JP2005197588A - 露光装置におけるウエハの積載位置算出方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ウエハの裏面にゴミが付着したりして、ウエハに歪みが生じた場合でも、ウエハの位置測定に誤差を生じにくいウエハの積載位置算出方法を提供する。
【解決手段】 ウエハホルダ31とウエハ32の間に直径がdの球状のゴミ33が挟まり、そのことにより、ウエハの、このゴミ33の位置から半径Dの間の部分がウエハホルダ31より浮き上がアライメントマークが本来観測されるべき位置34と、実際に観測される位置35とが一致しなくなる。よって、アライメントマークの測定に先立ち、前記ウエハ面の前記アライメントマークが位置すると想定される部分の高さを測定し、測定された高さが所定範囲を超えている場合には、当該アライメントマークを、前記ウエハの載置位置の算出には使用しないようにする。
【選択図】 図1
【解決手段】 ウエハホルダ31とウエハ32の間に直径がdの球状のゴミ33が挟まり、そのことにより、ウエハの、このゴミ33の位置から半径Dの間の部分がウエハホルダ31より浮き上がアライメントマークが本来観測されるべき位置34と、実際に観測される位置35とが一致しなくなる。よって、アライメントマークの測定に先立ち、前記ウエハ面の前記アライメントマークが位置すると想定される部分の高さを測定し、測定された高さが所定範囲を超えている場合には、当該アライメントマークを、前記ウエハの載置位置の算出には使用しないようにする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、レチクルに形成されたパターンをウエハに露光転写する露光装置において、ウエハステージに載置されたウエハの位置を算出する方法に関するものである。
半導体デバイスの高密度化に伴い、その製造工程においてレチクルからウエハに露光転写すべきパターンが微細化している。このような微細なパターンを露光転写するには、光学式露光転写装置ではその解像度が不足しており、光学式露光転写装置に変わるものとして、電子線等の荷電粒子線を使用した露光転写装置の開発が進められている。
荷電粒子線露光装置においては、荷電粒子線源から放出された荷電粒子を、照明光学系を介してレチクル上に照射して照明し、レチクルに形成されたパターンを、投影光学系を介してウエハ上に結像させることにより、露光転写を行っている。
このような荷電粒子線露光装置の一例である電子線露光装置が、例えば特開平11−354421号公報(特許文献1)に記載されている。このような電子線露光装置の概要図を図4に示す。図4において、1は電子線、2はレチクル、3は主レンズ磁極、4は主レンズコイル、5は散乱アパーチャ、6はウエハ、7は偏向器コイル、8は像調整用レンズ、9はレチクルステージ、10は反射鏡、11はレチクルステージ用レーザ干渉計、12はレーザ光線、13はレーザ光源、14はレーザ光線、15はレチクル高さセンサ、16はステージ制御及び補正装置、17はレチクルステージ駆動用モータ、18はウエハステージ、19は反射鏡、20はウエハ測定用レーザ干渉計、21はレーザ光線、22はレーザ光源、23はレーザ光線、24はウエハ高さセンサ、25はウエハステージ駆動用モータ、26は反射電子検出器、27は像補正レンズ制御装置、28は偏向器制御装置である。
照明光学系よりの電子線1は、レチクル2を照射し、レチクルパターンを通過した電子線は、主レンズ磁極3及びレンズコイル4によりレンズ作用を受けて、散乱アパーチャ5を通過した後、ウエハ6上にレチクルパターンを結像する。電子線を偏向させてレチクル2上のサブフィールドをウエハ6の適当な位置に対応させるために、偏向器7が設けられている。また、像の高さ方向の結像位置、回転倍率を補正するために、像調整用レンズ8が設けられている。
