JP2005250236A - Liquid crystal display, manufacturing method of liquid crystal display, and electronic equipment - Google Patents

Liquid crystal display, manufacturing method of liquid crystal display, and electronic equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display wherein straight-line-shaped rubbing unevenness caused by rapid disorder of a rubbing cloth is hardly caused on a substrate when an alignment layer on the substrate is subjected to rubbing treatment. <P>SOLUTION: In the liquid crystal display wherein a liquid crystal is interposed between a pair of rectangular substrates, a chamfered part is formed at at least one of four corner parts 3c of at least one substrate 3 of the pair of substrates, the surface of the chamfered part is formed so as to be orthogonal to the direction of the rubbing treatment performed to the alignment layer formed on the substrate and the chamfered part has a curved shape. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、電子機器に関し、特に液晶表示装置に用いる基板の形状及び該基板のラビング方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, a method for manufacturing a liquid crystal display device, and an electronic apparatus, and more particularly to a shape of a substrate used in the liquid crystal display device and a rubbing method for the substrate.

周知のように、液晶表示装置は、ガラス基板、石英基板等からなる2枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、TFTと称す)等のスイッチング素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。   As is well known, a liquid crystal display device is configured by enclosing a liquid crystal between two substrates made of a glass substrate, a quartz substrate, etc., and a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) is provided on one substrate, for example. Switching elements such as) are arranged in a matrix, the counter electrode is arranged on the other substrate, and the optical characteristics of the liquid crystal layer sealed between the two substrates are changed according to the image signal, thereby displaying an image. It is possible.

この際、TFTを配置したTFT基板と、このTFT基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造され、この両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入されるようになっている。   At this time, the TFT substrate on which the TFT is disposed and the counter substrate disposed opposite to the TFT substrate are manufactured separately, and these two substrates are bonded together with high accuracy in the panel assembling process, and then the liquid crystal is It comes to be enclosed.

このパネル組立工程は、先ず、各基板の製作工程において夫々製造されたTFT基板と対向基板との液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。   In this panel assembling process, first, an alignment film for aligning liquid crystal molecules along the substrate surface is formed on the surfaces of the TFT substrate and the counter substrate, which are manufactured in the manufacturing process of each substrate, in contact with the liquid crystal layer. . This alignment film is formed, for example, by printing polyimide with a thickness of about several tens of nanometers.

その後、焼成を行い、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、一方の基板上の周縁に接着剤となるシール部を設け、このシール部を用いてTFT基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール部の一部に設けられた切り欠きを介して液晶を封入するといった手法が用いられている。   Thereafter, baking is performed, and a rubbing process is performed to determine the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied. Next, a seal part as an adhesive is provided on the peripheral edge of one substrate, and the TFT substrate and the counter substrate are bonded together using this seal part, and are cured by pressure bonding while performing alignment, and then provided on a part of the seal part. A technique of enclosing liquid crystal through a notch is used.

ここで、ラビング処理とは、布等のクロス材で表面が形成されたラビングローラに、基板表面に形成された配向膜を接触させ、直線的に移動させて、基板配向膜表面に細かい溝を形成して配向膜を配向異方性の膜にするものである。配向膜に一定方向の溝を形成するラビング処理を施すことにより、液晶分子の配列を規定することができる。   Here, the rubbing process refers to a rubbing roller having a surface formed of cloth or other cloth material, and the alignment film formed on the substrate surface is brought into contact with the rubbing roller and moved linearly to form fine grooves on the surface of the substrate alignment film. The alignment film is formed into an alignment anisotropic film. The alignment of the liquid crystal molecules can be defined by performing a rubbing process for forming grooves in a certain direction on the alignment film.

このラビング処理には、基板の各製造工程において製造された、例えば8インチ以上の大板からなる基板に配向膜を形成し、この配向膜にラビングする方法と、図16に示すように、前記8インチ以上の大板からなる基板を規定の大きさに切り出したものに配向膜を形成し、この切り出した基板120をパレット110上に載置してラビング処理を行う方法とがある。   In this rubbing treatment, an alignment film is formed on a substrate made of a large plate of, for example, 8 inches or more manufactured in each manufacturing process of the substrate, and the alignment film is rubbed, as shown in FIG. There is a method in which an alignment film is formed on a substrate made of a large plate of 8 inches or more in a predetermined size, and the cut substrate 120 is placed on a pallet 110 to be rubbed.

ところで、このラビング処理は、図13に示すように、矩形状の基板120を、該基板120とラビングローラ100の相対進行方向に対して平行に、基板120をラビングクロスで構成されたラビングローラ100の周面100aに当接させる手法が一般的に行われている。   By the way, in this rubbing treatment, as shown in FIG. 13, a rectangular substrate 120 is parallel to the relative traveling direction of the substrate 120 and the rubbing roller 100, and the substrate 120 is rubbed with a rubbing cloth 100. Generally, a method of abutting on the peripheral surface 100a is performed.

また、図14及び図16に示すように、基板120の一辺を特定の角度θ(例えば2°叉は3°)を以って、ラビングローラ100に当接させる手法も一般的に行われている。このように、ある特定の角度を以って基板にラビング処理を行うことにより、このラビング処理後の基板によって構成される液晶表示装置の明視角を最適な方向に設定することができる。   Further, as shown in FIGS. 14 and 16, a method of bringing one side of the substrate 120 into contact with the rubbing roller 100 with a specific angle θ (for example, 2 ° or 3 °) is also generally performed. Yes. In this way, by performing the rubbing process on the substrate with a certain angle, the clear viewing angle of the liquid crystal display device constituted by the substrate after the rubbing process can be set in an optimum direction.

ところが、この場合、ラビングローラが最初に当接する基板上に形成された配向膜の周縁部の隅部の直角形状により、前記ラビングローラの周面に局所的に、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに急激な乱れが生じる場合がある。その結果、基板の表示領域上の配向膜に直線状のラビングムラが生じてしまう可能性があった。   However, in this case, due to the right-angled shape at the corners of the peripheral edge of the alignment film formed on the substrate with which the rubbing roller first comes into contact, the surface of the rubbing roller is locally fuzzed, fuzzed, etc. There may be a sudden disturbance in the hair flow of the cloth. As a result, linear rubbing unevenness may occur in the alignment film on the display region of the substrate.

このように配向膜にラビングムラを有する基板を使用して構成された液晶表示装置をプロジェクタ等の投影機に用いた場合には、図15に示すように、投影された画面200に、ラビングムラの影響で液晶の配向が乱れ、1本のスジ200が写し出されてしまうといった問題があった。   When the liquid crystal display device configured using the substrate having the rubbing unevenness in the alignment film is used for a projector such as a projector, the influence of the rubbing unevenness is exerted on the projected screen 200 as shown in FIG. Therefore, there is a problem that the alignment of the liquid crystal is disturbed and one streak 200 is projected.

