JP2005205513A - 研磨に用いるショットブラスト用金属粉末 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明は、PDP等の研磨に用いるショットブラスト用金属粉末を提供する。【解決手段】 粉末内部のHv硬度150〜400の金属粉末表面に厚さ50〜300nmの酸化被膜を形成させたことを特徴とする研磨に用いるショットブラスト用金属粉末。【効果】 表面に酸化を形成し硬度を上げることでショットした際の寿命を向上させ、全体的な粉末硬度は低いため被研磨材への負荷が少なく、被研磨材は良好な形状に仕上がり、寿命も向上させることが出来る。
【選択図】 なし
【選択図】 なし
Description
本発明は、PDP等の研磨に用いるショットブラスト用金属粉末に関するものである。
従来、ガラス、セラミックス、金属、貴金属、機械類等の加工物や天然物の研磨に、粉体ないし粒子からなる研磨材を用いた方法が数多く提案されており、このような方法として、例えばサンドブラスト法、ウエットブラスト法、バレル加工法、ラッピング加工法および磁気研磨方法等がある。これら研磨材の用途は多岐にわたり、近年では精密ガラス表面の研磨や、指輪、宝石類、精密機械類の研磨にも用いられ、より精密、正確性と製造性の向上が望まれ、その改良が行なわれている。なかでもサンドブラスト法の発生は著しく、自己発光型のフラットディスプレーであるプラズマディスプレーパネル(PDP)の製造時に必要とされる、隔壁形成に使用されている。
上述したPDP上の隔膜形成を行なう場合における隔膜を精度、効率よく形成する方法として、例えば特開2002−114968号公報(特許文献1)に開示されているように、特定範囲の平均粒径、分散係数、粒度のシャープネス、特定範囲の硬度、および磁性を有する研磨材が、研磨材の使用後、研磨材と研磨対象物の研磨屑とを磁気により完全かつ簡便に分離回収、再利用を可能とした研磨材が提案されている。
上述した特許文献1の方法では、確かにサンドブラスト法による磁性を有する研磨材であることから、研磨材の使用後、研磨材と研磨対象物の研磨屑とを磁気により簡便に分離回収、再利用を可能とした研磨材ではあるが、研磨する場合に効率良く研磨するには研磨材の硬度が高い程好ましいが、しかし、高すぎるとショット時の衝撃により粉末が破壊し再利用することが困難になる。一方、硬さが低い材料では耐摩耗性の劣化により同様に再利用が困難となるという問題がある。
上述したような問題を解消するために、発明者らは鋭意開発を進めた結果、表面に酸化被膜を生成させることにより、粉末表面の硬度を向上させて耐摩耗性の向上をはかり、一方、酸化されていない粉末内部については、その硬度は低くすることにより耐衝撃性も併せ持つことにより低融点ガラスの如き被研磨材として効率良く研磨することが可能となり、しかも研磨材としての寿命の向上を図ることが出来るPDP等の研磨に用いるショットブラスト用金属粉末を提供するものである。
その発明の要旨とするところは、
(1)粉末内部のHv硬度150〜400の金属粉末表面に厚さ50〜300nmの酸化被膜を形成させたことを特徴とする研磨に用いるショットブラスト用金属粉末。
(2)前記(1)に記載の粉末内部のHv硬度200〜340としたことを特徴とする研磨に用いるショットブラスト用金属粉末。
(3)前記(1)に記載の金属粉末表面に厚さ100〜200nmとしたことを特徴とする研磨に用いるショットブラスト用金属粉末にある。
(1)粉末内部のHv硬度150〜400の金属粉末表面に厚さ50〜300nmの酸化被膜を形成させたことを特徴とする研磨に用いるショットブラスト用金属粉末。
(2)前記(1)に記載の粉末内部のHv硬度200〜340としたことを特徴とする研磨に用いるショットブラスト用金属粉末。
(3)前記(1)に記載の金属粉末表面に厚さ100〜200nmとしたことを特徴とする研磨に用いるショットブラスト用金属粉末にある。
以上述べたように、表面に酸化膜を形成し硬度を上げることで耐摩耗性を向上させ、全体的な粉末硬度は低いため耐衝撃性も併せもつことにより、寿命も向上させることが出来る優れた効果を奏するものである。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明に係る金属粉末の成分組成としては、酸化被膜が生成し易く、硬度が適正に得られるものであれば特に限定するものでないが、Fe基合金、Ni基合金が使用され、特に安価に製造可能で粉末表面に容易に酸化被膜が形成されるステンレス系粉末が望ましい。
