JP2005228493A - Organic el display device, organic el display panel substrate and manufacturing method for organic el display device - Google Patents

Organic el display device, organic el display panel substrate and manufacturing method for organic el display device Download PDF

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Satoshi Takato
聡 高藤
Seiji Kojima
誠司 小嶋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL display device allowing easy recognition of the application amount of a sealing material and free from a sealing failure. <P>SOLUTION: The organic EL display device of the present invention comprises: an element substrate 10 provided with an organic EL element; a counter substrate 20 opposed to the element substrate 10; a sealing material 23 formed between the element substrate 10 and the counter substrate 20 such that it surrounds a display region made up of the organic EL element; and an indicator formed for checking the sealing condition on a surface of the element substrate 10 or the counter substrate 20 to which the sealing material is bonded. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は有機EL(Electro Luminescence)表示装置、有機EL表示パネル基板及び有機EL表示装置の製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL (Electro Luminescence) display device, an organic EL display panel substrate, and an organic EL display device manufacturing method.

近年、FPD(Flat Panel Display)として有機EL(ElectroLuminescence)ディスプレイが注目されている。有機ELディスプレイは、液晶表示装置と比較して視野角が広く、また、応答速度も速く、有機物が有する発光性の多様性から、次世代の表示装置として期待されている。   In recent years, organic EL (Electro Luminescence) displays have attracted attention as FPD (Flat Panel Display). An organic EL display has a wider viewing angle than liquid crystal display devices, has a high response speed, and is expected as a next-generation display device because of the variety of light-emitting properties of organic substances.

有機EL素子の封止には、例えば、エポキシ系紫外線(UV)硬化性樹脂のシール材が用いられる。対向基板の捕水材を設けた面に、有機EL素子と対向する領域の外周を描くようにディスペンサを用いてシール材を塗布し、二枚の基板を貼り合わせた後、紫外線を照射してシール材を硬化させる。   For sealing the organic EL element, for example, an epoxy ultraviolet (UV) curable resin sealing material is used. Apply a sealant using a dispenser to draw the outer periphery of the area facing the organic EL element on the surface of the counter substrate where the water catching material is provided, and bond the two substrates together, and then irradiate with ultraviolet rays. Cure the sealing material.

この封止不良を防止するために、素子基板または対向基板に貫通孔を設け、貼り合わせた後、貫通孔を別のシール材により塞ぐ方法や、所定の圧力に減圧した状態で、二枚の基板を貼り合わせる方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。   In order to prevent this sealing failure, a through hole is provided in the element substrate or the counter substrate, and after bonding, the two holes are sealed with another sealing material, or in a state where the pressure is reduced to a predetermined pressure. A method of bonding substrates is known (see, for example, Patent Document 1).

また、開口(脱気口)を有するようにシール材を塗布し、貼り合わせた際に、シール材が押しつぶされ、開口を塞ぐ方法も知られている(例えば、特許文献2参照)。しかしながら、この方法では、シール材の塗布量が少ないと、基板のギャップを所定の値となるように貼り合わせても、開口が塞がらずに素子が外気と触れてしまったり、シール材の塗布量が多いと、基板のギャップが所定の値になる前に、開口が塞がってしまうため、前述と同様に、シールパンクがおき、素子が外気と触れてしまう。したがって、シール材を適切な塗布量で塗布する必要があるが、従来は、シール材の適切な塗布量を予め把握することが困難であり、素子の封止不良が発生しやすいという問題があった。   In addition, there is also known a method in which when a sealing material is applied so as to have an opening (a deaeration port) and bonded, the sealing material is crushed to close the opening (see, for example, Patent Document 2). However, with this method, if the amount of the sealing material applied is small, even if the gaps of the substrates are bonded to a predetermined value, the opening may not be blocked and the element may come into contact with the outside air. If there is a large amount, the opening is closed before the gap of the substrate reaches a predetermined value. Thus, as described above, a seal puncture occurs and the element comes into contact with the outside air. Therefore, it is necessary to apply the sealing material in an appropriate application amount. However, conventionally, it has been difficult to grasp the appropriate application amount of the sealing material in advance, and there has been a problem that a sealing failure of the element is likely to occur. It was.

さらに、シール材を対向基板の凸型の土手の上に塗布する場合には、素子を封止した後では、シール材が土手の両側に漏れてしまい、シール材の塗布量を正確に測定することができないという問題もあった。   Furthermore, when the sealing material is applied on the convex bank of the counter substrate, after sealing the element, the sealing material leaks to both sides of the bank, and the amount of the sealing material applied is accurately measured. There was also a problem that they could not.

特開2000−36384号公報JP 2000-36384 A 特開2002−25764号公報JP 2002-25764 A

このように、従来の有機EL表示装置の製造方法では、シール材の適切な塗布量を予め把握するのが困難であり、素子の封止不良が発生しやすいという問題点があった。さらに、素子を封止した後に、シール材の塗布量を正確に測定することができないという問題もあった。   As described above, the conventional method for manufacturing an organic EL display device has a problem that it is difficult to grasp in advance an appropriate coating amount of the sealing material, and a sealing failure of the element is likely to occur. Furthermore, there is also a problem that the amount of the sealing material applied cannot be accurately measured after sealing the element.

本発明は、このような問題点を解決するためになされたもので、本発明の一つの目的は、シール材の適切な塗布量を予め把握し、封止不良を防止することである。本発明の他の目的は、素子を封止した後に、シール材の塗布量を簡易な構成で正確に測定することである。   The present invention has been made to solve such problems, and one object of the present invention is to grasp in advance an appropriate application amount of the sealing material and prevent a sealing failure. Another object of the present invention is to accurately measure the application amount of the sealing material with a simple configuration after sealing the element.

本発明に係る有機EL表示装置は、有機EL素子を備える素子基板と、前記素子基板と対向する対向基板と、前記有機EL素子を含む表示領域を囲むように形成された封止用シール材と、前記素子基板及び/又は前記対向基板における前記封止用シール材の接着面に形成された目印と、が備えられたものである。これによって、シール材の状態を測定することができる。前記目印は、前記素子基板と前記対向基板とのギャップを測定する目印であることができる。   An organic EL display device according to the present invention includes an element substrate provided with an organic EL element, a counter substrate facing the element substrate, and a sealing material formed so as to surround a display region including the organic EL element. And a mark formed on the bonding surface of the sealing material on the element substrate and / or the counter substrate. Thereby, the state of the sealing material can be measured. The mark may be a mark for measuring a gap between the element substrate and the counter substrate.

前記素子基板及び前記対向基板のいずれか一方は、前記表示領域を囲むように形成された凸部を備え、前記封止用シール材は、前記凸部の上面と前記凸部に対向する対向部との間に形成され、前記目印は前記対向部に形成されていることが好ましい。これによって、ギャップを効果的に測定することができる。前記目印は、十字型の目印であってもよい。   Either one of the element substrate and the counter substrate includes a convex portion formed so as to surround the display area, and the sealing material is an opposing portion facing the top surface of the convex portion and the convex portion. It is preferable that the mark is formed on the facing portion. Thereby, the gap can be measured effectively. The mark may be a cross-shaped mark.

本発明に係る有機EL表示装置は、有機EL素子を備える素子基板と、前記素子基板と対向する対向基板と、前記素子基板と前記対向基板との間に形成されたシール材と、前記素子基板における前記シール材と重なる位置に形成された前記シール材の幅を測定する目盛りと、が備えられたものである。これによって、シール材の幅を容易に測定することができる。   An organic EL display device according to the present invention includes an element substrate including an organic EL element, a counter substrate facing the element substrate, a sealing material formed between the element substrate and the counter substrate, and the element substrate. And a scale for measuring the width of the sealing material formed at a position overlapping the sealing material. Thereby, the width of the sealing material can be easily measured.

前記有機EL表示パネル基板は、前記有機EL素子を含む表示領域を囲むように形成された封止用シール材と、前記封止用シール材とは別に前記表示領域の外側に形成された測定用シール材とを備え、前記目盛りは、前記測定用シール材の接着面に形成されている、ことが好ましい。あるいは、前記有機EL表示パネル基板は、前記有機EL素子からなる複数の表示領域と、前記複数の表示領域のそれぞれを囲むように形成された封止用シール材と、前記封止用シール材は別に、前記複数の表示領域の外側に形成された測定用シール材とを備え、前記目盛りは、前記測定用シール材の接着面に形成されていることが好ましい。これによって、シール材の幅を効果的に測定することができる。   The organic EL display panel substrate includes a sealing material formed so as to surround the display region including the organic EL element, and a measurement material formed outside the display region separately from the sealing material. It is preferable that the scale is formed on an adhesive surface of the measurement sealing material. Alternatively, the organic EL display panel substrate includes a plurality of display regions made of the organic EL elements, a sealing material formed so as to surround each of the plurality of display regions, and the sealing material used for sealing. In addition, it is preferable that the measurement sealing material is formed outside the plurality of display regions, and the scale is formed on an adhesive surface of the measurement sealing material. Thereby, the width | variety of a sealing material can be measured effectively.

前記素子基板又は前記対向基板における前記封止用シール材の接着面に形成された目印をさらに備えることが好ましい。これによって、シール材の状態をより正確に測定することができる。あるいは、前記素子基板は、前記有機EL素子に信号を供給する補助配線をさらに有し、前記目印は、前記補助配線と同じ部材であることが好ましい。これによって、製造効率を向上することができる。   It is preferable to further include a mark formed on the bonding surface of the sealing material in the element substrate or the counter substrate. As a result, the state of the sealing material can be measured more accurately. Alternatively, the element substrate further includes an auxiliary wiring for supplying a signal to the organic EL element, and the mark is preferably the same member as the auxiliary wiring. Thereby, manufacturing efficiency can be improved.