レチクル2は、レチクルステージ9上に載置される。レチクルステージ9には反射鏡10が取り付けられ、レチクルステージ用レーザ干渉計11は、レーザ光線12をこの反射鏡9に照射し、その反射光を受光することによりレチクルステージ9の位置を測定する。図にはこのレチクルステージ用レーザ干渉計11は1セットしか図示されていないが、水平方向に離れた2つの平行する位置にそれぞれ平行に設置され、これら2つのレチクルステージ用レーザ干渉計により、レチクルステージ9の位置を2個所で測定することによって、レチクルステージ9の回転を測定するようになっている。又、レチクルステージ用レーザ干渉計11は、X軸、Y軸方向の各々に設けられている。レチクル2の高さ方向位置は、レーザ光源13よりレーザ光線14をレチクル2に照射し、その反射光をレチクル高さセンサ15で受光することにより測定される。このように、レチクル2の各部分の高さを検出するセンサをレチクルオートフォーカスセンサと呼んでいる。これらの各レチクル位置測定装置により測定されたレチクル位置は、ステージ制御及び補正装置16に入力される。
レチクルステージ9は、レチクルステージ駆動用モータ17により駆動される。図には1個しか示されていないが、実際にはレチクルステージ駆動用モータ17は、X軸用、Y軸用、Z軸(高さ方向)用、回転用の4個が使用されている。これらレチクルステージ駆動用モータ17は、ステージ制御及び補正装置16の指令により駆動される。
一方、ウエハ6は、ウエハステージ18上に載置される。ウエハステージ18には反射鏡19が取り付けられ、ウエハ測定用レーザ干渉計20は、レーザ光線21をこの反射鏡19に照射し、その反射光を受光することによりウエハステージ18の位置を測定する。図にはこのウエハ測定用レーザ干渉計20は1セットしか図示されていないが、水平方向に離れた2つの平行する位置にそれぞれ平行に設置され、これら2つのウエハ測定用レーザ干渉計により、ウエハ6の位置を2個所で測定することによって、ウエハ6の回転を測定するようになっている。ウエハ測定用レーザ干渉計20も、X軸、Y軸方向の各々に設けられている。ウエハ6の高さ方向位置は、レーザ光源22よりレーザ光線23をウエハ6に照射し、その反射光をウエハ高さセンサ24で受光することにより測定される。このように、ウエハ6の各部分の高さを検出するセンサをウエハオートフォーカスセンサと呼んでいる。これらの各ウエハ位置測定装置により測定されたウエハ位置は、ステージ制御及び補正装置16に入力される。
ウエハステージ18は、ウエハステージ駆動用モータ25により駆動される。ウエハステージ駆動用モータ25も、X軸用、Y軸用、Z軸(高さ方向)用、回転用の4個が使用されている。これらレチクルステージ駆動用モータ25は、ステージ制御及び補正装置16の指令により駆動される。
反射電子検出器26は、ウエハ6に設けられたチップ位置検出用マーク(アライメントマーク)からの反射電子を検出し、それによりチップの位置を検出し、ステージ制御及び補正装置16に出力する。
像の高さ方向の結像位置、回転、及び水平方向の結像位置を補正するために、像補正レンズ及び偏向器制御装置27、偏向器制御装置28が設けられ、その出力が、それぞれ像調整用レンズ8、偏向器コイル7に結合されている。像補正レンズ制御装置27、偏向器制御装置28はステージ制御及び補正装置16の出力により駆動される。
この電子線露光装置で、像水平方向位置ずれ、回転ずれ、焦点ずれを補正する方法としては、レチクルステージ9の位置を変更することによって行う方法、ウエハステージ18の位置を変更することによって行う方法、像補正レンズ制御装置27、偏向器制御装置28により、像調整用レンズ8、偏向器7を駆動して行う方法がある。前に説明したように、ステージ位置の変更により補正する方法は、補正可能範囲は広いが応答が遅い、像補正レンズ及び偏向器制御装置27、偏向器制御装置28により補正する方法は、補正範囲は狭いが応答が速い。これらの補正方式の特徴を生かして、これらを組み合わせて像の補正を行う。
前述のように、電子線露光装置のような荷電粒子線露光装置には、ウエハに設けられたアライメントマークの位置を測定する装置(干渉計や反射電子検出器等)が設けられている。これは、レチクルとウエハの位置合わせを正しく行うためである。通常、ウエハ上には複数層のパターンを有する層が形成されるが、これらの層間の位置がずれると、形成される半導体デバイスが、所望の特性を有しなくなることがある。そのため、各層に対して、レチクルに形成されたパターンを正しい位置に露光転写する必要がある。