本発明に係る金属粉末の成分組成としては、酸化被膜が生成し易く、硬度が適正に得られるものであれば特に限定するものでないが、Fe基合金、Ni基合金が使用され、特に安価に製造可能で粉末表面に容易に酸化被膜が形成されるステンレス系粉末が望ましい。
粉末の製造方法としては、ガスアトマイズ法、水アトマイズ法、鋳造粉砕のいずれでも良く、特に限定するものではない。酸化被膜の形成方法については、例えばステンレス系粉末の場合、大気中で473K〜1073Kで処理することで粉末表面に容易に酸化被膜を形成することが出来る。
粉末内部のHv硬度150〜400
粉末内部のHv硬度150以上としたのは、150未満ではショット時の変形が大きく寿命が低下する。また、400を超えると衝撃破壊により寿命が低下することから、その範囲を100〜400とした。好ましくは200〜300とする。
粉末内部のHv硬度150以上としたのは、150未満ではショット時の変形が大きく寿命が低下する。また、400を超えると衝撃破壊により寿命が低下することから、その範囲を100〜400とした。好ましくは200〜300とする。
金属粉末表面に厚さ50〜300nmの酸化被膜
厚さ50nmとしたのは、50nm未満では十分な耐摩耗性が得られず寿命が低下する。また、300nmを超えると十分な耐衝撃性が得られず寿命が低下する。従って、その範囲を50〜300nmとした。好ましくは100〜200nmとする。
厚さ50nmとしたのは、50nm未満では十分な耐摩耗性が得られず寿命が低下する。また、300nmを超えると十分な耐衝撃性が得られず寿命が低下する。従って、その範囲を50〜300nmとした。好ましくは100〜200nmとする。
以下、本発明について実施例によって具体的に説明する。
表1に示す成分組成の粉末をガスアトマイズ、ないし水アトマイズにより作製し、−45μmに分級した。この粉末を大気中で温度473K〜1073K(被膜の厚さを熱処理温度により調整)、保持時間:1hrの熱処理した後、この粉末を用いてブラスト加工をした。被研磨材としてはPDP試験用背面パネルを製造した。この背面パネルを製造するに、先ず、ソーダガラス(100mm×100mm、厚さ3mm)を基盤とし、その基盤上に酸化マグネシウム電極を150μm間隔でストライプ状に印刷形成した。次に、低融点ガラスペーストをコーターで所望の厚さになるまで塗布し、乾燥後、その表面に耐ブラスト性を有する低融点ガラスペーストを塗布し、感光材をラミネートした後に露光・現像を行い、低融点ガラスペースト上にパターンを形成した。
表1に示す成分組成の粉末をガスアトマイズ、ないし水アトマイズにより作製し、−45μmに分級した。この粉末を大気中で温度473K〜1073K(被膜の厚さを熱処理温度により調整)、保持時間:1hrの熱処理した後、この粉末を用いてブラスト加工をした。被研磨材としてはPDP試験用背面パネルを製造した。この背面パネルを製造するに、先ず、ソーダガラス(100mm×100mm、厚さ3mm)を基盤とし、その基盤上に酸化マグネシウム電極を150μm間隔でストライプ状に印刷形成した。次に、低融点ガラスペーストをコーターで所望の厚さになるまで塗布し、乾燥後、その表面に耐ブラスト性を有する低融点ガラスペーストを塗布し、感光材をラミネートした後に露光・現像を行い、低融点ガラスペースト上にパターンを形成した。
得られた実験用PDP背面パネルを、次の加工条件に設定したショットブラストマシンでショットし、幅50μmの溝加工を行ない、研磨し、隔壁形成を行なった。
噴射ノズル口径:9mm
研磨材噴射圧力:0.25MPa
研磨材噴射量 :10kg/min
パネルまでの距離:10cm
噴射ノズル口径:9mm
研磨材噴射圧力:0.25MPa
研磨材噴射量 :10kg/min
パネルまでの距離:10cm
評価方法としては、粉末硬度はミクロビッカース硬さ計、荷重25gを用いて測定した。また、酸化被膜厚さはオージェ分析計で測定した。さらに、寿命(研磨材回収率)はショットブラスト加工終了後の回収した研磨対象物の研磨屑量を理論上、計算で得られるそれで除算し研磨対象物回収率として表した。また、被研磨材の外観としては、表面状態の観察は電子顕微鏡を用い、研磨後のPDP背面基板の表面の傷、溝やその隅部の加工形状の観察を行い、○:隔壁等に傷がなく、外観良好なもの、×:隔壁等に傷が確認され、外観不良のもの、を持って評価した。その結果を表1に示す。
