JP2006165192A - Substrate processor and substrate processing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板に処理を行う基板処理装置および基板処理方法に関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method for processing a substrate.
半導体基板、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板等の各種基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられている。 In order to perform various processes on various substrates such as a semiconductor substrate, a liquid crystal display substrate, a plasma display substrate, an optical disk substrate, a magnetic disk substrate, a magneto-optical disk substrate, and a photomask substrate, It is used.
このような基板処理装置では、一般に、一枚の基板に対して複数の異なる処理が連続的に行われる。特許文献1に記載された基板処理装置は、インデクサブロック、反射防止膜用処理ブロック、レジスト膜用処理ブロック、現像処理ブロックおよびインターフェイスブロックにより構成される。インターフェイスブロックに隣接するように、基板処理装置とは別体の外部装置である露光装置が配置される。 In such a substrate processing apparatus, generally, a plurality of different processes are continuously performed on a single substrate. The substrate processing apparatus described in Patent Document 1 includes an indexer block, an antireflection film processing block, a resist film processing block, a development processing block, and an interface block. An exposure apparatus that is an external apparatus separate from the substrate processing apparatus is disposed adjacent to the interface block.
上記の基板処理装置においては、インデクサブロックから搬入される基板は、反射防止膜用処理ブロックおよびレジスト膜用処理ブロックにおいて反射防止膜の形成およびレジスト膜の塗布処理が行われた後、インターフェイスブロックを介して露光装置へと搬送される。露光装置において基板上のレジスト膜に露光処理が行われた後、基板はインターフェイスブロックを介して現像処理ブロックへ搬送される。現像処理ブロックにおいて基板上のレジスト膜に現像処理が行われることによりレジストパターンが形成された後、基板はインデクサブロックへと搬送される。 In the substrate processing apparatus described above, the substrate carried in from the indexer block is configured such that after the formation of the antireflection film and the coating process of the resist film are performed in the antireflection film processing block and the resist film processing block, the interface block is To the exposure apparatus. After the exposure process is performed on the resist film on the substrate in the exposure apparatus, the substrate is transported to the development processing block via the interface block. After a resist pattern is formed by performing development processing on the resist film on the substrate in the development processing block, the substrate is transported to the indexer block.
近年、デバイスの高密度化および高集積化に伴い、レジストパターンの微細化が重要な課題となっている。従来の一般的な露光装置においては、レクチルのパターンを投影レンズを介して基板上に縮小投影することによって露光処理が行われていた。しかし、このような従来の露光装置においては、露光パターンの線幅は露光装置の光源の波長によって決まるため、レジストパターンの微細化に限界があった。 In recent years, miniaturization of resist patterns has become an important issue as the density and integration of devices increase. In a conventional general exposure apparatus, exposure processing is performed by reducing and projecting a reticle pattern onto a substrate through a projection lens. However, in such a conventional exposure apparatus, since the line width of the exposure pattern is determined by the wavelength of the light source of the exposure apparatus, there is a limit to the miniaturization of the resist pattern.
そこで、露光パターンのさらなる微細化を可能にする投影露光方法として、液浸法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2の投影露光装置においては、投影光学系と基板との間に液体が満たされており、基板表面における露光光を短波長化することができる。それにより、露光パターンのさらなる微細化が可能となる。
しかしながら、上記特許文献2の投影露光装置においては、基板と液体とが接触した状態で露光処理が行われるので、基板上に塗布されたレジストの成分の一部が液体中へ溶出する。この液体中に溶出したレジストの成分が基板の表面に残留し、不良の原因となる恐れがある。 However, in the projection exposure apparatus disclosed in Patent Document 2, since the exposure process is performed in a state where the substrate and the liquid are in contact with each other, a part of the resist component applied on the substrate is eluted into the liquid. The resist components eluted in the liquid may remain on the surface of the substrate and cause defects.
また、液体中に溶出したレジストの成分は、露光装置のレンズを汚染する。それにより、露光パターンの寸法不良および形状不良が発生する恐れがある。 Further, the resist components eluted in the liquid contaminate the lens of the exposure apparatus. As a result, there is a risk of dimensional defects and shape defects of the exposure pattern.
本発明の目的は、基板上の感光性材料の成分が露光装置における液体中に溶出することを防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of preventing a component of a photosensitive material on a substrate from eluting into a liquid in an exposure apparatus.
第1の発明に係る基板処理装置は、露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、基板に処理を行う処理部と、処理部の一端部に隣接するように設けられ処理部と露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、処理部は、基板に感光性材料からなる感光性膜を形成する第1の処理ユニットと、第1の処理ユニットによる感光性膜の形成後であって露光装置による露光処理前に基板に感光性膜を保護する保護膜を形成する第2の処理ユニットと、第2の処理ユニットによる保護膜の形成後であって露光装置による露光処理前に保護膜の膜厚を測定する第1の検査ユニットとを含むものである。 A substrate processing apparatus according to a first aspect of the present invention is a substrate processing apparatus disposed so as to be adjacent to an exposure apparatus, and is provided with a processing unit that performs processing on a substrate and a processing unit that is provided adjacent to one end of the processing unit. A transfer unit for transferring the substrate between the exposure unit and the exposure apparatus, and the processing unit includes a first processing unit for forming a photosensitive film made of a photosensitive material on the substrate, and a first processing unit. And a second processing unit for forming a protective film for protecting the photosensitive film on the substrate before the exposure processing by the exposure apparatus, and after the protective film is formed by the second processing unit. And a first inspection unit that measures the thickness of the protective film before the exposure processing by the exposure apparatus.
本発明に係る基板処理装置においては、第1の処理ユニットにおいて基板上に感光性膜が形成される。その後、第2の処理ユニットにおいて感光性膜上に保護膜が形成される。その後、第1の検査ユニットにより保護膜の膜厚が測定される。次に、基板は受け渡し部を介して処理部から露光装置へと搬送され、露光装置において基板に露光処理が行われる。その後、基板は受け渡し部を介して受け渡し部から処理部へと搬送される。 In the substrate processing apparatus according to the present invention, a photosensitive film is formed on the substrate in the first processing unit. Thereafter, a protective film is formed on the photosensitive film in the second processing unit. Thereafter, the thickness of the protective film is measured by the first inspection unit. Next, the substrate is conveyed from the processing unit to the exposure apparatus via the transfer unit, and the exposure process is performed on the substrate in the exposure apparatus. Thereafter, the substrate is transported from the delivery unit to the processing unit via the delivery unit.
このように、露光装置において露光処理が行われる前に、第2の処理ユニットにより感光性膜上に保護膜が形成される。この場合、露光装置において基板が液体と接触した状態で露光処理が行われても、感光性材料の成分が液体中に溶出することが防止される。それにより、露光装置内の汚染が低減されるとともに基板の表面に感光性材料の成分が残留することも防止される。また、露光装置において露光処理が行われる前に、第1の検査ユニットにより保護膜の膜厚が測定される。それにより、保護膜の膜厚およびの均一性の異常を早期に発見することができる。これらの結果、露光装置において発生する基板の処理不良を低減することができる。 As described above, the protective film is formed on the photosensitive film by the second processing unit before the exposure process is performed in the exposure apparatus. In this case, even if the exposure processing is performed in a state where the substrate is in contact with the liquid in the exposure apparatus, the components of the photosensitive material are prevented from being eluted into the liquid. Thereby, contamination in the exposure apparatus is reduced, and the photosensitive material components are prevented from remaining on the surface of the substrate. In addition, before the exposure process is performed in the exposure apparatus, the thickness of the protective film is measured by the first inspection unit. Thereby, an abnormality in the thickness and uniformity of the protective film can be detected at an early stage. As a result, it is possible to reduce substrate processing defects that occur in the exposure apparatus.
第1の検査ユニットは、さらに感光性膜の膜厚を測定してもよい。この場合、保護膜および感光性膜の膜厚を同時に測定することができるので、測定時間を短縮することができる。また、保護膜の膜厚と感光性膜の膜厚とを一つの検査ユニットによって測定することができるので基板処理装置のフットプリントを低減することができる。 The first inspection unit may further measure the film thickness of the photosensitive film. In this case, since the film thicknesses of the protective film and the photosensitive film can be measured simultaneously, the measurement time can be shortened. Moreover, since the thickness of the protective film and the thickness of the photosensitive film can be measured by one inspection unit, the footprint of the substrate processing apparatus can be reduced.
第1の検査ユニットの測定結果に基づいて処理部における処理条件を制御する制御手段をさらに備えてもよい。この場合、第1の検査ユニットの測定結果に基づいて処理部における処理条件が制御されるので、処理部および露光装置において発生する基板の処理不良を十分に低減することができる。 You may further provide the control means which controls the process conditions in a process part based on the measurement result of a 1st test | inspection unit. In this case, since the processing conditions in the processing unit are controlled based on the measurement result of the first inspection unit, it is possible to sufficiently reduce processing defects of the substrate that occur in the processing unit and the exposure apparatus.
処理部は、第1の処理ユニット、基板に熱処理を行う第1の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第1の搬送ユニットを含む第1の処理単位と、第2の処理ユニット、基板に熱処理を行う第2の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第2の搬送ユニットを含む第2の処理単位と、第1の検査ユニットおよび基板を搬送する検査用搬送ユニットを含む検査用処理単位とを備えてもよい。 The processing unit heat-treats the first processing unit, the first processing unit including the first heat-treating unit that heat-treats the substrate, and the first transport unit that transports the substrate, the second processing unit, and the substrate. A second processing unit including a second heat treatment unit and a second transport unit for transporting the substrate, and an inspection processing unit including an inspection transport unit for transporting the first inspection unit and the substrate may be provided. .
この場合、第1の処理単位において、第1の処理ユニットにより基板上に感光性膜が形成される。その後、基板は第1の搬送ユニットにより第1の熱処理ユニットに搬送され、第1の熱処理ユニットにおいて基板に所定の熱処理が行われる。その後、基板は第1の搬送ユニットにより隣接する他の処理単位に搬送される。 In this case, in the first processing unit, a photosensitive film is formed on the substrate by the first processing unit. Thereafter, the substrate is transferred to the first heat treatment unit by the first transfer unit, and a predetermined heat treatment is performed on the substrate in the first heat treatment unit. Thereafter, the substrate is transported to another adjacent processing unit by the first transport unit.
次に、第2の処理単位において、第2の処理ユニットにより基板上の感光性膜上に保護膜が形成される。その後、基板は第2の搬送ユニットにより第2の熱処理ユニットに搬送され、第2の熱処理ユニットにおいて基板に所定の熱処理が行われる。その後、基板は第2の搬送ユニットにより隣接する他の処理単位に搬送される。 Next, in the second processing unit, a protective film is formed on the photosensitive film on the substrate by the second processing unit. Thereafter, the substrate is transferred to the second heat treatment unit by the second transfer unit, and the substrate is subjected to predetermined heat treatment in the second heat treatment unit. Thereafter, the substrate is transported to another adjacent processing unit by the second transport unit.
