JP2005251292A - スタンパ製造方法及び光ディスク製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 従来からの光ディスク製造用の工程等に新たな処理工程を加えることなく、販売用の光ディスクの情報記録面側に可視画像を形成することが可能なスタンパ製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基板6上に積層されたフォトレジスト層5を露光し、フォトレジスト層5にピット又はグルーブの少なくともいずれか一方となる潜像を形成する露光工程を含んで光ディスク製造用のスタンパを製造するスタンパ製造方法において、スタンパを用いて製造される光ディスクの情報記録面に目視可能な画像を形成するための版3であって、光ディスクにおける当該画像が形成される部分に相当するフォトレジスト層5の部分の露光量をフォトレジスト層5における他の部分と異ならせるための版3を、透明基板6におけるフォトレジスト層5が積層されている面と反対の面に密着配置し、版3の配置後にフォトレジスト層5を露光する。
【選択図】 図4

Description

本願は、スタンパ製造方法及び光ディスク製造方法の技術分野に属し、より詳細には、CD(Compact Disc)やDVD(Digital Versatile Disc)等の光ディスクであって、実際に再生すべき情報が記録される当該光ディスクの情報記録面側に目視可能な文字又は絵等の画像が形成されている光ディスクの製造に用いられるスタンパの製造方法及び当該製造方法により製造されたスタンパを用いた光ディスクの製造方法の技術分野に属する。
上記光ディスクは、透光性を有する樹脂製の基板内に形成された上記情報記録面としての記録層に再生されるべき情報を担持するピット又はグルーブが形成され、その記録層の表面を反射層で覆い、当該基板の他面から情報再生用の光ビームを照射し、その光ビームの反射光を用いて当該情報を再生する構造となっている。
このような光ディスクにレーベル情報等の可視画像を記録するものとして、従来は、当該光ディスクにおける情報記録面とは反対の表面に、例えば著作権に関する情報を、文字、図形等の刻印又は印刷等の手法を用いて記録していた。
一方、当該光ディスクの情報記録面そのものに上記可視画像を記録するものとして、上述したピットやグルーブの形状自体をその記録すべき可視画像に対応して変化させることにより、その情報記録面上に視認できる模様等の可視画像を形成することが開示されている(下記特許文献1及び2参照)。
より具体的に下記特許文献1においては、光ディスクを大量生産する際に用いられる原盤(スタンパ)を製造(露光)する際に、予め設定された特定のピットパターン(ピット形状)を有するピットが集中的に配置された領域がその原盤内に形成されるように露光用の信号を変調し、その領域自体の形状を記録すべき可視画像に対応して変化させて原盤を形成することで当該可視画像を情報記録面に記録している。
特開平7−320274号公報
また、下記特許文献2においては、情報の担持に寄与しないいわゆるダミーピットを情報記録面に形成するためのダミーピット形成用信号を記録すべき可視画像に対応した可視画像形成用信号によりマスクした信号を用いて原盤を露光し、情報記録面における上記ダミーピットのない領域の形状をもって可視画像に対応する潜像を露光面に形成し、その露光面を現像処理することで当該可視画像の実像化している。
特開平8−194972号公報
しかしながら、上述した従来の構成においては、本来の再生すべき情報に対応するピットを形成するための信号と、可視画像用の信号と、を重畳して得られる信号を用いてスタンパを製造することで、情報記録面における情報の再生と可視画像の視認とが共に可能となる光ディスクを製造することが可能とされているが、この場合には、上述した如く可視画像形成の機能をも備えた特定のパターンのピットを形成するため信号を生成する専用の信号処理が別途必要となり、光ディスク製造装置としての複雑化やコスト増を招来してしまうという問題点があった。
また、上述の従来の構成では、通常の光ディスク原盤の製作行程に加えて、上記可視画像形成用の信号を生成するための構成を別途しなければならないという問題点もあった。
更に、上述した従来の構成では、特定のピットのパターンにより可視画像を形成するため、予めそのようなピットを形成することができない記録用の光ディスクに対しては適用できないという問題点もあった。
そこで、本願は、このような各問題点に鑑みなされたものであり、その課題の一例は、従来からの光ディスク製造用の工程等に新たな処理工程を加えることなく、販売用の光ディスクの情報記録面側に可視画像を形成することが可能なスタンパ製造方法及び当該スタンパ製造方法を用いた光ディスク製造方法を提供することにある。