すなわち、ウエハは、一つの層の露光が終わるとウエハステージから取り外され、レジストの現像やエッチングの終了後に、次の層の形成のため再びレジストを塗布されてからウエハステージに載置されるが、そのとき、ウエハステージへの載置位置が、前の層の露光を行うときの載置位置とは異なってくる。荷電粒子線露光装置でウエハ位置として測定されているのは、実際にはウエハステージの位置であるので、ウエハステージとウエハとの位置関係を、別の方法で測定しておく必要がある。
アライメントマークは、このような目的で設けられるもので、アライメントマークが目的とする位置に来るようにウエハステージを調整し、調整しきれなかった誤差については、荷電粒子線光学系(偏向器等)を調整することにより補正するようになっている。このような目的に使用されるアライメントマークは、ウエハの各層毎に複数個形成され、複数個のアライメントマークの位置を測定することにより、測定上の誤差を小さくする方法が採用され、EGA(Enhanced Global Arraignment)と呼ばれている。EGAの詳細な手法については、例えばUSP4,780,617号(特許文献2)に記載されている。
しかしながら、複数個のアライメントマークの位置を測定し、その結果に基づいて感光基板の位置を測定するこのような方式においては、選択されたアライメントマークの一部が大きな位置測定誤差を有していた場合に、全体のアライメント結果に誤差を発生させることになる。このように、選択されたアライメントマークの一部が大きな位置測定誤差を有する原因として、前工程に起因する場合があり、このような場合は誤差の発生を防ぐことは困難であるが、その発生頻度は少ない。
実際にこのような誤差を発生させる原因の多くは、ウエハの裏面に付着するゴミである。すなわち、ウエハの裏面にゴミが付着した場合には、その分、ウエハが上方に膨らんだ歪みを生じ、その結果、アライメントマークの検出位置に誤差を生じることになる。そして、前述のように、この誤差が、全体のウエハの位置測定に誤差を生じさせることになる。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、ウエハの裏面にゴミが付着したりして、ウエハに歪みが生じた場合でも、ウエハの位置測定に誤差を生じにくいウエハの積載位置算出方法を提供することを課題とする。
前記課題を解決するための第1の手段は、露光装置において、ウエハに形成された複数のアライメントマークの位置を測定し、その測定データに基づいて前記ウエハの載置位置を算出する方法であって、前記アライメントマークの測定に先立ち、前記ウエハ面の前記アライメントマークが位置すると想定される部分の高さを測定し、測定された高さが所定範囲を超えている場合には、その部分にあるアライメントマークを、前記ウエハの載置位置の算出には使用しないことを特徴とする露光装置におけるウエハの積載位置算出方法(請求項1)である。
本手段においては、ウエハ面の、アライメントマークが位置すると想定される部分の高さを測定し、測定された高さが所定範囲を超えている場合には、その部分にあるアライメントマークを、ウエハの載置位置の算出には使用しないようにしているので、ウエハの歪みに起因して大きな測定誤差を有する可能性のあるアライメントマークのデータを排除でき、その影響により全体に誤差が発生することを防止することができる。
前記課題を解決するための第2の手段は、前記第1の手段であって、通常使用するアライメントマークの他に、その代用となるアライメントマークを別に設けておき、前記通常使用するアライメントマークを使用しない場合には、代わりに、前記代用となるアライメントマークを使用することを特徴とするもの(請求項2)である。
本手段においては、代用のアライメントマークを用いることにより、測定データ数が少なくなるのを防止することができる。
前記課題を解決するための第3の手段は、前記第1の手段又は第2の手段であって、前記ウエハ面の高さを、前記露光装置に付属されているウエハオートフォーカスセンサにより測定することを特徴とするもの(請求項3)である。