表1に示すように、No.1〜No.8は本発明例であり、No.9〜No.12は比較例である。比較例No.9は酸化被膜厚さが薄いために研磨回収率が悪く、隔壁等に傷が確認され、外観不良である。No.10は酸化被膜厚さが厚過ぎるために、No.9と同様に、研磨回収率が悪く、隔壁等に傷が確認され、外観不良である。No.11は内部硬さが硬いために研磨回収率が悪く、隔壁等に傷が確認され、外観不良である。また、No.12は内部硬さが軟らか過ぎるために研磨回収率が悪く、隔壁等に傷が確認され、外観不良である。これに対し、本発明例であるNo.1〜No.8はいずれも研磨回収率の高く、かつ隔壁等に傷がなく、外観も良好であることが分かる。
特許出願人 山陽特殊製鋼株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊
特許出願人 山陽特殊製鋼株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊
Claims (3)
- 粉末内部のHv硬度150〜400の金属粉末表面に厚さ50〜300nmの酸化被膜を形成させたことを特徴とする研磨に用いるショットブラスト用金属粉末。
- 請求項1に記載の粉末内部のHv硬度200〜340としたことを特徴とする研磨に用いるショットブラスト用金属粉末。
- 請求項1に記載の金属粉末表面に厚さ100〜200nmとしたことを特徴とする研磨に用いるショットブラスト用金属粉末。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004012584A JP2005205513A (ja) | 2004-01-21 | 2004-01-21 | 研磨に用いるショットブラスト用金属粉末 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2004012584A JP2005205513A (ja) | 2004-01-21 | 2004-01-21 | 研磨に用いるショットブラスト用金属粉末 |
Publications (1)
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ID=34898906
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JP2004012584A Withdrawn JP2005205513A (ja) | 2004-01-21 | 2004-01-21 | 研磨に用いるショットブラスト用金属粉末 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103302580A (zh) * | 2013-05-10 | 2013-09-18 | 国金黄金集团有限公司 | 一种贵金属产品以及贵金属产品表面处理方法 |
WO2017130476A1 (ja) * | 2016-01-26 | 2017-08-03 | 新東工業株式会社 | 鋳鋼製投射材 |
-
2004
- 2004-01-21 JP JP2004012584A patent/JP2005205513A/ja not_active Withdrawn
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KR20180105177A (ko) * | 2016-01-26 | 2018-09-27 | 신토고교 가부시키가이샤 | 주강제 투사재 |
US10731238B2 (en) | 2016-01-26 | 2020-08-04 | Sintokogio, Ltd. | Cast steel projection material |
KR102548843B1 (ko) * | 2016-01-26 | 2023-06-30 | 신토고교 가부시키가이샤 | 주강제 투사재 |
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