上記の課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、透明基板上に積層されたフォトレジスト層を露光し、当該フォトレジスト層にピット又はグルーブの少なくともいずれか一方となる潜像を形成する露光工程を含んで光ディスク製造用のスタンパを製造するスタンパ製造方法において、前記スタンパを用いて製造される光ディスクの情報記録面に目視可能な画像を形成するための版であって、当該光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する前記フォトレジスト層の部分の露光量を当該フォトレジスト層における他の部分と異ならせるための版を、前記透明基板における前記フォトレジスト層が積層されている面と反対の面に密着配置する配置工程と、前記版の配置後に前記フォトレジスト層を露光する前記露光工程と、を含む。
上記の課題を解決するために、請求項9に記載の発明は、請求項1から8のいずれか一項に記載のスタンパ製造方法と、当該スタンパ製造方法により製造されたスタンパを用いて前記光ディスクを製造する製造工程と、を含む。
次に、本願を実施するための最良の形態について、図面に基づいて説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、再生されるべき情報に対応したピットが形成されている再生専用(ROM型)の光ディスクの製造方法に対して本願を適用した場合の実施の形態である。
(I)光ディスクの実施形態
先ず、実施形態に係る光ディスク製造方法について具体的に説明する前に、当該光ディスク製造方法により製造された光ディスクについて、具体的に図1及び図2を用いて説明する。
なお、図1は本願に係る光ディスク製造方法を用いて製造された光ディスクの一部を示す平面図であり、図2は当該光ディスク製造方法を用いて製造された光ディスクの一部の拡大平面図である。
図1に示すように、本願に係る光ディスク製造方法を用いて製造された光ディスクDKは、外観上、その内周側から、情報が何ら記録されない未記録領域NRと、光ディスクDKに記録された情報の再生を開始する際又は当該光ディスクに対する情報の記録を開始する際に最初に読み出されるべき開始制御情報等が予め記録されているリードイン領域LIと、実際に情報が記録されるデータ領域Rと、光ディスクDKに記録された情報の再生を終了する際又は当該光ディスクに対する情報の記録を終了する際に読み出されるべき終了制御情報等が予め記録されているリードアウト領域LOと、を備えている。
このとき、データ領域Rには、情報を担持しつつ光ディスクDKの周方向に並んだ複数のピット15を含む情報トラックTが螺旋状に形成されている。
一方、実施形態の光ディスクDKのデータ領域Rには、例えば図1に示す如き形状の可視画像Pが、上記ピット15とは異なる形状を有すると共に当該ピット15と同様に再生されるべき情報を担持する後述の可視画像ピットを複数含んで形成されている。なお、この可視画像P全体の形状としては、図1に示すような文字様の形状の他に直線状形状、曲線状形状或いは他の図形状形状であってもよい。また、光ディスクDK上に上記可視画像Pを複数形成するようにすることもできる。更に、この可視画像Pとしては、上記した図形の他に、光ディスクDK自体に記録された画像情報又はプログラム等についての版権又は著作権等を表す内容、当該画像情報等に対応する商標若しくは光ディスク自身の商標その他であってもよい。
次に、当該可視画像Pが形成されているデータ領域Rの細部構成について、図2を用いて説明する。なお、図2は、図1に示す可視画像Pの右下に示される一点鎖線方形の内部を拡大した図である。
図2に示すように、データ領域Rにおける可視画像Pに相当するデータ領域R以外のデータ領域Rにおいては、従来と同様の形状を有するピット15により再生されるべき情報が担持されており、複数個のピット15が並ぶことで上記情報トラックTが螺旋上に形成されている。
これに対し、可視画像Pに相当するデータ領域Rにおいては、図2に示すように、従来のピット15より幅の広い上記可視画像ピット16により再生されるべき情報が担持されており、複数個の可視画像ピット16が並ぶことで上記情報トラックTが螺旋上に形成されている。
なお、図2に示す破線は可視画像Pに相当するデータ領域Rとその他のデータ領域Rとの境界を仮想的に示したものであり、実施形態に係る光ディスクDK上に実際に図2に示す如き破線があるわけではない。
このとき、ピット15と同様に情報を担持する可視画像ピット16の幅及び長さが当該ピット15の幅及び長さより大きくなっていることで、当該可視画像ピット16による可視光線の反射態様とピット15による可視光線の反射態様と(特に夫々の反射率)が相互に異なることになり、この結果、可視画像Pに相当するデータ領域R全体としてみた場合に、可視画像Pに相当するデータ領域R以外の他のデータ領域Rに対して可視画像Pが浮かび上がって視認可能となるのである。