本発明に係る、有機EL素子を備える素子基板と前記素子基板と対向する対向基板からなる一対の基板を備える有機EL表示装置の製造方法は、前記素子基板と前記対向基板との間にシール材を形成するステップと、前記素子基板又は前記対向基板における前記シール材の接着面に形成された目印を検出するステップと、前記目印と対向する基板の面を検出するステップと、前記検出された目印と前記対向面との間のギャップを決定するステップと、を有する。これによって、ギャップ測定を容易に行うことができる。   According to the present invention, there is provided a method for manufacturing an organic EL display device including an element substrate including an organic EL element and a pair of substrates opposed to the element substrate, the sealing material between the element substrate and the counter substrate. A step of detecting a mark formed on an adhesive surface of the sealing material on the element substrate or the counter substrate, a step of detecting a surface of the substrate facing the mark, and the detected mark And determining a gap between the opposing surface. Thereby, the gap measurement can be easily performed.

本発明に係る、有機EL素子を備える素子基板と前記素子基板と対向する対向基板からなる一対の基板を備える有機EL表示装置の製造方法は、前記素子基板もしくは前記対向基板に目盛りを形成するステップと、前記素子基板と前記対向基板との間にシール材を形成するステップと、前記シール材重なる位置に形成された前記スケールを検出するステップと、前記検出された目盛りによって前記シール材の幅を決定するステップと、を有する。これによってシール幅測定を容易に行うことができる。   According to the present invention, a method of manufacturing an organic EL display device including a pair of substrates including an element substrate including an organic EL element and a counter substrate facing the element substrate includes the step of forming a scale on the element substrate or the counter substrate. A step of forming a sealing material between the element substrate and the counter substrate, a step of detecting the scale formed at the position where the sealing material overlaps, and a width of the sealing material by the detected scale. Determining. As a result, the seal width can be easily measured.

前記素子基板又は前記対向基板における前記シール材の接着面に形成された目印を検出するステップと、前記目印と対向する基板の面を検出するステップと、前記検出された目印と前記対向面との間のギャップを決定するステップと、をさらに有することが好ましい。これによって、シールの状態をより正確に測定することができる。   A step of detecting a mark formed on an adhesive surface of the sealing material on the element substrate or the counter substrate; a step of detecting a surface of the substrate facing the mark; and the detected mark and the counter surface Preferably further comprising the step of determining a gap therebetween. Thereby, the state of the seal can be measured more accurately.

本発明に係る、有機EL素子を備える素子基板と、前記素子基板と対向する対向基板とを備えた有機EL表示装置の製造方法は、前記有機EL素子を含む表示領域の周辺であって、前記素子基板及び/又は前記対向基板の面上に、シール材を塗布する第1のステップと、前記素子基板と前記対向基板とを前記シール材を介して、重ねあわせる第2のステップと、前記素子基板と前記対向基板とが所定のギャップを形成した後に前記シール材を硬化させる第3のステップとを、備え、前記第2のステップにおいて、前記シール材に開口部をあらかじめ設け、前記素子基板と前記対向基板間への圧力の印加を終了した時点で、前記シール材の広がりによって、前記開口部が塞がるようにするものである。これによって、シール材の開口を効果的に塞ぐことができる。
前記素子基板又は前記対向基板の基板面に略平行な面に、目盛りをあらかじめ設け、第2のステップにおいて、シール材の広がりの度合いを前記目盛りで測定し、その測定値又は測定値に基づいて計算した結果によって、前記素子基板と前記対向基板間への圧力の印加を終了する、ことが好ましい。これによって、シール材の開口をより正確に塞ぐことができる。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic EL display device including an element substrate including an organic EL element and a counter substrate facing the element substrate, the display area including the organic EL element being a periphery of the display area, A first step of applying a sealing material on the surface of the element substrate and / or the counter substrate; a second step of overlapping the element substrate and the counter substrate via the sealing material; and the element A third step of curing the sealing material after forming a predetermined gap between the substrate and the counter substrate, and in the second step, an opening is provided in the sealing material in advance, and the element substrate and When the application of pressure between the opposing substrates is finished, the opening is closed by the spread of the sealing material. Thereby, the opening of the sealing material can be effectively blocked.
A scale is provided in advance on a surface substantially parallel to the substrate surface of the element substrate or the counter substrate, and in the second step, the degree of spread of the sealing material is measured with the scale, and based on the measured value or the measured value It is preferable to finish applying the pressure between the element substrate and the counter substrate according to the calculated result. Thereby, the opening of the sealing material can be closed more accurately.

本発明によれば、シール材の塗布量を容易に認識し、封止不良のない有機EL表示装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the application quantity of a sealing material can be recognized easily and an organic electroluminescent display device without a sealing defect can be provided.

以下に、本発明を適用できる実施の形態の説明を行う。以下の説明により、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。説明の明確化のため、以下の記載及び図面は、適宜、省略をしている。又、当業者であれば、以下の実施形態の各要素を、本発明の範囲において容易に変更、追加、変換することができる。なお、各図において同一の符号を付されたものは同様の要素を示しており、適宜、説明を省略する。   Hereinafter, embodiments to which the present invention can be applied will be described. By the following description, this invention is not limited to the following embodiment. In order to clarify the explanation, the following description and drawings are omitted as appropriate. Further, those skilled in the art can easily change, add, and convert each element of the following embodiments within the scope of the present invention. In addition, what attached | subjected the same code | symbol in each figure has shown the same element, and abbreviate | omits description suitably.

本実施形態にかかる有機EL表示装置は、画素となる有機EL素子を複数配置した有機EL表示パネルを備えている。また、有機EL表示パネルは通常、有機EL素子が形成された素子基板と有機EL素子を封止するため素子基板と対向配置された対向基板とを備えている。   The organic EL display device according to this embodiment includes an organic EL display panel in which a plurality of organic EL elements serving as pixels are arranged. In addition, the organic EL display panel usually includes an element substrate on which an organic EL element is formed and a counter substrate disposed opposite to the element substrate for sealing the organic EL element.

図1を用いて、本実施形態にかかる有機EL素子の封止方法について説明する。図1は、素子基板と対向基板を貼り合わせる前と後の有機EL表示パネルを模式的に示している。図1(a−1)は、基板を貼り合わせる前の有機EL表示パネルの側面図である。図1(a−2)は、図1(a−1)における対向基板の平面図である。図1(b−1)は、基板を貼り合わせた後の有機EL表示パネルの側面図である。図1(b−2)は、図1(b−1)における対向基板の平面図である。図1において、10は素子基板、20は対向基板、21は捕水材収納部、23は封止用シール材、23aは脱気口、40はステージである。   The organic EL element sealing method according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 schematically shows an organic EL display panel before and after bonding an element substrate and a counter substrate. FIG. 1A-1 is a side view of the organic EL display panel before the substrates are bonded together. FIG. 1A-2 is a plan view of the counter substrate in FIG. FIG. 1B-1 is a side view of the organic EL display panel after the substrates are bonded together. FIG. 1B-2 is a plan view of the counter substrate in FIG. In FIG. 1, 10 is an element substrate, 20 is a counter substrate, 21 is a water catching material storage section, 23 is a sealing material for sealing, 23a is a deaeration port, and 40 is a stage.

まず、図1(a−2)に示すように、対向基板20の素子基板10と対向する面に、封止用シール材23を塗布する。封止用シール材23は、ディスペンサを図の矢印のように移動し、所定の幅で塗布する。対向基板20には、対向する素子基板10の表示領域を囲むように、後述する土手が設けられており、封止用シール材23は、この土手の上を脱気口23aを有するように塗布される。また、対向基板20は、貼り合わせる前に、捕水材収納部21に捕水材が設けられている。   First, as illustrated in FIG. 1A-2, a sealing material 23 is applied to the surface of the counter substrate 20 that faces the element substrate 10. The sealing material 23 for sealing is applied with a predetermined width by moving the dispenser as shown by the arrows in the figure. The counter substrate 20 is provided with a bank which will be described later so as to surround the display area of the opposing element substrate 10, and the sealing material 23 for sealing is applied so as to have a deaeration port 23 a on the bank. Is done. In addition, the counter substrate 20 is provided with a water capturing material in the water capturing material storage portion 21 before being bonded together.

図1(a−1)に示すように、ステージ40上に素子基板10を載せ、素子基板10と対向する位置に対向基板20の位置を合わせ配置する。また、素子基板10上には、貼り合わせる前に、陽極、有機EL層及び陰極等が形成されている。   As shown in FIG. 1A-1, the element substrate 10 is placed on the stage 40, and the position of the counter substrate 20 is aligned with the position facing the element substrate 10. In addition, an anode, an organic EL layer, a cathode, and the like are formed on the element substrate 10 before bonding.

図1(b−1)に示すように、窒素雰囲気中で、ステージ40の下方から押圧し、素子基板10と対向基板20を貼り合わせる。これによって、有機EL表示パネル基板が形成される。素子基板10と対向基板20は、所定のギャップとなるまで圧着されると、圧力により封止用シール材23の幅が広がる。そして、図1(b−2)に示すように、窒素ガスが脱気口より外へ押し出されながら脱気口23aが塞がり、封止用シール材23に囲われた部分が外気と遮断される。この状態で、封止用シール材23にUVを照射し硬化させ、封止が完了する。   As shown in FIG. 1B-1, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together by pressing from below the stage 40 in a nitrogen atmosphere. Thereby, an organic EL display panel substrate is formed. When the element substrate 10 and the counter substrate 20 are pressure-bonded to a predetermined gap, the width of the sealing material 23 for sealing is expanded by pressure. Then, as shown in FIG. 1B-2, the deaeration port 23a is closed while nitrogen gas is pushed out from the deaeration port, and the portion surrounded by the sealing material 23 for sealing is shut off from the outside air. . In this state, the sealing material 23 for sealing is irradiated with UV to be cured, and sealing is completed.