次に、検査用処理単位において、第1の検査ユニットにより保護膜の膜厚が測定される。その後、基板は検査用搬送ユニットにより隣接する他の処理単位に搬送される。その後、基板は受け渡し部を介して処理部から露光装置へと搬送され、露光装置において基板に露光処理が行われる。露光処理後の基板は受け渡し部を介して露光装置から処理部へと搬送される。 Next, in the processing unit for inspection, the thickness of the protective film is measured by the first inspection unit. Thereafter, the substrate is transported to another adjacent processing unit by the inspection transport unit. Thereafter, the substrate is transferred from the processing unit to the exposure apparatus via the transfer unit, and the exposure process is performed on the substrate in the exposure apparatus. The substrate after the exposure process is transported from the exposure apparatus to the processing unit via the transfer unit.
この基板処理装置においては、処理単位ごとに処理内容が分割されている。したがって、第1の処理単位を有する既存の基板処理装置に第2の処理単位および検査用処理単位を追加することにより、露光装置において露光処理が行われる前に、保護膜の形成および保護膜の膜厚の測定を行うことが可能となる。その結果、低コストで、露光装置において発生する基板の処理不良を低減することができる。 In this substrate processing apparatus, processing contents are divided for each processing unit. Therefore, by adding the second processing unit and the inspection processing unit to the existing substrate processing apparatus having the first processing unit, before the exposure processing is performed in the exposure apparatus, the protective film is formed and the protective film is formed. It becomes possible to measure the film thickness. As a result, it is possible to reduce substrate processing defects occurring in the exposure apparatus at low cost.
処理部は、第1の処理ユニットによる感光性膜の形成前に基板に反射防止膜を形成する第3の処理ユニットをさらに含んでもよい。この場合、第3の処理ユニットにより基板上に反射防止膜が形成されるので、露光処理時に発生する定在波およびハレーションを減少させることができる。それにより、露光処理時に発生する基板の処理不良をさらに低減することができる。 The processing unit may further include a third processing unit that forms an antireflection film on the substrate before forming the photosensitive film by the first processing unit. In this case, since the antireflection film is formed on the substrate by the third processing unit, standing waves and halation generated during the exposure processing can be reduced. Thereby, it is possible to further reduce processing defects of the substrate that occur during the exposure processing.
第1の検査ユニットは、さらに反射防止膜の膜厚を測定してもよい。この場合、保護膜および反射防止膜の膜厚を同時に測定することができるので、測定時間を大幅に短縮することができる。また、保護膜および反射防止膜の膜厚を一つの検査ユニットによって測定することができるので基板処理装置のフットプリントを大幅に低減することができる。 The first inspection unit may further measure the film thickness of the antireflection film. In this case, since the film thicknesses of the protective film and the antireflection film can be measured at the same time, the measurement time can be greatly shortened. Moreover, since the film thicknesses of the protective film and the antireflection film can be measured by one inspection unit, the footprint of the substrate processing apparatus can be greatly reduced.
処理部は、第1の処理ユニット、基板に熱処理を行う第1の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第1の搬送ユニットを含む第1の処理単位と、第2の処理ユニット、基板に熱処理を行う第2の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第2の搬送ユニットを含む第2の処理単位と、第1の検査ユニットおよび基板を搬送する検査用搬送ユニットを含む検査用処理単位と、第3の処理ユニット、基板に熱処理を行う第3の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第3の搬送ユニットを含む第3の処理単位とを備えてもよい。 The processing unit heat-treats the first processing unit, the first processing unit including the first heat-treating unit that heat-treats the substrate, and the first transport unit that transports the substrate, the second processing unit, and the substrate. A second processing unit including a second thermal processing unit and a second transport unit for transporting the substrate; an inspection processing unit including an inspection transport unit for transporting the first inspection unit and the substrate; and a third processing. A third processing unit including a unit, a third heat treatment unit for performing heat treatment on the substrate, and a third transport unit for transporting the substrate may be provided.
この基板処理装置は、第1の処理単位を有する既存の基板処理装置に第2および第3の処理単位ならびに検査用処理単位を追加した構成を有する。このような構成により、露光装置において露光処理が行われる前に保護膜の形成および保護膜の膜厚の測定を行うことができる。それにより、低コストで、基板の処理不良を大幅に低減することができる。 This substrate processing apparatus has a configuration in which second and third processing units and an inspection processing unit are added to an existing substrate processing apparatus having a first processing unit. With such a configuration, the protective film can be formed and the thickness of the protective film can be measured before the exposure process is performed in the exposure apparatus. Thereby, substrate processing defects can be significantly reduced at low cost.
処理部は、露光装置による露光処理後に基板に現像処理を行う第4の処理ユニットをさらに含んでもよい。この場合、露光処理後、迅速に基板の現像処理を行うことができる。 The processing unit may further include a fourth processing unit that performs development processing on the substrate after the exposure processing by the exposure apparatus. In this case, after the exposure process, the substrate can be developed quickly.
処理部は、第1の処理ユニット、基板に熱処理を行う第1の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第1の搬送ユニットを含む第1の処理単位と、第2の処理ユニット、基板に熱処理を行う第2の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第2の搬送ユニットを含む第2の処理単位と、第1の検査ユニットおよび基板を搬送する検査用搬送ユニットを含む検査用処理単位と、第4の処理ユニット、基板に熱処理を行う第4の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第4の搬送ユニットを含む第4の処理単位とを備えてもよい。 The processing unit heat-treats the first processing unit, the first processing unit including the first heat-treating unit that heat-treats the substrate, and the first transport unit that transports the substrate, the second processing unit, and the substrate. A second processing unit including a second thermal processing unit and a second transport unit for transporting the substrate; an inspection processing unit including an inspection transport unit for transporting the first inspection unit and the substrate; and a fourth processing. A unit, a fourth heat treatment unit for performing heat treatment on the substrate, and a fourth processing unit including a fourth transport unit for transporting the substrate may be provided.
この基板処理装置は、第1の処理単位を有する既存の基板処理装置に第2および第4の処理単位ならびに検査用処理単位を追加した構成を有する。このような構成により、露光装置において露光処理が行われる前に保護膜の形成および保護膜の膜厚の測定を行うとともに、露光処理後、迅速に基板の現像処理を行うことができる。それにより、低コストで、処理時間を短縮しつつ基板の処理不良を大幅に低減することができる。 This substrate processing apparatus has a configuration in which second and fourth processing units and an inspection processing unit are added to an existing substrate processing apparatus having a first processing unit. With such a configuration, the protective film can be formed and the thickness of the protective film can be measured before the exposure process is performed in the exposure apparatus, and the substrate can be rapidly developed after the exposure process. As a result, it is possible to significantly reduce the processing defects of the substrate at a low cost while shortening the processing time.
処理部は、露光装置による露光処理後であって第4の処理ユニットによる現像処理前に保護膜を除去する第5の処理ユニットをさらに含んでもよい。この場合、第4の処理ユニットにおいて基板に現像処理が行われる前に、第5の処理ユニットにおいて保護膜が確実に除去されるので、現像処理を確実に行うことができる。 The processing unit may further include a fifth processing unit that removes the protective film after the exposure processing by the exposure apparatus and before the development processing by the fourth processing unit. In this case, since the protective film is reliably removed in the fifth processing unit before the development processing is performed on the substrate in the fourth processing unit, the development processing can be performed reliably.
処理部は、第1の処理ユニット、基板に熱処理を行う第1の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第1の搬送ユニットを含む第1の処理単位と、第2の処理ユニット、基板に熱処理を行う第2の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第2の搬送ユニットを含む第2の処理単位と、第1の検査ユニットおよび基板を搬送する検査用搬送ユニットを含む検査用処理単位と、第4の処理ユニット、基板に熱処理を行う第4の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第4の搬送ユニットを含む第4の処理単位と、第5の処理ユニットおよび基板を搬送する第5の搬送ユニットを含む第5の処理単位とを備えてもよい。 The processing unit heat-treats the first processing unit, the first processing unit including the first heat-treating unit that heat-treats the substrate, and the first transport unit that transports the substrate, the second processing unit, and the substrate. A second processing unit including a second thermal processing unit and a second transport unit for transporting the substrate; an inspection processing unit including an inspection transport unit for transporting the first inspection unit and the substrate; and a fourth processing. A fourth processing unit including a unit, a fourth heat treatment unit for performing heat treatment on the substrate, and a fourth transport unit for transporting the substrate; and a fifth processing unit including a fifth transport unit for transporting the fifth processing unit and the substrate. The processing unit may be provided.
この基板処理装置は、第1の処理単位を有する既存の基板処理装置に第2、第4および第6の処理単位ならびに検査用処理単位を追加した構成を有する。このような構成により、露光装置において露光処理が行われる前に保護膜の形成および保護膜の膜厚の測定を行うことができかつ現像処理が行われる前に保護膜を確実に除去することができる。それにより、低コストで、基板の処理不良を大幅に低減することができる。 This substrate processing apparatus has a configuration in which second, fourth, and sixth processing units and an inspection processing unit are added to an existing substrate processing apparatus having a first processing unit. With such a configuration, the protective film can be formed and the thickness of the protective film can be measured before the exposure process is performed in the exposure apparatus, and the protective film can be reliably removed before the development process is performed. it can. Thereby, substrate processing defects can be significantly reduced at low cost.
検査用処理単位は、第2の処理単位と第4の処理単位との間に配置されてもよい。この場合、露光処理前に行う測定または検査および現像処理後に行う測定または検査を一つの処理単位で行うことができるので、基板処理装置のフットプリントを大幅に低減することができる。 The inspection processing unit may be arranged between the second processing unit and the fourth processing unit. In this case, since the measurement or inspection performed before the exposure processing and the measurement or inspection performed after the development processing can be performed in one processing unit, the footprint of the substrate processing apparatus can be greatly reduced.
検査用処理単位は、感光性膜の膜質の測定を行う第2の検査ユニット、第4の処理ユニットにおいて形成された基板上のパターンの線幅の測定を行う第3の検査ユニット、パターンの重ね合わせの測定を行う第4の検査ユニットおよび基板上の欠陥の検査を行う第5の検査ユニットのうち少なくとも一つをさらに含んでもよい。 The inspection processing unit includes a second inspection unit that measures the film quality of the photosensitive film, a third inspection unit that measures the line width of the pattern formed on the substrate formed in the fourth processing unit, and a pattern overlap. It may further include at least one of a fourth inspection unit that performs alignment measurement and a fifth inspection unit that performs inspection of defects on the substrate.