なお、図2に示す境界ピット17については、可視画像Pに相当するデータ領域Rとその他のデータ領域Rとの境界に形成されていることから、その一部(可視画像Pに相当するデータ領域R内にある部分)の幅及び長さが、他の一部(可視画像Pに相当するデータ領域R以外のデータ領域R内にある部分)の幅及び長さよりも大きくなっている。
(II)光ディスク製造方法の実施形態
次に、図1及び図2を用いて説明した光ディスクDKを製造するための実施形態に係る光ディスク製造方法について、具体的に図3及び図4を用いて説明する。
なお、図3は当該光ディスク製造方法の全体構成を示す概念図であり、図4は当該光ディスク製造方法における可視画像形成の原理を示す図である。
図3に示すように、実施形態に係る光ディスク製造方法においては、先ず、光ディスクDKに担持させるべき情報に対応する情報信号Srが、情報信号出力部1において生成されカッティング部2に出力される。
次に、カッティング部2においては、後述するスタンパSTとなるための原盤に対して上記情報信号Srにより強度変調されたカッティング用光ビームが照射されることにより、当該原盤の表面に予め形成されているフォトレジスト層が露光される。次いで、露光済み原盤を現像処理、電鋳処理して大量生産される光ディスクDKの製造用原盤となるスタンパSTが製造される。
このとき、実施形態のカッティング部2においては、上記原盤が露光される際に載置される載置台における載置面に、上記カッティング用光ビームを吸収する反射防止膜(光吸収膜)が形成されている。そして、実際の露光の際には、この載置面上に図3に示す版3が載置された上で更に原盤がその版3に対して密着するように載置され、その原盤に対して載置台の反対側から当該原盤にカッティング用光ビームが照射される。ここで、版3はカッティング用光ビームを吸収する反射防止材(光吸収材)で形成されており、版3には、光ディスクDKにおいて可視画像Pとなるべきデータ領域Rに相当する当該版3の領域が開口部3P(すなわち、カッティング用光ビームを通過させる開口部)とされている。
より具体的には、図4に部分断面図を示すように、原盤SBは透明基板6上に上記フォトレジスト層5が塗布されて形成されており、このフォトレジスト層5に対してカッティング用光ビームBが照射されることで当該フォトレジスト層5が露光され、これにより原盤SB上に光ディスクDKにおけるピット15に相当するピット潜像15Bが形成される。
一方、当該原盤SBは、カッティング用光ビームBの反射防止膜がその表面に形成された載置台10上に、上記版3に透明基板6が密着するように載置されている。そして、この版3においては、図3に既に示した如く光ディスクDK上において可視画像Pとなるデータ領域Rに相当する領域(以下単に、「可視画像Pに相当する部分」とする場合がある)が開口部3Pとされているため、フォトレジスト層5を露光しつつ当該フォトレジスト層5及び透明基板6を透過したカッティング用光ビームBは、開口部3Pの透明基板6の面(裏面)で反射され、透明基板6及びフォトレジスト層5を透過することになる。これにより、光ディスクDK上において可視画像Pに相当するフォトレジスト層5の領域内にカッティング用光ビームBにより形成される潜像は、上記ピット潜像15Bに対して多重露光されることとなり、光ディスクDKにおける可視画像ピット16に相当する潜像であって、上記ピット潜像15Bよりも幅の広い可視画像ピット潜像16Aとなる。
そして、このようなピット潜像15B及び可視画像ピット潜像16Aが形成された状態の原盤SBに対してその後の現像処理、電鋳処理等を施すことにより、図3に示すスタンパSTが完成することになり、この完成したスタンパSTにおいては、光ディスクDKにおける可視画像Pに相当する領域が、スタンパ可視画像PSTとなっているのである。ここで、スタンパ可視画像PSTであるスタンパSTの領域内には、上記可視画像ピット16に相当する幅及び長さを有するピット(可視画像ピット16を形成するための型としてのピット)が形成されており、一方、スタンパ可視画像PST以外のスタンパSTの領域内には、上記ピット15に相当する幅及び長さを有するピット(ピット15を形成するための型としてのピットであり、上記可視画像ピット16を形成するためのピットよりも幅及び長さ共に短いことになる)が形成されていることになる。
その後、上述した工程により製造されたスタンパSTを用いて、たとえば射出成形法等によりレプリカ製造装置20において販売用の光ディスクDKが大量生産されるのである。そして、この光ディスクDKにおいては、図2に示した如く、ピット15よりも幅及び長さ共に長い可視画像ピット16が形成されることで、情報記録面内に可視画像Pが形成されている。