図2は、図1の方法で貼り合わせた状態を示す説明図である。図2(a−1)は、基板を貼り合わせる前の有機EL表示パネルにおける土手25のある部分の断面図である。図2(a−2)は、図2(a−1)の基板を貼り合わせた場合の断面図である。図2(b−1)は、基板を貼り合わせる前の有機EL表示パネルにおける土手25のない部分の断面図である。図2(b−2)は、図2(b−1)の基板を貼り合わせた場合の断面図である。   FIG. 2 is an explanatory view showing a state of being bonded by the method of FIG. FIG. 2A-1 is a cross-sectional view of a portion with the bank 25 in the organic EL display panel before the substrates are bonded together. FIG. 2A-2 is a cross-sectional view when the substrates of FIG. FIG. 2B-1 is a cross-sectional view of a portion without the bank 25 in the organic EL display panel before the substrates are bonded together. FIG. 2B-2 is a cross-sectional view when the substrates of FIG. 2B-1 are bonded together.

土手25は、素子基板10と対向基板20のギャップを確保するために、素子基板10の表示領域を囲むように形成されるものであり、有機EL表示パネルを形成しない部分には、土手25は形成されない。なお、土手25は、素子基板10に形成されていてもよいし、対向基板20に形成されてもよい。土手25は、例えば、エッチング等により捕水材収納部21とともに形成される。   The bank 25 is formed so as to surround the display area of the element substrate 10 in order to secure a gap between the element substrate 10 and the counter substrate 20. The bank 25 is formed in a portion where the organic EL display panel is not formed. Not formed. The bank 25 may be formed on the element substrate 10 or may be formed on the counter substrate 20. The bank 25 is formed together with the water catching material storage part 21 by etching or the like, for example.

図2(a−1)に示すように、対向基板20には、素子基板10の表示領域を囲むように凸型の土手25が形成され、土手25の内部が捕水材収納部21となる。この土手25の上に封止用シール材23が塗布される。封止用シール材23を塗布すると、その断面は半円形状となる。そして、基板を貼り合わせると、図2(a−2)に示すように、素子基板10の対向基板20と対向する面によって封止用シール材23が押しつぶされ、押しつぶされたシール材が土手25の両側面に漏れる。本実施形態では、この状態の基板のギャップを容易に測定するために、素子基板10の対向基板20と対向する面における、封止用シール材23の接着する部分に、後述するギャップ測定目印14(図4(a)参照)を設ける。   As shown in FIG. 2A-1, a convex bank 25 is formed on the counter substrate 20 so as to surround the display area of the element substrate 10, and the inside of the bank 25 becomes the water catching material storage unit 21. . A sealing material 23 for sealing is applied on the bank 25. When the sealing material 23 for sealing is applied, the cross section becomes a semicircular shape. Then, when the substrates are bonded together, as shown in FIG. 2A-2, the sealing seal material 23 is crushed by the surface of the element substrate 10 facing the counter substrate 20, and the crushed seal material is the bank 25. Leaks on both sides. In the present embodiment, in order to easily measure the gap of the substrate in this state, a gap measurement mark 14 to be described later is attached to a portion of the element substrate 10 facing the counter substrate 20 where the sealing material 23 for sealing is bonded. (See FIG. 4A).

また、このようにシール材が土手25の両側面に漏れた状態では、シール材の広がる幅を容易に測定するのが困難なため、シール材の塗布量を把握することができない。このため、図2(b−1)に示すように、対向基板20の面における土手25のない平坦な部分に、封止用シール材23を塗布する。そして、図2(b−2)に示すように、基板を貼り合わせると、封止用シール材23が押しつぶされ、押しつぶされた分のシール材が封止用シール材23の幅方向へ広がる。この状態では、シール材が漏れないため、封止用シール材23の幅の広がりを測ることができる。   In addition, when the sealing material leaks to both side surfaces of the bank 25 in this way, it is difficult to easily measure the width of the sealing material, so it is impossible to grasp the amount of the sealing material applied. For this reason, as shown in FIG. 2B-1, the sealing material 23 for sealing is applied to a flat portion without the bank 25 on the surface of the counter substrate 20. Then, as shown in FIG. 2B-2, when the substrates are bonded together, the sealing material 23 for sealing is crushed, and the crushed sealing material spreads in the width direction of the sealing material 23 for sealing. In this state, since the sealing material does not leak, the expansion of the width of the sealing material 23 for sealing can be measured.

本実施形態では、この状態の封止用シール材23のシール幅を容易に測定するために、素子基板10の対向基板20と対向する面における、封止用シール材23の接着する部分に、後述するシール幅測定目盛り15(図4(b)参照)を設ける。素子の封止後の状態において、基板のギャップとシール幅を測定することにより、封止用シール材23の断面積を算出することができる。   In the present embodiment, in order to easily measure the seal width of the sealing material 23 for sealing in this state, a portion of the element substrate 10 facing the counter substrate 20 is bonded to a portion where the sealing material 23 for sealing is bonded. A seal width measurement scale 15 (see FIG. 4B) described later is provided. The cross-sectional area of the sealing material 23 for sealing can be calculated by measuring the gap and the seal width of the substrate in the state after the element is sealed.

また、封止を行う前に予め封止用シール材23を塗布したときの断面積を測定しておくことにより、貼り合わせたときの封止用シール材23の幅の広がりを予測することもできる。封止用シール材23の断面積と、基板のギャップから、そのギャップにおける封止用シール材23の幅の広がりを算出し、この広がりを脱気口23aの幅とすることにより、脱気口23aを適切に塞ぐことができる。   In addition, by measuring the cross-sectional area when the sealing material 23 for sealing is applied in advance before sealing, it is possible to predict the expansion of the width of the sealing material 23 when bonded. it can. From the cross-sectional area of the sealing material 23 for sealing and the gap of the substrate, the expansion of the width of the sealing material 23 for sealing in the gap is calculated, and this expansion is used as the width of the deaeration port 23a. 23a can be properly blocked.

図3を用いて、本実施形態にかかる素子基板の構成について説明する。図3は、素子基板10の有機EL素子等が形成される面の平面図である。図において、11は、表示領域、12は補助配線、13は検査用表示領域、14はギャップ測定目盛り15はシール幅測定マークである。   The configuration of the element substrate according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a plan view of the surface of the element substrate 10 on which the organic EL elements and the like are formed. In the figure, 11 is a display area, 12 is an auxiliary wiring, 13 is a display area for inspection, 14 is a gap measurement scale 15 and a seal width measurement mark.

図3は、貼り合わせる前の状態における、素子基板10を示している。例えば、素子基板10は、オリフラを有する直径約150mmのガラス基板である。素子基板10には6個の表示領域11と4個の検査用表示領域を設けている。表示領域11の大きさは50mm×25mm、検査用表示領域13の大きさは15mm×10mmである。素子基板10は、対向基板20を貼り合わせて封止した後、有機EL表示パネル基板は切断され、6個の有機EL表示パネルと4個の検査用パネルとなる。検査用パネルは、素子特性を測定するためのものである。なお、素子基板10の形状やサイズ、表示領域の形状やサイズ等の値は、製造される有機EL表示パネルに応じて任意の値とすることができる。   FIG. 3 shows the element substrate 10 in a state before bonding. For example, the element substrate 10 is a glass substrate having an orientation flat and a diameter of about 150 mm. The element substrate 10 is provided with six display areas 11 and four inspection display areas. The display area 11 has a size of 50 mm × 25 mm, and the inspection display area 13 has a size of 15 mm × 10 mm. After the element substrate 10 is bonded and sealed with the counter substrate 20, the organic EL display panel substrate is cut into six organic EL display panels and four inspection panels. The inspection panel is for measuring element characteristics. It should be noted that values such as the shape and size of the element substrate 10 and the shape and size of the display region can be set arbitrarily according to the organic EL display panel to be manufactured.

また、表示領域11には、陽極、有機EL層及び陰極等が形成されており、陽極及び陰極は補助配線12と接続されている。有機EL層は、例えば、ホール注入輸送層、発光層、電子注入輸送層が積層されている。この陽極と陰極を介して有機EL層に電流が供給されると、有機EL層の発光層が自発光する。   In the display region 11, an anode, an organic EL layer, a cathode, and the like are formed. The anode and the cathode are connected to the auxiliary wiring 12. In the organic EL layer, for example, a hole injecting and transporting layer, a light emitting layer, and an electron injecting and transporting layer are stacked. When a current is supplied to the organic EL layer through the anode and the cathode, the light emitting layer of the organic EL layer emits light.

図の破線は、対向基板20を貼り合わせたときに、対向基板20に塗布された封止用シール材23が接着する部分である。表示領域11及び検査用表示領域13の周辺と、有機EL表示パネルが形成されないシール幅測定目盛り15の形成された部分が、接着部分となる。   The broken line in the figure is a portion to which the sealing material 23 for sealing applied to the counter substrate 20 adheres when the counter substrate 20 is bonded. The periphery of the display area 11 and the display area for inspection 13 and the portion where the seal width measurement scale 15 where the organic EL display panel is not formed are bonded portions.