この場合、一つの処理単位において複数の測定または検査を行うことができるので、基板処理装置のフットプリントを十分に低減することが可能になる。 In this case, since a plurality of measurements or inspections can be performed in one processing unit, the footprint of the substrate processing apparatus can be sufficiently reduced.
受け渡し部は、基板に所定の処理を行う第6の処理ユニットと、基板が一時的に載置される載置部と、処理部、第6の処理ユニットおよび載置部の間で基板を搬送する第6の搬送ユニットと、載置部および露光装置の間で基板を搬送する第7の搬送ユニットとを含んでよい。 The transfer unit conveys the substrate between a sixth processing unit that performs predetermined processing on the substrate, a mounting unit on which the substrate is temporarily mounted, and the processing unit, the sixth processing unit, and the mounting unit. And a seventh transport unit that transports the substrate between the placement unit and the exposure apparatus.
この場合、基板は第6の搬送ユニットにより処理部から第6の処理ユニットへと搬送される。第6の処理ユニットにおいて基板に所定の処理が行われた後、基板は第6の搬送ユニットにより載置部へと搬送される。その後、基板は第7の搬送ユニットにより載置部から露光装置へと搬送される。露光装置において基板に露光処理が行われた後、基板は第7の搬送ユニットにより露光装置から載置部へと搬送される。その後、基板は第6の搬送ユニットにより載置部から処理部へと搬送される。 In this case, the substrate is transported from the processing unit to the sixth processing unit by the sixth transport unit. After predetermined processing is performed on the substrate in the sixth processing unit, the substrate is transported to the placement unit by the sixth transport unit. Thereafter, the substrate is transported from the placement unit to the exposure apparatus by the seventh transport unit. After the exposure processing is performed on the substrate in the exposure apparatus, the substrate is transported from the exposure apparatus to the mounting portion by the seventh transport unit. Thereafter, the substrate is transported from the placement unit to the processing unit by the sixth transport unit.
このように、受け渡し部に第6の処理ユニットを配置し、2つの搬送ユニットにより基板の搬送を行うことにより、基板処理装置のフットプリントを増加させることなく処理内容を追加することが可能となる。 As described above, by disposing the sixth processing unit in the transfer unit and transporting the substrate by the two transport units, it becomes possible to add processing contents without increasing the footprint of the substrate processing apparatus. .
第6の搬送ユニットは、基板を保持する第1および第2の保持手段を含み、第6の搬送ユニットは、露光装置による露光処理前の基板を搬送する際には第1の保持手段により基板を保持し、露光装置による露光処理後の基板を搬送する際には第2の保持手段により基板を保持し、第7の搬送ユニットは、基板を保持する第3および第4の保持手段を含み、第7の搬送ユニットは、露光装置による露光処理前の基板を搬送する際には第3の保持手段により基板を保持し、露光装置による露光処理後の基板を搬送する際には第4の保持手段により基板を保持してもよい。 The sixth transport unit includes first and second holding means for holding the substrate, and the sixth transport unit is configured to transfer the substrate before the exposure processing by the exposure apparatus by the first holding means. And holding the substrate by the second holding means when carrying the substrate after the exposure processing by the exposure apparatus, and the seventh carrying unit includes third and fourth holding means for holding the substrate. The seventh transport unit holds the substrate by the third holding unit when transporting the substrate before the exposure process by the exposure apparatus, and the fourth transport unit when transporting the substrate after the exposure process by the exposure apparatus. The substrate may be held by holding means.
この場合、第1および第3の保持手段は露光処理前の液体が付着していない基板を搬送する際に用いられ、第2および第4の保持手段は、露光処理後の液体が付着した基板を搬送する際に用いられる。そのため、第1および第3の保持手段に液体が付着することがないので、露光処理前の基板に液体が付着することを防止することができる。それにより、露光処理前の基板に雰囲気中の塵埃等が付着することが防止されるので、露光装置内の汚染を防止することができる。その結果、露光装置において発生する基板の処理不良を低減することができる。 In this case, the first and third holding means are used when transporting the substrate to which the liquid before the exposure process is not attached, and the second and fourth holding means are the substrates to which the liquid after the exposure process is attached. It is used when transporting. Therefore, since no liquid adheres to the first and third holding means, it is possible to prevent the liquid from adhering to the substrate before the exposure processing. This prevents dust in the atmosphere from adhering to the substrate before the exposure process, so that contamination in the exposure apparatus can be prevented. As a result, it is possible to reduce substrate processing defects that occur in the exposure apparatus.
第2の保持手段は第1の保持手段よりも下方に設けられ、第4の保持手段は第3の保持手段よりも下方に設けられてもよい。この場合、第2および第4の保持手段ならびにそれらが保持する基板から液体が落下したとしても、第1および第3の保持手段ならびにそれらが保持する基板に液体が付着することがない。それにより、露光処理前の基板に液体が付着することが確実に防止される。 The second holding means may be provided below the first holding means, and the fourth holding means may be provided below the third holding means. In this case, even if the liquid falls from the second and fourth holding means and the substrate held by them, the liquid does not adhere to the first and third holding means and the substrate held by them. This reliably prevents the liquid from adhering to the substrate before the exposure process.
第6の処理ユニットは、基板の周縁部を露光するエッジ露光部を含んでもよい。この場合、エッジ露光部において基板の周縁部に露光処理が行われる。 The sixth processing unit may include an edge exposure unit that exposes the peripheral edge of the substrate. In this case, an exposure process is performed on the peripheral edge of the substrate in the edge exposure unit.
保護膜は、フッ素樹脂からなってもよい。この場合、感光性膜を確実に保護することができる。 The protective film may be made of a fluororesin. In this case, the photosensitive film can be reliably protected.
第2の発明に係る基板処理方法は、露光装置に隣接するように配置され、第1の処理ユニット、第2の処理ユニットおよび第1の検査ユニットを備えた基板処理装置において基板を処理する方法であって、露光装置による露光処理前に第1の処理ユニットにより基板に感光性材料からなる感光性膜を形成する工程と、第1の処理ユニットによる感光性膜の形成後であって露光装置による露光処理前に第2の処理ユニットにより基板に感光性膜を保護する保護膜を形成する工程と、第2の処理ユニットによる保護膜の形成後であって露光装置による露光処理前に第1の検査ユニットにより感光性膜の膜厚を測定する工程とを備えたものである。 A substrate processing method according to a second invention is a method of processing a substrate in a substrate processing apparatus that is disposed adjacent to an exposure apparatus and includes a first processing unit, a second processing unit, and a first inspection unit. A step of forming a photosensitive film made of a photosensitive material on a substrate by a first processing unit before an exposure process by an exposure apparatus; and an exposure apparatus after the formation of the photosensitive film by the first processing unit. A step of forming a protective film for protecting the photosensitive film on the substrate by the second processing unit before the exposure processing by the first processing unit; And a step of measuring the film thickness of the photosensitive film by the inspection unit.
本発明に係る基板処理方法においては、第1の処理ユニットにおいて基板上に感光性膜が形成された後、第2の処理ユニットにおいて感光性膜上に保護膜が形成される。その後、第1の検査ユニットにより保護膜の膜厚が測定される。その後、露光装置において基板に露光処理が行われる。 In the substrate processing method according to the present invention, after the photosensitive film is formed on the substrate in the first processing unit, the protective film is formed on the photosensitive film in the second processing unit. Thereafter, the thickness of the protective film is measured by the first inspection unit. Thereafter, exposure processing is performed on the substrate in the exposure apparatus.
このように、露光装置において露光処理が行われる前に、第2の処理ユニットにより感光性膜上に保護膜が形成される。この場合、露光装置において基板が液体と接触した状態で露光処理が行われても、感光性材料の成分が液体中に溶出することが防止される。それにより、露光装置内の汚染が低減されるとともに基板の表面に感光性材料の成分が残留することも防止される。また、露光装置において露光処理が行われる前に、第1の検査ユニットにより保護膜の膜厚が測定される。それにより、保護膜の膜厚および均一性の異常を早期に発見することができる。これらの結果、露光処理時に発生する基板の処理不良を低減することができる。 As described above, the protective film is formed on the photosensitive film by the second processing unit before the exposure process is performed in the exposure apparatus. In this case, even if the exposure processing is performed in a state where the substrate is in contact with the liquid in the exposure apparatus, the components of the photosensitive material are prevented from being eluted into the liquid. Thereby, contamination in the exposure apparatus is reduced, and the photosensitive material components are prevented from remaining on the surface of the substrate. In addition, before the exposure process is performed in the exposure apparatus, the thickness of the protective film is measured by the first inspection unit. Thereby, the abnormality of the film thickness and uniformity of a protective film can be discovered at an early stage. As a result, it is possible to reduce substrate processing defects that occur during exposure processing.
本発明によれば、露光装置において露光処理が行われる前に、第2の処理ユニットにより感光性膜上に保護膜が形成される。この場合、露光装置において基板が液体と接触した状態で露光処理が行われても、感光性材料の成分が液体中に溶出することが防止される。それにより、露光装置内の汚染が低減されるとともに基板の表面に感光性材料の成分が残留することも防止される。また、露光装置において露光処理が行われる前に、第1の検査ユニットにより保護膜の膜厚が測定される。それにより、保護膜の膜厚および均一性の異常を早期に発見することができる。これらの結果、露光処理時に発生する基板の処理不良を低減することができる。 According to the present invention, the protective film is formed on the photosensitive film by the second processing unit before the exposure process is performed in the exposure apparatus. In this case, even if the exposure processing is performed in a state where the substrate is in contact with the liquid in the exposure apparatus, the components of the photosensitive material are prevented from being eluted into the liquid. Thereby, contamination in the exposure apparatus is reduced, and the photosensitive material components are prevented from remaining on the surface of the substrate. In addition, before the exposure process is performed in the exposure apparatus, the thickness of the protective film is measured by the first inspection unit. Thereby, the abnormality of the film thickness and uniformity of a protective film can be discovered at an early stage. As a result, it is possible to reduce substrate processing defects that occur during exposure processing.
以下、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置について図面を用いて説明する。以下の説明において、基板とは、半導体基板、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板等をいう。 Hereinafter, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the substrate refers to a semiconductor substrate, a liquid crystal display substrate, a plasma display substrate, a photomask glass substrate, an optical disk substrate, a magnetic disk substrate, a magneto-optical disk substrate, a photomask substrate, and the like. Say.
