JP2005229131A - Application and development apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば半導体ウエハや液晶ディスプレイ用のガラス基板などの基板に対してレジスト液の塗布処理や現像処理を行ない、現像処理後の状態の検査を行う塗布、現像装置に関する。 The present invention relates to a coating and developing apparatus that performs a coating process and a developing process of a resist solution on a substrate such as a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal display and inspects a state after the developing process.
半導体デバイスの製造工程におけるフォトリソグラフィ−技術においては半導体ウエハ(以下ウエハという)の表面にレジストを塗布し、この塗布レジストを所定パタ−ンに露光処理し、更に現像処理して所定パタ−ンのレジスト膜が形成される。このような一連の処理は、塗布/現像装置に露光装置を接続したシステムにより行われる。 In the photolithography technique in the manufacturing process of a semiconductor device, a resist is applied to the surface of a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer), the applied resist is exposed to a predetermined pattern, and further developed to obtain a predetermined pattern. A resist film is formed. Such a series of processes is performed by a system in which an exposure apparatus is connected to a coating / developing apparatus.
図10はこのような装置の従来例を示す平面図であり、基板例えば半導体ウエハWを25枚収納したカセットCはカセットステ−ションA1のカセットステ−ジ1に搬入される。カセットステ−ションA1には処理ステ−ションA2が接続されており、更に処理ステーションA2にはインターフェイスステーションA3を介して図示しない露光装置が接続されている。
FIG. 10 is a plan view showing a conventional example of such an apparatus. A cassette C containing 25 substrates, for example, semiconductor wafers W, is carried into the
前記カセットステージ1上のカセットC内のウエハWは、受け渡しアーム11により取り出されて棚ユニット12の受け渡し部を介して塗布ユニット13に送られ、ここでレジストが塗布される。その後ウエハWは、ウエハ搬送手段14→棚ユニット15の受け渡し部→インタ−フェイスステ−ションA3→露光装置の経路で搬送されて露光される。露光後のウエハWは、逆経路で処理ステ−ションA2に搬送され、塗布ユニット13の下段に設けられた図示しない現像ユニットにて現像された後、ウエハ搬送手段14→棚ユニット12の受け渡し部→カセットCの経路で搬送される。
The wafer W in the cassette C on the
なお棚ユニット12,15の各棚は、加熱部、冷却部、前記ウエハWの受け渡し部、疎水化処理部等として構成されており、前記レジストの塗布の前や現像処理の前には、所定の温度でレジストの塗布等を行うために、前記棚ユニット12,15にて加熱処理と冷却処理とがこの順序で行われる。なお16は処理ステ−ションA2と露光装置との間でウエハWの受け渡しを行うための受け渡しア−ムである。
Each shelf of the
ところで現像後のウエハWは、従来より表面の傷や塗布ムラ等をオペレータの目視により検査していたが、評価に対してオペレータ間のばらつきが大きく、また線幅や膜厚の検査、レジストパターンの上層部と下層部との重ね合わせ検査や、レジスト液の塗布時の異物混入の有無の検査等も併せて行う必要があることから、最近これらの検査を自動で行うことができる自動検査装置を用いて上述の検査を行う傾向にある。 By the way, the wafer W after development has been conventionally inspected for surface scratches and coating unevenness by an operator's visual inspection. However, there are large variations among operators for evaluation, and line width and film thickness inspection, resist pattern Automatic inspection equipment that can automatically perform these inspections recently because it is necessary to perform overlay inspection of the upper layer part and lower layer part and inspection of the presence or absence of foreign matter at the time of applying the resist solution. Tend to perform the above-described inspection.
この自動検査装置は、複数の検査装置が組み合わされて構成された、スタンドアロン型等と呼ばれる独立の装置であり、上述の塗布・現像装置とは別個に設置されている。このためこの塗布・現像装置にて現像処理が行われたウエハWは、自動検査装置まで搬送され、ここで所定の検査が行われる。 This automatic inspection apparatus is an independent apparatus called a stand-alone type configured by combining a plurality of inspection apparatuses, and is installed separately from the coating / developing apparatus described above. For this reason, the wafer W that has been developed by the coating / developing apparatus is transported to an automatic inspection apparatus, where a predetermined inspection is performed.
しかしながらこのように自動検査装置が塗布・現像装置とは別個に設置されていると、自動検査装置の作業を確認するオペレータが別に必要になる。また塗布・現像装置と自動検査装置との間でウエハWを搬送しなければならないので、搬送作業が面倒であり、ウエハWの全数検査が要求される場合にはかなり問題となる。また搬送に時間がかかるため、現像処理の状態をリアルタイムで検査することが難しく、さらに自動検査装置が置かれる環境のパーティクルを低減するために新たな設備が必要になってしまうという問題もある。 However, if the automatic inspection apparatus is installed separately from the coating / developing apparatus as described above, a separate operator for confirming the operation of the automatic inspection apparatus is required. Further, since the wafer W has to be transferred between the coating / developing apparatus and the automatic inspection apparatus, the transfer operation is troublesome, and it becomes a considerable problem when 100% inspection of the wafer W is required. In addition, since it takes time to carry, it is difficult to inspect the state of the development processing in real time, and there is a problem that new equipment is required to reduce particles in an environment where the automatic inspection apparatus is placed.
このため本発明者らは、上述の塗布・現像装置に自動検査装置を組み込むことを検討している。この際現状の塗布・現像装置のレイアウトを活用しようとすると、図10に破線で示すように、カセットステーションA1の横に自動検査装置17を接続することが考えられるが、このような構成では、処理ステーションA2や場合によっては露光装置よりも自動検査装置17の方が横に飛び出してしまうので、レイアウト上不利である。また現像後のみならずレジスト液の塗布後にも検査を行うことが必要である場合もあり、ユーザの要求に応じて柔軟に対応できる構成が望まれている。
For this reason, the present inventors are considering incorporating an automatic inspection apparatus into the coating / developing apparatus described above. At this time, if an attempt is made to utilize the current layout of the coating / developing apparatus, it is conceivable to connect the
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、検査部を備えた検査ステーションを処理ステーションに接続して塗布、現像装置を構成することにより、基板処理から検査に亘る作業の簡便化と、時間の短縮とを図ることのできる塗布、現像装置を提供することにある。 The present invention has been made under such circumstances, and an object of the present invention is from substrate processing to inspection by connecting an inspection station having an inspection unit to the processing station to constitute a coating and developing apparatus. An object of the present invention is to provide a coating and developing apparatus capable of simplifying work and shortening time.
本発明の塗布、現像装置は、基板に対してレジスト液の塗布処理を行い、露光装置にて露光された後の基板に対して現像液を供給して現像処理を行う塗布、現像装置において、
複数の基板を収納した基板カセットを載置する載置部と、この載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段と、を含むカセットステ−ションと、
前記カセットステーションから搬送された基板に対してレジスト液を塗布する塗布ユニットと、露光後の基板に対して現像液を供給する現像ユニットと、前記基板を加熱するための加熱部と、前記基板を冷却する冷却部と、を含む処理ステーションと、
前記カセットステーションと処理ステーションとの間に設けられ、前記基板に対して現像処理後の状態を検査するための検査部と、を備え、
処理ステーションで現像処理された基板が検査部に搬入され、検査後の基板がカセットステーションに搬送されることを特徴とする。
The coating and developing apparatus of the present invention is a coating and developing apparatus that performs a coating process of a resist solution on a substrate and supplies the developing solution to the substrate after being exposed by the exposure apparatus to perform the developing process.
A cassette station including a placement unit for placing a substrate cassette containing a plurality of substrates, and delivery means for delivering the substrate to the substrate cassette placed on the placement unit;
An application unit for applying a resist solution to a substrate conveyed from the cassette station, a developing unit for supplying a developing solution to the substrate after exposure, a heating unit for heating the substrate, and the substrate A cooling station for cooling, and a processing station comprising:
An inspection section provided between the cassette station and the processing station for inspecting the substrate after the development processing,
The substrate developed at the processing station is carried into an inspection section, and the substrate after the inspection is transported to a cassette station.
