JP2005203417A - 球面収差測定パターンおよび測定方法 - Google Patents
球面収差測定パターンおよび測定方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】球面収差測定パターンは、ラインパターンが一定のピッチで並列に複数本形成された繰り返しパターン100と、ラインパターンが異なるピッチで並列に複数本形成された他の繰り返しパターン101とを有し、各ラインパターンは端部にいくにしたがい細くなる形状を有し、繰り返しパターン100と他の繰り返しパターン101のそれぞれの中心付近に位置するラインパターンが、一直線上に並ぶように配置されている。測定方法は、焦点位置を変化させてパターン後退量の異なる複数の測定パターンを形成し、パターン後退量を計測し最適焦点位置を求める。
【選択図】 図1
Description
1本のラインパターン、またはラインパターンが前記ピッチとは異なるピッチで並列に複数本形成された他の繰り返しパターンとを有し、
各ラインパターンは端部にいくにしたがい細くなる形状を有し、
前記繰り返しパターンの中心付近に位置する前記ラインパターンと前記1本のラインパターン、または前記繰り返しパターンと前記他の繰り返しパターンのそれぞれの中心付近に位置する前記ラインパターンが、一直線上に並ぶように配置されていることを特徴とするものである。
前記測定パターンのパターン後退量を計測する工程と、
前記パターン後退量から最適焦点位置を求める工程とを含むものである。
H=E−D
I=G−F
と表される。このH、Iの式より、パターンピッチの異なる繰り返しパターンの、それぞれのパターンのライン端部の後退量を算出する事が出来る。
O=(N−M)/2
P=O−K=(N−M)/2−K
Q=L−O=L−(N−M)/2
と表される。このP、Qの式より、パターンピッチの異なる繰り返しパターンの、それぞれのライン端部の後退量を算出する事ができる。
101 パターンピッチが広い繰り返しパターン
102 パターン100の中心に位置するパターン
103 パターン101の中心に位置するパターン
104 パターン100とパターン101の中心位置を結ぶ線
105 パターンピッチが狭い繰り返しパターン
106 パターンピッチが広い繰り返しパターン
107 孤立パターン
108 パターン105の中心に位置するパターン
109 パターン106の中心に位置するパターン
110 パターン107の中心に位置するパターン
111 パターン105、パターン106、パターン107の中心位置を結ぶ線
200 パターンピッチが狭い繰り返しパターン
201 パターンピッチが広い繰り返しパターン
202 パターン200とパターン201のライン端部間の基準位置を決めるパターンエッジ
203 パターン200の中心に位置するパターン
204 パターン201の中心に位置するパターン
205 パターン200とパターン201の中心位置を結ぶ線
206 パターンピッチが狭い繰り返しパターン
207 パターンピッチが広い繰り返しパターン
208 パターン206とパターン207のライン端部間の基準位置を決めるパターンエッジ
209 パターン206の中心に位置するパターン
210 パターン207の中心に位置するパターン
211 パターン206とパターン207の中心位置を結ぶ線
212 パターンピッチが狭い繰り返しパターン
213 パターンピッチが広い繰り返しパターン
214 孤立パターン
215 パターン212、パターン213、パターン214のそれぞれのライン端部間の基準位置を決めるパターンエッジ
216 パターン212の中心に位置するパターン
217 パターン213の中心に位置するパターン
218 パターン214の中心に位置するパターン
219 パターン212、パターン213、パターン214の中心位置を結ぶ線
300 パターンピッチが狭い繰り返しパターン
301 パターンピッチが広い繰り返しパターン
302 パターン300とパターン301のライン端部間の基準位置を決めるパターンエッジ
303 パターン300の中心に位置するパターン
304 パターン301の中心に位置するパターン
305 パターン300とパターン301の中心位置を結ぶ線
306 パターンピッチが狭い繰り返しパターン
307 パターンピッチが広い繰り返しパターン
308 パターン306とパターン307のライン端部間の基準位置を決めるパターンエッジ
309 パターン306の中心に位置するパターン
310 パターン307の中心に位置するパターン
311 パターン306とパターン307の中心位置を結ぶ線
312 パターンピッチが狭い繰り返しパターン
313 パターンピッチが広い繰り返しパターン
314 孤立パターン
315 パターン312、パターン313、パターン314のそれぞれのライン端部間の基準位置を決めるパターンエッジ
316 パターン312の中心に位置するパターン
317 パターン313の中心に位置するパターン
318 パターン314の中心に位置するパターン
319 パターン312、パターン313、パターン314の中心位置を結ぶ線
400 パターンピッチが狭い繰り返しパターン
401 パターンピッチが広い繰り返しパターン
402 パターン400の中心に位置するパターン
403 パターン401の中心に位置するパターン
404 電子ビームやレーザービームの走査方向
405 パターン402のライン端部の位置を示す信号
406 パターン402のライン端部の位置を示す信号
407 パターン403のライン端部の位置を示す信号
408 パターン403のライン端部の位置を示す信号
409 パターン402の長手方向のパターン寸法
410 パターン403の長手方向のパターン寸法
500 パターンピッチが狭い繰り返しパターン
501 パターンピッチが広い繰り返しパターン