図1は、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。 FIG. 1 is a plan view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
図1以降の各図には、位置関係を明確にするために互いに直交するX方向、Y方向およびZ方向を示す矢印を付している。X方向およびY方向は水平面内で互いに直交し、Z方向は鉛直方向に相当する。なお、各方向において矢印が向かう方向を+方向、その反対の方向を−方向とする。また、Z方向を中心とする回転方向をθ方向としている。 1 and the subsequent drawings are provided with arrows indicating the X direction, the Y direction, and the Z direction orthogonal to each other in order to clarify the positional relationship. The X direction and the Y direction are orthogonal to each other in the horizontal plane, and the Z direction corresponds to the vertical direction. In each direction, the direction in which the arrow points is the + direction, and the opposite direction is the-direction. Further, the rotation direction around the Z direction is defined as the θ direction.
図1に示すように、基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、レジストカバー膜用処理ブロック12、検査ブロック13、現像処理ブロック14、レジストカバー膜除去ブロック15およびインターフェースブロック16を含む。また、インターフェースブロック16に隣接するように露光装置17が配置される。露光装置17においては、液浸法により基板Wに露光処理が行われる。
As shown in FIG. 1, the
以下、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、レジストカバー膜用処理ブロック12、検査ブロック13、現像処理ブロック14、レジストカバー膜除去ブロック15およびインターフェースブロック16の各々を処理ブロックと呼ぶ。
Hereinafter, each of the
インデクサブロック9は、各処理ブロックの動作を制御するメインコントローラ(制御部)30、複数のキャリア載置台40およびインデクサロボットIRを含む。インデクサロボットIRには、基板Wを受け渡すためのハンドIRHが設けられる。
The
反射防止膜用処理ブロック10は、反射防止膜用熱処理部100,101、反射防止膜用塗布処理部200および第1のセンターロボットCR1を含む。反射防止膜用塗布処理部200は、第1のセンターロボットCR1を挟んで反射防止膜用熱処理部100,101に対向して設けられる。第1のセンターロボットCR1には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH1,CRH2が上下に設けられる。
The anti-reflection
インデクサブロック9と反射防止膜用処理ブロック10との間には、雰囲気遮断用の隔壁20が設けられる。この隔壁20には、インデクサブロック9と反射防止膜用処理ブロック10との間で基板Wの受け渡しを行うための基板載置部PASS1,PASS2が上下に近接して設けられる。上側の基板載置部PASS1は、基板Wをインデクサブロック9から反射防止膜用処理ブロック10へ搬送する際に用いられ、下側の基板載置部PASS2は、基板Wを反射防止膜用処理ブロック10からインデクサブロック9へ搬送する際に用いられる。
A
また、基板載置部PASS1,PASS2には、基板Wの有無を検出する光学式のセンサ(図示せず)が設けられている。それにより、基板載置部PASS1,PASS2において基板Wが載置されているか否かの判定を行うことが可能となる。また、基板載置部PASS1,PASS2には、固定設置された複数本の支持ピンが設けられている。なお、上記の光学式のセンサおよび支持ピンは、後述する基板載置部PASS3〜PASS16にも同様に設けられる。 The substrate platforms PASS1, PASS2 are provided with optical sensors (not shown) that detect the presence or absence of the substrate W. Thereby, it is possible to determine whether or not the substrate W is placed on the substrate platforms PASS1 and PASS2. The substrate platforms PASS1, PASS2 are provided with a plurality of support pins fixedly installed. The optical sensor and the support pin are also provided in the same manner on the substrate platforms PASS3 to PASS16 described later.
レジスト膜用処理ブロック11は、レジスト膜用熱処理部110,111、レジスト膜用塗布処理部210および第2のセンターロボットCR2を含む。レジスト膜用塗布処理部210は、第2のセンターロボットCR2を挟んでレジスト膜用熱処理部110,111に対向して設けられる。第2のセンターロボットCR2には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH3,CRH4が上下に設けられる。
The resist
反射防止膜用処理ブロック10とレジスト膜用処理ブロック11との間には、雰囲気遮断用の隔壁21が設けられる。この隔壁21には、反射防止膜用処理ブロック10とレジスト膜用処理ブロック11との間で基板Wの受け渡しを行うための基板載置部PASS3,PASS4が上下に近接して設けられる。上側の基板載置部PASS3は、基板Wを反射防止膜用処理ブロック10からレジスト膜用処理ブロック11へ搬送する際に用いられ、下側の基板載置部PASS4は、基板Wをレジスト膜用処理ブロック11から反射防止膜用処理ブロック10へ搬送する際に用いられる。
A
レジストカバー膜用処理ブロック12は、レジストカバー膜用熱処理部120,121、レジストカバー膜用塗布処理部220および第3のセンターロボットCR3を含む。レジストカバー膜用塗布処理部220は、第3のセンターロボットCR3を挟んでレジストカバー膜用熱処理部120,121に対向して設けられる。第3のセンターロボットCR3には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH5,CRH6が上下に設けられる。
The resist cover
レジスト膜用処理ブロック11とレジストカバー膜処理用ブロック12との間には、雰囲気遮断用の隔壁22が設けられる。この隔壁22には、レジスト膜用処理ブロック11とレジストカバー膜用処理ブロック12との間で基板Wの受け渡しを行うための基板載置部PASS5,PASS6が上下に近接して設けられる。上側の基板載置部PASS5は、基板Wをレジスト膜用処理ブロック11からレジストカバー膜用処理ブロック12へ搬送する際に用いられ、下側の基板載置部PASS6は、基板Wをレジストカバー膜用処理ブロック12からレジスト膜用処理ブロック11へ搬送する際に用いられる。
A
検査ブロック13は、基板検査部230,235および第4のセンターロボットCR4を含む。基板検査部230および基板検査部235は、第4のセンターロボットCR4を挟んで互いに対向して設けられる。第4のセンターロボットCR4には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH7,CRH8が上下に設けられる。
The
レジストカバー膜用処理ブロック12と検査ブロック13との間には、雰囲気遮断用の隔壁23が設けられる。この隔壁23には、レジストカバー膜用処理ブロック12と検査ブロック13との間で基板Wの受け渡しを行うための基板載置部PASS7,PASS8が上下に近接して設けられる。上側の基板載置部PASS7は、基板Wをレジストカバー膜用処理ブロック12から検査ブロック13へ搬送する際に用いられ、下側の基板載置部PASS8は、基板Wを検査ブロック13からレジストカバー膜用処理ブロック12へ搬送する際に用いられる。
A
現像処理ブロック14は、現像用熱処理部140,141、現像処理部240および第5のセンターロボットCR5を含む。現像処理部240は、第5のセンターロボットCR5を挟んで現像用熱処理部140,141に対向して設けられる。第5のセンターロボットCR5には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH9,CRH10が上下に設けられる。
The
検査ブロック13と現像処理ブロック14との間には、雰囲気遮断用の隔壁24が設けられる。この隔壁24には、検査ブロック13と現像処理ブロック14との間で基板Wの受け渡しを行うための基板載置部PASS9,PASS10が上下に近接して設けられる。上側の基板載置部PASS9は、基板Wを検査ブロック13から現像処理ブロック14へ搬送する際に用いられ、下側の基板載置部PASS10は、基板Wを現像処理ブロック14から検査ブロック13へ搬送する際に用いられる。
A partition wall 24 is provided between the
レジストカバー膜除去ブロック15は、露光後ベーク(PEB)用熱処理部150,151、レジストカバー膜除去用処理部250および第6のセンターロボットCR6を含む。露光後ベーク用熱処理部151はインターフェースブロック16に隣接し、後述するように、基板載置部PASS13,PASS14を備える。レジストカバー膜除去用処理部250は、第6のセンターロボットCR6を挟んで露光後ベーク用熱処理部150,151に対向して設けられる。第6のセンターロボットCR6には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH11,CRH12が上下に設けられる。
The resist cover
現像処理ブロック14とレジストカバー膜除去ブロック15との間には、雰囲気遮断用の隔壁25が設けられる。この隔壁25には、現像処理ブロック14とレジストカバー膜除去ブロック15との間で基板Wの受け渡しを行うための基板載置部PASS11,PASS12が上下に近接して設けられる。上側の基板載置部PASS11は、基板Wを現像処理ブロック14からレジストカバー膜除去ブロック15へ搬送する際に用いられ、下側の基板載置部PASS12は、基板Wをレジストカバー膜除去ブロック15から現像処理ブロック14へ搬送する際に用いられる。
A
インターフェースブロック16は、第7のセンターロボットCR7、送りバッファ部SBF、インターフェース用搬送機構IFRおよびエッジ露光部EEWを含む。また、エッジ露光部EEWの下側には、後述する戻りバッファ部RBFおよび基板載置部PASS15,PASS16が設けられている。第7のセンターロボットCR7には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH13,CRH14が上下に設けられる。
The
本実施の形態に係る基板処理装置500においては、Y方向に沿ってインデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、レジストカバー膜用処理ブロック12、検査ブロック13、現像処理ブロック14、レジストカバー膜除去ブロック15およびインターフェースブロック16が順に並設されている。
In the
図2は、図1の基板処理装置500を+X方向から見た側面図である。
FIG. 2 is a side view of the
反射防止膜用処理ブロック10の反射防止膜用塗布処理部200(図1参照)には、3個の塗布ユニットBARCが上下に積層配置されている。各塗布ユニットBARCは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック51およびスピンチャック51上に保持された基板Wに反射防止膜の塗布液を供給する供給ノズル52を備える。
In the antireflection film coating processing section 200 (see FIG. 1) of the antireflection
レジスト膜用処理ブロック11のレジスト膜用塗布処理部210(図1参照)には、3個の塗布ユニットRESが上下に積層配置されている。各塗布ユニットRESは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック61およびスピンチャック61上に保持された基板Wにレジスト膜の塗布液を供給する供給ノズル62を備える。
In the resist film coating processing section 210 (see FIG. 1) of the resist
レジストカバー膜用処理ブロック12のレジストカバー膜用塗布処理部220(図1参照)には、3個の塗布ユニットCOVが上下に積層配置されている。各塗布ユニットCOVは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック71およびスピンチャック71上に保持された基板Wにレジストカバー膜の塗布液を供給する供給ノズル72を備える。レジストカバー膜の塗布液としては、レジストおよび水との親和力が低い材料(レジストおよび水との反応性が低い材料)を用いることができる。例えば、フッ素樹脂である。塗布ユニットCOVは、基板Wを回転させながら基板W上に塗布液を塗布することにより、基板W上に形成されたレジスト膜上にレジストカバー膜を形成する。
In the resist cover film coating processing section 220 (see FIG. 1) of the resist cover
検査ブロック13の基板検査部235(図1参照)には、線幅測定器CD、重ね合わせ測定器OLおよびマクロ欠陥検査器MACが上下に積層配置されている。線幅測定器CDは、基板W上に形成されたパターンの線幅を測定する検査器である。重ね合わせ測定器OLは、基板W上に形成されたパターンのずれを測定する検査器である。マクロ欠陥検査器MACは、基板W上に存在する比較的大きな欠陥(例えば、塵埃等の付着)の有無を判定する検査器である。
In the substrate inspection section 235 (see FIG. 1) of the
現像処理ブロック14の現像処理部240(図1参照)には、5個の現像処理ユニットDEVが上下に積層配置されている。各現像処理ユニットDEVは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック81およびスピンチャック81上に保持された基板Wに現像液を供給する供給ノズル82を備える。
In the development processing unit 240 (see FIG. 1) of the
レジストカバー膜除去ブロック15のレジストカバー膜除去用処理部250(図1参照)には、3個の除去ユニットREMが上下に積層配置されている。各除去ユニットREMは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック91およびスピンチャック91上に保持された基板Wに剥離液(例えばフッ素樹脂)を供給する供給ノズル92を備える。除去ユニットREMは、基板Wを回転させながら基板W上に剥離液を塗布することにより、基板W上に形成されたレジストカバー膜を除去する。
In the resist cover film removal processing unit 250 (see FIG. 1) of the resist cover
なお、除去ユニットREMにおけるレジストカバー膜の除去方法は上記の例に限定されない。例えば、基板Wの上方においてスリットノズルを移動させつつ基板W上に剥離液を供給することによりレジストカバー膜を除去してもよい。 The method for removing the resist cover film in the removal unit REM is not limited to the above example. For example, the resist cover film may be removed by supplying a stripping solution onto the substrate W while moving the slit nozzle above the substrate W.
