JP2005194454A - Anti-static agent, seed powder, method for polymerizing olefin and method for producing olefin polymer - Google Patents

Anti-static agent, seed powder, method for polymerizing olefin and method for producing olefin polymer Download PDF

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JP2005194454A JP2004003918A JP2004003918A JP2005194454A JP 2005194454 A JP2005194454 A JP 2005194454A JP 2004003918 A JP2004003918 A JP 2004003918A JP 2004003918 A JP2004003918 A JP 2004003918A JP 2005194454 A JP2005194454 A JP 2005194454A
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友彰 後藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an olefin polymer in a good efficiency by suppressing sheeting in a gas phase fluidized bed type polymerization, a method for polymerizing an olefin in a good efficiency, and a material for them. <P>SOLUTION: The subject anti-static agent consists of a silicon compound expressed by the formula (I): R<SB>r</SB>Si(OR')<SB>4-r</SB>[wherein, R, R' are each independently a 1-20C hydrocarbon; (r) is 2 or 3; in the case that a plurality of the Rs present, they may be the same or different; and also in the case that a plurality of the R's present, they may be the same or different]. The method for producing the olefin polymer comprises filling seed powder attached with the silicon compound in a gas phase fluidized bed type polymerization reaction vessel, then initiating the polymerization to polymerize the olefins, and also the method for producing the olefin polymer comprise using the gas phase fluidized bed type polymerization reaction vessel coated with the silicon compound expressed by the formula (I) on its inside wall surface, to polymerize the olefin. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、帯電防止剤、気相流動床式重合反応器中に充填するシードパウダーならびに気相流動床式重合反応器を用いるオレフィン類の重合方法およびオレフィン重合体の製造方法に関するものである。   The present invention relates to an antistatic agent, seed powder charged in a gas phase fluidized bed polymerization reactor, an olefin polymerization method using the gas phase fluidized bed polymerization reactor, and an olefin polymer production method.

近年、オレフィン類の重合方法としては、一般的に、懸濁重合や溶液重合等の他の重合体製造プロセスと比較して投資が少なく、エネルギーコストが少ない気相重合状態で行う気相重合方法が多く用いられている。気相重合反応装置としては、通常、流動層を利用した流動床式反応器が用いられている。気相流動床式重合反応器とは、装置下部の細孔を多数有する板(これをガス分散板と呼ぶ。)から導入したガスにより、反応器内部に充填された粉体粒子を浮遊させた状態の層(これを流動層または流動床と呼ぶ。)で反応を行うものである。   In recent years, as a polymerization method of olefins, a gas phase polymerization method generally performed in a gas phase polymerization state with less investment and less energy cost compared to other polymer production processes such as suspension polymerization and solution polymerization. Is often used. As a gas phase polymerization reaction apparatus, a fluidized bed reactor using a fluidized bed is usually used. The gas phase fluidized bed polymerization reactor is a suspension of powder particles filled in the reactor by a gas introduced from a plate having a large number of pores at the bottom of the apparatus (this is called a gas dispersion plate). The reaction is performed in a bed in a state (this is called a fluidized bed or a fluidized bed).

このような気相流動床式重合反応器は通常、円筒状の流動層部および希薄層部(この2つを合わせて直胴部と呼ぶ。)と円錐形連行離脱部(これを拡大部と呼ぶ。)をもつ。また重合を開始する際には、窒素等の不活性ガス雰囲気下でシードパウダーを反応器に供給し、原料となるモノマー、分子量調節に用いられる水素、不活性ガスである窒素等により重合圧力まで昇圧し、ガス組成を調整したのちに、触媒を投入して重合を開始する。   Such a gas-phase fluidized bed polymerization reactor usually has a cylindrical fluidized bed portion and a dilute layer portion (the two are collectively referred to as a straight body portion) and a conical entrained separation portion (this is referred to as an enlarged portion). Called). When starting the polymerization, the seed powder is supplied to the reactor under an inert gas atmosphere such as nitrogen, and the polymerization pressure is increased by the monomer as a raw material, hydrogen used for molecular weight adjustment, nitrogen as an inert gas, etc. After increasing the pressure and adjusting the gas composition, the catalyst is introduced to start the polymerization.

かかる気相重合においては、流動層における粒子間の摩擦や粒子と反応器内壁との摩擦によって発生する静電気によって、流動層を形成する粉体粒子(シードパウダーや重合により成長した触媒含有重合体パウダー)が反応器内壁面に付着し、除熱不良によって、シート状塊化物が形成する場合がある。このシート状塊化物の形成はシーティングと呼ばれている。シート状塊化物は堆積して重くなると、壁面から剥離して、製品の排出口を塞いだり、ガス分散板の細孔を詰まらせたりする等、気相重合を安定的に運転するのが、困難になる場合がある。   In such gas phase polymerization, powder particles (seed powder or catalyst-containing polymer powder grown by polymerization) are formed by the static electricity generated by friction between particles in the fluidized bed or friction between the particles and the inner wall of the reactor. ) May adhere to the inner wall surface of the reactor, and a sheet-like agglomerate may be formed due to poor heat removal. The formation of this sheet-like agglomerate is called sheeting. When the sheet-like agglomerated material accumulates and becomes heavy, it is peeled off from the wall surface, blocking the outlet of the product, clogging the pores of the gas dispersion plate, etc. It can be difficult.