本発明の具体的構成例としては、
前記カセットステーションと処理ステーションとの間に設けられ、処理ステーションにて現像処理された基板を前記検査部に受け渡すための基板搬送手段を備えた構成、
前記カセットステーションと処理ステーションとの間に設けられた基板受け渡し部と、この基板受け渡し部と検査部との間で基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、を備え、検査後の基板が当該基板搬送手段により基板受け渡し部に受け渡された後、前記カセットステーションの受け渡し手段が当該基板受け渡し部の基板を受け取るようにした構成、
処理ステーションに露光装置に接続するためのインターフェイスステーションが接続される構成、
前記インターフェイスステーションは、処理ステーションに対してカセットステーションとは反対側に接続される構成、
などを挙げることができる。
As a specific configuration example of the present invention,
A structure provided between the cassette station and the processing station, and provided with a substrate transfer means for transferring the substrate developed at the processing station to the inspection unit;
A substrate transfer section provided between the cassette station and the processing station, and a substrate transfer means for transferring the substrate between the substrate transfer section and the inspection section, and the substrate after the inspection is transferred to the substrate A configuration in which the transfer means of the cassette station receives the substrate of the substrate transfer section after being transferred to the substrate transfer section by the means;
A configuration in which an interface station for connecting to the exposure apparatus is connected to the processing station;
The interface station is connected to the processing station on the opposite side of the cassette station;
And so on.
また本発明は、前記検査部と、処理ステーションにて現像処理された基板を前記検査部に受け渡すための基板搬送手段と、を含むステーションは、処理ステ−ションに対して、カセットステーションの基板カセットの配列方向にほぼ直交する方向に接続されている構成としてもよく、この場合、前記ステーションは、前記カセットステーション及び/又は処理ステーションと接離自在に構成してもよい。更に前記検査部には、前記処理ステーションに用いられる設備の収納部が積層されている構成としてもよく、この場合、前記設備は、薬液の供給系または電気関係の設備などである。更にまた現像処理後の状態の検査は、現像線幅の測定、上層部のレジストパターンと下層部のレジストパターンとの重なり具合の検査、現像処理後の現像欠陥の検査、現像ムラの検査及び未現像箇所の検査などを挙げることができる。 According to another aspect of the present invention, there is provided a station including the inspection unit and a substrate transport unit for delivering a substrate developed at the processing station to the inspection unit. It may be configured to be connected in a direction substantially perpendicular to the arrangement direction of the cassettes. In this case, the station may be configured to be able to contact and separate from the cassette station and / or the processing station. Furthermore, the inspection unit may be configured such that a storage unit for equipment used in the processing station is stacked. In this case, the equipment is a chemical supply system or electrical equipment. Furthermore, the inspection after the development process includes the development line width measurement, the inspection of the upper layer resist pattern and the lower resist pattern overlap, the development defect inspection after the development process, the development unevenness inspection and the unexamined state. Examples include inspection of development sites.
また他の発明は、基板に対してレジスト液の塗布処理を行い、露光装置にて露光された後の基板に対して現像液を供給して現像処理を行う塗布、現像装置において、
複数の基板を収納した基板カセットを載置する載置部と、この載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段と、を含むカセットステ−ションと、
前記カセットステーションから搬送された基板に対してレジスト液を塗布する塗布ユニットと、前記基板を加熱するための加熱部と、前記基板を冷却する冷却部と、前記塗布ユニット、加熱部及び冷却部の間で基板を搬送するための基板搬送手段と、を含む第1の処理ステーションと、
前記カセットステーションから第1の処理ステーション及び露光装置を経由して搬送された露光後の基板に対して現像液を供給する現像ユニットと、前記基板を加熱するための加熱部と、前記基板を冷却する冷却部と、前記現像ユニット、加熱部及び冷却部の間で基板を搬送するための基板搬送手段と、を含み、前記第1の処理ステーションに対してカセットステーションとは反対側に接続された第2の処理ステーションと、、
前記第1の処理ステーションと第2の処理ステーションとの間に設けられ、前記基板に対して現像処理後の状態を検査するための検査部と、を備えたことを特徴とする。この発明において、第1の処理ステーションと第2の処理ステーションとの間には、基板に対して現像処理後の状態を検査するための検査部に加えて、レジスト液の塗布処理後の状態を検査する検査部を更に設けるようにしてもよい。
Another invention is a coating and developing apparatus that performs a coating process of a resist solution on a substrate and supplies the developing solution to the substrate after being exposed by an exposure apparatus to perform the developing process.
A cassette station including a placement unit for placing a substrate cassette containing a plurality of substrates, and delivery means for delivering the substrate to the substrate cassette placed on the placement unit;
An application unit for applying a resist solution to a substrate conveyed from the cassette station, a heating unit for heating the substrate, a cooling unit for cooling the substrate, and the application unit, the heating unit, and the cooling unit. A first processing station including substrate transport means for transporting the substrate between,
A developing unit for supplying a developing solution to the substrate after exposure conveyed from the cassette station via the first processing station and the exposure apparatus, a heating unit for heating the substrate, and cooling the substrate And a substrate transfer means for transferring the substrate between the developing unit, the heating unit and the cooling unit, and connected to the opposite side of the cassette station with respect to the first processing station. A second processing station;
And an inspection unit provided between the first processing station and the second processing station for inspecting the substrate after the development processing. In this invention, between the first processing station and the second processing station, in addition to the inspection unit for inspecting the state after the development processing on the substrate, the state after the resist solution coating processing is performed. You may make it provide further the test | inspection part to test | inspect.
本発明は、基板にレジストの塗布処理を行う塗布ユニット及び露光後の基板に対して現像処理を行う現像ユニットを含む処理ステーションと、カセットステーションと、の間に、前記基板に対して現像処理後の状態を検査するための検査部を設けているため、基板処理から現像処理後の検査に亘る作業の簡便化と、時間の短縮とを図ることができ、また基板の搬送フローを逆行することなく検査を行うことができる。
更にまた他の発明は、基板にレジストの塗布処理を行う第1の処理ステーションと露光後の基板に対して現像処理を行う第2の処理ステーションとの間に、前記基板に対して現像処理後の状態を検査するための検査部を設けているため、基板処理から現像処理後の検査に亘る作業の簡便化と、時間の短縮とを図ることができ、また基板の搬送フローを逆行することなく検査を行うことができる。
The present invention provides a processing unit including a coating unit that performs a resist coating process on a substrate and a developing unit that performs a developing process on the substrate after exposure, and a cassette station. Since the inspection unit for inspecting the state of the substrate is provided, the work from the substrate processing to the inspection after the development processing can be simplified and the time can be shortened, and the substrate transport flow can be reversed. Inspection can be performed without any problem.
In another aspect of the invention, between the first processing station for applying the resist to the substrate and the second processing station for performing the development processing on the exposed substrate, Since the inspection unit for inspecting the state of the substrate is provided, the work from the substrate processing to the inspection after the development processing can be simplified and the time can be shortened, and the substrate transport flow can be reversed. Inspection can be performed without any problem.
以下に本発明に係る塗布、現像装置の実施の形態について説明する。図1はこの実施の形態の内部を透視して示す概観図、図2は概略平面図であって、図中S1はカセットステ−ション、S2はウエハWに対して所定の検査を行うための検査ステーション、S3はウエハWに対してレジストの塗布処理や現像処理等の基板処理を行うための処理ステ−ション、S4はインタ−フェイスステ−ション、S5は露光装置である。 Hereinafter, embodiments of the coating and developing apparatus according to the present invention will be described. FIG. 1 is a perspective view showing the inside of this embodiment in perspective, FIG. 2 is a schematic plan view, in which S1 is a cassette station, and S2 is a predetermined inspection for a wafer W. An inspection station, S3 is a processing station for performing substrate processing such as resist coating processing and development processing on the wafer W, S4 is an interface station, and S5 is an exposure apparatus.