インターフェースブロック16には、2個のエッジ露光部EEW、戻りバッファ部RBFおよび基板載置部PASS15,PASS16が上下に積層配置されるとともに、第7のセンターロボットCR7(図1参照)およびインターフェース用搬送機構IFRが配置される。各エッジ露光部EEWは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック98およびスピンチャック98上に保持された基板Wの周縁を露光する光照射器99を備える。
In the
図3は、図1の基板処理装置500を−X方向から見た側面図である。
FIG. 3 is a side view of the
反射防止膜用処理ブロック10の反射防止膜用熱処理部100には、2個の冷却ユニット(クーリングプレート)CPが上下に積層配置され、反射防止膜用熱処理部101には、4個の加熱ユニット(ホットプレート)HPおよび2個の冷却ユニットCPが上下に積層配置される。また、反射防止膜用熱処理部100,101には、最上部に冷却ユニットCPおよび加熱ユニットHPの温度を制御するローカルコントローラLCが各々配置される。
Two cooling units (cooling plates) CP are stacked one above the other in the antireflection film
レジスト膜用処理ブロック11のレジスト膜用熱処理部110には、4個の冷却ユニットCPが上下に積層配置され、レジスト膜用熱処理部111には、4個の加熱ユニットHPが上下に積層配置される。また、レジスト膜用熱処理部110,111には、最上部に冷却ユニットCPおよび加熱ユニットHPの温度を制御するローカルコントローラLCが各々配置される。
In the resist film
レジストカバー膜用処理ブロック12のレジストカバー膜用熱処理部120には、4個の冷却ユニットCPが上下に積層配置され、レジストカバー膜用熱処理部121には、4個の加熱ユニットHPが上下に積層配置される。また、レジストカバー膜用熱処理部120,121には、最上部に冷却ユニットCPおよび加熱ユニットHPの温度を制御するローカルコントローラLCが各々配置される。
In the resist cover film
検査ブロック13の基板検査部230には、膜厚測定器THIおよび膜質測定器QUAが上下に積層配置されている。膜厚測定器THIは、基板W上に形成された反射防止膜、レジスト膜およびレジストカバー膜の膜厚を測定する検査器である。膜質測定器QUAは、基板W上に形成されたレジスト膜の膜質(例えば、膜中の残存溶媒量、レジスト膜の密度(溶質と溶媒の比率))を測定する検査器である。
A film thickness measuring device THI and a film quality measuring device QUA are vertically stacked on the
現像処理ブロック14の現像用熱処理部140には、4個の冷却ユニットCPが上下に積層配置され、現像用熱処理部141には、4個の加熱ユニットHPが上下に積層配置される。また、現像用熱処理部140,141には、最上部に冷却ユニットCPおよび加熱ユニットHPの温度を制御するローカルコントローラLCが各々配置される。
In the development
レジストカバー膜除去ブロック15の露光後ベーク用熱処理部150には、2個の加熱ユニットHPおよび2個の冷却ユニットCPが上下に積層配置され、露光後ベーク用熱処理部151には4個の加熱ユニットHP、1個の冷却ユニットCP、基板載置部PASS13,PASS14および1個の冷却ユニットCPが上下に積層配置される。また、露光後ベーク用熱処理部150,151には、最上部に加熱ユニットHP、冷却ユニットCPの温度を制御するローカルコントローラLCが各々配置される。
In the post-exposure bake
次に、本実施の形態に係る基板処理装置500の動作について説明する。
Next, the operation of the
インデクサブロック9のキャリア載置台40の上には、複数枚の基板Wを多段に収納するキャリアCが搬入される。インデクサロボットIRは、ハンドIRHを用いてキャリアC内に収納された未処理の基板Wを取り出す。その後、インデクサロボットIRは±X方向に移動しつつ±θ方向に回転移動し、未処理の基板Wを基板載置部PASS1に移載する。
On the carrier mounting table 40 of the
本実施の形態においては、キャリアCとしてFOUP(front opening unified pod)を採用しているが、これに限定されず、SMIF(Standard Mechanical Inter Face)ポッドや収納基板Wを外気に曝すOC(open cassette)等を用いてもよい。さらに、インデクサロボットIR、第1〜第7のセンターロボットCR1〜CR7およびインターフェース用搬送機構IFRには、それぞれ基板Wに対して直線的にスライドさせてハンドの進退動作を行う直動型搬送ロボットを用いているが、これに限定されず、関節を動かすことにより直線的にハンドの進退動作を行う多関節型搬送ロボットを用いてもよい。 In the present embodiment, a front opening unified pod (FOUP) is adopted as the carrier C. However, the present invention is not limited to this, and an OC (open cassette) that exposes the standard mechanical interface (SMIF) pod and the storage substrate W to the outside air. ) Etc. may be used. Further, the indexer robot IR, the first to seventh center robots CR1 to CR7, and the interface transport mechanism IFR are each provided with a direct-acting transport robot that slides linearly with respect to the substrate W and moves the hand back and forth. Although it is used, the present invention is not limited to this, and an articulated transfer robot that linearly moves the hand forward and backward by moving the joint may be used.
基板載置部PASS1に移載された未処理の基板Wは、反射防止膜用処理ブロック10の第1のセンターロボットCR1により受け取られる。第1のセンターロボットCR1は、基板Wを反射防止膜用熱処理部100に搬入する。その後、第1のセンターロボットCR1は反射防止膜用熱処理部100から熱処理済みの基板Wを取り出し、反射防止膜用塗布処理部200に搬入する。この反射防止膜用塗布処理部200では、露光時に発生する定在波やハレーションを減少させるために、塗布ユニットBARCにより基板W上に反射防止膜が塗布形成される。
The unprocessed substrate W transferred to the substrate platform PASS1 is received by the first central robot CR1 of the antireflection
その後、第1のセンターロボットCR1は、反射防止膜用塗布処理部200から塗布処理済みの基板Wを取り出し、反射防止膜用熱処理部100,101に搬入する。次に、第1のセンターロボットCR1は、反射防止膜用熱処理部100,101から熱処理済みの基板Wを取り出し、基板載置部PASS3に移載する。
Thereafter, the first central robot CR1 takes out the substrate W that has been coated from the coating processing unit 200 for antireflection film, and carries it into the
基板載置部PASS3に移載された基板Wは、レジスト膜用処理ブロック11の第2のセンターロボットCR2により受け取られる。第2のセンターロボットCR2は、基板Wをレジスト膜用熱処理部110に搬入する。その後、第1のセンターロボットCR2はレジスト膜用熱処理部110から熱処理済みの基板Wを取り出し、レジスト膜用塗布処理部210に搬入する。このレジスト膜用塗布処理部210では、塗布ユニットRESにより反射防止膜が塗布形成された基板W上にレジスト膜が塗布形成される。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS3 is received by the second central robot CR2 of the resist
その後、第2のセンターロボットCR2は、レジスト膜用塗布処理部210から塗布処理済みの基板Wを取り出し、レジスト膜用熱処理部110,111に搬入する。次に、第2のセンターロボットCR2は、レジスト膜用熱処理部110,111から熱処理済みの基板Wを取り出し、基板載置部PASS5に移載する。
Thereafter, the second central robot CR2 takes out the coated substrate W from the resist film
基板載置部PASS5に移載された基板Wは、レジストカバー膜用処理ブロック12の第3のセンターロボットCR3により受け取られる。第3のセンターロボットCR3は、基板Wをレジストカバー膜用熱処理部120に搬入する。その後、第3のセンターロボットCR3はレジストカバー膜用熱処理部120から熱処理済みの基板Wを取り出し、レジストカバー膜用塗布処理部220に搬入する。このレジストカバー膜用塗布処理部220では、塗布ユニットCOVによりレジスト膜が塗布形成された基板W上にレジストカバー膜が塗布形成される。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS5 is received by the third central robot CR3 of the resist cover
その後、第3のセンターロボットCR3は、レジストカバー膜用塗布処理部220から塗布処理済みの基板Wを取り出し、レジストカバー膜用熱処理部120,121に搬入する。次に、第3のセンターロボットCR3は、レジストカバー膜用熱処理部120,121から熱処理済みの基板Wを取り出し、基板載置部PASS7に移載する。
Thereafter, the third central robot CR3 takes out the coated substrate W from the resist cover film
基板載置部PASS7に移載された基板Wは、検査ブロック13の第4のセンターロボットCR4により受け取られる。第4のセンターロボットCR4は、基板Wを基板検査部230に搬入する。この基板検査部230では、上述したように、膜厚測定器THIにより反射防止膜、レジスト膜およびレジストカバー膜の膜厚の測定が行われ、膜質測定器QUAによりレジスト膜の膜質の測定が行われる。その後、第4のセンターロボットCR4は、基板検査部230から測定済みの基板Wを取り出し、基板載置部PASS9に移載する。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS7 is received by the fourth central robot CR4 of the
基板載置部PASS9に移載された基板Wは、現像処理ブロック14の第5のセンターロボットCR5により受け取られる。第5のセンターロボットCR5は、基板Wを基板載置部PASS11に移載する。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS9 is received by the fifth central robot CR5 of the
基板載置部PASS11に移載された基板Wは、レジストカバー膜除去ブロック15の第6のセンターロボットCR6により受け取られる。第6のセンターロボットCR6は、基板Wを基板載置部PASS13に移載する。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS11 is received by the sixth central robot CR6 of the resist cover
基板載置部PASS13に移載された基板Wは、インターフェースブロック16の第7のセンターロボットCR7の上側のハンドCRH13により受け取られる。第7のセンターロボットCR7は、ハンドCRH13により基板Wをエッジ露光部EEWに搬入する。このエッジ露光部EEWにおいては、基板Wの周縁部に露光処理が施される。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS13 is received by the hand CRH13 above the seventh central robot CR7 of the
次に、第7のセンターロボットCR7は、ハンドCRH13によりエッジ露光部EEWからエッジ露光処理済みの基板Wを取り出し、基板載置部PASS15に移載する。 Next, the seventh central robot CR7 takes out the edge-exposed substrate W from the edge exposure unit EEW with the hand CRH13 and transfers it to the substrate platform PASS15.