ギャップ測定目印14は、表示領域11周辺の封止用シール材23が接着する部分に2つ設けられている。図4(a)にギャップ測定目印14の一例を示す。ギャップ測定目印14は、例えば、2mmの大きさの十字型に形成されており、補助配線12と同様に金属材料を成膜して形成されている。ギャップ測定目印14により顕微鏡を用いて、封止された基板間のギャップを測定できる。ギャップの測定は、まず、顕微鏡の焦点をこのギャップ測定目印14の中心に合わせ、そこから、対向基板20の土手の上面へと焦点を移動し、この焦点の移動量により基板間のギャップを測定することができる。   Two gap measurement marks 14 are provided in a portion where the sealing material 23 for sealing around the display area 11 is bonded. FIG. 4A shows an example of the gap measurement mark 14. The gap measurement mark 14 is formed in a cross shape having a size of 2 mm, for example, and is formed by forming a metal material in the same manner as the auxiliary wiring 12. The gap between the sealed substrates can be measured using the microscope with the gap measurement mark 14. In measuring the gap, first, the focus of the microscope is set to the center of the gap measurement mark 14, and then the focus is moved to the upper surface of the bank of the counter substrate 20, and the gap between the substrates is measured by the movement amount of the focus. can do.

このように、ギャップ測定目印14により、マイクロメータを用いなくても、基板間のギャップを容易に測定することができる。なお、ギャップ測定目印14は、顕微鏡の焦点があわせることができれば、十字型に限らず、その他の形状でもよい。ギャップ測定目印14は、表示領域11周辺の2つに限らず、任意の数設けてもよく、さらに、表示領域11周辺以外の封止用シール材23と接着する面に形成されていればよい。例えば、検査用表示領域13の周辺に設けてもよい。   As described above, the gap measurement mark 14 can easily measure the gap between the substrates without using a micrometer. The gap measurement mark 14 is not limited to the cross shape, but may be other shapes as long as the focus of the microscope can be adjusted. The number of gap measurement marks 14 is not limited to two around the display area 11, and any number may be provided, and it is only necessary that the gap measurement mark 14 be formed on a surface that adheres to the sealing material 23 other than the periphery of the display area 11. . For example, it may be provided around the display area 13 for inspection.

シール幅測定目盛り15は、シール材の幅方向に、所定の間隔で形成されたスケールであり、シール材と重なる位置に形成される。図4(b)にシール幅測定目盛り15の一例を示す。シール幅測定目盛り15は、例えば、9mmのスケールであり、このスケールの中央にシール材が直行して重なり、シール材の幅を測定する。シール幅測定目盛り15のスケールの間隔は、例えば、0.1mmである。シール幅測定目盛り15は、ここでは、表示領域以外の領域に4つ形成されている。シール幅測定目盛り15は、ギャップ測定目印14と同様に、金属材料を成膜して形成されている。シール幅測定目盛り15の目盛りを直接目で測ることにより、封止された状態でシール幅を測定できる。このように、シール幅測定目盛り15により、メジャーをあてなくてもシールの幅を測定することができる。また、製品として製造される表示パネルとは別に、シール幅測定目盛り15の形成された領域の基板を保存しておくことができる。なお、シール幅測定目盛り15は、表示領域以外の領域の4つに限らず、任意の数設けてもよい。   The seal width measurement scale 15 is a scale formed at a predetermined interval in the width direction of the seal material, and is formed at a position overlapping the seal material. FIG. 4B shows an example of the seal width measurement scale 15. The seal width measurement scale 15 is, for example, a scale of 9 mm, and the seal material is perpendicularly overlapped with the center of the scale to measure the width of the seal material. The scale interval of the seal width measurement scale 15 is, for example, 0.1 mm. Here, four seal width measurement scales 15 are formed in a region other than the display region. As with the gap measurement mark 14, the seal width measurement scale 15 is formed by depositing a metal material. By directly measuring the scale of the seal width measurement scale 15 with the scale, the seal width can be measured in a sealed state. In this way, the seal width measurement scale 15 can measure the width of the seal without applying a measure. In addition to the display panel manufactured as a product, the substrate in the region where the seal width measurement scale 15 is formed can be stored. The seal width measurement scale 15 is not limited to four areas other than the display area, and an arbitrary number may be provided.

図5を用いて、本実施形態にかかる対向基板の構成について説明する。図5は、対向基板20のシール材が塗布される面の平面図である。この対向基板20は、図3に示した素子基板10と貼り合わせ、素子を封止する基板である。対向基板20は、素子基板10の表示領域11及び検査用表示領域13と対向する領域に捕水材収納部21となるように凹部を掘り込んで形成している。シール材が塗布される場所は掘り込まず凸型の土手25が形成されている。例えば、土手25の幅は、図中の(a)のように2.0mmや、図中の(b)のように1.4mmであり、土手25の高さは、0.5mmである。図の破線は、封止用シール材23を塗布する部分である。   The configuration of the counter substrate according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a plan view of the surface of the counter substrate 20 to which the sealing material is applied. The counter substrate 20 is a substrate that is bonded to the element substrate 10 shown in FIG. 3 and seals the element. The counter substrate 20 is formed by digging a recess in a region facing the display region 11 and the inspection display region 13 of the element substrate 10 so as to become the water catching material storage unit 21. A convex bank 25 is formed without digging in the place where the sealing material is applied. For example, the width of the bank 25 is 2.0 mm as shown in (a) in the figure and 1.4 mm as shown in (b) in the figure, and the height of the bank 25 is 0.5 mm. The broken line in the figure is a portion where the sealing material 23 for sealing is applied.

封止用シール材23を塗布する部分は、土手25の上と、素子基板10のシール幅測定目盛り15と対向する部分である。本実施形態では、土手25の上に、図1で示した脱気口23aを有するように封止用シール材23が塗布される。   The portions where the sealing material 23 for sealing is applied are the portions on the bank 25 and the seal width measurement scale 15 of the element substrate 10. In the present embodiment, the sealing material 23 for sealing is applied on the bank 25 so as to have the deaeration port 23a shown in FIG.

図6を用いて、本実施形態にかかる有機EL表示装置の製造方法について詳細に説明する。図6は、有機EL表示装置の製造工程を示すフローチャートである。まず、有機EL素子を備える素子基板の製造方法について説明する。素子基板には厚さが例えば、0.7mm〜1.1mmのガラス基板を用いる(ステップS101)。ガラス基板には無アルカリガラス(例えば、旭硝子社製AN100)あるいはアルカリガラス(旭硝子社製AS)を用いることができる。   The manufacturing method of the organic EL display device according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIG. FIG. 6 is a flowchart showing manufacturing steps of the organic EL display device. First, the manufacturing method of an element substrate provided with an organic EL element is demonstrated. For example, a glass substrate having a thickness of 0.7 mm to 1.1 mm is used as the element substrate (step S101). As the glass substrate, alkali-free glass (for example, AN100 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) or alkali glass (ASA manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) can be used.

このガラス基板上に陽極電極材料であるITOを成膜する(ステップS102)。ITOはスパッタや蒸着によって、ガラス基板全面に均一性よく成膜することができる。ここではDCスパッタ法により膜厚150nmで成膜する。フォトリソグラフィー及びエッチングによりITOパターンを形成する(ステップS103)。このITOパターンが陽極となる。レジストとしてはフェノールノボラック樹脂を使用し、露光現像を行う。エッチングはウェットエッチングあるいはドライエッチングのいずれでもよいが、ここでは塩酸及び硝酸の混合水溶液を使用してITOをパターニングした。レジスト剥離材としてはモノエタノールアミンを使用した。   ITO, which is an anode electrode material, is formed on the glass substrate (step S102). ITO can be formed on the entire surface of the glass substrate with good uniformity by sputtering or vapor deposition. Here, the film is formed with a film thickness of 150 nm by a DC sputtering method. An ITO pattern is formed by photolithography and etching (step S103). This ITO pattern becomes the anode. A phenol novolac resin is used as the resist, and exposure development is performed. Etching may be either wet etching or dry etching. Here, ITO was patterned using a mixed aqueous solution of hydrochloric acid and nitric acid. Monoethanolamine was used as the resist stripping material.

ITOパターンの上から補助配線材料を成膜する(ステップS104)。補助配線材料はAl、Al合金、Ag、Ag合金などの低抵抗性の金属材料を用い、スパッタ、蒸着によって成膜することができる。さらに下地との密着性を向上させるため、あるいは腐食を防止するために、Al膜の下層又は上層にTiNやCr、Mo、Mo合金等のバリア層を形成して補助配線を積層構造としても良い。このバリア層も蒸着あるいはスパッタにより形成できる。ここではDCスパッタ法により総厚が450nmのCr/Al/Crの積層膜やMo−Nb/Al/Mo−Nbの積層膜を補助配線材料として成膜する。MoよりもMo合金、例えば、Mo−W、Mo−Nb、Mo−V、Mo−Ta等を用いると、耐腐食性を向上することができる。また、補助配線材料は、DCスパッタ法のほか、真空蒸着法、イオンプレーティング法等の物理的気相成長法(PVD)、電解めっき、無電解めっき等のめっき法で形成することもできる(WO03/086022公報参照)。   An auxiliary wiring material is deposited on the ITO pattern (step S104). The auxiliary wiring material can be formed by sputtering or vapor deposition using a low-resistance metal material such as Al, Al alloy, Ag, or Ag alloy. Further, in order to improve adhesion to the base or to prevent corrosion, a barrier layer made of TiN, Cr, Mo, Mo alloy or the like may be formed on the lower layer or upper layer of the Al film to form the auxiliary wiring in a laminated structure. . This barrier layer can also be formed by vapor deposition or sputtering. Here, a Cr / Al / Cr laminated film having a total thickness of 450 nm or a Mo—Nb / Al / Mo—Nb laminated film is formed as an auxiliary wiring material by DC sputtering. When a Mo alloy such as Mo—W, Mo—Nb, Mo—V, Mo—Ta, or the like is used rather than Mo, the corrosion resistance can be improved. In addition to the DC sputtering method, the auxiliary wiring material can be formed by a physical vapor deposition method (PVD) such as a vacuum deposition method or an ion plating method, or a plating method such as electrolytic plating or electroless plating ( (See WO03 / 086022).