通常の露光装置は、露光中にウエハの露光部分の高さを測定し、その高さ変動に伴う像のボケ、歪みを補償するようにするために、ウエハオートフォーカスセンサと呼ばれるウエハ面の高さセンサを有している。第1の手段において、このセンサを、ウエハの表面の高さを測定するために使用することにより、特別のセンサを設ける必要が無くなる。
本発明によれば、ウエハの裏面にゴミが付着したりして、ウエハに歪みが生じた場合でも、ウエハの位置測定に誤差を生じにくいウエハの積載位置算出方法を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態の例を、図を用いて説明する。始めに、EGAを行う際の、ウエハの位置測定の誤差の発生について説明する。今、アライメントマークがN個あるとし、そのうちi番目の一つのアライメントマークに着目して、そのアライメントマークが存在すべき位置を(Xi,Yi)とし、それに対して、ウエハ全体が線形的に変形・位置ずれを生じた場合に観測される、そのアライメントマークの位置を(X’i,Y’i)とすると、これらの間には以下の関係式が成り立つ。
ここに、Sxはx方向倍率誤差、Syはy方向倍率誤差、θは回転誤差、ωは直交度誤差、Oxはx方向位置誤差、Oyはy方向位置誤差である。
今、N個のアライメントマークについて、それぞれ(Xi,Yi)と、(X’i,Y’i)の実測値である(δxi,δyi)を求め、これらの関係から最小二乗法を用いてSx、Sy、θ、ω、Ox、Oyを求める式は、周知の最小二乗法による解の式を当てはめ、
により得られる。ここに各シグマは、iについて1からNまでとるものとする(これは、以下の式についても同じである)。
今、N個の各アライメントマークが、ウエハの中心を中心とする円上に等間隔で設けられているものとし、その円の半径をrとすると、i番目のアライメントマークが存在すべき位置を(Xi,Yi)は(rcosΘ,rsinΘ)で表される。ここにΘ=2πi/N(i=1〜N)である。これを(2)式の右辺の逆行列に代入すると、
となる。これにより(2)式は、
と表される。
従ってN個のアライメントマークのうちk番目のものだけが歪みや変形により大きくずれて非線形誤差(δXNL,δYNL)を発生し、その他のアライメントマークはほぼ線形性を保っているとすると、その場合と、全てのアライメントマークが線形性を保っている場合との線形誤差成分の差は、
で表される。但し、(5)式の左辺で各線形誤差成分を示す記号にδを付けたものが、前述の各線形誤差成分の差を示す。
よって、N個のアライメントマークのうちk番目のものだけが歪みや変形により大きくずれて非線形誤差(δXNL,δYNL)を発生し、その他のアライメントマークはほぼ線形性を保っている場合に発生する、N個のアライメントマークの位置測定によって決定されるウエハ上の露光位置の誤差(δX,δY)は(1)式と(5)式より、
となる。但し、(X,Y)は、全てのアライメントマークが線形性を保っている場合にて決定されるウエハ上の露光位置である。
ここで、ウエハホルダとウエハの間に球状のゴミが挟まったような簡単なモデルを考える。図1にこのようなモデルを示す。ウエハホルダ31とウエハ32の間に直径がdの球状のゴミ33が挟まり、そのことにより、ウエハの、このゴミ33の位置から半径Dの間の部分がウエハホルダ31より浮き上がり、浮き上がり方が図に示すように断面が直線状であったとする。
ウエハ32の厚さをtとすると、幾何学的な関係より、アライメントマークが本来観測されるべき位置34と、実際に観測される位置35との間の距離δNLは、
δNL=td/D
で示される。例えばt=725μm、d=1μm、D=5mmとすると、δNL=145nmとなる。
δNL=td/D
で示される。例えばt=725μm、d=1μm、D=5mmとすると、δNL=145nmとなる。