基板載置部PASS15に移載された基板Wは、インターフェース用搬送機構IFRのハンドH5により露光装置17に搬入される。露光装置17において基板Wに露光処理が行われた後、インターフェース用搬送機構IFRは、ハンドH6により基板WをPASS16に移載する。なお、インターフェース用搬送機構IFRの詳細については後述する。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS15 is carried into the
基板載置部PASS16に移載された基板Wは、インターフェースブロック16の第7のセンターロボットCR7の下側のハンドCRH14により受け取られる。第7のセンターロボットCR7は、ハンドCRH14により基板Wをレジストカバー膜除去ブロック15の露光後ベーク用熱処理部151に搬入する。露光後ベーク用熱処理部151においては、基板Wに対して露光後ベーク(PEB)が行われる。その後、第7のセンターロボットCR7は、ハンドCRH14により露光後ベーク用熱処理部151から基板Wを取り出し、基板載置部PASS14に移載する。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS16 is received by the hand CRH14 below the seventh central robot CR7 of the
なお、本実施の形態においては露光後ベーク用熱処理部151により露光後ベークを行っているが、露光後ベーク用熱処理部150により露光後ベークを行ってもよい。
In this embodiment, post-exposure baking is performed by the post-exposure bake
基板載置部PASS14に移載された基板Wは、レジストカバー膜除去ブロック15の第6のセンターロボットCR6により受け取られる。第6のセンターロボットCR6は、基板Wをレジストカバー膜除去用処理部250に搬入する。このレジストカバー膜除去用処理部250においては、除去ユニットREMによりレジストカバー膜が除去される。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS14 is received by the sixth central robot CR6 of the resist cover
その後、第6のセンターロボットCR6は、レジストカバー膜除去用処理部250から処理済みの基板Wを取り出し、基板載置部PASS12に移載する。
Thereafter, the sixth central robot CR6 takes out the processed substrate W from the resist cover film
なお、故障等によりレジストカバー膜除去用処理部250が一時的に基板Wの受け入れをできない場合は、露光後ベーク用熱処理部151において基板Wに熱処理を施した後、インターフェースブロック16の戻りバッファ部RBFに基板Wを一時的に収納保管することができる。
If the resist cover film
基板載置部PASS12に移載された基板Wは、現像処理ブロック14の第5のセンターロボットCR5により受け取られる。第5のセンターロボットCR5は、基板Wを現像処理部240に搬入する。この、現像処理部240においては、現像処理ユニットDEVにより基板Wの現像処理が行われ、基板W上にパターンが形成される。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS12 is received by the fifth central robot CR5 of the
その後、第5のセンターロボットCR5は、現像処理部240から現像処理済みの基板Wを取り出し、現像用熱処理部140,141に搬入する。次に、第5のセンターロボットCR5は、現像用熱処理部140,141から熱処理後の基板Wを取り出し、基板載置部PASS10に移載する。
Thereafter, the fifth central robot CR5 takes out the substrate W after the development processing from the
基板載置部PASS10に移載された基板Wは、検査ブロック13の第4のセンターロボットCR4により受け取られる。第4のセンターロボットCR4は、基板Wを基板検査部235に搬入する。この基板検査部235では、上述したように、線幅測定器CD、重ね合わせ測定器OLおよびマクロ欠陥検査器MACにより基板W上のパターンの線幅測定、パターンのずれの測定および欠陥の検査が行われる。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS10 is received by the fourth central robot CR4 of the
その後、第4のセンターロボットCR4は、基板検査部235から測定および検査済みの基板Wを取り出し、基板載置部PASS8に移載する。基板載置部PASS8に移載された基盤Wは、レジストカバー膜用処理ブロック12の第3のセンターロボットCR3により基板載置部PASS6に移載される。
Thereafter, the fourth central robot CR4 takes out the measured and inspected substrate W from the
基板載置部PASS6に移載された基板Wは、レジスト膜用処理ブロック11の第2のセンターロボットCR2により基板載置部PASS4に移載される。基板載置部PASS4に移載された基板Wは、反射防止膜用処理ブロック10の第1のセンターロボットCR1により基板載置部PASS2に移載される。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS6 is transferred to the substrate platform PASS4 by the second central robot CR2 of the resist
基板載置部PASS2に移載された基板Wは、インデクサブロック9のインデクサロボットIRによりキャリアC内に収納される。これにより、基板処理装置500における基板Wの各処理が終了する。
The substrate W transferred to the substrate platform PASS2 is stored in the carrier C by the indexer robot IR of the
上記のように、本実施の形態に係る基板処理装置500においては、露光装置17において基板Wに露光処理が行われる前に、レジストカバー膜用処理ブロック12において、基板Wに形成されたレジスト膜上にレジストカバー膜が形成される。この場合、露光装置17において基板Wが液体と接触しても、レジストカバー膜によってレジスト膜が液体と接触することが防止されるので、レジストの成分が液体中に溶出することが防止される。それにより、露光装置17内の汚染が防止されるとともに基板Wの表面にレジストの成分が残留することも防止される。その結果、露光装置17において発生する基板Wの処理不良を低減することができる。
As described above, in the
また、現像処理ブロック14において基板Wに現像処理が行われる前に、レジストカバー膜除去ブロック15において、レジストカバー膜の除去が行われる。この場合、現像処理前にレジストカバー膜が確実に除去されるので、現像処理を確実に行うことができる。
Further, before the development processing is performed on the substrate W in the
なお、現像処理ブロック14の現像処理ユニットDEVにおいて、レジストカバー膜を除去することができる液体を現像液として用いる場合は、レジストカバー膜除去ブロック15を設けなくてよい。この場合、基板処理装置500の小型化が可能になる。
In the development processing unit DEV of the
また、本実施の形態においては、膜厚測定器THI、膜質測定器QUA、線幅測定器CD、重ね合わせ測定器OLおよびマクロ欠陥検査器MACの測定結果および検査結果に基づいて処理条件等を調整することにより測定結果を各処理に反映させることができる。それにより、基板Wの処理不良を低減することができる。 In the present embodiment, the processing conditions are determined based on the measurement results and inspection results of the film thickness measuring instrument THI, film quality measuring instrument QUA, line width measuring instrument CD, overlay measuring instrument OL, and macro defect inspecting instrument MAC. By adjusting, the measurement result can be reflected in each process. Thereby, processing defects of the substrate W can be reduced.
図4は、測定結果および検査結果に基づく制御系の構成の一例を示すブロック図である。膜厚測定器THI、膜質測定器QUA、線幅測定器CD、重ね合わせ測定器OLおよびマクロ欠陥検査器MACの測定結果および検査結果がメインコントローラ30に伝達される。メインコントローラ30においては、測定結果および検査結果に基づいて処理条件を調整する項目が取捨選択され、塗布ユニットBARC,RES,COV、現像処理ユニットDEV、除去ユニットREM、加熱ユニットHPおよび冷却ユニットCPに対して処理条件の調整が行われる。
FIG. 4 is a block diagram showing an example of the configuration of the control system based on the measurement result and the inspection result. Measurement results and inspection results of the film thickness measuring device THI, film quality measuring device QUA, line width measuring device CD, overlay measuring device OL, and macro defect inspection device MAC are transmitted to the
例えば、膜厚測定器THIにおいて測定されたレジストカバー膜の膜厚に基づいて処理条件の調整を行う場合、塗布ユニットCOVにおけるスピン回転数、回転時間、塗布液の塗布量、塗布液の温度、雰囲気温度、湿度および気圧等がフィードバック制御される。 For example, when adjusting the processing conditions based on the film thickness of the resist cover film measured by the film thickness measuring device THI, the spin rotation speed, the rotation time, the coating amount of the coating liquid, the coating liquid temperature in the coating unit COV, Atmospheric temperature, humidity, atmospheric pressure, and the like are feedback controlled.
また、膜厚測定器THI、膜質測定器QUA、線幅測定器CD、重ね合わせ測定器OLまたはマクロ欠陥検査器MACの測定結果または検査結果に異常が発見された場合には、基板処理装置500の動作の停止または警報器による作業者への通知を行ってもよい。
If an abnormality is found in the measurement results or inspection results of the film thickness measuring instrument THI, the film quality measuring instrument QUA, the line width measuring instrument CD, the overlay measuring instrument OL, or the macro defect inspecting instrument MAC, the
例えば、膜厚測定器THIにおいて測定されたレジストカバー膜の膜厚が、予め設定された上限値を超えている場合または下限値を下回っている場合には、基板処理装置500の動作を停止させてもよく、警報器により作業者に異常を通知してもよい。
For example, when the film thickness of the resist cover film measured by the film thickness measuring instrument THI exceeds a preset upper limit value or falls below a lower limit value, the operation of the
また、本実施の形態においては、レジストカバー膜形成後に検査ブロック13において膜質および膜厚測定が行われている。この場合、反射防止膜、レジスト膜およびレジストカバー膜の検査を同時に行うことができるので、基板処理装置500のフットプリントを低減することができる。また、膜厚および膜質の異常を早期に発見することができるので、基板Wの処理不良を十分に低減することができる。
In the present embodiment, film quality and film thickness are measured in the
また、膜厚測定器THI、膜質測定器QUA、線幅測定器CD、重ね合わせ測定器OLおよびマクロ欠陥検査器MACが一つの処理ブロック内に配置されているので、基板処理装置500のフットプリントを十分に低減することができる。
Further, since the film thickness measuring device THI, the film quality measuring device QUA, the line width measuring device CD, the overlay measuring device OL, and the macro defect inspection device MAC are arranged in one processing block, the footprint of the
次に、インターフェース用搬送機構IFRについて説明する。図5はインターフェース用搬送機構IFRの構成および動作を説明するための図である。 Next, the interface transport mechanism IFR will be described. FIG. 5 is a diagram for explaining the configuration and operation of the interface transport mechanism IFR.