この補助配線材料をフォトリソグラフィー及びエッチングによりパターニングして、補助配線パターン及びマークを形成する(ステップS105)。エッチングには燐酸、酢酸、硝酸等の混合水溶液よりなるエッチング液を使用することができる。なお、陽極材料と補助配線材料とを順に成膜し、その後に補助配線材料と陽極材料を順番にパターニングすることも可能である。この補助配線パターンにより、陽極又は陰極に信号が供給される。補助配線パターンの形成と同時に、ギャップ測定目印14及びシール幅測定目盛り15を形成する。   The auxiliary wiring material is patterned by photolithography and etching to form auxiliary wiring patterns and marks (step S105). For the etching, an etching solution made of a mixed aqueous solution of phosphoric acid, acetic acid, nitric acid or the like can be used. It is also possible to form the anode material and the auxiliary wiring material in order, and then pattern the auxiliary wiring material and the anode material in order. A signal is supplied to the anode or the cathode by the auxiliary wiring pattern. Simultaneously with the formation of the auxiliary wiring pattern, the gap measurement mark 14 and the seal width measurement scale 15 are formed.

次に開口絶縁膜を形成する(ステップS106)。絶縁膜としては感光性のポリイミドをスピンコーティングして、フォトリソグラフィー工程でパターニングした後、キュアし画素に画素開口部を有する開口絶縁膜を形成する。同時に陰極と補助配線とのコンタクトホールを形成する。例えば、画素開口部を300μm×300μm程度、陰極と補助配線とのコンタクトホールを200μm×200μm程度で形成する。   Next, an opening insulating film is formed (step S106). As the insulating film, photosensitive polyimide is spin-coated, patterned after a photolithography process, and then cured to form an opening insulating film having a pixel opening in a pixel. At the same time, a contact hole between the cathode and the auxiliary wiring is formed. For example, the pixel opening is formed with about 300 μm × 300 μm, and the contact hole between the cathode and the auxiliary wiring is formed with about 200 μm × 200 μm.

次に陰極隔壁を形成する(ステップS107)。陰極隔壁には、例えば、ノボラック樹脂を用いる。ノボラック樹脂をスピンコートして、フォトリソグラフィー工程でパターニングした後、光反応させて陰極隔壁を形成する。陰極隔壁が逆テーパ構造を有するようネガタイプの感光性樹脂を用いることが好ましい。ネガタイプの感光性樹脂を用いると、上から光を照射した場合、深い場所ほど光反応が不十分となる。その結果、上から見た場合、硬化部分の断面積が上の方より下の方が狭い構造を有する。これが逆テーパ構造を有するという意味である。このような構造にすると、その後、陰極の蒸着時に蒸着源から見て陰になる部分は蒸着が及ばないため、陰極同士を分離することが可能になる。さらに、開口部のITO層の表面改質を行うために、酸素プラズマ又は紫外線を照射してもよい。   Next, a cathode barrier is formed (step S107). For the cathode partition, for example, novolac resin is used. A novolak resin is spin-coated, patterned by a photolithography process, and then photoreacted to form cathode barrier ribs. It is preferable to use a negative type photosensitive resin so that the cathode partition has an inversely tapered structure. When a negative photosensitive resin is used, when light is irradiated from above, the photoreaction becomes insufficient at deeper locations. As a result, when viewed from above, the cross-sectional area of the cured portion has a structure that is narrower on the lower side than on the upper side. This means that it has an inverted taper structure. With such a structure, the cathodes can be separated from each other because the portions that are shaded when viewed from the vapor deposition source during vapor deposition of the cathodes do not reach the vapor deposition. Further, oxygen plasma or ultraviolet light may be irradiated in order to modify the surface of the ITO layer in the opening.

次に画素開口部の上に有機EL素子を形成する(ステップS108)。例えば、蒸着装置を用い、有機EL層と陰極を蒸着する。有機EL層は界面層、正孔輸送層、発光層、電子注入層等を構成要素とすることが多い。ただし、これとは異なる層構成を有する場合もある。有機EL層の厚さは通常100〜300nm程度である。界面層として銅フタロシアニン(CuPc)を厚さ10nm、正孔輸送層としてN,N'−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ジフェニル−ベンジジン(α―NPD)を厚さ60nm、発光層としてAlqを厚さ50nm、電子注入層としてLiFを厚さ0.5nm蒸着する。上述の構成で正孔輸送層をα―NPDの代わりにトリフェニルジアミン(TPD)等のトリフェニルアミン系の物質を使用することもできる。   Next, an organic EL element is formed on the pixel opening (step S108). For example, an organic EL layer and a cathode are deposited using a deposition apparatus. The organic EL layer often includes an interface layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron injection layer, and the like as constituent elements. However, it may have a different layer structure. The thickness of the organic EL layer is usually about 100 to 300 nm. Copper phthalocyanine (CuPc) is 10 nm thick as the interface layer, and N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine (α-NPD) is 60 nm thick as the hole transport layer, Alq is deposited to a thickness of 50 nm as a light emitting layer, and LiF is deposited to a thickness of 0.5 nm as an electron injection layer. In the above structure, a triphenylamine-based material such as triphenyldiamine (TPD) can be used for the hole transport layer instead of α-NPD.

陰極にはAlを使用することが多いが、Li等のアルカリ金属、Ag、Ca、Mg、Y、Inやそれらを含む合金を用いることもできる。陰極の厚さは通常50〜300nm程度であり、ここでは厚さ200nmのAlとする。陰極はこの他、スパッタリング、イオンプレーティングなどの物理的気相成長法(PVD)で形成することができる。これにより、有機EL素子を形成する。   Al is often used for the cathode, but alkali metals such as Li, Ag, Ca, Mg, Y, In, and alloys containing them can also be used. The thickness of the cathode is usually about 50 to 300 nm, and here it is Al having a thickness of 200 nm. In addition, the cathode can be formed by physical vapor deposition (PVD) such as sputtering or ion plating. Thereby, an organic EL element is formed.

これらの工程により有機EL素子が複数形成された素子基板が製造される。通常一枚の基板には複数の有機EL素子を有する有機EL表示パネルが複数形成される。そして、各有機EL表示パネルを切断分離することにより、一枚のマザーガラスから複数の有機EL表示パネルが得られる。この工程については後述する。上述の有機EL素子基板の製造工程は典型的な有機EL表示装置に用いられる素子基板の製造工程の一例であり、上述の製造工程に限られるものではない。   Through these steps, an element substrate on which a plurality of organic EL elements are formed is manufactured. Usually, a plurality of organic EL display panels having a plurality of organic EL elements are formed on a single substrate. Then, by cutting and separating each organic EL display panel, a plurality of organic EL display panels can be obtained from one mother glass. This process will be described later. The manufacturing process of the organic EL element substrate described above is an example of a manufacturing process of an element substrate used in a typical organic EL display device, and is not limited to the manufacturing process described above.

次に、有機EL素子を封止するための対向基板の製造工程について説明する。有機EL素子は空気中の水分により劣化するので、対向基板を用いて封止する。対向基板として厚さ0.7〜1.1mmのガラス基板を使用し(ステップS201)、素子基板と同様のものを用いることができる。そして、この対向基板を加工して、水分を捕獲する捕水材を配置するための捕水材収納部を設ける(ステップS202)。捕水材収納部は例えば、エッチングやサンドブラストにより、対向基板の一部を掘り込むことによって形成される。このとき、さらに捕水材収納部を囲むように土手が形成される。この捕水材収納部に捕水材を配置する(ステップS203)。捕水材には酸化カルシウム粉末や捕水テープなどが用いられる。   Next, a manufacturing process of the counter substrate for sealing the organic EL element will be described. Since the organic EL element deteriorates due to moisture in the air, it is sealed using a counter substrate. A glass substrate having a thickness of 0.7 to 1.1 mm is used as the counter substrate (step S201), and the same substrate as the element substrate can be used. Then, the counter substrate is processed to provide a water catching material storage unit for placing a water catching material that captures moisture (step S202). The water catching material storage part is formed, for example, by digging a part of the counter substrate by etching or sandblasting. At this time, a bank is further formed so as to surround the water catching material storage portion. A water catching material is disposed in the water catching material storage unit (step S203). As the water catching material, calcium oxide powder, water catching tape or the like is used.