カセットステ−ションS1は、複数の基板例えば25枚のウエハWを収納した例えば4個の基板カセットをなすウエハカセット(以下「カセット」という)22を載置する載置部をなすカセットステ−ジ21と、カセットステ−ジ21上のカセット22と、後述する検査ステ−ションS2の受け渡し部33との間でウエハWの受け渡しを行なうための受け渡し手段をなす受け渡しア−ム23とを備えている。受け渡しアーム23は、昇降自在、X,Y方向に移動自在、鉛直軸まわりに回転自在に構成されている。
The cassette station S1 is a cassette stage that constitutes a placement portion on which a wafer cassette (hereinafter referred to as a “cassette”) 22 that constitutes, for example, four substrate cassettes containing a plurality of substrates, eg, 25 wafers W, is placed. 21, a
検査ステ−ションS2は、カセットステーションS1のカセットの配列方向と略直交する方向に、カセットステーションS1に接続して設けられている。そしてこのステーションS2は、図2、図3(検査ステーションS2の斜視図)、図4(検査ステーションS2の処理ステーションS3側から見た断面図)に示すように、複数の基板の処理状態を検査するための検査部をなす検査装置、例えば2個の膜厚検査装置31(31A,31B)及び例えば2個の欠陥検査装置32(32A,32B)と、例えば1個の受け渡し部33と、例えば1個の収納部をなすケミカルユニットCと、例えば1個の収納部をなすエレキユニットEと、例えば1個の基板搬送手段MA1と、を備えており、例えばレジスト塗布処理後及び現像処理後のウエハWに対して、レジスト膜の膜厚や現像線幅、レジスト膜の傷の有無、レジスト液の塗布ムラ、現像処理後の現像欠陥等の所定の基板の処理状態の検査を行うように構成されている。
The inspection station S2 is connected to the cassette station S1 in a direction substantially orthogonal to the cassette arrangement direction of the cassette station S1. The station S2 inspects the processing state of a plurality of substrates as shown in FIGS. 2, 3 (perspective view of the inspection station S2) and FIG. 4 (sectional view of the inspection station S2 as viewed from the processing station S3 side). An inspection device that forms an inspection unit for performing, for example, two film thickness inspection devices 31 (31A, 31B) and, for example, two defect inspection devices 32 (32A, 32B), for example, one
このような検査ステーションS2のレイアウトの一例について説明すると、前記受け渡しア−ム23の奥側には、例えばカセットステーションS1から奥を見て例えば右側には、複数の検査装置、ここでは2個の膜厚検査装置31A,31Bを備えた第1の検査ユニットU1が設けられている。この検査ユニットU1は、例えば2個の膜厚検査装置31A,31Bの間に受け渡し部33を備えており、当該検査ユニットU1の下部側にはケミカルユニットCが割り当てられている。
An example of the layout of such an inspection station S2 will be described. On the back side of the
前記膜厚検査装置31は、例えば後述するように光干渉法により光学的に、基板上の下地膜、例えば酸化膜やポリシリコン等の上に塗布されたレジスト膜の膜厚を検査する装置である。また受け渡し部33は、カセットステーションS1の受け渡しアーム23と基板搬送手段MA1との間でウエハWの受け渡しを行うための受け渡し台を備えており、例えば昇降機構により昇降自在に構成された昇降ピン(図示せず)と受け渡しアーム23や基板搬送手段MA1との協動作用により、当該受け渡し台に対してウエハWの受け渡しを行うように構成されている。
The film
前記ケミカルユニットCは、後述する塗布ユニット等にて用いられる部材例えば薬液の供給系が収納されるものであり、例えば溶剤やレジスト液等の貯留タンクや、貯留タンクの開閉バルブ等の各種のバルブ、フィルタ、バルブの駆動部、吐出ノズルの駆動系等が収納されている。 The chemical unit C accommodates a member used in a coating unit or the like, which will be described later, such as a chemical solution supply system. For example, a storage tank for a solvent or a resist solution, and various valves such as an opening / closing valve for the storage tank. A filter, a valve drive unit, a discharge nozzle drive system, and the like are housed.
また例えばカセットステーションS1から奥を見て例えば左側には、複数の検査装置、ここでは2個の欠陥検査装置32A,32Bを備えた第2の検査ユニットU2が設けられており、この検査ユニットU2の下部側にはエレキユニットEが割り当てられている。
Further, for example, a second inspection unit U2 provided with a plurality of inspection devices, here two
前記欠陥検査装置32は、例えば後述するようにCCDカメラによる撮像によりレジスト膜の表面の傷や、上層部のレジストパターンと下層部のレジストパターンの重なり具合、レジスト液の塗布時に混入する異物の有無、レジスト液の塗布ムラ、現像処理後の現像欠陥等を検査する装置である。またエレキユニットEには、前記膜厚検査装置31や欠陥検査装置32、前記基板搬送手段MA1や後述する塗布ユニットや現像ユニットに用いられる部材例えばこれらの駆動系の電源部や、これらの電力制御等を行うためのコントロ−ラ、これらに電力を分配するための配電盤等の電気関係の設備が収納されている。
For example, as described later, the
ここで欠陥検査装置32の一例について図5に基づいて説明すると、例えばウエハWの搬送口を備えた筐体100と、この筐体100内に設けられ、ウエハWを水平に支持してその向きを調整できるように構成された回転載置台110と、この回転載置台110上のウエハWの表面を撮像する、X,Y,Z方向に移動自在なCCDカメラ120と、照明手段130と、を備え、このCCDカメラ120で得られたウエハWの画像を図示しないデータ処理部であるパーソナルコンピュータ等にて解析することによって検査を行うように構成されている。なおCCDカメラ120は固定されていて、ウエハWの載置台110側がX,Y,Z方向に移動できる構成であってもよい。
Here, an example of the
また上述の膜厚検査装置31は、例えばCCDカメラ120の側方に、図中点線で示す、発光部と受光部とを備えた膜厚プローブ140を設け、ウエハに光を照射して反射率を求め、これをコンピュータで解析することにより膜厚が検出されるようになっている。
Further, the film
これら第1及び第2の検査ユニットU1,U2の間には、これら検査ユニットU1,U2の各部と、後述する処理ステーションS3の受け渡し部46との間でウエハWの受け渡しを行うための、例えば昇降自在、左右、前後に移動自在かつ鉛直軸まわりに回転自在に構成された基板搬送手段MA1が設けられている。但し図1には便宜上基板搬送手段MA1は省略してある。
Between the first and second inspection units U1 and U2, for example, a wafer W is transferred between each part of the inspection units U1 and U2 and a
なおこの例では、検査ステーションS2にケミカルユニットCとエレキユニットEとを備えた例について説明したが、必ずしもケミカルユニットCとエレキユニットEの両方を備える必要はなく、必要に応じてそれらの内の一方を備えるようにしてもよいし、検査ステーションS2には膜厚検査装置31や欠陥検査装置32のような検査部のみを配置するようにしてもよい。また検査ステーションS2に配置される検査部の数も上述の例に限らず、1つでもよいし、3段や4段に亘って複数個の検査部を設けるようにしてもよい。さらに検査部の種類については、膜厚検査装置31あるいは欠陥検査装置32のみを設けるようにしてもよいし、他の検査装置を組み合わせて設けるようにしてもよい。
In this example, the example in which the inspection station S2 includes the chemical unit C and the electric unit E has been described. However, it is not always necessary to include both the chemical unit C and the electric unit E. One of them may be provided, or only the inspection unit such as the film
さらにこの検査ステーションS2は、独立して構成されている。つまり例えば図3及び図4に示すように、当該ステーションS2は壁部34により他の空間から区画されており、カセットステーションS1及び処理ステーションS3に隣接する前記壁部34の検査ステーションS2の受け渡し部33に対応する位置には、受け渡しアーム23が受け渡し部33に対してウエハWを受け渡すための受け渡し口35が夫々形成され、またカセットステーションS1及び処理ステーションS3に隣接する前記壁部34の処理ステーションS3の受け渡し部46に対応する位置には、基板搬送手段MA1が受け渡し部46に対してウエハWを受け渡すための受け渡し口(図示せず)が夫々形成されている。
Furthermore, this inspection station S2 is configured independently. That is, for example, as shown in FIGS. 3 and 4, the station S2 is partitioned from the other space by the