まず、インターフェース用搬送機構IFRの構成について説明する。図5に示すように、インターフェース用搬送機構IFRの可動台31は螺軸32に螺合される。螺軸32は、X方向に延びるように支持台33によって回転可能に支持される。螺軸32の一端部にはモータM1が設けられ、このモータM1により螺軸32が回転し、可動台31が±X方向に水平移動する。
First, the configuration of the interface transport mechanism IFR will be described. As shown in FIG. 5, the
また、可動台31にはハンド支持台34が±θ方向に回転可能でかつ±Z方向に昇降可能に搭載される。ハンド支持台34は、回転軸35を介して可動台31内のモータM2に連結しており、このモータM2によりハンド支持台34が回転する。ハンド支持台34には、基板Wを水平姿勢で保持する2個のハンドH5,H6が進退可能に上下に設けられる。
In addition, a
次に、インターフェース用搬送機構IFRの動作について説明する。インターフェース用搬送機構IFRの動作は、図1のメインコントローラ30により制御される。
Next, the operation of the interface transport mechanism IFR will be described. The operation of the interface transport mechanism IFR is controlled by the
まず、インターフェース用搬送機構IFRは、図5の位置Aにおいてハンド支持台34を回転させるとともに+Z方向に上昇させ、上側のハンドH5を基板載置部PASS15に進入させる。基板載置部PASS15においてハンドH5が基板Wを受け取ると、インターフェース用搬送機構IFRはハンドH5を基板載置部PASS15から後退させ、ハンド支持台34を−Z方向に下降させる。
First, the interface transport mechanism IFR rotates the
次に、インターフェース用搬送機構IFRは−X方向に移動し、位置Bにおいてハンド支持台34を回転させるとともにハンドH5を露光装置17の基板搬入部17a(図1参照)に進入させる。基板Wを基板搬入部17aに搬入した後、インターフェース用搬送機構IFRはハンドH5を基板搬入部17aから後退させる。
Next, the interface transport mechanism IFR moves in the −X direction, rotates the
次に、インターフェース用搬送機構IFRは下側のハンドH6を露光装置17の基板搬出部17b(図1参照)に進入させる。基板搬出部17bにおいてハンドH6が露光処理後の基板Wを受け取ると、インターフェース用搬送機構IFRはハンドH6を基板搬出部17bから後退させる。
Next, the interface transport mechanism IFR causes the lower hand H6 to enter the substrate carry-out portion 17b (see FIG. 1) of the
その後、インターフェース用搬送機構IFRは+X方向に移動し、位置Aにおいてハンド支持台34を回転させるとともに+Z方向に上昇させ、ハンドH6を基板載置部PASS16に進入させ、基板Wを基板載置部PASS16に移載する。
Thereafter, the interface transport mechanism IFR moves in the + X direction, rotates the
なお、基板Wを基板載置部PASS15から露光装置17へと搬送する際に、露光装置17が基板Wの受け入れをできない場合は、基板Wは送りバッファ部SBFに一時的に収納保管される。
When the
上記のように、本実施の形態においては、基板Wを基板載置部PASS15から露光装置17へと搬送する際にはインターフェース用搬送機構IFRのハンドH5を用い、基板Wを露光装置17から基板載置部PASS16へと搬送する際にはハンドH6を用いる。すなわち、露光処理直後の液体が付着した基板Wの搬送にはハンドH6が用いられ、露光処理前の液体が付着していない基板Wの搬送にはハンドH5が用いられる。そのため、ハンドH5に基板Wの液体が付着することがない。
As described above, in the present embodiment, when transporting the substrate W from the substrate platform PASS15 to the
また、ハンドH6はハンドH5の下方に設けられているので、ハンドH6およびそれが保持する基板Wから液体が落下したとしても、ハンドH5およびそれが保持する基板Wに液体が付着することがない。 Since the hand H6 is provided below the hand H5, even if the liquid falls from the hand H6 and the substrate W held by the hand H6, the liquid does not adhere to the hand H5 and the substrate W held by the hand H6. .
さらに、前述したように、第7のセンターロボットCR7においても、露光処理後の液体が付着した基板Wの搬送(基板載置部PASS16と露光後ベーク用熱処理部151との間)には下側のハンドCRH14が用いられ、露光処理前の液体が付着していない基板Wの搬送(基板載置部PASS13とエッジ露光部EEWとの間およびエッジ露光部EEWと基板載置部PASS15との間)には上側のハンドCRH13が用いられている。そのため、第7のセンターロボットCR7においても、露光処理前の基板Wに液体が付着することがない。 Further, as described above, in the seventh central robot CR7 as well, the lower side is not used for transporting the substrate W to which the liquid after exposure processing adheres (between the substrate platform PASS16 and the post-exposure baking heat treatment unit 151). The hand CRH14 is used to transport the substrate W to which the liquid before the exposure process is not attached (between the substrate platform PASS13 and the edge exposure unit EEW and between the edge exposure unit EEW and the substrate platform PASS15). The upper hand CRH13 is used. Therefore, even in the seventh central robot CR7, no liquid adheres to the substrate W before the exposure process.
これらの結果、露光処理前の基板Wに液体が付着することが防止されるので、雰囲気中の塵埃等の付着による基板Wの汚染を防止することができるとともに、露光装置17内の汚染を十分に防止することができる。それにより、露光装置17における基板Wの処理不良の発生を十分に防止することができる。
As a result, since the liquid is prevented from adhering to the substrate W before the exposure processing, the contamination of the substrate W due to the adhesion of dust or the like in the atmosphere can be prevented and the contamination in the
なお、本実施の形態においては、1台のインターフェース用搬送機構IFRによって、基板Wの搬送を行っているが、複数のインターフェース用搬送機構IFRを用いて基板Wの搬送を行ってもよい。 In this embodiment, the substrate W is transported by one interface transport mechanism IFR, but the substrate W may be transported by using a plurality of interface transport mechanisms IFR.
また、露光装置17の基板搬入部17aおよび基板搬出部17bの位置に応じて、インターフェース用搬送機構IFRの動作および構成を変更してもよい。例えば、露光装置17の基板搬入部17aおよび基板搬出部17bが図5の位置Aに対向する位置にある場合は、図5の螺軸32を設けなくてもよい。
Further, the operation and configuration of the interface transport mechanism IFR may be changed according to the positions of the substrate carry-in portion 17a and the substrate carry-out portion 17b of the
また、塗布ユニットBARC,RES,COV、現像処理ユニットDEV、除去ユニットREM、加熱ユニットHP、冷却ユニットCP、膜厚測定器THI、膜質測定器QUA、線幅測定器CD、重ね合わせ測定器OLおよびマクロ欠陥検査器MACの個数は、各処理ブロックの処理速度に合わせて適宜変更してもよい。 In addition, coating unit BARC, RES, COV, development processing unit DEV, removal unit REM, heating unit HP, cooling unit CP, film thickness measuring device THI, film quality measuring device QUA, line width measuring device CD, overlay measuring device OL, and The number of macro defect inspectors MAC may be appropriately changed according to the processing speed of each processing block.
また、本実施の形態においては、反射防止膜、レジスト膜およびレジストカバー膜の測定を同時に行っているが、膜形成の処理ごとに行ってもよい。つまり、レジスト膜形成前に反射防止膜の膜厚を測定し、レジストカバー膜形成前にレジスト膜の膜厚を測定してもよい。 In the present embodiment, the antireflection film, the resist film, and the resist cover film are measured at the same time, but may be performed for each film formation process. That is, the thickness of the antireflection film may be measured before forming the resist film, and the thickness of the resist film may be measured before forming the resist cover film.
本実施の形態においては、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、レジストカバー膜用処理ブロック12、検査ブロック13、現像処理ブロック14、レジストカバー膜除去ブロック15が処理部に相当し、インターフェースブロック16が受け渡し部に相当し、塗布ユニットRESが第1の処理ユニットに相当し、レジスト膜用処理ブロック11が第1の処理単位に相当し、塗布ユニットCOVが第2の処理ユニットに相当し、レジストカバー膜用処理ブロック12が第2の処理単位に相当し、膜厚測定器THIが第1の検査ユニットに相当し、検査ブロック13が検査用処理単位に相当し、塗布ユニットBARCが第3の処理ユニットに相当し、反射防止膜用処理ブロック10が第3の処理単位に相当し、塗布ユニットDEVが第4の処理ユニットに相当し、現像処理ブロック14が第4の処理単位に相当し、除去ユニットREMが第5の処理ユニットに相当し、レジストカバー膜除去ブロック15が第5の処理単位に相当し、レジスト膜が感光性膜に相当し、レジストカバー膜が保護膜に相当する。
In the present embodiment, an
また、加熱ユニットHPおよび冷却ユニットCPが第1〜第4の熱処理ユニットに相当し、第2のセンターロボットCR2が第1の搬送ユニットに相当し、第3のセンターロボットCR3が第2の搬送ユニットに相当し、第4のセンターロボットCR4が検査用搬送ユニットに相当し、第1のセンターロボットCR1が第3の搬送ユニットに相当し、第5のセンターロボットCR5が第4の搬送ユニットに相当し、第6のセンターロボットCR6が第5の搬送ユニットに相当し、第7のセンターロボットCR7が第6の搬送ユニットに相当し、インターフェース用搬送機構IFRが第7の搬送ユニットに相当し、ハンドCRH13が第1の保持手段に相当し、ハンドCRH14が第2の保持手段に相当し、ハンドH5が第3の保持手段に相当し、ハンドH6が第4の保持手段に相当し、基板載置部PASS15,16が載置部に相当する。 The heating unit HP and the cooling unit CP correspond to the first to fourth heat treatment units, the second center robot CR2 corresponds to the first transfer unit, and the third center robot CR3 corresponds to the second transfer unit. The fourth center robot CR4 corresponds to the inspection transfer unit, the first center robot CR1 corresponds to the third transfer unit, and the fifth center robot CR5 corresponds to the fourth transfer unit. The sixth center robot CR6 corresponds to the fifth transfer unit, the seventh center robot CR7 corresponds to the sixth transfer unit, the interface transfer mechanism IFR corresponds to the seventh transfer unit, and the hand CRH13. Corresponds to the first holding means, the hand CRH14 corresponds to the second holding means, and the hand H5 corresponds to the third holding means. , The hand H6 corresponds to a fourth holding means, corresponding to the part substrate platform PASS15,16 the mounting.
また、膜質測定器QUAが第2の検査ユニットに相当し、線幅測定器CDが第3の検査ユニットに相当し、重ね合わせ測定器OLが第4の検査ユニットに相当し、マクロ欠陥検査器MACが第5の検査ユニットに相当する。 The film quality measuring device QUA corresponds to the second inspection unit, the line width measuring device CD corresponds to the third inspection unit, the overlay measuring device OL corresponds to the fourth inspection unit, and the macro defect inspection device. MAC corresponds to the fifth inspection unit.