502 パターン500とパターン501のライン端部間の基準位置を決めるパターンエッジ
503 パターン500の中心に位置するパターン
504 パターン501の中心に位置するパターン
505 電子ビームやレーザービームの走査方向
506 パターン503のライン端部の位置を示す信号
507 パターン504のライン端部の位置を示す信号
508 パターンエッジ502の位置を示す信号
509 パターンエッジ502の位置を示す信号
510 信号508と信号509の中心位置
511 パターン503の基準位置510からパターン503のライン端部までの距離
512 パターン504の基準位置510からパターン504のライン端部までの距離
600 パターンピッチが狭い繰り返しパターン
601 パターンピッチが広い繰り返しパターン
602 パターン600の中心に位置するパターン
603 パターン601の中心に位置するパターン
604 電子ビームやレーザービームの走査方向
605 パターン602のライン端部の位置を示す信号
606 パターン602のライン端部の位置を示す信号
607 パターン603のライン端部の位置を示す信号
608 パターン603のライン端部の位置を示す信号
700 パターンピッチが狭い繰り返しパターン
701 パターンピッチが広い繰り返しパターン
702 パターン700とパターン701のライン端部間の基準位置を決めるパターンエッジ
703 パターン700の中心に位置するパターン
704 パターン701の中心に位置するパターン
705 電子ビームやレーザービームの走査方向
706 パターン703のライン端部の位置を示す信号
707 パターン704のライン端部の位置を示す信号
708 パターンエッジ702の位置を示す信号
709 パターンエッジ702の位置を示す信号
800 寸法測定箇所
801 寸法測定箇所
802 800の焦点位置依存寸法
803 801の焦点位置依存寸法
A,A' パターン402、パターン403からの信号を計測するサンプリングライン
B,B' パターン503、パターン504からの信号を計測するサンプリングライン
C,C' パターン602、パターン603からの信号を計測するサンプリングライン
D 信号波形605のピーク位置
E 信号波形606のピーク位置
F 信号波形607のピーク位置
G 信号波形608のピーク位置
H パターン602の長手方向の寸法
I パターン603の長手方向の寸法
J,J' パターン703、パターン704からの信号を計測するサンプリングライン
K 信号波形706のピーク位置
L 信号波形707のピーク位置
M 信号波形708のピーク位置
N 信号波形709のピーク位置
O ピーク位置Mとピーク位置Nの中心位置
P 基準位置Oからパターン703のライン端部までの距離
Q 基準位置Oからパターン704のライン端部までの距離
Claims (8)
- ラインパターンが一定のピッチで並列に複数本形成された繰り返しパターンと、
1本のラインパターン、またはラインパターンが前記ピッチとは異なるピッチで並列に複数本形成された他の繰り返しパターンとを有し、
各ラインパターンは端部にいくにしたがい細くなる形状を有し、
前記繰り返しパターンの中心付近に位置する前記ラインパターンと前記1本のラインパターン、または前記繰り返しパターンと前記他の繰り返しパターンのそれぞれの中心付近に位置する前記ラインパターンが、一直線上に並ぶように配置されていることを特徴とする露光装置の球面収差測定パターン。 - 一定のピッチで形成されている複数のラインパターンの片側に基準位置を決めるパターンエッジを有する請求項1記載の露光装置の球面収差測定パターン。
- 一定のピッチで形成されている複数のラインパターンの近傍に基準位置を決めるパターンエッジを有する請求項1記載の露光装置の球面収差測定パターン。
- 請求項1記載の露光装置の球面収差測定パターンであって、焦点位置を変化させて、パターン後退量が異なる複数の測定パターンを形成する工程と、
前記測定パターンのパターン後退量を計測する工程と、
前記パターン後退量から最適焦点位置を求める工程とを含む露光装置の球面収差測定方法。 - パターン後退量は、測定パターン上を電子ビームで走査して検出した二次電子の量からラインパターンの端部によるピーク位置を検出することにより計測する請求項4記載の露光装置の球面収差測定方法。
- パターン後退量は、測定パターン上をレーザービームで走査して得られた反射光の量からラインパターンの端部によるピーク位置を検出することにより計測する請求項4記載の露光装置の球面収差測定方法。
- パターン後退量は、測定パターンを画像認識することで得られたイメージコントラストからラインパターンの端部によるピーク位置を検出することにより計測する請求項4記載の露光装置の球面収差測定方法。
- ラインパターンは片側または近傍に基準位置を決めるパターンエッジを有し、パターンの後退量は前記パターンエッジを基準にして測定される請求項4から請求項7のいずれか1項記載の露光装置の球面収差測定方法。
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JP2004005301A JP3808467B2 (ja) | 2004-01-13 | 2004-01-13 | 球面収差測定パターンおよび測定方法 |
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JP2019526064A (ja) * | 2016-06-10 | 2019-09-12 | アイメック・ヴェーゼットウェーImec Vzw | 半導体製造プロセスのための計測方法および装置 |
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