そして、対向基板の捕水材収納部を設けた面に、ディスペンサを用いてシール材を塗布する(ステップS204)。シール材を、捕水材収納部周辺の土手の上に、開口を有するように設ける。封止用シールとしては感光性エポキシ樹脂が好ましい。例えば、光カチオン重合型エポキシ樹脂を用いることができ、素子基板と対向基板を貼り合わせるための接着材として機能する。上記の製造工程により封止基板(対向基板)を製造する。なお、上述の製造工程は典型的な一例であり、これに限られるものではない。   And a sealing material is apply | coated to the surface which provided the water catching material accommodating part of the opposing board | substrate using dispenser (step S204). A sealing material is provided on the bank around the water catching material storage part so as to have an opening. As the sealing seal, a photosensitive epoxy resin is preferable. For example, a cationic photopolymerization type epoxy resin can be used and functions as an adhesive for bonding the element substrate and the counter substrate. A sealing substrate (counter substrate) is manufactured by the above manufacturing process. The above manufacturing process is a typical example, and the present invention is not limited to this.

次に素子基板と対向基板を貼り合わせて、有機EL素子を封止する(ステップS109)。これ以降の工程について図7及び図8を用いて説明する。図7は基板の封止方法を示す平面図、図8は封止後の基板の構成を示す断面図である。また、ここで説明する素子基板10は図3で示したものと同様であり、対向基板20は図5で示したものと同様である。   Next, the element substrate and the counter substrate are bonded together to seal the organic EL element (step S109). The subsequent steps will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a plan view showing a method for sealing a substrate, and FIG. 8 is a cross-sectional view showing the configuration of the substrate after sealing. The element substrate 10 described here is the same as that shown in FIG. 3, and the counter substrate 20 is the same as that shown in FIG.

素子基板10には上述のステップS101〜S108により形成し有機EL素子を複数含む表示領域11と各素子に信号を供給する補助配線12を備えている。例えば、図3に示すように素子基板10には6個の有機EL表示領域11を設けており、基板を切断分離することにより有機EL表示パネルを形成する。素子基板10より若干小さい対向基板20には各表示領域11に対して捕水材収納部21を形成し、捕水材22を配置している。対向基板20にはそれぞれの表示領域11を囲む封止用シール材23を設ける。   The element substrate 10 includes a display region 11 formed by the above-described steps S101 to S108 and including a plurality of organic EL elements, and an auxiliary wiring 12 for supplying a signal to each element. For example, as shown in FIG. 3, the element substrate 10 is provided with six organic EL display regions 11, and an organic EL display panel is formed by cutting and separating the substrate. On the counter substrate 20 slightly smaller than the element substrate 10, a water catching material storage portion 21 is formed for each display region 11, and a water catching material 22 is arranged. The counter substrate 20 is provided with a sealing material 23 for sealing that surrounds each display region 11.

図7において、50は遮光基板、60は封止治具である。遮光基板50は、シール材を硬化する際にUV光がシール材以外の有機EL素子等に当たるのを防ぐための遮光マスクである。図7(a)に示すように、封止治具60に、素子基板10、対向基板20及び遮光基板50をのせる。封止治具60は、素子基板10、対向基板20及び遮光基板50の外周の4辺と接する位置に配置され、各基板をのせるための階段状の段を有している。この段に、それぞれ素子基板10、対向基板20及び遮光基板50をのせ、位置合わせをする。   In FIG. 7, 50 is a light shielding substrate, and 60 is a sealing jig. The light shielding substrate 50 is a light shielding mask for preventing UV light from hitting an organic EL element other than the sealing material when the sealing material is cured. As shown in FIG. 7A, the element substrate 10, the counter substrate 20, and the light shielding substrate 50 are placed on the sealing jig 60. The sealing jig 60 is disposed at a position in contact with the four outer peripheral sides of the element substrate 10, the counter substrate 20, and the light shielding substrate 50, and has stepped steps for placing each substrate. The element substrate 10, the counter substrate 20, and the light shielding substrate 50 are placed on this stage for alignment.

図7(b)に示すように、下方からステージ40を押圧し、素子基板10を押し上げる。そして、素子基板10と対向基板20が密着し、さらに、対向基板20と遮光基板60が密着する。遮光基板60の上には、さらに、遮光基板60が押し上げられるのを阻止するための基板が配置され、この基板の上にバネが設けられている。ステージ40を押圧する力と、このバネの力により、素子基板10と対向基板20に圧力を加え、所定のギャップとする。   As shown in FIG. 7B, the stage 40 is pressed from below and the element substrate 10 is pushed up. The element substrate 10 and the counter substrate 20 are in close contact with each other, and the counter substrate 20 and the light shielding substrate 60 are in close contact with each other. A substrate for preventing the light shielding substrate 60 from being pushed up is disposed on the light shielding substrate 60, and a spring is provided on the substrate. Pressure is applied to the element substrate 10 and the counter substrate 20 by the force of pressing the stage 40 and the force of the spring to form a predetermined gap.

所定のギャップとなった状態で、上方から遮光基板50を介してシール材にUV光を照射する。これにより、図8に示すように両基板が接着された構成となる。素子基板10に設けられたそれぞれの表示領域11は図3に示すように封止用シール材23で全周を囲まれる。両基板と封止用シール材23で囲まれた空間に捕水材22を配置し、封止された空間に残留または侵入してくる水分等による有機EL素子の劣化を防止する。素子基板10と対向基板20からなる一対の基板で有機EL素子を封止する。補助配線12は外部の駆動回路と接続するため、封止用シール材23の一部は補助配線12をまたがって接着されるようにする。   In a state where a predetermined gap is reached, the sealing material is irradiated with UV light from above via the light shielding substrate 50. As a result, the two substrates are bonded as shown in FIG. Each display region 11 provided on the element substrate 10 is surrounded by a sealing material 23 for sealing as shown in FIG. The water catching material 22 is disposed in a space surrounded by both substrates and the sealing material 23 for sealing, and the deterioration of the organic EL element due to moisture remaining or entering the sealed space is prevented. The organic EL element is sealed with a pair of substrates including the element substrate 10 and the counter substrate 20. Since the auxiliary wiring 12 is connected to an external drive circuit, a part of the sealing material 23 for sealing is bonded across the auxiliary wiring 12.

また、素子基板10と対向基板20の外面、すなわち、素子基板10の有機EL素子が設けられた面の反対面及び対向基板20の捕水材22を設けた面の反対面を、研磨等することにより、基板を薄型化してもよい。例えば、各基板を薄型化し0.5mmの厚さとすると、総厚1.0mmの有機EL表示パネルが得られる。   Further, the outer surfaces of the element substrate 10 and the counter substrate 20, that is, the opposite surface of the element substrate 10 on which the organic EL element is provided and the opposite surface of the counter substrate 20 on which the water capturing material 22 is provided are polished. Accordingly, the substrate may be thinned. For example, when each substrate is thinned to a thickness of 0.5 mm, an organic EL display panel having a total thickness of 1.0 mm is obtained.

封止された基板を切断してそれぞれの有機EL表示パネルを分離する(ステップS110)。例えば、素子基板10と対向基板20では切断位置が異なる。対向基板20は、封止用シール材23周辺を囲むように切断する。素子基板10は、封止用シール材23周辺及び補助配線12の端部を囲むように切断する。したがって、素子基板10は封止用シール材23の外側に設けた補助配線12の分だけ対向基板20よりも有機EL表示領域11の外側で切断する。これにより、それぞれの有機EL表示パネルに分割できる。   The sealed substrate is cut to separate each organic EL display panel (step S110). For example, the cutting position is different between the element substrate 10 and the counter substrate 20. The counter substrate 20 is cut so as to surround the periphery of the sealing material 23 for sealing. The element substrate 10 is cut so as to surround the periphery of the sealing material 23 for sealing and the end portion of the auxiliary wiring 12. Therefore, the element substrate 10 is cut outside the organic EL display region 11 from the counter substrate 20 by the amount of the auxiliary wiring 12 provided outside the sealing material 23 for sealing. Thereby, it can divide | segment into each organic EL display panel.

次に、駆動回路等を実装する(ステップS111)。素子基板10には封止用シール材23で囲まれた領域から外に補助配線12を延設する。補助配線12の外側の端部には端子部が形成されており、この端子部に異方性導電フィルム(ACF)を貼付け、駆動回路が設けられたTCP(Tape Carrier Package)を接続する。具体的には端子部にACFを仮圧着する。ACFは日立化成製アニソルム7106Uを用いている。仮圧着温度は80℃で、圧着圧力は1.0MPa、圧着時間は5秒である。ついで駆動回路が内蔵されたTCPを端子部に本圧着する。本圧着温度は170度で、圧着圧力は2.0MPa、圧着時間は20秒である。これにより駆動回路を実装する。この有機EL表示パネルを筐体に取り付け、有機EL表示装置が完成する(ステップS112)。   Next, a drive circuit and the like are mounted (step S111). On the element substrate 10, the auxiliary wiring 12 is extended outside from the region surrounded by the sealing material 23 for sealing. A terminal portion is formed at the outer end portion of the auxiliary wiring 12, and an anisotropic conductive film (ACF) is attached to the terminal portion to connect a TCP (Tape Carrier Package) provided with a drive circuit. Specifically, ACF is temporarily crimped to the terminal portion. ACF uses Hitachi Chemical Anisolm 7106U. The temporary pressure bonding temperature is 80 ° C., the pressure bonding pressure is 1.0 MPa, and the pressure bonding time is 5 seconds. Next, the TCP with the built-in drive circuit is finally bonded to the terminal portion. The main pressure bonding temperature is 170 degrees, the pressure bonding pressure is 2.0 MPa, and the pressure bonding time is 20 seconds. Thus, the drive circuit is mounted. This organic EL display panel is attached to the housing, and the organic EL display device is completed (step S112).