本発明は、種々の基板の処理等に利用することができる。 The present invention can be used for processing various substrates.
9 インデクサブロック
10 反射防止膜用処理ブロック
11 レジスト膜用処理ブロック
12 レジストカバー膜用処理ブロック
13 検査ブロック
14 現像ブロック
15 レジストカバー膜除去ブロック
16 インターフェースブロック
17 露光装置
40 キャリア載置台
200 反射防止膜用塗布処理部
210 レジスト膜用塗布処理部
220 レジストカバー膜用塗布処理部
230,235 基板検査部
240 現像処理部
250 レジストカバー膜除去用処理部
100,101 反射防止膜用熱処理部
110,111 レジスト膜用熱処理部
120,121 レジストカバー膜用熱処理部
140,141 現像用熱処理部
150,151 露光後ベーク用熱処理部
500 基板処理装置
THI 膜厚測定器
QUA 膜質測定器
CD 線幅測定器
OL 重ね合わせ測定器
MAC マクロ欠陥検査器
CR1 第1のセンターロボット
CR2 第2のセンターロボット
CR3 第3のセンターロボット
CR4 第4のセンターロボット
CR5 第5のセンターロボット
CR6 第6のセンターロボット
CR7 第7のセンターロボット
EEW エッジ露光部
IR インデクサロボット
IFR インターフェース用搬送機構
W 基板
PASS1〜PASS16 基板載置部
DESCRIPTION OF
Claims (19)
基板に処理を行う処理部と、
前記処理部の一端部に隣接するように設けられ前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、
前記処理部は、
基板に感光性材料からなる感光性膜を形成する第1の処理ユニットと、
前記第1の処理ユニットによる前記感光性膜の形成後であって前記露光装置による露光処理前に基板に前記感光性膜を保護する保護膜を形成する第2の処理ユニットと、
前記第2の処理ユニットによる前記保護膜の形成後であって前記露光装置による露光処理前に前記保護膜の膜厚を測定する第1の検査ユニットとを含むことを特徴とする基板処理装置。 A substrate processing apparatus disposed adjacent to an exposure apparatus,
A processing unit for processing the substrate;
A transfer unit provided adjacent to one end of the processing unit for transferring a substrate between the processing unit and the exposure apparatus;
The processor is
A first processing unit for forming a photosensitive film made of a photosensitive material on a substrate;
A second processing unit for forming a protective film for protecting the photosensitive film on the substrate after the formation of the photosensitive film by the first processing unit and before the exposure processing by the exposure apparatus;
A substrate processing apparatus comprising: a first inspection unit that measures a thickness of the protective film after the formation of the protective film by the second processing unit and before the exposure processing by the exposure apparatus.
前記第1の処理ユニット、基板に熱処理を行う第1の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第1の搬送ユニットを含む第1の処理単位と、
前記第2の処理ユニット、基板に熱処理を行う第2の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第2の搬送ユニットを含む第2の処理単位と、
前記第1の検査ユニットおよび基板を搬送する検査用搬送ユニットを含む検査用処理単位とを備えることを特徴する請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理装置。 The processor is
A first processing unit including the first processing unit, a first heat processing unit for performing heat treatment on the substrate, and a first transport unit for transporting the substrate;
A second processing unit including the second processing unit, a second heat treatment unit for performing heat treatment on the substrate, and a second transport unit for transporting the substrate;
The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising an inspection processing unit including an inspection transport unit that transports the first inspection unit and the substrate.
前記第1の処理ユニット、基板に熱処理を行う第1の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第1の搬送ユニットを含む第1の処理単位と、
前記第2の処理ユニット、基板に熱処理を行う第2の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第2の搬送ユニットを含む第2の処理単位と、
前記第1の検査ユニットおよび基板を搬送する検査用搬送ユニットを含む検査用処理単位と、
前記第3の処理ユニット、基板に熱処理を行う第3の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第3の搬送ユニットを含む第3の処理単位とを備えることを特徴とする請求項5または6記載の基板処理装置。 The processor is
A first processing unit including the first processing unit, a first heat processing unit for performing heat treatment on the substrate, and a first transport unit for transporting the substrate;
A second processing unit including the second processing unit, a second heat treatment unit for performing heat treatment on the substrate, and a second transport unit for transporting the substrate;
An inspection processing unit including the first inspection unit and an inspection transport unit for transporting the substrate;
7. The substrate according to claim 5, further comprising: a third processing unit including a third processing unit, a third thermal processing unit that performs thermal processing on the substrate, and a third transport unit that transports the substrate. Processing equipment.
前記第1の処理ユニット、基板に熱処理を行う第1の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第1の搬送ユニットを含む第1の処理単位と、
前記第2の処理ユニット、基板に熱処理を行う第2の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第2の搬送ユニットを含む第2の処理単位と、
前記第1の検査ユニットおよび基板を搬送する検査用搬送ユニットを含む検査用処理単位と、
前記第4の処理ユニット、基板に熱処理を行う第4の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第4の搬送ユニットを含む第4の処理単位とを備えることを特徴とする請求項8記載の基板処理装置。 The processor is
A first processing unit including the first processing unit, a first heat processing unit for performing heat treatment on the substrate, and a first transport unit for transporting the substrate;
A second processing unit including the second processing unit, a second heat treatment unit for performing heat treatment on the substrate, and a second transport unit for transporting the substrate;
An inspection processing unit including the first inspection unit and an inspection transport unit for transporting the substrate;
9. The substrate processing apparatus according to claim 8, further comprising: a fourth processing unit including the fourth processing unit, a fourth thermal processing unit that performs thermal processing on the substrate, and a fourth transport unit that transports the substrate. .
前記第1の処理ユニット、基板に熱処理を行う第1の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第1の搬送ユニットを含む第1の処理単位と、
前記第2の処理ユニット、基板に熱処理を行う第2の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第2の搬送ユニットを含む第2の処理単位と、
前記第1の検査ユニットおよび基板を搬送する検査用搬送ユニットを含む検査用処理単位と、
前記第4の処理ユニット、基板に熱処理を行う第4の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第4の搬送ユニットを含む第4の処理単位と、
前記第5の処理ユニットおよび基板を搬送する第5の搬送ユニットを含む第5の処理単位とを備えることを特徴とする請求項10記載の基板処理装置。 The processor is
A first processing unit including the first processing unit, a first heat processing unit for performing heat treatment on the substrate, and a first transport unit for transporting the substrate;
A second processing unit including the second processing unit, a second heat treatment unit for performing heat treatment on the substrate, and a second transport unit for transporting the substrate;
An inspection processing unit including the first inspection unit and an inspection transport unit for transporting the substrate;
A fourth processing unit including the fourth processing unit, a fourth heat treatment unit for performing heat treatment on the substrate, and a fourth transport unit for transporting the substrate;
The substrate processing apparatus according to claim 10, further comprising a fifth processing unit including the fifth processing unit and a fifth transport unit that transports the substrate.
前記感光性膜の膜質の測定を行う第2の検査ユニット、前記第4の処理ユニットにおいて形成された基板上のパターンの線幅の測定を行う第3の検査ユニット、前記パターンの重ね合わせの測定を行う第4の検査ユニットおよび基板上の欠陥の検査を行う第5の検査ユニットのうち少なくとも一つをさらに含むことを特徴とする請求項9、11または12記載の基板処理装置。 The inspection processing unit is:
A second inspection unit for measuring the film quality of the photosensitive film; a third inspection unit for measuring a line width of a pattern formed on the substrate formed in the fourth processing unit; The substrate processing apparatus according to claim 9, 11 or 12, further comprising at least one of a fourth inspection unit for performing inspection and a fifth inspection unit for inspecting a defect on the substrate.
基板に所定の処理を行う第6の処理ユニットと、
基板が一時的に載置される載置部と、
前記処理部、前記第6の処理ユニットおよび前記載置部の間で基板を搬送する第6の搬送ユニットと、
前記載置部および前記露光装置の間で基板を搬送する第7の搬送ユニットとを含むことを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載の基板処理装置。 The delivery unit is
A sixth processing unit for performing predetermined processing on the substrate;
A placement unit on which the substrate is temporarily placed;
A sixth transport unit for transporting a substrate between the processing unit, the sixth processing unit, and the placement unit;
The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising a seventh transport unit that transports the substrate between the placement unit and the exposure apparatus.
前記第6の搬送ユニットは、
前記露光装置による露光処理前の基板を搬送する際には前記第1の保持手段により基板を保持し、
前記露光装置による露光処理後の基板を搬送する際には前記第2の保持手段により基板を保持し、
前記第7の搬送ユニットは、基板を保持する第3および第4の保持手段を含み、
前記第7の搬送ユニットは、
前記露光装置による露光処理前の基板を搬送する際には前記第3の保持手段により基板を保持し、
前記露光装置による露光処理後の基板を搬送する際には前記第4の保持手段により基板を保持することを特徴とする請求項14記載の基板処理装置。 The sixth transport unit includes first and second holding means for holding a substrate,
The sixth transport unit is
When transporting the substrate before the exposure processing by the exposure apparatus, the substrate is held by the first holding means,
When transporting the substrate after the exposure processing by the exposure apparatus, the substrate is held by the second holding means,
The seventh transport unit includes third and fourth holding means for holding the substrate,
The seventh transport unit is
When transporting the substrate before the exposure processing by the exposure apparatus, the substrate is held by the third holding means,
The substrate processing apparatus according to claim 14, wherein the substrate is held by the fourth holding unit when the substrate after the exposure processing by the exposure apparatus is transported.
前記露光装置による露光処理前に前記第1の処理ユニットにより基板に感光性材料からなる感光性膜を形成する工程と、
前記第1の処理ユニットによる感光性膜の形成後であって前記露光装置による露光処理前に前記第2の処理ユニットにより基板に前記感光性膜を保護する保護膜を形成する工程と、
前記第2の処理ユニットによる前記保護膜の形成後であって前記露光装置による露光処理前に前記第1の検査ユニットにより前記感光性膜の膜厚を測定する工程とを備えたことを特徴とする基板処理方法。 A method of processing a substrate in a substrate processing apparatus that is disposed adjacent to an exposure apparatus and includes a first processing unit, a second processing unit, and a first inspection unit,
Forming a photosensitive film made of a photosensitive material on a substrate by the first processing unit before the exposure processing by the exposure apparatus;
Forming a protective film for protecting the photosensitive film on the substrate by the second processing unit after the formation of the photosensitive film by the first processing unit and before the exposure processing by the exposure apparatus;
And a step of measuring the film thickness of the photosensitive film by the first inspection unit after the formation of the protective film by the second processing unit and before the exposure processing by the exposure apparatus. Substrate processing method.
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