こうして壁部34により区画された検査ステーションS2には、例えば図4に示すようにフィルタユニットFが上部側を覆うように設けられており、ケミカルユニットCやエレキユニットE等の下部側から回収される雰囲気が工場排気系に排気される一方、一部が調整部をなすフィルタ装置36へと導入され、このフィルタ装置36にて清浄化され、所定の温度及び所定湿度に調整された空気が、前記フィルタユニットFを介して各部内にダウンフロ−として吹き出されるようになっている。前記フィルタユニットFは、例えば空気を清浄化するためのフィルタ、吸い込みファン等を備えており、前記フィルタ装置は、不純物を除去するための不純物除去部や、加熱機構及び加湿機構、空気を送出する送出部等を備えている。また前記に記載の空気の循環手段を構成せずに、夫々検査部に所定の温度及び湿度を調整した空気を供給し、カセットステーションS1にはクリーンルームの空気を供給することも考えられる。
In the inspection station S2 thus partitioned by the
さらにこの検査ステーションS2は、第1及び第2の検査ユニットU1,U2と、基板搬送手段MA1とが、図2中に一点鎖線で示す検査ステーションS2のX方向をほぼ2等分する線Lを介して図中X方向に対称に配置されている。つまり検査ステーションS2を半回転させて、第2の検査ユニットU2をカセットステーションS1側から見て右側に位置させたときにも、カセットステーションS2の受け渡しアーム23が受け渡し口35を介して受け渡し部33にアクセスでき、検査ステーションS1の基板搬送手段MA1が図示しない受け渡し口を介して処理ステーションS3の棚ユニットR1にアクセスできるようになっている。
Further, the inspection station S2 includes a line L that the first and second inspection units U1 and U2 and the substrate transport unit MA1 divide the X direction of the inspection station S2 indicated by a one-dot chain line in FIG. Are arranged symmetrically in the X direction in the figure. That is, even when the inspection station S2 is rotated halfway and the second inspection unit U2 is positioned on the right side when viewed from the cassette station S1, the
また処理ステ−ションS3は、カセットステーションS1のカセットの配列方向と略直交する方向に、検査ステーションS2に接続して設けられている。そし例えば2個の基板処理部をなす現像ユニット41(41A,41B)と、2個の基板処理部をなす塗布ユニット42(42A,42B)と、例えば3個の棚ユニットR(R1,R2,R3)と、例えば1個の基板搬送手段MA2と、を備えており、検査ステ−ションS2とインタ−フェイスステ−ションS4との間でウエハWの受け渡しを行うと共に、当該ステ−ションS3内ではウエハWにレジスト液を塗布する処理と、ウエハWの現像処理と、これらの処理の前後にウエハWを所定の温度に加熱し、冷却する処理とを行うように構成されている。 The processing station S3 is connected to the inspection station S2 in a direction substantially perpendicular to the cassette arrangement direction of the cassette station S1. For example, a developing unit 41 (41A, 41B) that forms two substrate processing units, a coating unit 42 (42A, 42B) that forms two substrate processing units, and, for example, three shelf units R (R1, R2, R2). R3) and, for example, one substrate transfer means MA2, and transfers the wafer W between the inspection station S2 and the interface station S4, and in the station S3. Then, a process for applying a resist solution to the wafer W, a developing process for the wafer W, and a process for heating and cooling the wafer W to a predetermined temperature before and after these processes are performed.
このような処理ステーションS3のレイアウトの一例について説明すると、例えばカセットステーションS1から奥を見て例えば右側には現像ユニット41や塗布ユニット42等を備えた処理ユニットU3が2段に亘って設けられている。なお以降の説明では、カセットステーションS1側を手前側、露光装置S5側を奥側として述べることにする。
An example of such a layout of the processing station S3 will be described. For example, when viewed from the back of the cassette station S1, a processing unit U3 including a developing
またこれら処理ユニットU3のカセットステーションS1から見て左側には、塗布ユニット42と現像ユニット41と棚ユニットRとの間でウエハWの受け渡しを行うための、例えば昇降自在、左右、前後に移動自在かつ鉛直軸まわりに回転自在に構成された基板搬送手段MA2が設けられている。そしてこの基板搬送手段MA2のカセットステーションS1側から見て手前側には棚ユニットR1、奥側には棚ユニットR2、左側には棚ユニットR3が夫々配置されている。但し図1には便宜上棚ユニットR3と基板搬送手段MA2は省略してある。
Further, on the left side of the processing unit U3 when viewed from the cassette station S1, for example, the wafer W can be transferred between the coating unit 42, the developing
これにより当該ステーションS3の、検査ステーションS2の第1及び第2のの検査ユニットU1,U2に隣接する部位には、夫々所定のスペースが確保され、これらのスペースを介して処理ユニットU3及び棚ユニットR3が夫々配置されることになる。 As a result, predetermined spaces are respectively secured in portions of the station S3 adjacent to the first and second inspection units U1 and U2 of the inspection station S2, and the processing unit U3 and the shelf unit are provided via these spaces. R3 will be arranged respectively.
前記棚ユニットRは、図6に棚ユニットR1を代表して示すように、ウエハWを加熱するための加熱部43と、ウエハWを冷却するための冷却部44、ウエハ表面を疎水化するための疎水化部45と、棚ユニットR1においては検査ステーションS2の基板搬送手段MA1と当該ステーションS3の基板搬送手段MA2との間でウエハWの受け渡しを行うための、また棚ユニットR2においては当該ステーションS3の基板搬送手段MA2と後述するインターフェイスステーションS4の搬送アームAとの間でウエハWの受け渡しを行うための、受け渡し台を備えた受け渡し部46と、棚ユニットR1においてはウエハWの位置合わせを行うためのアライメント部47とが縦に配列されている。
The shelf unit R includes a
また現像ユニット41について例えば図7に基づいて説明すると、51はカップであり、このカップ51内に真空吸着機能を有する回転自在なスピンチャック52が設けられている。このスピンチャック52は昇降機構53により昇降自在に構成されており、カップ51の上方側に位置しているときに、前記基板搬送手段MA1の後述するア−ム61との間でウエハWの受け渡しが行われる。
For example, the developing
このウエハWの受け渡しについては、ア−ム61上のウエハWをカップ51の上方側にてスピンチャック52がその下方側から相対的に上昇して受取り、またその逆の動作によってスピンチャック52側からア−ム61に受け渡される。54は処理液の吐出ノズル、55は処理液供給管、56はノズルを水平移動させる支持ア−ムである。
As for the delivery of the wafer W, the
前記吐出ノズル54は、例えばウエハWの直径方向に配列された多数の供給孔を備えるように構成され、スピンチャック52上のウエハWの表面に吐出ノズル54から現像液を吐出し、スピンチャック52を半回転させることによりウエハW上に現像液の液盛りが行われ、現像液の液膜が形成されるようになっている。
The
また塗布ユニット42は現像ユニット41とほぼ同一の構成であるが、塗布ユニットCは吐出ノズル54が例えばウエハWのほぼ中心付近に処理液を供給するように構成され、スピンチャック52上のウエハWの表面に吐出ノズル54から処理液であるレジスト液を滴下し、スピンチャック52を回転させてレジスト液をウエハW上に伸展させ塗布するようになっている。
The coating unit 42 has substantially the same configuration as the developing
前記基板搬送手段MA(MA1,MA2)は、例えば図8に示すように、ウエハWを保持するための3枚のア−ム61と、このア−ム61を進退自在に支持する基台62と、この基台62を昇降自在に支持する一対の案内レ−ル63,64と、を備えており、これら案内レ−ル63,64を回転駆動部65により回転させることにより、進退自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在に構成されている。
The substrate transfer means MA (MA1, MA2) includes, for example, as shown in FIG. 8, three
処理ステ−ションS3の隣にはインタ−フェイスステ−ションS4が接続され、このインタ−フェイスステ−ションS4の奥側には、レジスト膜が形成されたウエハWに対して露光を行うための露光装置S5が接続されている。インタ−フェイスステ−ションS4は、処理ステ−ションS3と露光装置S5との間でウエハWの受け渡しを行うための搬送アームAを備えており、この搬送アームAは、処理ステーションS3の棚ユニットR2の受け渡し部46と露光装置S4との間でウエハWの受け渡しを行うために、例えば昇降自在、左右、前後に移動自在かつ鉛直軸まわりに回転自在に構成されている。