このようにして、基板にギャップ測定目印14及びシール幅測定目盛り15を設けることにより、封止後であっても、基板のギャップやシール材の幅を容易に測定することができ、有機EL表示装置の品質管理を効率よく行うことができる。   In this manner, by providing the gap measurement mark 14 and the seal width measurement scale 15 on the substrate, the gap of the substrate and the width of the seal material can be easily measured even after sealing, and an organic EL display The quality control of the apparatus can be performed efficiently.

また、シール材の断面積から予め脱気口の幅を算出しておくことにより、精度よく素子を封止し、封止不良を防止することができる。   Moreover, by calculating the width of the deaeration port in advance from the cross-sectional area of the sealing material, the element can be sealed with high accuracy and sealing failure can be prevented.

図9乃至図11を用いて、本発明にかかる実施例について説明する。図9は、基板のギャップとシール幅の関係を示すグラフである。図10及び図11は、有機EL表示パネルの脱気口におけるギャップを示すグラフである。   Embodiments according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a graph showing the relationship between the gap of the substrate and the seal width. 10 and 11 are graphs showing a gap at the deaeration port of the organic EL display panel.

図9において、横軸は基板のギャップ、縦軸はシール幅の広がりを示している。算出例1及び2は、シール材の断面積とシール幅からギャップにおけるシール幅の算出値であり、測定例1、2及び3は、上述の方法で封止を行ない基板のギャップ及びシール幅の測定値である。   In FIG. 9, the horizontal axis indicates the gap of the substrate, and the vertical axis indicates the spread of the seal width. Calculation examples 1 and 2 are calculated values of the seal width in the gap from the cross-sectional area of the sealing material and the seal width, and measurement examples 1, 2, and 3 perform the sealing by the above-described method and determine the gap and the seal width of the substrate. It is a measured value.

算出例1では、まず、シール材を対向基板に塗布し、レーザ式の測定器により断面積とシール幅を測定した。シール材はUV硬化樹脂であり、具体的にはスリーボンド製30Y437である。このシール材を、シールディスペンサー(武蔵エンジニアリング製)を用いて塗布し、塗布条件は、樹脂を吐出するニードルの内径を0.5mm、ニードルの先端と基板間距離を0.15mm、シリンジ圧力を0.05MPa、塗布速度を6mm/sとした。塗布後のシール材の高さは約0.1mmであった。このときの、シール材の断面積は65600μm、シール幅は837μmであった。 In Calculation Example 1, first, a sealing material was applied to the counter substrate, and a cross-sectional area and a seal width were measured with a laser-type measuring instrument. The sealing material is a UV curable resin, specifically, 30Y437 manufactured by ThreeBond. This sealing material is applied using a seal dispenser (manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.). The application conditions are as follows: the inner diameter of the needle for discharging the resin is 0.5 mm, the distance between the needle tip and the substrate is 0.15 mm, and the syringe pressure is 0. 0.05 MPa and the coating speed was 6 mm / s. The height of the sealing material after application was about 0.1 mm. At this time, the cross-sectional area of the sealing material was 65600 μm 2 , and the seal width was 837 μm.

ここで、塗布したシール材の断面の形状を長方形と仮定すると、断面積/ギャップの値が、そのギャップにおけるシール幅となる。さらに、(断面積/ギャップ)−(最初のシール幅)が、そのギャップにおけるシール幅の広がりである。算出例1は、(65600μm/ギャップ)−837μmの単位をmmに換算したものである。基板を貼り合わせたときの目標とするギャップは、0.02mm〜0.03mmである。グラフよりギャップ0.02mmのときのシール幅の広がりは2.44mm、0.03mmの時1.35mmである。したがって、1.35〜2.44mmの範囲に脱気口の幅を設定しておけば目標とするギャップの範囲内で、脱気口が塞がり正常に貼り合わせを行うことができる。 Here, assuming that the cross-sectional shape of the applied sealing material is a rectangle, the value of the cross-sectional area / gap is the seal width in the gap. Further, (cross-sectional area / gap) − (initial seal width) is the spread of the seal width in the gap. In calculation example 1, a unit of (65600 μm 2 / gap) −837 μm is converted to mm. The target gap when the substrates are bonded is 0.02 mm to 0.03 mm. From the graph, the spread of the seal width when the gap is 0.02 mm is 2.44 mm, and when the gap is 0.03 mm, it is 1.35 mm. Therefore, if the width of the deaeration port is set in the range of 1.35 to 2.44 mm, the deaeration port is closed and normal bonding can be performed within the target gap range.

測定例1は、算出例1と同様の塗布条件とし、算出例1をもとに脱気口を1.9mmとしてシール材を塗布し、貼り合わせ、上述のギャップ測定マーク及びシール幅測定マークを用いて基板のギャップとシール幅を測定した。測定例1は、算出例1に近い値となり、また、この条件で脱気口が正しく塞がった。   In measurement example 1, the same application conditions as in calculation example 1 are applied, a sealing material is applied with a degassing port of 1.9 mm based on calculation example 1, and the gap measurement mark and the seal width measurement mark described above are attached. The substrate gap and seal width were measured. The measurement example 1 was close to the calculation example 1, and the deaeration port was properly blocked under this condition.

算出例2では、算出例1と同様の塗布条件で、塗布速度のみ12mm/sとした。このときの、シール材の断面積は33600μm、シール幅は603μmであった。グラフよりギャップ0.02mmのときのシール幅の広がりは1.07mm、0.03mmの時0.51mmである。したがって、0.51〜1.07mmの範囲に脱気口の幅を設定しておけば目標とするギャップの範囲内で、脱気口が塞がり正常に貼り合わせを行うことができる。 In Calculation Example 2, only the coating speed was set to 12 mm / s under the same coating conditions as in Calculation Example 1. At this time, the cross-sectional area of the sealing material was 33600 μm 2 , and the seal width was 603 μm. From the graph, the spread of the seal width when the gap is 0.02 mm is 1.07 mm, and when the gap is 0.03 mm, it is 0.51 mm. Therefore, if the width of the deaeration port is set in the range of 0.51 to 1.07 mm, the deaeration port is closed and normal bonding can be performed within the target gap range.

測定例2及び3は、算出例2と同様の塗布条件で、塗布速度のみ14mm/sとして、シール材を塗布し、貼り合わせ、上述のギャップ測定マーク及びシール幅測定マークを用いて基板のギャップとシール幅を測定した。なお、測定例2と3では、シリンジ圧力が異なる。測定例2及び3は、算出例2に近い値となった。   Measurement examples 2 and 3 are the same application conditions as calculation example 2, with the application rate being only 14 mm / s, applying a sealing material, bonding, and using the gap measurement mark and seal width measurement mark described above, the gap of the substrate And the seal width was measured. In the measurement examples 2 and 3, the syringe pressure is different. Measurement Examples 2 and 3 were close to Calculation Example 2.

図10及び図11において、横軸は基板、縦軸はギャップを示しており、A、B、C及びDは、基板内の表示パネルを示している。図10では、上述の製造方法により、緑色に発光する有機EL表示パネルを製造した。シール材の塗布条件、脱気口の幅は、図9の算出例1及び測定例1と同様である。ギャップの測定は、上述のギャップ測定マークを用いて行なった。図11は、図10と同様に、青色に発光する有機EL表示パネルを製造しギャップを測定した。図10及び図11では、ギャップは、ほぼ0.01mm〜0.03mmの範囲となった。   10 and 11, the horizontal axis indicates the substrate, the vertical axis indicates the gap, and A, B, C, and D indicate the display panel in the substrate. In FIG. 10, an organic EL display panel that emits green light is manufactured by the above-described manufacturing method. The application conditions of the sealing material and the width of the deaeration port are the same as those in Calculation Example 1 and Measurement Example 1 in FIG. The gap was measured using the above-described gap measurement mark. In FIG. 11, as in FIG. 10, an organic EL display panel that emits blue light was manufactured and the gap was measured. 10 and 11, the gap is in the range of approximately 0.01 mm to 0.03 mm.

本実施形態に係る有機EL表示装置の封止方法を示す基板の側面図及び平面図である。It is the side view and top view of a board | substrate which show the sealing method of the organic electroluminescence display which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る有機EL表示装置の封止方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the sealing method of the organic electroluminescence display which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る貼り合わせ前の素子基板を示す平面図である。It is a top view which shows the element substrate before bonding which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る貼り合わせ前の対向基板を示す平面図である。It is a top view which shows the counter substrate before bonding which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るマーク示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the mark which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る有機EL表示装置の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the organic electroluminescence display which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る有機EL表示装置の封止方法を断面図である。It is sectional drawing about the sealing method of the organic electroluminescence display which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る有機EL表示装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the organic electroluminescence display which concerns on this embodiment. 本実施例に係るギャップとシール幅の関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the gap which concerns on a present Example, and seal width. 本実施例に係る有機EL表示装置とギャップの関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the organic electroluminescence display which concerns on a present Example, and a gap. 本実施例に係る有機EL表示装置とギャップの関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the organic electroluminescence display which concerns on a present Example, and a gap.