このような問題に鑑み、ラビングローラに最初に当接する基板上に形成された配向膜の周縁部の隅部を面取りする技術の提案がなされている(例えば特許文献1参照)。
特開平10−333150号公報
In view of such problems, there has been proposed a technique for chamfering the corners of the peripheral edge portion of the alignment film formed on the substrate that first contacts the rubbing roller (see, for example, Patent Document 1).
JP 10-333150 A

しかしながら配向膜の隅部を面取りしても、図14及び図16に示すように、ラビングローラ100に最初に当接する基板120の周縁部の隅部120aが直角形状であるため、ラビングローラ100が基板120に当接した際、ラビングローラ100の周面100aのクロスの毛流れが隅部120aによって局所的に乱されてしまうといった問題がある。詳しくは、クロスに毛羽立ち、毛割れ等の急激な乱れが生じ、結果として基板120の表示領域に直線状のラビングムラ115が発生してしまうという問題がある。   However, even if the corners of the alignment film are chamfered, as shown in FIGS. 14 and 16, the corner 120a of the peripheral edge of the substrate 120 that first contacts the rubbing roller 100 has a right-angled shape. When contacting the substrate 120, there is a problem that the cross hair flow of the peripheral surface 100a of the rubbing roller 100 is locally disturbed by the corner 120a. Specifically, there is a problem in that a rapid rubbing such as fluffing and cracking occurs in the cloth, and as a result, linear rubbing unevenness 115 occurs in the display area of the substrate 120.

本発明は前記問題に着目してなされたものであり、その目的は、基板上の配向膜にラビング処理を行う際、基板にクロスの急激な乱れに起因する直線状のラビングムラが生じ難い液晶表示装置、該液晶表示装置を高歩留まりにより製造する液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置を用いた電子機器を提供するにある。   The present invention has been made paying attention to the above-mentioned problem, and its purpose is to provide a liquid crystal display in which linear rubbing unevenness due to a sudden cross disorder is hardly generated on the substrate when the alignment film on the substrate is rubbed. An apparatus, a manufacturing method of a liquid crystal display device for manufacturing the liquid crystal display device with a high yield, and an electronic device using the liquid crystal display device are provided.

前記目的を達成するために本発明に係る液晶表示装置は、一対の矩形状の基板で液晶を挟持してなる液晶表示装置において、前記一対の基板のうち少なくとも一方の前記基板の4隅の角部の内、少なくとも1箇所に面取り部が形成されていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, a liquid crystal display device according to the present invention is a liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of rectangular substrates, and corners of four corners of at least one of the pair of substrates. A chamfered portion is formed in at least one of the portions.

本発明の液晶表示装置によれば、ラビング処理の際、ラビングローラが最初に当接する基板の角部の形状に起因するラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の急激な乱れを防止することができ、さらに基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れが直線状のラビングムラが発生してしまうことを防ぐことができるという効果を有する。   According to the liquid crystal display device of the present invention, during the rubbing process, a sudden disturbance such as fluffing or fuzzing of the cloth on the peripheral surface of the rubbing roller due to the shape of the corner of the substrate with which the rubbing roller first contacts is prevented. In addition, there is an effect that it is possible to prevent occurrence of linear rubbing unevenness due to cross disturbance in the alignment film on the display region of the substrate.

また、前記面取り部の面は、前記基板上に形成される配向膜に対して行うラビング処理の方向に対して直交するように形成されていることを特徴とする。   The surface of the chamfered portion is formed so as to be orthogonal to the direction of rubbing treatment performed on the alignment film formed on the substrate.

本発明の液晶表示装置によれば、基板の面取り部は、前記基板のラビング方向に対して直交する方向に形成されていることにより、ラビング処理の際、ラビングローラが最初に当接する基板の周縁部の隅部の形状に起因するラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の急激な乱れを防止することができ、さらに基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れが直線状のラビングムラが発生してしまうことを防ぐことができるという効果を有する。   According to the liquid crystal display device of the present invention, since the chamfered portion of the substrate is formed in a direction orthogonal to the rubbing direction of the substrate, the periphery of the substrate with which the rubbing roller first contacts during the rubbing process This can prevent sudden disturbance such as fluffing and fuzzing on the circumferential surface of the rubbing roller due to the shape of the corners of the part, and the cross disturbance on the alignment film on the display area of the substrate is linear rubbing unevenness. It has the effect that it can prevent generating.

さらに、前記面取り部は、曲線形状を有して形成されていることを特徴とする。また、前記面取り部の面は、多角形状を有して形成されていることを特徴とする。さらに、前記面取り部は、板厚方向に傾斜した面を有することを特徴とする。   Further, the chamfered portion is formed to have a curved shape. The surface of the chamfered portion is formed to have a polygonal shape. Furthermore, the chamfered portion has a surface inclined in the plate thickness direction.

本発明の液晶表示装置によれば、基板の面取り部は、曲線形状を有して,多角形状を有して,板厚方向に傾斜した面を有してのいずれかにより形成されていることにより、ラビング処理の際、ラビングローラが最初に当接する基板の周縁部の隅部の形状に起因するラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の急激な乱れをより一層防止することができ、さらに基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れが直線状のラビングムラが発生してしまうことを防ぐことができるという効果を有する。   According to the liquid crystal display device of the present invention, the chamfered portion of the substrate has a curved shape, a polygonal shape, and a surface inclined in the plate thickness direction. Thus, during the rubbing process, it is possible to further prevent sudden disturbance such as fluffing and fuzzing of the cloth on the peripheral surface of the rubbing roller due to the shape of the corner of the peripheral edge of the substrate with which the rubbing roller first contacts. In addition, there is an effect that it is possible to prevent occurrence of linear rubbing unevenness due to cross disturbance in the alignment film on the display region of the substrate.

本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、一対の矩形状の基板で液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造法方法において、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の4隅の角部のうち少なくとも1箇所を面取りする工程と、前記角部を面取りした基板に配向膜を形成する工程と、前記配向膜にラビング処理を行う工程を有し、前記ラビング処理を行う工程において、前記基板の一辺がラビングローラの前記基板に対する進行方向に対して特定の角度で傾斜し、前記基板のうち面取りした箇所にラビングローラが最初に当接するように、前記基板を固定することを特徴とする。   The method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of rectangular substrates, and corners at four corners of at least one of the pair of substrates. A step of chamfering at least one of the substrate, a step of forming an alignment film on the substrate chamfered at the corner, and a step of rubbing the alignment film, and the step of rubbing the substrate. The substrate is fixed so that one side of the rubbing roller is inclined at a specific angle with respect to the traveling direction of the rubbing roller with respect to the substrate, and the rubbing roller first contacts the chamfered portion of the substrate.