以上説明したように、実施形態に係る光ディスク製造方法によれば、スタンパSTを用いて製造される光ディスクDKの情報記録面に可視画像Pを形成するための版3であって、当該光ディスクDKにおける可視画像Pが形成される部分に相当するフォトレジスト層5の部分(図4符合16A参照)の露光量を当該フォトレジスト層5における他の部分と異ならせるための版3を、透明基板6におけるフォトレジスト層5が積層されている面と反対の面に密着載置し、その版3の載置後にフォトレジスト層5を露光するので、結果としてそのスタンパSTを用いて製造された光ディスクDKにおいては可視画像Pに相当するデータ領域R内に形成される可視画像ピット16の幅及び大きさが、当該光ディスクDKの他のデータ領域R内に形成されるピット15の幅及び大きさと異なることなり、これにより光ディスクDKの情報記録面に可視画像Pが形成されることになる。
よって、従来の光ディスクDKとしてのピット15を形成するための工程に対して版3を載置する簡単な工程を付加するのみで、そのデータ領域R内に可視画像Pが形成された光ディスクを製造することができる。
また、当該版3が、光ディスクDKにおける可視画像Pが形成されるデータ領域Rに相当する版3の部分が開口部3Pとされているので、簡易な構成の版3を用意することのみで所望される可視画像Pを形成することができる。
(III)光ディスク製造方法の変形形態
上述した実施形態においては可視画像形成の一例として、載置台10の載置面を反射防止面とし、一方反射防止材で形成された版3における可視画像Pに相当する部分を開口部3Pとし開口部3Pで裏面反射する場合について説明したが、次に、可視画像形成の他の例を、図5〜図10を用いて説明する。
第1の変形形態として、図5に示すように反射防止材で形成された版3における可視画像Pに相当する部分以外の部分となるデータ領域Rに相当する領域(以下単に、「可視画像Pに相当する部分以外の部分」とする場合がある)を開口部3Pとしても良い。
具体的に説明すると、図5に部分断面図を示すように、フォトレジスト層5に対してカッティング用光ビームBが照射されることで当該フォトレジスト層5が露光され、これにより原盤SB上に光ディスクDKにおける可視画像ピット16に相当する可視画像ピット潜像16Bが形成される。
そして、版3においては、図4に既に示したものとは逆に、光ディスクDK上において可視画像Pに相当する部分以外の部分となるデータ領域Rに相当する領域が開口部3Pとされているため、フォトレジスト層5を露光しつつ当該フォトレジスト層5及び透明基板6を透過したカッティング用光ビームBは、開口部3Pの透明基板6の面(裏面)で反射され、透明基板6及びフォトレジスト層5を透過することになる。
これにより、光ディスクDK上において可視画像Pに相当する部分以外の部分に相当するフォトレジスト層5の領域内にカッティング用光ビームBにより形成される潜像は、上記可視画像ピット潜像16Bに対して多重露光されることとなり、光ディスクDKにおけるピット15に相当する潜像であって、上記可視画像ピット潜像16Bよりも幅の広いピット潜像15Aとなる。
以上より、図4に示した可視画像Pに相当する部分は、多重露光されているが、可視画像Pに相当する部分以外の部分は、上部からの露光のみであり、それとは逆に、図5に示した可視画像Pに相当する部分は、上部からの露光のみであるが、可視画像Pに相当する部分以外の部分は、多重露光されることになる。よって、両者とも可視画像Pは視認可能であるが、多重露光された部分が、可視画像Pに相当する部分であるか、又は可視画像Pに相当する部分以外の部分であるかが異なることによって、可視画像Pの部分が浮き出て見えるか、又は可視画像Pの部分以外の部分が浮き出て見えるかの違いが生じる。
そして、このようなピット潜像15A及び可視画像ピット潜像16Bが形成された状態の原盤SBに対してその後の現像処理、電鋳処理等を施すことにより、図3に示すスタンパSTが完成することになる。
その後の工程は、図4において説明した工程と同様である。
また、第2の変形形態として、図6に示すように載置台10の載置面上に反射膜11を形成し、一方反射防止材で形成された版3における可視画像Pに相当する部分を開口部3Pとし開口部3Pでの裏面反射に加えて反射膜11で反射させ多重露光させるようにしても良い。
具体的に説明すると、フォトレジスト層5に対してカッティング用光ビームBが照射されることで当該フォトレジスト層5が露光され、これにより原盤SB上に光ディスクDKにおけるピット15に相当するピット潜像15Bが形成される。