An interface station S4 is connected next to the processing station S3, and a wafer W on which a resist film is formed is exposed on the back side of the interface station S4. An exposure apparatus S5 is connected. The interface station S4 includes a transfer arm A for transferring the wafer W between the processing station S3 and the exposure apparatus S5. The transfer arm A is a shelf unit of the processing station S3. In order to transfer the wafer W between the
ここで検査ステーションS2は、上述のカセットステーションS1や処理ステーションS2の配列方向の幅(図2中Y方向つまりカセットステーションS1のカセット22の配列方向の長さ)よりも大きくならないように構成され、さらにこれらカセットステーションS1、検査ステーションS2、処理ステーションS3、インターフェイスステーションS4は互いに接離自在に構成されている。つまり図3に検査ステーションS2を代表して示すように、互いに壁部で区画されていて、例えばジョイント止め具、ネジ、マグネット等の接続部材により接合されるようになっている。これにより検査ステーションS2は、上述の例のように、カセットステーションS1と処理ステーションS3との間に配置することもできるし、処理ステーションS4とインターフェイスステーションS4との間に配置することもできるようになっている。さらに検査ステーションS2は、基板搬送手段MA1をメンテナンスしやすいように、例えば検査ステーションS2の下部にキャスターローラが取り付けられていて、前後方向(図中Y方向)に引き出し移動できるように構成されている。
Here, the inspection station S2 is configured not to be larger than the width in the arrangement direction of the cassette station S1 and the processing station S2 (the Y direction in FIG. 2, that is, the length in the arrangement direction of the
次に上述の実施の形態の作用について説明する。先ず自動搬送ロボット(あるいは作業者)により例えば25枚のウエハWを収納したカセット22がカセットステ−ジ21に搬入され、受け渡しア−ム23によりカセット22内からウエハWが取り出されて、壁部34の受け渡し口35を介して検査ステ−ションS2の受け渡し部33に置かれる。
Next, the operation of the above embodiment will be described. First, a
次いでこのウエハWは、検査ステーションS2の膜厚検査装置31に基板搬送手段MA1により搬送され、ここでベアシリコンの膜厚が測定される。続いてこのウエハWは検査ステーションS2の基板搬送手段MA1により処理ステーションS3の棚ユニットR1の受け渡し部46に置かれ、次いで処理ステーションS3の基板搬送手段MA2により、棚ユニットRの疎水化部45→棚ユニットRの冷却部44→塗布ユニット42の経路で搬送され、ウエハ表面が疎水化された後、所定温度まで冷却されて温度調整が行われ、塗布ユニット42にて所定温度でレジスト液が塗布される。
Next, the wafer W is transferred to the film
こうしてレジスト液が塗布されたウエハWは、棚ユニットR1の受け渡し部46を介して検査ステーションS2の基板搬送手段MA1に受け渡され、膜厚検査装置31にてレジスト膜の膜厚が測定される。測定後のウエハWは、処理ステーションS3に搬送され、基板搬送手段MA2により、棚ユニットR2の受け渡し部46、インタ−フェイスステ−ションS4の搬送アームAを介して露光装置S5に搬送されて、露光が行われる。
The wafer W thus coated with the resist solution is transferred to the substrate transfer means MA1 of the inspection station S2 via the
露光後のウエハWは露光装置S5→インターフェイスステーションS4の搬送アームA→処理ステーションS3の棚ユニットR2の受け渡し部46を介して処理ステーションS3に搬送され、ここで基板搬送手段MA2により棚ユニットRの加熱部43→棚ユニットRの冷却部44→現像ユニット41の経路で搬送され、所定の温度調整が行われたウエハWは現像ユニット41にて所定温度例えば現像液の塗布温度である23℃で現像処理される。
The exposed wafer W is transferred from the exposure apparatus S5 to the transfer arm A of the interface station S4 to the processing station S3 via the
その後ウエハWは処理ステーションS3の基板搬送手段MA2により、棚ユニットRの加熱部43→棚ユニットRの冷却部44→棚ユニットR1の受け渡し部46の経路で搬送され、この受け渡し部46のウエハWは、検査ステーションS2の基板搬送手段MA1により受け取られる。そして検査ステーションS2にて、基板搬送手段MA1により欠陥検査装置32に搬送され、現像線幅の測定、レジスト膜表面の傷の有無、上層部のレジストパターンと下層部のレジストパターンとの重なり具合、レジスト塗布時の異物の混入の有無、レジスト液の塗布ムラ、現像処理後の現像欠陥等の現像処理の処理状態の検査が行われる。
Thereafter, the wafer W is transferred by the substrate transfer means MA2 of the processing station S3 along the path of the
次いで所定の検査が行われたウエハWは、基板搬送手段MA1より受け渡し部33に搬送され、この受け渡し部33のウエハWは受け渡しアーム23により例えば元のカセット22内に戻される。
Next, the wafer W subjected to the predetermined inspection is transferred from the substrate transfer means MA1 to the
ここで上述の装置では、ウエハWは順次検査ステーションS2の受け渡し部33を介して膜厚検査装置31→処理ステーションS2の棚ユニットR1の受け渡し部46に送られ、続いて空いている疎水化部45→空いている冷却部44→空いている塗布ユニット42→棚ユニットR1の受け渡し部46→検査ステーションS2の空いている膜厚検査装置31→処理ステーションS2の棚ユニットRの受け渡し部46→インタ−フェイスステ−ションS4の経路で搬送され、また露光後のウエハWはインタ−フェイスステ−ションS4→処理ステーションS2の空いている加熱部43→空いている冷却部44→現像ユニット41→空いている加熱部43→空いている冷却部44→棚ユニットR1の受け渡し部46で搬送され、次いで検査ステーションS2の空いている欠陥検査装置32→受け渡し部33の経路で搬送されればよい。
Here, in the above-described apparatus, the wafers W are sequentially sent to the
上述実施の形態では、検査装置を備えたステーションを構成し、このステーションをカセットステーションS1と処理ステーションS3との間に設置したので、レジストの塗布、露光、現像、検査を、共通のオペレータで監視することができるので、オペレータの省数化を図ることができる上、検査により何らかの欠陥が認められたときに、速やかに原因の特定や、原因の排除などの次のアクションを起こすことができる。 In the above-described embodiment, a station provided with an inspection apparatus is configured, and this station is installed between the cassette station S1 and the processing station S3, so that resist application, exposure, development, and inspection are monitored by a common operator. Therefore, the number of operators can be reduced, and when any defect is recognized by the inspection, the following actions such as identification of the cause and elimination of the cause can be promptly performed.
さらに処理ステーションS3と検査ステーションS2との間のウエハWを搬送は全て自動で行われるので、搬送作業の煩わしさが無くなり、基板処理から検査までのトータルの作業の簡便化を図ることができる。またこれらのステーションS2,S3間のウエハWの搬送時間も短いので、前記基板処理から検査までのトータルの作業時間を短縮することができる上、現像処理の状態をリアルタイムで検査することできるのでより精度の高い検査を行うことができ、さらに何らかの欠陥の早期発見等を図ることができる。さらにまた検査装置は、塗布・現像装置の内部に組み込まれるので、パーティクルを低減するための設備を共用できる。 Further, since the transfer of the wafer W between the processing station S3 and the inspection station S2 is automatically performed, the trouble of the transfer operation is eliminated, and the total operation from the substrate processing to the inspection can be simplified. Further, since the transfer time of the wafer W between these stations S2 and S3 is short, the total work time from the substrate processing to the inspection can be shortened, and the state of the development processing can be inspected in real time. Inspection with high accuracy can be performed, and early detection of any defect can be achieved. Furthermore, since the inspection apparatus is incorporated in the coating / developing apparatus, facilities for reducing particles can be shared.