本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、液晶表示装置に用いる基板の4隅の角部の内、少なくともラビングローラに最初に当接する基板の角部に面取り部が形成されている基板をラビング処理するため、ラビングローラが最初に当接する基板の角部の形状に起因するラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の急激な乱れを防止することができ、さらに基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れが直線状のラビングムラが発生してしまうこと防いでラビング処理ができるので、液晶表示装置を高歩留まりにより製造することができるという効果を有する。   According to the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, a substrate having a chamfered portion formed at least at a corner portion of the substrate that first contacts the rubbing roller among the four corner portions of the substrate used in the liquid crystal display device. Since the rubbing process is performed, it is possible to prevent sudden disturbance such as fluffing and fuzzing on the circumferential surface of the rubbing roller due to the shape of the corner of the substrate with which the rubbing roller first comes into contact. Since the rubbing process can be performed while preventing the occurrence of linear rubbing unevenness in the alignment film, the liquid crystal display device can be manufactured with a high yield.

さらに、前記矩形状の基板をパレット上に複数戴置して前記ラビング処理を行うことを特徴とする。   Further, the rubbing process is performed by placing a plurality of the rectangular substrates on a pallet.

本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、歩留まりを高くして、基板をラビング処理することができるという効果を有する。   According to the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, the yield can be increased and the substrate can be rubbed.

また、前記ラビング処理において、前記基板に対するラビングローラの進行方向とラビング方向が異なることを特徴とする。   In the rubbing process, the rubbing roller travel direction relative to the substrate is different from the rubbing direction.

本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、バイアスラビングにより、基板をラビング処理しても、ラビング処理の際、ラビングローラが最初に当接する基板の周縁部の隅部の形状に起因するラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の急激な乱れを防止することができ、さらに基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れが直線状のラビングムラが発生してしまうことを防ぐことができるという効果を有する。   According to the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, even if the substrate is rubbed by bias rubbing, the rubbing is caused by the shape of the corner of the peripheral edge of the substrate that the rubbing roller first contacts during the rubbing treatment. Abrupt disturbances such as fluffing and fuzzing of the cloth on the roller peripheral surface can be prevented, and further, it is possible to prevent occurrence of linear rubbing unevenness in the alignment film on the display area of the substrate. It has the effect of being able to.

本発明に係る電子機器は、請求項1〜6の液晶表示装置を用いたことを特徴とする。   An electronic apparatus according to the present invention uses the liquid crystal display device according to claims 1 to 6.

本発明の電子機器によれば、電子機器に用いる液晶表示装置の基板の4隅の内、少なくともラビングローラに最初に当接する基板角部に面取り部が形成されているため、該基板を用いて電子機器に用いる液晶表示装置を組み立てる際、基板の組立方向を間違えることがないという効果を有する。   According to the electronic device of the present invention, the chamfered portion is formed at least at the corner of the substrate that first contacts the rubbing roller among the four corners of the substrate of the liquid crystal display device used in the electronic device. When assembling a liquid crystal display device used for electronic equipment, there is an effect that the assembly direction of the substrate is not mistaken.

以下、図面を参照にして本発明の実施の形態を説明する。尚、本実施の形態では、液晶表示装置は、例えばTFT(薄膜トランジスタ)等のアクティブ素子(能動素子)が形成された基板(以下、TFT基板と称す)及び該TFT基板に対向配置される基板(以下、対向基板と称す)を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例に挙げて説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, the liquid crystal display device includes a substrate on which an active element (active element) such as a TFT (thin film transistor) is formed (hereinafter referred to as a TFT substrate) and a substrate (see FIG. Hereinafter, an active matrix liquid crystal display device using a counter substrate) will be described as an example.

先ず、図1を参照して、液晶表示装置の構成について説明する。図1は、本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置の断面図である。   First, the configuration of the liquid crystal display device will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device showing an embodiment of the present invention.

同図に示すように、液晶表示装置70は、TFT基板9とそれに対向して設けられる対向基板3との間に液晶50を封入して構成される。TFT基板9の液晶50と接する面上に、液晶分子をTFT基板面に沿って配向させるための配向膜9hが形成されている。また、対向基板20の液晶50と接する面上に、液晶分子を対向基板面に沿って配向させるための配向膜3hが形成されている。   As shown in the figure, the liquid crystal display device 70 is configured by enclosing a liquid crystal 50 between a TFT substrate 9 and a counter substrate 3 provided facing the TFT substrate 9. On the surface of the TFT substrate 9 in contact with the liquid crystal 50, an alignment film 9h for aligning liquid crystal molecules along the TFT substrate surface is formed. In addition, an alignment film 3h for aligning liquid crystal molecules along the surface of the counter substrate is formed on the surface of the counter substrate 20 in contact with the liquid crystal 50.

TFT基板9と対向基板3との間に、液晶50を封入するシール材41が形成されている。シール材41は、例えば対向基板3の輪郭形状に略一致するように配置され、TFT基板9と対向基板3とを相互に固着する。   A sealing material 41 that encloses the liquid crystal 50 is formed between the TFT substrate 9 and the counter substrate 3. The sealing material 41 is disposed, for example, so as to substantially match the contour shape of the counter substrate 3, and fixes the TFT substrate 9 and the counter substrate 3 to each other.

次に、このように構成された液晶表示装置70の基板上に形成された配向膜をラビング処理するラビング装置の構成について図2を用いて説明する。尚、以下の説明においては、ラビング処理は、対向基板3に施す場合を例に挙げて説明し、さらに基板の製造工程において製造された、例えば8インチ以上の大板からなる対向基板を規定の大きさに切り出したものに配向膜を形成し、この切り出した対向基板をパレット上に載置してラビング処理を行う場合を例に挙げて説明する。   Next, the configuration of a rubbing apparatus for rubbing the alignment film formed on the substrate of the thus configured liquid crystal display device 70 will be described with reference to FIG. In the following description, the rubbing process is described by taking the counter substrate 3 as an example, and the counter substrate made of a large plate of, for example, 8 inches or more manufactured in the substrate manufacturing process is defined. An example will be described in which an alignment film is formed on what is cut into a size, and the cut counter substrate is placed on a pallet and a rubbing process is performed.