そして、図6に示すように版3においては、可視画像Pに相当する部分が開口部3Pとされているため、フォトレジスト層5を露光しつつ当該フォトレジスト層5及び透明基板6を透過したカッティング用光ビームBは、開口部3Pの透明基板6の面(裏面)で反射され、さらに、載置台10の載置面上に反射膜11を形成されたことにより、反射膜11で反射され、透明基板6及びフォトレジスト層5を透過することになる。これにより、光ディスクDK上において可視画像Pに相当するフォトレジスト層5の領域内にカッティング用光ビームBにより形成される潜像は、上記ピット潜像15Bに対して多重露光されることとなり、光ディスクDKにおける可視画像ピット16に相当する潜像であって、上記ピット潜像15Bよりも幅の広い可視画像ピット潜像16Aとなる。
その後の工程は、図4において説明した工程と同様である。
また、第3の変形形態として、図7に示すように載置台10の載置面上に反射膜11を形成し、一方反射防止材で形成された版3における可視画像Pに相当する部分以外の部分を開口部3Pとし開口部3Pでの裏面反射に加えて反射膜11で反射させ多重露光させるようにしても良い。
具体的に説明すると、フォトレジスト層5に対してカッティング用光ビームBが照射されることで当該フォトレジスト層5が露光され、これにより原盤SB上に光ディスクDKにおける可視画像ピット16に相当する可視画像ピット潜像16Bが形成される。
そして、図7に示すように版3においては、図6に既に示したものとは逆に、光ディスクDK上において可視画像Pに相当する部分以外の部分が開口部3Pとされているため、フォトレジスト層5を露光しつつ当該フォトレジスト層5及び透明基板6を透過したカッティング用光ビームBは、開口部3Pの透明基板6の面(裏面)で反射され、さらに、載置台10の載置面上に反射膜11を形成されたことにより、反射膜11で反射され、透明基板6及びフォトレジスト層5を透過することになる。
これにより、光ディスクDK上において可視画像Pに相当する部分以外の部分に相当するフォトレジスト層5の領域内にカッティング用光ビームBにより形成される潜像は、上記可視画像ピット潜像16Bに対して多重露光されることとなり、光ディスクDKにおけるピット15に相当する潜像であって、上記可視画像ピット潜像16Bよりも幅の広いピット潜像15Aとなる。
その後の工程は、図4において説明した工程と同様である。
上記に示した図4〜図7は、版3が可視画像を視認可能とするために、開口部を有する場合について説明したが、次に、版3が可視画像を視認可能とするために反射面を有する場合について、可視画像形成の他の例を、図8〜図10を用いて説明する。
また、第4の変形形態として、図8に示すように、版3における可視画像Pに相当する部分3Tと可視画像Pに相当する部分以外の部分3Uとの可視光線の反射態様(特に夫々の反射率)を異ならせるようにそれぞれ反射面α、反射面βとしてもよい。
そうすることにより、露光量が異なって形成された可視画像ピット潜像16Aとピット潜像15Bとが形成されることになるので、上記に示したものと同様に可視画像が視認可能となる。
ここで、可視画像ピット潜像16Aを形成する際の露光量を、ピット潜像15Bを形成する際の露光量よりも多い場合について図示したが、逆にピット潜像15Aを形成する際の露光量を、可視画像ピット潜像16Bを形成する際の露光量よりも多くしてもよい。
その後の工程は、図4において説明した工程と同様である。
また、第5の変形形態として、図9に示すように、版3における可視画像Pに相当する部分を反射面3Rとし、版3における可視画像Pに相当する部分以外の部分を反射防止面3Sとしてもよい。
具体的に説明すると、フォトレジスト層5に対してカッティング用光ビームBが照射されることで当該フォトレジスト層5が露光され、これにより原盤SB上に光ディスクDKにおけるピット15に相当するピット潜像15Bが形成される。
そして、図9に示すように版3においては、可視画像Pに相当する部分が反射面とされているため、フォトレジスト層5を露光しつつ当該フォトレジスト層5及び透明基板6を透過したカッティング用光ビームBは、反射面で反射され、透明基板6及びフォトレジスト層5を透過することになる。これにより、光ディスクDK上において可視画像Pに相当するフォトレジスト層5の領域内にカッティング用光ビームBにより形成される潜像は、上記ピット潜像15Bに対して多重露光されることとなり、光ディスクDKにおける可視画像ピット16に相当する潜像であって、上記ピット潜像15Bよりも幅の広い可視画像ピット潜像16Aとなる。
その後の工程は、図4において説明した工程と同様である。
また、第6の変形形態として、図10に示すように、版3における可視画像Pに相当する部分を反射防止面3Sとし、可視画像Pに相当する部分以外の部分を反射面3Rとしてもよい。
具体的に説明すると、フォトレジスト層5に対してカッティング用光ビームBが照射されることで当該フォトレジスト層5が露光され、これにより原盤SB上に光ディスクDKにおける可視画像ピット16に相当する可視画像ピット潜像16Bが形成される。