この際上述の例のように、複数の検査装置を組み合わせて検査ステーションS2を構成するようにすれば、同一のステーション内にてウエハWに対して複数の検査を行うことができて有効であり、さらに各検査装置間の搬送時間がかなり短いので、検査に要するトータルの時間も短縮される。 In this case, if the inspection station S2 is configured by combining a plurality of inspection apparatuses as in the above example, it is effective that a plurality of inspections can be performed on the wafer W in the same station. Furthermore, since the transport time between the inspection apparatuses is considerably short, the total time required for the inspection is also shortened.
また検査ステーションS2の配列方向に直交する方向の幅を、カセットステーションS1や処理ステーションS2より大きくしないようにしたので、カセットステーションS1からインターフェイスステーションS4に亘って、図2中Y方向に飛び出した部分がないので、レイアウト上有利である。 Further, since the width in the direction perpendicular to the arrangement direction of the inspection stations S2 is not made larger than that of the cassette station S1 or the processing station S2, the portion protruding from the cassette station S1 to the interface station S4 in the Y direction in FIG. This is advantageous in terms of layout.
さらにカセットステーションS1等と幅を揃えた検査ステーションS2を別個に用意し、複数の検査装置を組み込む場合には、検査装置の種類や大きさに併せて検査ステーションS2の配列方向の幅(図2中X方向の長さ)を大きくすればよいようにしたので、ここに複数の検査装置を組み込んでも、検査ステーションS2には所定のスペースが確保される。つまり第1及び第2の検査ユニットU1,U2の下方側にケミカルユニットC及びエレキユニットEを確保できる。このような薬液系や電気系統の収納スペースを確保したことは、近年ではレジストの種類が多くなっており、それだけ薬液系等が多くなっているので有効である。 Further, when preparing an inspection station S2 having the same width as the cassette station S1 and the like and incorporating a plurality of inspection apparatuses, the width in the arrangement direction of the inspection stations S2 in accordance with the type and size of the inspection apparatus (FIG. 2). Since the length in the middle X direction) has only to be increased, a predetermined space is secured in the inspection station S2 even if a plurality of inspection devices are incorporated therein. That is, the chemical unit C and the electric unit E can be secured below the first and second inspection units U1, U2. Ensuring such a storage space for the chemical system and electrical system is effective because the number of types of resists has increased in recent years, and the number of chemical systems has increased accordingly.
さらにまた検査装置は、検査装置の周辺環境温度が例えば30℃以上になると検査装置の測定精度に悪影響を及ぼすため、棚ユニットRの加熱部43に隣接して配置しないことが望ましいが、上述の実施の形態では、処理ステーションS3の、第1及び第2の検査ユニットU1,U2に隣接する部分に、所定のスペースを確保するようにレイアウトしているので、これら検査ユニットU1,U2に組み込まれる各検査装置が、処理ステーションS3の温度の影響を受けにくいという利点がある。
Furthermore, it is desirable that the inspection apparatus is not disposed adjacent to the
この際仮に第1及び第2の検査ユニットU1,U2が棚ユニットRの加熱部と隣接するようにレイアウトされていても、検査ステーションS2は壁部34により処理ステーションS3から区画されているので、各検査装置は処理ステーションS3からの温度影響を受けにくく、また検査ステーションS2を、フィルタ部36により、所定の温度・湿度に調整できるように構成するようにすれば、各検査装置は、周辺環境温度湿度が所定範囲に調整されるので、周囲の温度湿度の影響を受けることなく、精度の高い検査を行うことができる。なお第1及び第2の検査ユニットU1,U2を棚ユニットRの加熱部と隣接するようにレイアウトした場合には、検査ユニットU1,U2と加熱部との間に断熱手段例えば断熱材や温調水を通流させる配管等を設けるようにしてもよい。さらに検査ステーションS2内の測定時の温度、湿度等の環境雰囲気は、その測定用途に合わせて調整するようにしてもよく、例えば塗布処理時や現像処理時、露光処理時の何れかと同じ環境雰囲気に調整するようにしてもよい。
At this time, even if the first and second inspection units U1, U2 are laid out so as to be adjacent to the heating unit of the shelf unit R, the inspection station S2 is partitioned from the processing station S3 by the
以上において上述の実施の形態では、検査部として膜厚検査装置31と欠陥検査装置32とを検査ステーションS2に備える例について説明したが、検査ステーションS2に欠陥検査装置32のみを備える構成としてもよく、この場合には、プロセスフローを変更することなく、検査部を塗布・現像装置に組み込むことができるという利点がある。つまり現状の塗布・現像装置では、ウエハWの搬送フローが決まっており、図2にて説明すると、露光前のウエハWは図中カセットステーションS1から露光装置S5までX方向の左側から右側に搬送され、露光後のウエハWは逆の経路で、露光装置S5からカセットステーションS1までX方向の右側から左側に搬送される。従って欠陥検査装置32のように現像処理後に所定の検査を行う検査部を備える場合には、検査ステーションS2をカセットステーションS1と処理ステーションS3との間に設置すれば、上述のウエハWの搬送フローを逆行することなく、現像処理後に所定の検査を行うことができる。
In the above-described embodiment, the example in which the inspection station S2 includes the film
さらにまた上述の例では、カセットステーションS1、検査ステーションS2、処理ステーションS3,インターフェイスステーションS4は互いに接離自在に設けられている。 Furthermore, in the above-described example, the cassette station S1, the inspection station S2, the processing station S3, and the interface station S4 are provided so as to be able to contact and separate from each other.
続いてレジスト液塗布後及び現像処理後に夫々所定の検査を行う場合のレイアウト例について図9に基づいて説明する。この構成は、レジスト液の塗布を行う第1の処理ステーションS6と、現像処理を行う第2の処理ステーションS7との2つの処理ステーションを備えており、第1及び第2の処理ステーションS6,S7の間に検査ステーションS2を配置するように、カセットステーションS1から露光装置S5に向けて、カセットステーションS1、第1の処理ステーションS6、検査ステーションS2、第2の処理ステーションS7、インターフェイスステーションS4、露光装置S5の順序でレイアウトされている。 Next, a layout example in the case where predetermined inspection is performed after application of the resist solution and after development processing will be described with reference to FIG. This configuration includes two processing stations, a first processing station S6 for applying a resist solution and a second processing station S7 for performing development processing. The first and second processing stations S6, S7 are provided. The cassette station S1, the first processing station S6, the inspection station S2, the second processing station S7, the interface station S4, and the exposure are arranged from the cassette station S1 to the exposure apparatus S5 so that the inspection station S2 is arranged between them. The layout is performed in the order of the device S5.