図2は、図1の液晶表示装置の対向基板上に形成された配向膜をラビング処理するラビング装置の要部の構成の一例を示した概略斜視図である。
図2に示すように、ラビング装置1は、基台4の上面(以下、基準平面と称す)4aに固定されたラビングローラ2と、ラビング処理の際に複数個の矩形状の対向基板(以下、単に基板と称す)3を載置して基準平面4a上を移動するパレット5と、このパレット5に載置した複数個の基板3上の各々の配向膜3hがラビングローラ2の周面2bに当接するように、パレット5を基準平面4a上においてガイドするガイド6と、ラビングローラ2の回転軸2cに回転駆動力を供給するモータ7とにより、その主要部が構成されている。
FIG. 2 is a schematic perspective view showing an example of a configuration of a main part of a rubbing apparatus for rubbing an alignment film formed on the counter substrate of the liquid crystal display device of FIG.
As shown in FIG. 2, the rubbing apparatus 1 includes a rubbing roller 2 fixed to an upper surface (hereinafter referred to as a reference plane) 4a of a base 4, and a plurality of rectangular counter substrates (hereinafter referred to as a rubbing process). (Hereinafter simply referred to as a substrate) 3 and a pallet 5 that moves on a reference plane 4a. Each alignment film 3h on the plurality of substrates 3 placed on the pallet 5 is a peripheral surface 2b of the rubbing roller 2. The guide 6 that guides the pallet 5 on the reference plane 4a and the motor 7 that supplies the rotational driving force to the rotating shaft 2c of the rubbing roller 2 constitute the main part.

ラビングローラ2は、布等のクロス材で形成されたローラ周面2bを有するローラ部2aと、回転軸2cと、一対の軸受け2dとにより、その主要部が構成されており、回転軸2cは、一対の軸受け2dにより基準平面4aに平行な平面上に回転自在に軸支されている。一対の軸受け2dは、基準平面4aに対し図示しない高さ調節機構を有しており、ローラ2の高さを任意に調節できるようになっている。   The rubbing roller 2 includes a roller portion 2a having a roller peripheral surface 2b formed of a cloth material such as cloth, a rotating shaft 2c, and a pair of bearings 2d. The main portion of the rubbing roller 2 is A pair of bearings 2d are rotatably supported on a plane parallel to the reference plane 4a. The pair of bearings 2d have a height adjusting mechanism (not shown) with respect to the reference plane 4a so that the height of the roller 2 can be arbitrarily adjusted.

このように構成されたラビングローラ2は、軸受け2dで支持された回転軸2cを介してモータ7により回転力が供給されることにより、ローラ部2aの周面2bが一方向に回転しながら複数個の基板3の各々の表面に形成された配向膜3hに当接し、各々の基板3の配向膜3h表面に細かい溝を形成して該配向膜3hを配向異方性の膜にする。   The rubbing roller 2 configured in this manner is supplied with a rotational force by the motor 7 via the rotating shaft 2c supported by the bearing 2d, so that the peripheral surface 2b of the roller portion 2a rotates in one direction. Each of the substrates 3 is in contact with the alignment film 3h formed on the surface, and a fine groove is formed on the surface of the alignment film 3h of each substrate 3 to make the alignment film 3h an alignment anisotropic film.

パレット5は、ラビング処理の際に、パレット5上に複数個の基板3を載置して、基準平面4a上でガイド6により移動し、このパレット5に載置した複数個の基板3をラビングローラ2にそれぞれ当接させるものである。   In the rubbing process, the pallet 5 places a plurality of substrates 3 on the pallet 5 and moves by a guide 6 on the reference plane 4a, and rubs the plurality of substrates 3 placed on the pallet 5. Each of them is brought into contact with the roller 2.

ガイド6は、パレット角調節機構6aを有し、このパレット角調節機構6aは、ラビング処理時に、ガイド6がガイドするパレット5に載置した複数個の基板3を、各基板3とラビングローラ2の相対進行方向に対して、各基板3の一辺を所定の角度θ(例えば2°叉は3°)を以ってラビングローラ2に当接させるよう、所定の角度を設定し、パレット5を所定角度に固定するものである。   The guide 6 has a pallet angle adjusting mechanism 6a, and the pallet angle adjusting mechanism 6a is configured so that a plurality of substrates 3 placed on the pallet 5 guided by the guide 6 are rubbed with each substrate 3 and the rubbing roller 2 during the rubbing process. A predetermined angle is set so that one side of each substrate 3 is brought into contact with the rubbing roller 2 at a predetermined angle θ (for example, 2 ° or 3 °) with respect to the relative traveling direction of the pallet 5. It is fixed at a predetermined angle.

尚、ラビング処理の際、各基板3の水平叉は垂直方向を所定の角度θを以ってラビングローラ2に当接させるのは、ある特定の角度を以ってラビング処理を行うことにより、このラビング処理後の基板3によって構成される液晶表示装置の明視角を最適な方向に設定することができるためである。   In the rubbing process, the horizontal or vertical direction of each substrate 3 is brought into contact with the rubbing roller 2 with a predetermined angle θ by performing the rubbing process with a specific angle. This is because the clear viewing angle of the liquid crystal display device constituted by the substrate 3 after the rubbing process can be set in an optimum direction.

次に、このように構成されたラビング装置1を用いてラビング処理される基板3の形状について図3〜図10を用いて説明する。図3は、図1の液晶表示装置に用いる基板3の4隅の角部に面取り部を形成したことを示す要部概略平面図、図4は、図1の液晶表示装置に用いる基板3の4隅の内、ラビングローラ2に最初に当接する基板3の角部のみに面取り部を形成したことを示す要部部分概略平面図である。   Next, the shape of the substrate 3 to be rubbed using the rubbing apparatus 1 configured as described above will be described with reference to FIGS. 3 is a schematic plan view of a principal part showing that chamfered portions are formed at four corners of the substrate 3 used in the liquid crystal display device of FIG. 1, and FIG. 4 is a plan view of the substrate 3 used in the liquid crystal display device of FIG. It is a principal part part schematic plan view which shows having formed the chamfering part only in the corner | angular part of the board | substrate 3 which contact | abuts the rubbing roller 2 first among four corners.

また、図5は、ラビングローラ2に最初に当接する図4の基板3の面取り部の面を、基板3のラビング方向に対して直交する方向に形成したことを示す要部部分概略平面図、図6は、図3または図4の基板3の面取り部を多角形状を有して形成したことを示す要部部分概略平面図である。   5 is a schematic plan view of a main part of the substrate 3 showing that the surface of the chamfered portion of the substrate 3 of FIG. 4 that first contacts the rubbing roller 2 is formed in a direction perpendicular to the rubbing direction of the substrate 3. FIG. 6 is a fragmentary schematic plan view of a main part showing that the chamfered portion of the substrate 3 of FIG. 3 or FIG. 4 has a polygonal shape.

さらに、図7は、図3または図4の基板3の面取り部が複数の面からなるように形成したことを示す要部部分概略斜視図、図8は、図7のVIII−VIII線に沿う縦断面図、図9は、面取り部を曲面形状にしたことを示す要部部分概略斜視図、図10は、図9のX−X線に沿う縦断面図である。   Further, FIG. 7 is a main part partial schematic perspective view showing that the chamfered portion of the substrate 3 of FIG. 3 or FIG. 4 is formed of a plurality of surfaces, and FIG. 8 is taken along the line VIII-VIII of FIG. FIG. 9 is a fragmentary schematic perspective view showing that the chamfered portion is curved, and FIG. 10 is a longitudinal sectional view taken along line XX of FIG.

