウエハテーブルの速度曲線を示す図、（ｂ）は図７（ａ）の速度曲線を速度司令値として共振を持つウエハテーブルを制御した場合を仮定して計算したリニアモータの推力を示す図である。 （ａ）は図７（ａ）の速度曲線を速度司令値としてばねを備えた案内軸を使用してウエハテーブル２０を一定速度まで加速した場合の速度を示す図、（ｂ）はそのときのウエハテーブル２０の推力及びリニアモータが発生した推力を示す図である。 （ａ）はばね定数が最適値であるばねを備えた案内軸を使用してウエハテーブル２０を一定速度まで加速した場合の速度曲線を示す図、（ｂ）はそのときのウエハテーブル２０の推力を示す図である。 ばねを備えた案内軸の端部におけるばねの抗力を示す図である。 図３において、更に磁気部材を備えた場合の案内部材２２Ａ及び案内軸２２Ｂの動作説明に供する概略図である。 （ａ）はばねと鉄板と磁石とを備えた案内軸上で共振のない理想的なウエハテーブル２０を一定速度まで加速した場合を仮定して計算した速度を示す図、（ｂ）は図１２（ａ）の速度曲線を速度司令値として共振を持つウエハテーブル２０を制御した場合を仮定し計算したリニアモータの推力を示す図である。 （ａ）は図１２（ａ）の速度曲線を速度司令値として鉄板と磁石とを備えた案内軸上でウエハテーブル２０を一定速度まで加速したときの速度曲線を示す図、（ｂ）はそのときのウエハテーブル２０の推力及びリニアモータの推力を示す図である。 鉄板と磁石とを取り付けた案内軸の端部における鉄板と磁石との吸引力とばねの抗力との合力を示す図である。 （ａ）はウエハテーブル２０を支持する支持脚３１Ａ及びこの周辺を拡大して示す概略図、（ｂ）は図１５（ａ）の側面図である。 レチクルステージ４、ウエハステージ５、及びウエハベース７を制御する制御系の構成を示すブロック図である。 ウエハを露光装置に搬入、又は搬出する際のウエハステージ５の動作を説明するための図である。 露光済みのウエハ３Ａを露光装置から搬出する際のウエハ搬送アーム４０Ａの動作を説明するための図である。 未露光のウエハ３Ｂを露光装置に搬入する際のウエハ搬送アーム４０Ｂの動作を説明するための図である。

符号の説明

１…レチクル、２…投影光学系、３…ウエハ、４…レチクルステージ、５…ウエハステージ、６…構造体、７…ウエハベース、８…エレベータ駆動部、９…レチクルベース、１５…物体平面、１６…像面、１７…基準点、１９Ａ〜１９Ｃ…ロッド、２０…ウエハテーブル、２２Ａ…案内部材、２２Ｂ…案内軸、２３Ａ，２３Ｂ…リニアモータのコイル部、２４Ａ，２４Ｂ…リニアモータのマグネット部、２５…ウエハステージ制御系、２７Ａ，２７Ｂ…ばね、２９…鉄板、３０…磁石、３１Ａ〜３１Ｃ…支持脚、３２Ａ〜３２Ｃ…流体軸受け、３８…深溝、４０Ａ，４０Ｂ…ウエハ搬送アーム、４７…ウエハカセット支持部、４８…ウエハカセット、５２…レチクルステージ制御系

Claims (8)

1. マスクのパタ−ンの像を投影光学系を介して基板上に転写する露光装置において、
   前記マスクを保持して移動させるマスクステージと、該マスクステージを移動させるマスクベースと、該マスクベースと前記投影光学系とを支持する構造体と、前記マスクステージ及び前記マスクベースの動作を制御する制御系と、を有し、
   前記マスクベースを制御することによって、前記マスクステージの駆動反力の前記構造体に対する影響を低減することを特徴とする露光装置。
2. マスクのパタ−ンを基板に形成する露光装置において、
   前記マスクを保持してマスクベースを移動可能なマスクステージと、
   前記マスクステージと前記マスクベースとに接続され、前記マスクステージを駆動する第１リニアモータと、
   前記第１リニアモータにより前記マスクステージを駆動した際の反力により、前記マスクベースが前記マスクステージとは逆方向に移動するように、前記マスクベースを移動可能に支持する支持手段と、を備えたことを特徴とする露光装置。
3. 請求項２記載の露光装置において、
   前記支持手段は、流体軸受を有していることを特徴とする露光装置。
4. 請求項２または３記載の露光装置において、
   前記マスクベースの変位量を検出する検出手段と、
   該検出手段の検出結果に基づいて前記マスクベースを駆動する第２リニアモータと、を備えたことを特徴とする露光装置。
5. 請求項４記載の露光装置において、
   前記第１リニアモータの一部と前記第２リニアモータとの一部とが共用されていることを特徴とする露光装置。
6. 請求項４記載の露光装置において、
   前記検出手段はリニアエンコーダを有していることを特徴とする露光装置。
7. 請求項２から６のいずれか１項に記載の露光装置において、
   前記第１リニアモータは、前記マスクステージに接続されたコイルと、前記マスクべースに接続されたマグネットとを有していることを特徴とする露光装置。
8. 請求項２から７のいずれか１項に記載の露光装置において、
   前記マスクベースの移動量は、前記マスクステージの移動量よりも小さいことを特徴とする露光装置。

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