第1及び第2の処理ステーションS6,S7は、処理ユニットが夫々例えば4つの第1の基板処理部をなす塗布ユニット42、第2の基板処理部をなす現像ユニット41により構成されている他は、上述の処理ステーションS2とほぼ同様に構成されている。また検査ステーションS2も図1に示す例とほぼ同様に構成されているが、第1の処理ステーションS6と検査ステーションS2との間では、前記処理ステーションS6の棚ユニットR2の受け渡し部46を介して検査ステーションS2の基板搬送手段MA1によりウエハWの受け渡しが行われ、検査ステーションS2と第2の処理ステーションS7との間では、この処理ステーションS7の受け渡し部46を介して検査ステーションS2の基板搬送手段MA1によりウエハWの受け渡しが行われるように構成されている。
Each of the first and second processing stations S6 and S7 includes a coating unit 42 that forms, for example, four first substrate processing units and a developing
このような構成では、ウエハWは次の搬送フローで搬送される。つまり予めベアシリコンの膜厚が測定されたウエハWは、受け渡しアーム23により、第1の処理ステーションS6の棚ユニットR1の受け渡し部46に置かれ、次いで基板搬送手段MA2により、棚ユニットRの疎水化部45→棚ユニットRの冷却部44→塗布ユニット42の経路で搬送される。レジスト液塗布後のウエハWは、基板搬送手段MA2により、棚ユニットRの加熱部43→棚ユニットRの冷却部43→棚ユニットR2の受け渡し部46の経路で搬送され、次いで検査ステーションS2の基板搬送手段MA1により当該ステーションS2に搬送されて、膜厚検査装置31及び欠陥検査装置32等の所定の検査装置にて既述の所定の検査が行われる。
In such a configuration, the wafer W is transferred in the next transfer flow. That is, the wafer W whose thickness of the bare silicon has been measured in advance is placed on the
こうして検査が行われたウエハWは、基板搬送手段MA1により第2の処理ステーションS7の棚ユニットR1の受け渡し部46に搬送され、このウエハWはこのステーションS7の基板搬送手段MA2により棚ユニットR2の受け渡し部46を介してインターフェイスステーションS4の搬送アームAに受け渡され、露光装置S5に搬送される。次いで露光後のウエハWは、インターフェイスステーションS4の搬送アームA→第2の処理ステーションS7の棚ユニットR2の受け渡し部46→基板搬送手段MA2→棚ユニットRの加熱部43→棚ユニットRの冷却部44→現像ユニット41→棚ユニットRの加熱部43→棚ユニットRの冷却部44→棚ユニットR1の受け渡し部46の経路で搬送される。
The wafer W thus inspected is transferred by the substrate transfer means MA1 to the
この後ウエハWは、検査ステーションS2の基板搬送手段MA1により、当該ステーションS2の欠陥検査装置32等に搬送され、所定の検査が行われる。
Thereafter, the wafer W is transferred by the substrate transfer means MA1 of the inspection station S2 to the
検査終了後のウエハWは、検査ステーションS2の基板搬送手段MA1により第1の処理ステーションS6の棚ユニットR2の受け渡し部46に搬送され、次いで基板搬送手段MA2により棚ユニットR1の受け渡し部46を介して例えば元のカセット22まで搬送される。
After the inspection, the wafer W is transferred to the
このようにこの例では、検査ステーションS2を接離自在に設け、第1の処理ステーションS6と第2の処理ステーションS7との間に配置させたので、予めベアシリコンの膜厚を測定しておけば、ウエハWの搬送フローを逆行することなく、レジスト液塗布後及び現像処理後に所定の検査を行うことができる。 Thus, in this example, since the inspection station S2 is provided so as to be able to contact and separate and is disposed between the first processing station S6 and the second processing station S7, the thickness of the bare silicon can be measured in advance. For example, a predetermined inspection can be performed after applying the resist solution and after the developing process without reversing the transfer flow of the wafer W.
以上において本発明では、検査ステーションS2を2つ用意し、カセットステーションS1からX方向に、第1の検査ステーションS2,処理ステーションS3,第2の検査ステーションS2,インターフェイスステーションS4,露光装置S5の順番で配列するようにしてもよい。この場合、ウエハWは先ず第1の検査ステーションS2の膜厚検査装置31にてベアシリコンの膜厚が測定された後、処理ステーションS3にて疎水化処理とレジスト液の塗布処理が行われ、第2の検査ステーションS2にてレジスト塗布後の所定の検査が行われる。
In the present invention, two inspection stations S2 are prepared, and the first inspection station S2, the processing station S3, the second inspection station S2, the interface station S4, and the exposure apparatus S5 are arranged in the X direction from the cassette station S1. You may make it arrange with. In this case, the wafer W is first measured for the thickness of the bare silicon by the film
次いでウエハWはインターフェイスステーションS4を介して露光装置S5に搬送されて、露光が行われ、露光後のウエハWは、インターフェイスステーションS4を介して第2の検査ステーションS2にて露光状態の検査が行われる。この後ウエハWは処理ステーションS3にて現像処理が行われ、次いで第1の検査ステーションS2にて現像後の所定の検査が行われる。このような構成では、ウエハWは、カセットステーションS1→第1の検査ステーションS2→処理ステーションS3→第2の検査ステーションS2→露光装置S5→第2の検査ステーション→処理ステーションS3→第1の検査ステーションS2→カセットステーションS1の経路で搬送されるので、カセットステーションS1→露光装置S5→カセットステーションS1というウエハWの搬送フローを逆行することなく、所定の検査を行うことができる。 Next, the wafer W is transferred to the exposure apparatus S5 via the interface station S4 and subjected to exposure, and the exposed wafer W is inspected for exposure at the second inspection station S2 via the interface station S4. Is called. Thereafter, the wafer W is subjected to development processing at the processing station S3 and then subjected to predetermined inspection after development at the first inspection station S2. In such a configuration, the wafer W is in the cassette station S1, the first inspection station S2, the processing station S3, the second inspection station S2, the exposure apparatus S5, the second inspection station, the processing station S3, and the first inspection. Since the wafer is transported along the path of station S2 → cassette station S1, predetermined inspection can be performed without reversing the wafer W transport flow of cassette station S1 → exposure apparatus S5 → cassette station S1.
また本発明では、検査ステーションS2を3つ用意し、カセットステーションS1からX方向に、第1の検査ステーションS2,レジストの塗布処理を行う第1の処理ステーションS6,第2の検査ステーションS2,現像処理を行う第2の処理ステーションS7、第3の検査ステーションS2,インターフェイスステーションS4,露光装置S5の順番で配列するようにしてもよい。 Further, in the present invention, three inspection stations S2 are prepared, the first inspection station S2, the first inspection station S2, the second inspection station S2, and the development in the X direction from the cassette station S1. The second processing station S7 for processing, the third inspection station S2, the interface station S4, and the exposure apparatus S5 may be arranged in this order.
この場合、ウエハWは先ず第1の検査ステーションS2の膜厚検査装置31にてベアシリコンの膜厚が測定された後、第1の処理ステーションS6にて疎水化処理とレジスト液の塗布処理が行われ、第2の検査ステーションS2(又は第3の検査ステーションS2)にてレジスト塗布後の所定の検査が行われる。
In this case, the wafer W is first measured for the thickness of the bare silicon by the film
次いでウエハWは第2の処理ステーションS7、インターフェイスステーションS4を介して露光装置S5に搬送されて、露光が行われる。露光後のウエハWは、インターフェイスステーションS4を介して第3の検査ステーションS2にて露光状態の検査が行われる。この後ウエハWは第2の処理ステーションS7にて現像処理が行われ、次いで第2の検査ステーションS2(又は第1の検査ステーションS2)にて現像後の所定の検査が行われる。このような構成においても、ウエハWの搬送フローを逆行することなく、所定の検査を行うことができる。 Next, the wafer W is transferred to the exposure apparatus S5 via the second processing station S7 and the interface station S4, and exposure is performed. The exposed wafer W is inspected for exposure at the third inspection station S2 via the interface station S4. Thereafter, the wafer W is subjected to development processing at the second processing station S7, and then subjected to predetermined inspection after development at the second inspection station S2 (or the first inspection station S2). Even in such a configuration, a predetermined inspection can be performed without reversing the transfer flow of the wafer W.
さらにまた本発明では、検査ステーションS2を2つ用意し、カセットステーションS1からX方向に、レジストの塗布処理を行う第1の処理ステーションS6,第1の検査ステーションS2,現像処理を行う第2の処理ステーションS7、第2の検査ステーションS2,インターフェイスステーションS4,露光装置S5の順番で配列するようにしてもよい。 Furthermore, in the present invention, two inspection stations S2 are prepared, a first processing station S6 that performs resist coating processing in the X direction from the cassette station S1, a first inspection station S2, and a second processing that performs development processing. The processing station S7, the second inspection station S2, the interface station S4, and the exposure apparatus S5 may be arranged in this order.