以下、各図面をもとに詳細を説明する。   Details will be described below with reference to the drawings.

図3に示すように、パレット5(図2参照)上に戴置される矩形状の各基板3の4つの角部に、例えば曲線形状を有する面取り部3cが形成されている。   As shown in FIG. 3, chamfered portions 3c having a curved shape, for example, are formed at four corners of each rectangular substrate 3 placed on the pallet 5 (see FIG. 2).

基板3の4隅の角部3cに曲線形状を有する面取り部が形成されていると、パレット5の進行方向と、ラビング方向を平行にしてラビング処理をした際、基板3の水平叉は垂直方向を所定の角度θを以ってラビングローラ2に当接させた際、面取り部3cは直角形状を有しないことから、面取り部3cは、ラビングローラ2の周面2bに、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに乱れを生じさせない。   When chamfered portions having curved shapes are formed in the corners 3c at the four corners of the substrate 3, the rubbing process is performed in parallel with the rubbing direction of the pallet 5 in the horizontal or vertical direction of the substrate 3. Is brought into contact with the rubbing roller 2 at a predetermined angle θ, the chamfered portion 3c does not have a right-angled shape, so that the chamfered portion 3c Does not cause disturbance in the cross hair flow such as cracks.

よって、基板3の角部3cの形状により、基板3がラビングローラ2に当接した際、角部3cが、ラビングローラ2の周面2bに、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに急激な乱れを生じさせることがない。その結果、基板3の表示領域上の配向膜に直線状のラビングムラが生じてしまうといった問題がない。   Therefore, when the substrate 3 comes into contact with the rubbing roller 2 due to the shape of the corner portion 3c of the substrate 3, the corner portion 3c is caused to flow on the peripheral surface 2b of the rubbing roller 2 with cross hairs such as fluffing and cracking. Does not cause sudden disturbance. As a result, there is no problem that linear rubbing unevenness occurs in the alignment film on the display region of the substrate 3.

このことから、ラビング処理後の基板3を使用して構成された液晶表示装置70をプロジェクタ等の投影機に用いた場合に、図15に示すように、投影された画面200に、ラビングムラの影響による液晶の配向の乱れによって1本のスジ200が写し出されてしまうといったことがない。   Therefore, when the liquid crystal display device 70 configured using the substrate 3 after the rubbing process is used for a projector such as a projector, the influence of the rubbing unevenness is exerted on the projected screen 200 as shown in FIG. There is no possibility that one streak 200 is projected due to the disorder of the orientation of the liquid crystal.

尚、基板3の周縁部の4つの角部に形成された面取り部3cは、曲線を有する形状に限らず、図6に示すように、鈍角により形成された多角形を有する形状であっても良い。多角形を有する形状は、直角形状を有しないことから、面取り部3cが曲線を有する形状である場合と同様の効果を得ることができる。   Note that the chamfered portions 3c formed at the four corners of the peripheral portion of the substrate 3 are not limited to a shape having a curve, and may be a shape having a polygon formed by an obtuse angle as shown in FIG. good. Since the shape having a polygon does not have a right-angle shape, the same effect as in the case where the chamfered portion 3c is a shape having a curve can be obtained.

また、面取り部3cの形状は、上述したものに限らず、ラビングローラ2の周面2bに当接した際、該ラビングローラ2の周面2bに、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに急激な乱れを生じさせない形状であればどんなものであってもよい。   Further, the shape of the chamfered portion 3c is not limited to that described above, and when contacting the peripheral surface 2b of the rubbing roller 2, cross hairs such as fluffing and fuzzing on the peripheral surface 2b of the rubbing roller 2 are obtained. Any shape may be used as long as it does not cause a sudden turbulence in the flow.

さらに、基板3の周縁部の角部に形成された面取り部3cは、4隅に形成することにより、どの方向から基板3の水平叉は垂直方向を所定の角度θ(例えば2°叉は3°)を以って基板3をラビングローラ2に当接させても、面取り部3cは、ラビングローラ2の周面2bに、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに乱れを生じさせない。   Further, the chamfered portions 3c formed at the corners of the peripheral portion of the substrate 3 are formed at the four corners, so that from which direction the horizontal or vertical direction of the substrate 3 is a predetermined angle θ (for example, 2 ° or 3 °). Even when the substrate 3 is brought into contact with the rubbing roller 2 with the angle (°), the chamfered portion 3c does not disturb the flow of the cross hairs such as fluffing of the cloth and cracks on the peripheral surface 2b of the rubbing roller 2. .

また、基板3の面取り部3cは、ラビング方向が決まっている場合には、4隅全てに形成しなくても良く、図4に示すように、ラビング処理の際、基板3の水平叉は垂直方向を所定の角度θを以ってラビングローラ2に当接させた際、ラビングローラ2に最初に当接する基板3の角部のみに、曲線形状を有する面取部3cfを形成してもよい。   Further, when the rubbing direction is determined, the chamfered portion 3c of the substrate 3 does not have to be formed in all four corners. As shown in FIG. When the direction is brought into contact with the rubbing roller 2 with a predetermined angle θ, a chamfered portion 3cf having a curved shape may be formed only at the corner portion of the substrate 3 that first comes into contact with the rubbing roller 2. .

この場合においては、ラビングローラ2が最初に当接する基板3の面取り部3cfの形状に起因するラビングローラ2の周面2bのクロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに急激な乱れが生じるのを防ぐことができる。その結果、基板3の表示領域上の配向膜に乱れが生じラビングムラが生じてしまうといった問題がない。   In this case, a sudden disturbance occurs in the cross hair flow such as fluffing and fuzzing on the peripheral surface 2b of the rubbing roller 2 due to the shape of the chamfered portion 3cf of the substrate 3 to which the rubbing roller 2 first contacts. Can be prevented. As a result, there is no problem that the alignment film on the display area of the substrate 3 is disturbed and rubbing unevenness occurs.

また、ラビングローラ2に最初に当接する基板3の角部のみに面取り部3cfを形成する場合、図5に示すように、基板3の面取り部3cfを、基板3のラビング処理方向に対して直交する方向、詳しくは、ラビングローラ2またはパレット5の進行方向に対して直交する方向に形成してもよい。   When the chamfered portion 3cf is formed only at the corner portion of the substrate 3 that first contacts the rubbing roller 2, the chamfered portion 3cf of the substrate 3 is orthogonal to the rubbing processing direction of the substrate 3, as shown in FIG. In detail, it may be formed in a direction perpendicular to the advancing direction of the rubbing roller 2 or the pallet 5.