符号の説明Explanation of symbols

10 素子基板
11 表示領域
12 補助配線
13 検査用表示領域
14 ギャップ測定目印
15 シール幅測定目盛り
20 対向基板、
21 捕水材収納部
22 捕水材
23 封止用シール材
23a 脱気口
25 土手
10 element substrate 11 display area 12 auxiliary wiring 13 inspection display area 14 gap measurement mark 15 seal width measurement scale 20 counter substrate,
21 Water catching material storage part 22 Water catching material 23 Sealing sealing material 23a Deaeration port 25 Bank

Claims (15)

有機EL素子を備える素子基板と、
前記素子基板と対向する対向基板と、
前記有機EL素子を含む表示領域を囲むように形成された封止用シール材と、
前記素子基板及び/又は前記対向基板における前記封止用シール材の接着面に形成された目印と、
が備えられた有機EL表示装置。
An element substrate including an organic EL element;
A counter substrate facing the element substrate;
A sealing material formed so as to surround the display region including the organic EL element;
A mark formed on an adhesive surface of the sealing material in the element substrate and / or the counter substrate;
An organic EL display device comprising:
前記目印は、前記素子基板と前記対向基板とのギャップを測定する目印である、請求項1に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 1, wherein the mark is a mark for measuring a gap between the element substrate and the counter substrate. 前記素子基板及び前記対向基板のいずれか一方は、前記表示領域を囲むように形成された凸部を備え、
前記封止用シール材は、前記凸部の上面と前記凸部に対向する対向部との間に形成され、
前記目印は前記対向部に形成されている、
請求項1又は2に記載の有機EL表示装置。
Either one of the element substrate and the counter substrate includes a convex portion formed so as to surround the display region,
The sealing sealing material is formed between an upper surface of the convex portion and a facing portion facing the convex portion,
The mark is formed on the facing portion,
The organic EL display device according to claim 1.
前記目印は、十字型の目印である、請求項1、2又は3に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 1, wherein the mark is a cross-shaped mark. 有機EL素子を備える素子基板と、
前記素子基板と対向する対向基板と、
前記素子基板と前記対向基板との間に形成されたシール材と、
前記素子基板における前記シール材と重なる位置に形成された前記シール材の幅を測定する目盛りと、
が備えられた有機EL表示パネル基板。
An element substrate including an organic EL element;
A counter substrate facing the element substrate;
A sealing material formed between the element substrate and the counter substrate;
A scale for measuring the width of the sealing material formed at a position overlapping the sealing material on the element substrate;
An organic EL display panel substrate provided with
前記有機EL表示パネル基板は、前記有機EL素子を含む表示領域を囲むように形成された封止用シール材と、前記封止用シール材とは別に前記表示領域の外側に形成された測定用シール材とを備え、
前記目盛りは、前記測定用シール材の接着面に形成されている、
請求項5に記載の有機EL表示パネル基板。
The organic EL display panel substrate includes a sealing material formed so as to surround the display region including the organic EL element, and a measurement material formed outside the display region separately from the sealing material. With sealing material,
The scale is formed on the bonding surface of the sealing material for measurement,
The organic EL display panel substrate according to claim 5.
前記有機EL表示パネル基板は、前記有機EL素子からなる複数の表示領域と、
前記複数の表示領域のそれぞれを囲むように形成された封止用シール材と、
前記封止用シール材は別に、前記複数の表示領域の外側に形成された測定用シール材と、を備え、
前記目盛りは、前記測定用シール材の接着面に形成されている、
請求項5に記載の有機EL表示パネル基板。
The organic EL display panel substrate includes a plurality of display areas composed of the organic EL elements,
A sealing material formed so as to surround each of the plurality of display regions;
In addition to the sealing material for sealing, the sealing material for measurement formed outside the plurality of display regions,
The scale is formed on the bonding surface of the sealing material for measurement,
The organic EL display panel substrate according to claim 5.
前記素子基板又は前記対向基板における前記封止用シール材の接着面に形成された目印をさらに備える、請求項5から7のいずれかに記載の有機EL表示パネル基板。   The organic EL display panel substrate according to claim 5, further comprising a mark formed on an adhesive surface of the sealing sealant in the element substrate or the counter substrate. 前記素子基板は、前記有機EL素子に信号を供給する補助配線をさらに有し、
前記目印は、前記補助配線と同じ部材である、請求項1、2、3又は4に記載の有機EL表示装置。
The element substrate further includes an auxiliary wiring for supplying a signal to the organic EL element,
The organic EL display device according to claim 1, wherein the mark is the same member as the auxiliary wiring.
前記素子基板は、前記有機EL素子に信号を供給する補助配線をさらに有し、
前記目盛りは、前記補助配線と同じ部材である、請求項5から8いずれかに記載の有機EL表示パネル基板。
The element substrate further includes an auxiliary wiring for supplying a signal to the organic EL element,
The organic EL display panel substrate according to claim 5, wherein the scale is the same member as the auxiliary wiring.
有機EL素子を備える素子基板と前記素子基板と対向する対向基板からなる一対の基板を備える有機EL表示装置の製造方法であって、
前記素子基板と前記対向基板との間にシール材を形成するステップと、
前記素子基板又は前記対向基板における前記シール材の接着面に形成された目印を検出するステップと、
前記目印と対向する基板の面を検出するステップと、
前記検出された目印と前記対向面との間のギャップを決定するステップと、
を有する有機EL表示装置の製造方法。
A method for manufacturing an organic EL display device comprising a pair of substrates comprising an element substrate comprising an organic EL element and a counter substrate facing the element substrate,
Forming a sealing material between the element substrate and the counter substrate;
Detecting a mark formed on an adhesive surface of the sealing material on the element substrate or the counter substrate;
Detecting a surface of the substrate facing the mark;
Determining a gap between the detected landmark and the opposing surface;
The manufacturing method of the organic electroluminescence display which has this.
有機EL素子を備える素子基板と前記素子基板と対向する対向基板からなる一対の基板を備える有機EL表示装置の製造方法であって、
前記素子基板もしくは前記対向基板に目盛りを形成するステップと、
前記素子基板と前記対向基板との間にシール材を形成するステップと、
前記シール材と重なる位置に形成された前記スケールを検出するステップと、
前記検出された目盛りによって前記シール材の幅を決定するステップと、
を有する有機EL表示装置の製造方法。
A method for manufacturing an organic EL display device comprising a pair of substrates comprising an element substrate comprising an organic EL element and a counter substrate facing the element substrate,
Forming a scale on the element substrate or the counter substrate;
Forming a sealing material between the element substrate and the counter substrate;
Detecting the scale formed at a position overlapping the sealing material;
Determining a width of the sealant according to the detected scale;
The manufacturing method of the organic electroluminescence display which has this.
前記素子基板又は前記対向基板における前記シール材の接着面に形成された目印を検出するステップと、
前記目印と対向する基板の面を検出するステップと、
前記検出された目印と前記対向面との間のギャップを決定するステップと、
をさらに有する請求項12に記載の有機EL表示装置の製造方法。
Detecting a mark formed on an adhesive surface of the sealing material on the element substrate or the counter substrate;
Detecting a surface of the substrate facing the mark;
Determining a gap between the detected landmark and the opposing surface;
The method for producing an organic EL display device according to claim 12, further comprising:
有機EL素子を備える素子基板と、前記素子基板と対向する対向基板とを備えた有機EL表示装置の製造方法であって、
前記有機EL素子を含む表示領域の周辺であって、前記素子基板及び/又は前記対向基板の面上に、シール材を塗布する第1のステップと、
前記素子基板と前記対向基板とを前記シール材を介して、重ねあわせる第2のステップと、
前記素子基板と前記対向基板とが所定のギャップを形成した後に前記シール材を硬化させる第3のステップとを、備え、
前記第2のステップにおいて、
前記シール材に開口部をあらかじめ設け、前記素子基板と前記対向基板間への圧力の印加を終了した時点で、前記シール材の広がりによって、前記開口部が塞がるようにする、
有機EL表示装置の製造方法。
A method of manufacturing an organic EL display device comprising an element substrate including an organic EL element and a counter substrate facing the element substrate,
A first step of applying a sealing material on a surface of the element substrate and / or the counter substrate around the display region including the organic EL element;
A second step of superimposing the element substrate and the counter substrate via the sealing material;
A third step of curing the sealing material after the element substrate and the counter substrate form a predetermined gap; and
In the second step,
An opening is provided in the sealing material in advance, and when the application of pressure between the element substrate and the counter substrate is finished, the opening is closed by the spread of the sealing material.
A method for manufacturing an organic EL display device.
前記素子基板又は前記対向基板の基板面に略平行な面に、目盛りをあらかじめ設け、
第2のステップにおいて、シール材の広がりの度合いを前記目盛りで測定し、
その測定値又は測定値に基づいて計算した結果によって、
前記素子基板と前記対向基板間への圧力の印加を終了する、請求項13に記載の有機EL表示装置の製造方法。
A scale is provided in advance on a surface substantially parallel to the substrate surface of the element substrate or the counter substrate,
In the second step, the degree of spread of the sealing material is measured with the scale,
Depending on the measured value or the result calculated based on the measured value,
The method for manufacturing an organic EL display device according to claim 13, wherein the application of pressure between the element substrate and the counter substrate is terminated.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100459214C (en) * 2005-12-07 2009-02-04 陕西科技大学 Organic electroluminescence displaying apparatus with air eliminative agent
WO2011013389A1 (en) * 2009-07-28 2011-02-03 株式会社フジクラ Multilayer sheet for encapsulation of electronic device and method for manufacturing electronic device using same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100459214C (en) * 2005-12-07 2009-02-04 陕西科技大学 Organic electroluminescence displaying apparatus with air eliminative agent
WO2011013389A1 (en) * 2009-07-28 2011-02-03 株式会社フジクラ Multilayer sheet for encapsulation of electronic device and method for manufacturing electronic device using same
JP2011049140A (en) * 2009-07-28 2011-03-10 Fujikura Ltd Multilayer sheet for encapsulation of dye-sensitized solar cell, and method of manufacturing dye-sensitized solar cell using the same
US8268661B2 (en) 2009-07-28 2012-09-18 Fujikura Ltd. Sealing laminated sheet for electronic device and electronic device production method using same

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