そして、図10に示すように版3においては、可視画像Pに相当する部分以外の部分が反射面3Rとされているため、フォトレジスト層5を露光しつつ当該フォトレジスト層5及び透明基板6を透過したカッティング用光ビームBは、反射面で反射され、透明基板6及びフォトレジスト層5を透過することになる。
これにより、光ディスクDK上において可視画像Pに相当する部分以外の部分に相当するフォトレジスト層5の領域内にカッティング用光ビームBにより形成される潜像は、上記可視画像ピット潜像16Bに対して多重露光されることとなり、光ディスクDKにおけるピット15に相当する潜像であって、上記可視画像ピット潜像16Bよりも幅の広いピット潜像15Aとなる。
その後の工程は、図4において説明した工程と同様である。
更に、上述してきた実施形態においては、再生専用の光ディスクDKの製造方法に対して本願を適用した場合について説明したが、これ以外に、記録用の光ディスクの製造方法に対して本願を適用することも可能である。
この場合、記録用の光ディスクにおいては上記ピット15が予め形成されていることはないが、これに代えて情報が記録される情報トラックとなる例えばグルーブトラックが予め形成されることになる。そこで、このグルーブトラックの幅を、上記した可視画像Pに相当する部分では他の部分より広くする、又は上記した可視画像Pに相当する部分以外の部分では可視画像Pに相当する部分より広くするように形成することで、記録用の光ディスクにおいても上記可視画像Pと同様の可視画像を形成することができる。光ディスクの製造に用いられる版としては、可視画像となる部分に開口部又は反射膜を形成しておけばよいのである。
実施形態に係る光ディスク製造方法を用いて製造された光ディスクの一部を示す平面図である。 実施形態に係る光ディスク製造方法を用いて製造された光ディスクの一部の拡大平面図である。 実施形態に係る光ディスク製造方法の全体構成を示す概念図である。 実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の一例を示す図である。 実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。 実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。 実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。 実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。 実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。 実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。
符号の説明
2 カッティング部
3 版
3P 開口部
3T 反射面α
3U 反射面β
3R 反射面
3S 反射防止面
5 フォトレジスト層
6 透明基板
10 載置台
11 反射膜
15A ピット潜像(多重露光部分)
16A 可視画像ピット潜像(多重露光部分)
15B ピット潜像
16B 可視画像ピット潜像
15 ピット
16 可視画像ピット
17 境界ピット
20 レプリカ装置
B カッティング用光ビーム
DK 光ディスク
P 可視画像
R データ領域
T 情報トラック
ST スタンパ
PST スタンパ可視画像
SB 原盤

Claims (9)

  1. 透明基板上に積層されたフォトレジスト層を露光し、当該フォトレジスト層にピット又はグルーブの少なくともいずれか一方となる潜像を形成する露光工程を含んで光ディスク製造用のスタンパを製造するスタンパ製造方法において、
    前記スタンパを用いて製造される光ディスクの情報記録面に目視可能な画像を形成するための版であって、当該光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する前記フォトレジスト層の部分の露光量を当該フォトレジスト層における他の部分と異ならせるための版を、前記透明基板における前記フォトレジスト層が積層されている面と反対の面に密着配置する配置工程と、
    前記版の配置後に前記フォトレジスト層を露光する前記露光工程と、
    を含むことを特徴とするスタンパ製造方法。
  2. 請求項1に記載のスタンパ製造方法において、
    前記版は、前記露光用光に対して反射防止面又は光吸収面となっており、
    前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する当該版の部分が開口とされ、