このことにより、ラビングローラ2またはパレット5の進行方向に対して直交する面は、直角形状を有しないため、面取り部3cfが最初に当接するラビングローラ2の周面2bに、面取り部3cfは、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに乱れを生じさせない。   As a result, since the surface orthogonal to the advancing direction of the rubbing roller 2 or the pallet 5 does not have a right-angled shape, the chamfered portion 3cf is formed on the peripheral surface 2b of the rubbing roller 2 with which the chamfered portion 3cf first contacts. Does not cause any disturbance in the hair flow of the cloth, such as fuzzing and cracking of the cloth.

さらに、ラビングローラ2に最初に当接する基板3の角部のみに面取り部3cfを形成しておけば、ラビング処理後の基板3を用いて電子機器に用いる液晶表示装置を組み立てる際、面取り部3cfが組立時の目印となるため、基板の組立方向を間違えることがない。   Further, if the chamfered portion 3cf is formed only in the corner portion of the substrate 3 that first contacts the rubbing roller 2, the chamfered portion 3cf is used when assembling a liquid crystal display device used in an electronic apparatus using the substrate 3 after the rubbing process. Since this serves as a mark at the time of assembly, the board assembly direction is not mistaken.

また、ラビングローラ2に最初に当接する基板3の面取り部3cfは、図6に示すように、鈍角を有する多角形を有する形状であっても良い。   Further, the chamfered portion 3cf of the substrate 3 that first contacts the rubbing roller 2 may have a polygonal shape having an obtuse angle as shown in FIG.

尚、各基板3の4つの角部に形成された面取り部3cまたはラビングローラ2に最初に当接する角部に形成された面取り部3cfは、板厚方向に傾斜を有した面に形成しても良い。例えば、前記角部の厚さ方向の上半部に面取り部3cfを形成してもよい。   The chamfered portions 3c formed at the four corners of each substrate 3 or the chamfered portions 3cf formed at the corners that first contact the rubbing roller 2 are formed on surfaces that are inclined in the plate thickness direction. Also good. For example, a chamfered portion 3cf may be formed in the upper half of the corner portion in the thickness direction.

詳しくは、各基板3の4つの角部に形成された面取り部3cまたはラビングローラ2に最初に当接する角部に形成された面取り部3cfを、図7、図8に示すように前記角部の板厚方向の上半部3uに形成し、面取り部に3cと3dの2つの面が形成されるようにする。もちろん面の数は2つ以上であっても構わない。または図9、図10に示すように面取り部が曲面形状を有するように形成してもよい。   Specifically, the chamfered portions 3c formed at the four corners of each substrate 3 or the chamfered portions 3cf formed at the corners that first contact the rubbing roller 2 are replaced with the corners as shown in FIGS. In the upper half 3u in the thickness direction, two surfaces 3c and 3d are formed on the chamfered portion. Of course, the number of faces may be two or more. Or you may form so that a chamfering part may have a curved-surface shape as shown in FIG. 9, FIG.

このことによっても、パレット5の進行方向と、ラビング方向を平行にしてラビング処理をした際、基板3の水平叉は垂直方向を所定の角度θを以ってラビングローラ2に当接させた際、前記面取り部は、直角形状を有しないことから、面取り部3cは、ラビングローラ2の周面2bに、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに乱れを生じさせない。   Also in this case, when the rubbing process is performed with the traveling direction of the pallet 5 parallel to the rubbing direction, the horizontal or vertical direction of the substrate 3 is brought into contact with the rubbing roller 2 with a predetermined angle θ. Since the chamfered portion does not have a right-angled shape, the chamfered portion 3c does not disturb the flow of the cross, such as fluffing of the cross and fuzzing on the peripheral surface 2b of the rubbing roller 2.

尚、基板3の面取り部を段付き形状に形成する場合にも、上述した図5に示したように、基板3の面取り部3cfを、ラビングローラ2またはパレット5の進行方向に対して直交する方向に形成すれば、より一層、面取り部3cは、ラビングローラ2の周面2bに、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに乱れを生じさせない。   Even when the chamfered portion of the substrate 3 is formed in a stepped shape, the chamfered portion 3cf of the substrate 3 is orthogonal to the advancing direction of the rubbing roller 2 or the pallet 5, as shown in FIG. If it is formed in the direction, the chamfered portion 3c will not cause any disturbance in the flow of the cross, such as fluffing of the cloth and cracking, on the peripheral surface 2b of the rubbing roller 2.

次に、このように構成された基板のラビング方法について図11を用いて説明する。図11は、図1の液晶表示装置の基板の製造方法、詳しくはラビング方法を示したフローチャートである。   Next, a method for rubbing the substrate thus configured will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a flowchart showing a method for manufacturing the substrate of the liquid crystal display device of FIG. 1, more specifically, a rubbing method.

先ず、図11に示すように、ステップS1において、各製造工程において製造された、例えば8インチ以上の大板からなる基板を規定の大きさに切り出した各基板3の周縁部の4つの角部、またはラビング処理の際ラビングローラ2に最初に当接する角部に、面取り部が上述した形状に形成される。その後、ステップS2に移行する。   First, as shown in FIG. 11, in step S1, four corner portions of the peripheral portion of each substrate 3 obtained by cutting out a substrate made of a large plate of, for example, 8 inches or more manufactured in each manufacturing process into a predetermined size. Alternatively, the chamfered portion is formed in the shape described above at the corner portion that first contacts the rubbing roller 2 during the rubbing process. Thereafter, the process proceeds to step S2.

ステップS2では、周縁部の4つの面取り部3c、またはラビング処理の際、ラビングローラ2が最初に当接する面取り部4cfが形成された各基板3上に、配向膜3hが形成され、その後、ステップS3に移行する。   In step S2, the alignment film 3h is formed on each substrate 3 on which the four chamfered portions 3c at the peripheral edge or the chamfered portion 4cf with which the rubbing roller 2 first comes into contact during the rubbing process is formed. The process proceeds to S3.

最後にステップS3では、配向膜3hが形成された各基板3がパレット上に載置され、基板3とラビングローラ2の相対進行方向に対して、基板3の一辺を特定の角度傾斜させて、ラビングローラ2が面取り部3cまたは面取り部3cfに最初に当接するよう、パレット5の進行方向と、ラビング方向を平行にして基板3上の配向膜3hにラビング処理を施す。   Finally, in step S3, each substrate 3 on which the alignment film 3h is formed is placed on the pallet, and one side of the substrate 3 is inclined at a specific angle with respect to the relative traveling direction of the substrate 3 and the rubbing roller 2, A rubbing process is performed on the alignment film 3h on the substrate 3 so that the traveling direction of the pallet 5 is parallel to the rubbing direction so that the rubbing roller 2 first contacts the chamfered portion 3c or the chamfered portion 3cf.