例えば、図2に示すように、ウエハ32の中心から半径70mmの位置に、8つのアライメントマークAR1〜AR8が等間隔で設けられ、そのうちのアライメントマークAR1の下にゴミ33があり、上述のような条件が成り立つような場合には、N=8、r=70mm、(Xk,Yk)=(0,70mm),δxNL=δyNL=145μmである。今、露光位置36を(X,Y)=(0,90mm)とすると、これらの値とアライメントマークAR1〜AR8のあるべき位置座標を(6)式に代入することにより、δX=18nm、δY=65nmという露光位置誤差が生じることになる。これは、露光転写精度上無視できない値となる。よって、このような場合には、アライメントマークAR1を除外して、アライメントマークAR2〜AR8のみで計算を行うことが望ましい。
又、図3に示すように、アライメントマークAR1の近くに、アライメントマークAR1の代用となる第2順位アライメントマークAR1a、第3順位アライメントマークAR1b、第4順位アライメントマークAR1cを作っておき、アライメントマークAR1が測定に不適当と判断されたときは、この順位に従って最初に適当と判断されるアライメントマークを、アライメントマークAR1の代わりに使用するようにしてもよい。なお、図3において図示を省略しているが、他のアライメントマークAR2〜AR8の近くにも、順位付けされた代用のアライメントマークがアライメントマークAR1に対するのと同じように設けられている。
このようにアライメントマークが、ウエハ位置の算出に使用するのに適当であるかどうかは、アライメントマークが存在する位置の近傍におけるウエハの高さを測定し、その高さが所定値以上であるときに不適当であると判断して、そのアライメントマークをウエハ位置の算出に使用しないようにすればよい。
この場合、「所定値」をいくらにするかは、例えば図1に示すようなモデルを作り、一つのアライメントマークがある高さだけずれたときにウエハの位置誤差に与える値を計算し、その値が許容される限界である場合に対応する高さを「所定値」とすればよい。
実際には、図4に示すような荷電粒子線露光装置において、ウエハの位置測定に先立ち、ウエハオートフォーカスセンサを使用して、アライメントマークが位置する近傍のウエハの高さを測定する。そして、その高さが「所定値」を超えている場合には、そのアライメントマークをウエハの位置計算に使用しないで計算を行うか、前述のように第2順位以下のアライメントマークを代用して計算を行うようにする。
なお、本発明は、電子線等を使用した荷電粒子線露光装置、EUV、X線、ArF、KrF、i線等の光を用いた露光装置に適用が可能である。
31…ウエハホルダ、32…ウエハ、33…ゴミ、34…アライメントマークが本来観測されるべき位置、35…アライメントマークが実際に観測される位置、AR1〜AR8…アライメントマーク、AR1a…第2順位アライメントマーク、AR1b…第3順位アライメントマーク、AR1c…第4順位アライメントマーク
Claims (3)
- 露光装置において、ウエハに形成された複数のアライメントマークの位置を測定し、その測定データに基づいて前記ウエハの載置位置を算出する方法であって、前記アライメントマークの測定に先立ち、前記ウエハ面の前記アライメントマークが位置すると想定される部分の高さを測定し、測定された高さが所定範囲を超えている場合には、その部分にあるアライメントマークを、前記ウエハの載置位置の算出には使用しないことを特徴とする露光装置におけるウエハの積載位置算出方法。
- 通常使用するアライメントマークの他に、その代用となるアライメントマークを別に設けておき、前記通常使用するアライメントマークを使用しない場合には、代わりに、前記代用となるアライメントマークを使用することを特徴とする請求項1に記載の露光装置におけるウエハの積載位置算出方法。
- 前記ウエハ面の高さを、前記露光装置に付属されているウエハオートフォーカスセンサにより測定することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の露光装置におけるウエハの積載位置算出方法。
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JP2004004248A JP2005197588A (ja) | 2004-01-09 | 2004-01-09 | 露光装置におけるウエハの積載位置算出方法 |
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