この場合、予めベアシリコンの膜厚が測定されたウエハWは第1の処理ステーションS6にて疎水化処理とレジスト液の塗布処理が行われ、第1の検査ステーションS2(又は第2の検査ステーションS2)にてレジスト塗布後の所定の検査が行われる。 In this case, the wafer W whose thickness of the bare silicon has been measured in advance is subjected to a hydrophobization process and a resist solution coating process in the first processing station S6, and the first inspection station S2 (or the second inspection station). In S2), a predetermined inspection after applying the resist is performed.
次いでウエハWは第2の処理ステーションS7、インターフェイスステーションS4を介して露光装置S5に搬送されて、露光が行われる。露光後のウエハWは、インターフェイスステーションS4を介して第2の検査ステーションS2にて露光状態の検査が行われる。この後ウエハWは第2の処理ステーションS7にて現像処理が行われ、次いで第1の検査ステーションS2にて現像後の所定の検査が行われる。このような構成においても、ウエハWの搬送フローを逆行することなく、所定の検査を行うことができる。 Next, the wafer W is transferred to the exposure apparatus S5 via the second processing station S7 and the interface station S4, and exposure is performed. The exposed wafer W is inspected for exposure in the second inspection station S2 via the interface station S4. Thereafter, the wafer W is subjected to development processing at the second processing station S7, and then subjected to predetermined inspection after development at the first inspection station S2. Even in such a configuration, a predetermined inspection can be performed without reversing the transfer flow of the wafer W.
この際検査ステーションS2の検査装置は1つでもよいし、複数でもよく、検査装置の種類としては、膜厚測定装置や欠陥装置の他、パーティクルカウンター、EBR幅測定、WEE幅測定、塗布ムラ、現像ムラ、未塗布箇所、未現像箇所、線幅測定、露光フォーカスずれ等の検査を行う装置を備えるようにしてもよい。また検査ステーションのスペースを利用して設けられる収納部としては、ウエハWに形成される膜の種類に応じて、全てケミカルユニットCとして用いるようにしてもよいし、全てエレキユニットEとして用いるようにしてもよい。 At this time, the inspection station S2 may have one or more inspection devices. The types of inspection devices include a particle counter, EBR width measurement, WEE width measurement, coating unevenness, in addition to a film thickness measurement device and a defect device. You may make it provide the apparatus which test | inspects an image development unevenness, an unapplied location, an undeveloped location, a line width measurement, exposure focus shift | offset | difference, etc. Further, as the storage section provided by using the space of the inspection station, all may be used as the chemical unit C or all as the electric unit E depending on the type of film formed on the wafer W. May be.
さらに検査ステーションS2内に基板搬送手段MA1を設けず、当該ステーションS2内におけるウエハWの搬送を、カセットステーションS1の受け渡しアーム23や処理ステーションS2の基板搬送手段MA2により行うようにしてもい。
Further, the substrate transfer means MA1 may not be provided in the inspection station S2, and the transfer of the wafer W in the station S2 may be performed by the
さらにまた検査ステーションS2は、カセットステーションS1や処理ステーションS3等と接離自在に設けられる構成であれば、壁部34より周囲から区画される構成としなくてもよいし、検査ステーションS2内の雰囲気は必ずしも所定の温度・湿度に調整しなくてもよい。
Furthermore, the inspection station S2 need not be configured to be partitioned from the periphery from the
さらに上述の例のようにウエハ表面に疎水化処理を行う代わりに、反射防止膜を形成するようにしてもよいし、基板としてはウエハに限らず、液晶ディスプレイ用のガラス基板であってもよい。 Further, instead of performing the hydrophobic treatment on the wafer surface as in the above example, an antireflection film may be formed, or the substrate is not limited to the wafer but may be a glass substrate for a liquid crystal display. .
W 半導体ウエハ
S1 カセットステ−ション
S2 検査ステーション
S3 処理ステーション
S4 インタ−フェイスステ−ション
S5 露光装置
S6 第1の処理ステーション
S7 第2の処理ステーション
C ケミカルユニット
E エレキユニット
31 膜厚検査装置
32 欠陥検査装置
33 受け渡し部
41 現像ユニット
42 塗布ユニット
MA1,MA2 基板搬送手段
W Semiconductor wafer S1 Cassette station S2 Inspection station S3 Processing station
S4 Interface station S5 Exposure device S6 First processing station S7 Second processing station C Chemical unit
Claims (12)
複数の基板を収納した基板カセットを載置する載置部と、この載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段と、を含むカセットステ−ションと、
前記カセットステーションから搬送された基板に対してレジスト液を塗布する塗布ユニットと、露光後の基板に対して現像液を供給する現像ユニットと、前記基板を加熱するための加熱部と、前記基板を冷却する冷却部と、を含む処理ステーションと、
前記カセットステーションと処理ステーションとの間に設けられ、前記基板に対して現像処理後の状態を検査するための検査部と、を備え、
処理ステーションで現像処理された基板が検査部に搬入され、検査後の基板がカセットステーションに搬送されることを特徴とする塗布、現像装置。 In a coating and developing apparatus that performs a coating process of a resist solution on a substrate and supplies a developing solution to the substrate after being exposed by an exposure apparatus to perform the developing process
A cassette station including a placement unit for placing a substrate cassette containing a plurality of substrates, and delivery means for delivering the substrate to the substrate cassette placed on the placement unit;
An application unit for applying a resist solution to a substrate conveyed from the cassette station, a developing unit for supplying a developing solution to the substrate after exposure, a heating unit for heating the substrate, and the substrate A cooling station for cooling, and a processing station comprising:
An inspection section provided between the cassette station and the processing station for inspecting the substrate after the development processing,
A coating and developing apparatus, wherein a substrate developed at a processing station is carried into an inspection section, and the substrate after inspection is transported to a cassette station.
複数の基板を収納した基板カセットを載置する載置部と、この載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段と、を含むカセットステ−ションと、
前記カセットステーションから搬送された基板に対してレジスト液を塗布する塗布ユニットと、前記基板を加熱するための加熱部と、前記基板を冷却する冷却部と、前記塗布ユニット、加熱部及び冷却部の間で基板を搬送するための基板搬送手段と、を含む第1の処理ステーションと、
前記カセットステーションから第1の処理ステーション及び露光装置を経由して搬送された露光後の基板に対して現像液を供給する現像ユニットと、前記基板を加熱するための加熱部と、前記基板を冷却する冷却部と、前記現像ユニット、加熱部及び冷却部の間で基板を搬送するための基板搬送手段と、を含み、前記第1の処理ステーションに対してカセットステーションとは反対側に接続された第2の処理ステーションと、
前記第1の処理ステーションと第2の処理ステーションとの間に設けられ、前記基板に対して現像処理後の状態を検査するための検査部と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。 In a coating and developing apparatus that performs a coating process of a resist solution on a substrate and supplies a developing solution to the substrate after being exposed by an exposure apparatus to perform a developing process.
A cassette station including a placement unit for placing a substrate cassette containing a plurality of substrates, and delivery means for delivering the substrate to the substrate cassette placed on the placement unit;
An application unit for applying a resist solution to a substrate conveyed from the cassette station, a heating unit for heating the substrate, a cooling unit for cooling the substrate, and the application unit, the heating unit, and the cooling unit. A first processing station including substrate transport means for transporting the substrate between,
A developing unit for supplying a developing solution to the substrate after exposure conveyed from the cassette station via the first processing station and the exposure apparatus, a heating unit for heating the substrate, and cooling the substrate And a substrate transfer means for transferring the substrate between the developing unit, the heating unit and the cooling unit, and connected to the opposite side of the cassette station with respect to the first processing station. A second processing station;
An application / development apparatus, comprising: an inspection unit provided between the first processing station and the second processing station for inspecting the substrate after the development processing. .
12. The coating and developing apparatus according to claim 11, wherein the facility is a chemical supply system or an electrical facility.
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