このような方法により、基板3は、ラビング処理されることから、パレット5の進行方向と、ラビング方向を平行にしてラビング処理をした場合、基板3の水平叉は垂直方向を所定の角度θを以ってラビングローラ2に当接させた際、面取り部3cまたは面取り部3cfは直角形状を有しないことから、面取り部3cまたは面取り部3cfは、ラビングローラ2の周面2bに、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに乱れを生じさせない。   Since the substrate 3 is rubbed by such a method, when the rubbing process is performed with the traveling direction of the pallet 5 parallel to the rubbing direction, the horizontal or vertical direction of the substrate 3 is set at a predetermined angle θ. Therefore, when the chamfered portion 3c or the chamfered portion 3cf does not have a right-angled shape when being brought into contact with the rubbing roller 2, the chamfered portion 3c or the chamfered portion 3cf is formed on the peripheral surface 2b of the rubbing roller 2 with fluff of cloth. Does not cause disturbance in the hair flow of the cloth, such as cracks.

よって、ラビングローラ2に当接する基板3の角部に形成された面取り部3cまたは面取り部3cfの形状により、ラビングローラ2の周面2bに、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに急激な乱れが発生するのを防ぐことができる。   Therefore, depending on the shape of the chamfered portion 3c or the chamfered portion 3cf formed at the corner of the substrate 3 in contact with the rubbing roller 2, the cross hair flow such as fluffing of the cloth, fuzzing, etc. is generated on the peripheral surface 2b of the rubbing roller 2. It is possible to prevent sudden disturbance.

その結果、基板3の表示領域上の配向膜に直線状のラビングムラが生じてしまう、いった問題が生じるのを防ぐことが可能となる。   As a result, it is possible to prevent the occurrence of such a problem that linear rubbing unevenness occurs in the alignment film on the display region of the substrate 3.

さらに、ラビング処理後の基板3を使用して構成された液晶表示装置70をプロジェクタ等の投影機に用いた場合に、図15に示すように、投影された画面200に、ラビングムラとして1本のスジ200が写し出されてしまうといったことがない。よって、液晶表示装置を高歩留まりにより製造することができる。   Further, when the liquid crystal display device 70 configured using the substrate 3 after the rubbing process is used in a projector such as a projector, as shown in FIG. The streak 200 is not projected. Therefore, the liquid crystal display device can be manufactured with a high yield.

尚、本実施の形態においては、基板3のラビング処理は、パレット5の進行方向と、ラビング方向を平行にして行うと示したが、図12に示すように、パレット5の進入方向と、ラビング方向とが一致しないバイアスラビングを用いてラビング処理を行っても、本実施の形態と同様の効果を得ることができる。   In the present embodiment, the rubbing process for the substrate 3 is shown to be performed with the traveling direction of the pallet 5 and the rubbing direction parallel to each other. However, as shown in FIG. Even if the rubbing process is performed using bias rubbing whose direction does not match, the same effect as in the present embodiment can be obtained.

尚、バイアスラビングとは、基板3の進行方向と回転方向(=ラビング方向)を異ならせることで、ラビングローラ2上の異物によるラビングムラが局在化しないようにするための技術のことである。また、基板3の角部の面取り部は、グラインダにより形成されると示したが、これに限らず、上述した形状に加工できるのであれば、エッチングにより形成しても良く、さらに、大板から切り出す際、角部に面取り部を形成しても良い。   The bias rubbing is a technique for preventing the unevenness of rubbing due to foreign matter on the rubbing roller 2 from being localized by making the traveling direction and the rotating direction (= rubbing direction) of the substrate 3 different. Further, the chamfered portion of the corner portion of the substrate 3 has been shown to be formed by a grinder. However, the present invention is not limited to this, and may be formed by etching as long as it can be processed into the shape described above. When cutting out, a chamfer may be formed at the corner.

さらに、基板3は、矩形状であると示したが、これに限らず、角形状を有する基板でもよく、この場合においても本実施の形態と同様の効果を得ることができる。   Further, although the substrate 3 is shown as having a rectangular shape, the substrate 3 is not limited thereto, and may be a substrate having a square shape. In this case as well, the same effect as in the present embodiment can be obtained.

また、本実施の形態においては、基板の各製造工程において製造された、例えば8インチ以上の大板からなる基板を規定の大きさに切り出したものに配向膜を形成し、この切り出した対向基板をパレット上に載置してラビング処理を行う方法を例に挙げて説明したが、これに限らず、大板上に配向膜3hを形成し、該配向膜3hにラビング処理を行う場合であっても適用できるということは、云うまでもない。   Further, in the present embodiment, an alignment film is formed on a substrate having a large size of, for example, 8 inches or more, which is manufactured in each manufacturing process of the substrate, and is cut out to a specified size. However, the present invention is not limited to this, but the alignment film 3h is formed on a large plate and the rubbing process is performed on the alignment film 3h. Needless to say, it can be applied.

また、対向基板3上に形成された配向膜3hにラビング処理をする例を示したが、TFT基板9上に形成された配向膜9hにラビング処理を施しても本実施の形態と同様の効果を得ることができる。   Further, an example in which the alignment film 3h formed on the counter substrate 3 is rubbed is shown. However, even if the alignment film 9h formed on the TFT substrate 9 is rubbed, the same effect as in the present embodiment is obtained. Can be obtained.

さらに、基板3上に形成された配向膜3hをラビング処理する際、パレット5上に複数個の基板3を載置して、基準平面4a上でガイド6により移動し、このパレット5に載置した複数個の基板3をラビングローラ2にそれぞれ当接させることにより配向膜3hにラビング処理を行うと示したが、これに限らず、基板3に対し、ラビングローラ2を移動させることにより、基板3上の配向膜3hにラビング処理を施しても良いことは勿論である。   Further, when the alignment film 3 h formed on the substrate 3 is rubbed, a plurality of substrates 3 are placed on the pallet 5, moved by the guide 6 on the reference plane 4 a, and placed on the pallet 5. Although the rubbing process is performed on the alignment film 3h by bringing the plurality of substrates 3 into contact with the rubbing roller 2 respectively, the substrate is not limited to this, and the substrate 3 can be moved by moving the rubbing roller 2 relative to the substrate 3. Of course, the alignment film 3h on the surface 3 may be rubbed.

本実施の形態に適用される液晶表示装置には、例えばTFT素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例に挙げて示したが、これに限らず、TFD(薄膜ダイオード)等のアクティブ素子(能動素子)を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に適用しても良い。   As an example of the liquid crystal display device applied to the present embodiment, an active matrix liquid crystal display device using a TFT element is shown as an example. However, the present invention is not limited to this, and an active element such as a TFD (thin film diode) is used. The present invention may be applied to an active matrix liquid crystal display device using (active elements).