    前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記開口部分の前記透明基板の面で
    反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
  3. 請求項1に記載のスタンパ製造方法において、
    前記版は、前記露光用光に対して反射防止面又は光吸収面となっており、
    前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する当該版の部分が開口とされ、
    前記透明基板及び前記フォトレジスト層を備える原盤と前記版とを載置する載置台における当該原盤及び当該版が載置される面に、前記露光用光を反射する反射膜が形成されており、
    前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記開口部分を介して前記反射膜で反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
  4. 請求項1に記載のスタンパ製造方法において、
    前記版は、前記露光用光に対して反射防止面又は光吸収面となっており、
    前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分以外の部分に相当する当該版の部分が開口とされ、
    前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記開口部分の前記透明基板の面で
    反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
  5. 請求項1に記載のスタンパ製造方法において、
    前記版は、前記露光用光に対して反射防止面又は光吸収面となっており、
    前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分以外の部分に相当する当該版の部分が開口とされ、
    前記透明基板及び前記フォトレジスト層を備える原盤と前記版とを載置する載置台における当該原盤及び当該版が載置される面に、前記露光用光を反射する反射膜が形成されており、
    前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記開口部分を介して前記反射膜で反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
  6. 請求項1に記載のスタンパ製造方法において、
    前記版は、前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する当該版の部分があらかじめ設定された一定反射率を有する反射面とされ、
    前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分以外の部分に相当する当該版の部分が前記反射率とは異なる反射率を有する反射面とされ、
    前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記版の各々の反射率を有する反射面で反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
  7. 請求項1に記載のスタンパ製造方法において、
    前記版は、前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する当該版の部分が反射面とされ、
    前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記版の前記反射面で反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
  8. 請求項1に記載のスタンパ製造方法において、
    前記版は、前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分以外の部分に相当する当該版の部分が反射面とされ、
    前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記版の前記反射面で反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
  9. 請求項1乃至8のいずれか一の請求項に記載のスタンパ製造方法と、
    当該スタンパ製造方法により製造されたスタンパを用いて前記光ディスクを製造する製造工程と、
    を含むことを特徴とする光ディスク製造方法。
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