また、本発明に係る液晶表示装置が適用できる電子機器としては、例えば、携帯電話機、PDA(Personal Digital Assistants)と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末機等、液晶表示装置を用いる電子機器が挙げられる。   In addition, examples of electronic devices to which the liquid crystal display device according to the present invention can be applied include portable telephones, portable information devices called PDA (Personal Digital Assistants), portable personal computers, personal computers, digital still cameras, and in-vehicle monitors. , Digital video cameras, liquid crystal televisions, viewfinder type, monitor direct-view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, video phones, POS terminals, etc. Equipment.

本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置の断面図。1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図1の液晶表示装置の対向基板上に形成された配向膜をラビング処理するラビング装置の要部の構成の一例を示した概略斜視図。FIG. 2 is a schematic perspective view illustrating an example of a configuration of a main part of a rubbing apparatus for rubbing an alignment film formed on a counter substrate of the liquid crystal display device of FIG. 1. 図1の液晶表示装置に用いる基板の4隅の角部に面取り部を形成したことを示す要部概略平面図。The principal part schematic plan view which shows having formed the chamfering part in the corner | angular part of the four corners of the board | substrate used for the liquid crystal display device of FIG. 図1の液晶表示装置に用いる基板の4隅の内、ラビングローラに最初に当接する基板の角部のみに面取り部を形成したことを示す要部部分概略平面図。FIG. 2 is a main part partial schematic plan view showing that chamfered portions are formed only at corners of the substrate that first contacts the rubbing roller among the four corners of the substrate used in the liquid crystal display device of FIG. 1. ラビングローラに最初に当接する図4の基板の面取り部の面を、基板のラビング方向に対して直交する方向に形成したことを示す要部部分概略平面図。FIG. 5 is a main part partial schematic plan view showing that the surface of the chamfered portion of the substrate of FIG. 4 that first contacts the rubbing roller is formed in a direction orthogonal to the rubbing direction of the substrate. 図3または図4の基板の面取り部を多角形状を有して形成したことを示す要部部分概略平面図。The principal part part schematic plan view which shows having formed the chamfering part of the board | substrate of FIG. 3 or FIG. 4 with a polygonal shape. 図3または図4の基板3の面取り部が複数の面からなるように形成したことを示す要部部分概略斜視図。The principal part part schematic perspective view which shows having formed so that the chamfering part of the board | substrate 3 of FIG. 3 or FIG. 4 might consist of a some surface. 図7中のVIII−VIII線に沿う縦断面図。The longitudinal cross-sectional view which follows the VIII-VIII line in FIG. 図7の面取り部を曲面形状にしたことを示す要部部分概略斜視図。The principal part part schematic perspective view which shows having made the chamfer part of FIG. 7 into the curved surface shape. 図9のIX−IX線に沿う縦断面図。The longitudinal cross-sectional view which follows the IX-IX line of FIG. 図1の液晶表示装置の対向基板のラビング方法を示したフローチャート。2 is a flowchart showing a method for rubbing a counter substrate of the liquid crystal display device of FIG. 1. 図1の液晶表示装置に用いる基板に、バイアスラビングを施す例を示す要部概略平面図。The principal part schematic plan view which shows the example which gives a bias rubbing to the board | substrate used for the liquid crystal display device of FIG. 基板の一辺の方向とラビング方向とを平行にしてラビング処理を行う例を示す要部概略平面図。The principal part schematic plan view which shows the example which performs the rubbing process by making the direction of the one side of a board | substrate parallel to the rubbing direction. 従来の基板のラビング処理の例を示す要部概略平面図。The principal part schematic plan view which shows the example of the rubbing process of the conventional board | substrate. 液晶表示装置の画面にラビングムラが生じた例を示す図。The figure which shows the example which the rubbing nonuniformity produced in the screen of a liquid crystal display device. 従来の基板のラビング処理の他の例を示す要部概略平面図。The principal part schematic plan view which shows the other example of the rubbing process of the conventional board | substrate.

符号の説明Explanation of symbols

2…ラビングローラ,2b…ローラ周面,3…対向基板,3c…面取り部(角部),3cf…ラビングローラに最初に当接する面取り部(角部),3h…配向膜,5…パレット。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 ... Rubbing roller, 2b ... Roller peripheral surface, 3 ... Counter board | substrate, 3c ... Chamfering part (corner part), 3cf ... Chamfering part (corner part) which contact | abuts a rubbing roller first, 3h ... Orientation film, 5 ... Pallet.

Claims (9)

一対の矩形状の基板で液晶を挟持してなる液晶表示装置において、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の前記基板の4隅の角部の内、少なくとも1箇所に面取り部が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
In a liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of rectangular substrates,
A liquid crystal display device, wherein a chamfered portion is formed in at least one of four corners of at least one of the pair of substrates.
前記面取り部の面は、前記基板上に形成される配向膜に対して行うラビング処理の方向に対して直交するように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the surface of the chamfered portion is formed so as to be orthogonal to a direction of a rubbing process performed on an alignment film formed on the substrate. 前記面取り部は、曲線形状を有して形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the chamfered portion has a curved shape. 前記面取り部の面は、多角形状を有して形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a surface of the chamfered portion is formed to have a polygonal shape. 前記面取り部は、板厚方向に傾斜した面を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the chamfered portion has a surface inclined in a plate thickness direction. 一対の矩形状の基板で液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造法方法において、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の4隅の角部のうち少なくとも1箇所を面取りする工程と、
前記角部を面取りした基板に配向膜を形成する工程と、
前記配向膜にラビング処理を行う工程を有し、
前記ラビング処理を行う工程において、前記基板の一辺がラビングローラの前記基板に対する進行方向に対して特定の角度で傾斜し、前記基板のうち面取りした箇所にラビングローラが最初に当接するように、前記基板を固定することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
In a method for manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of rectangular substrates,
Chamfering at least one of four corners of at least one of the pair of substrates; and
Forming an alignment film on the chamfered substrate;
A step of rubbing the alignment film;
In the step of performing the rubbing treatment, the one side of the substrate is inclined at a specific angle with respect to the traveling direction of the rubbing roller with respect to the substrate, and the rubbing roller first contacts the chamfered portion of the substrate. A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising fixing a substrate.
前記矩形状の基板をパレット上に複数戴置して前記ラビング処理を行うことを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置の製造方法。   The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the rubbing process is performed by placing a plurality of the rectangular substrates on a pallet. 前記ラビング処理において、
前記基板に対するラビングローラの進行方向とラビング方向が異なることを特徴とする請求項6または7に記載の液晶表示装置の製造方法。
In the rubbing process,
8. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the rubbing roller is moved in a direction different from the rubbing direction with respect to the substrate.
請求項1〜5の液晶表示装置を用いたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus using the liquid crystal display device according to claim 1.
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