かかるシーティングを防止する方法として、特許文献1には、気相流動床式重合反応器を用いる重合反応の最中に、テトラエトキシシランをフィードする例が開示されている。   As a method for preventing such sheeting, Patent Document 1 discloses an example in which tetraethoxysilane is fed during a polymerization reaction using a gas phase fluidized bed polymerization reactor.

米国特許第5731392号明細書US Pat. No. 5,731,392

しかしながら、特許文献1の方法では重合活性の低下を招くことがあった。本発明の目的は、気相流動床式重合におけるシーティングを抑制し、効率よくオレフィン重合体を製造する方法および効率よくオレフィン類を重合する方法、並びにそのための資材を提供することにある。   However, the method of Patent Document 1 sometimes causes a decrease in polymerization activity. An object of the present invention is to provide a method for efficiently producing an olefin polymer, a method for efficiently polymerizing olefins, and materials therefor, by suppressing sheeting in gas phase fluidized bed polymerization.

本発明は、式(I)で表わされるケイ素化合物からなる帯電防止剤にかかるものである。また本発明は、気相流動床式重合反応器中に充填するシードパウダーであって、式(I)で表わされるケイ素化合物を付着させたシードパウダーにかかるものであり、該ケイ素化合物を付着させたシードパウダーを気相流動床式重合反応器中に充填した後に重合を開始するオレフィン類の重合方法、および、該ケイ素化合物を付着させたシードパウダーを気相流動床式重合反応器中に充填した後に重合を開始して、オレフィン類を重合するオレフィン重合体の製造方法にかかるものである。さらに本発明は、内壁面に式(I)で表わされるケイ素化合物を塗布した気相流動床式重合反応器を用いてオレフィン類を重合するオレフィン重合体の製造方法にかかるものである。
rSi(OR’)4-r (I)
(式中、RおよびR’はそれぞれ独立に炭素原子数1〜20の炭化水素基であり、rは2または3であり、複数存在する場合のRは互いに同じであっても異なっていてもよく、複数存在する場合のR’は互いに同じであっても異なっていてもよい。)
The present invention relates to an antistatic agent comprising a silicon compound represented by the formula (I). The present invention also relates to a seed powder to be filled in a gas phase fluidized bed polymerization reactor, which is applied to the seed powder to which the silicon compound represented by the formula (I) is attached. Method of starting olefins after filling the seed powder into the gas phase fluidized bed polymerization reactor, and filling the seed powder with the silicon compound attached into the gas phase fluidized bed polymerization reactor Then, the polymerization is started and the method for producing an olefin polymer for polymerizing olefins is applied. Furthermore, the present invention relates to a method for producing an olefin polymer in which olefins are polymerized using a gas phase fluidized bed polymerization reactor in which a silicon compound represented by the formula (I) is coated on the inner wall surface.
R r Si (OR ′) 4-r (I)
(In the formula, R and R ′ are each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, r is 2 or 3, and when there are plural Rs, they may be the same or different from each other). Well, when there are a plurality of R ′, they may be the same or different.)

本発明によれば、気相流動床式重合におけるシーティングを抑制し、効率よくオレフィン重合体を製造する方法および効率よくオレフィン類を重合する方法、並びにそのための資材が提供される。   According to the present invention, there are provided a method for efficiently producing an olefin polymer, a method for efficiently polymerizing olefins, and materials therefor, while suppressing sheeting in gas phase fluidized bed polymerization.

以下に本発明について詳細に説明する。
本発明において、「重合」という語は単独重合のみならず共重合を包含したものであり、また「重合体」という語は単独重合体のみならず共重合体を包含したものである。
The present invention is described in detail below.
In the present invention, the term “polymerization” includes not only homopolymerization but also copolymerization, and the term “polymer” includes not only homopolymers but also copolymers.

本発明で帯電防止剤として用いられる化合物は、式(I)で表わされるケイ素化合物である。
rSi(OR’)4-r (I)
(式中、RおよびR’はそれぞれ独立に炭素原子数1〜20の炭化水素基であり、rは2または3であり、複数存在する場合のRは互いに同じであっても異なっていてもよく、複数存在する場合のR’は互いに同じであっても異なっていてもよい。)
The compound used as an antistatic agent in the present invention is a silicon compound represented by the formula (I).
R r Si (OR ′) 4-r (I)
(In the formula, R and R ′ are each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, r is 2 or 3, and when there are plural Rs, they may be the same or different from each other). Well, when there are a plurality of R ′, they may be the same or different.)

RおよびR’における炭素原子数1〜20の炭化水素基としては、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基等が挙げられ、好ましくは、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基または炭素原子数3〜20のアルケニル基が好ましい。   Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R and R ′ include an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, and an alkenyl group, and preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and the number of carbon atoms. A 7-20 aralkyl group, an aryl group having 6-20 carbon atoms, or an alkenyl group having 3-20 carbon atoms is preferred.

炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ペンタデシル基、n−エイコシル基などが挙げられ、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、イソブチル基またはアミル基である。   Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, Neopentyl group, amyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, n-eicosyl group, etc. are mentioned, more preferably methyl group, ethyl group, isopropyl Group, tert-butyl group, isobutyl group or amyl group.

炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、例えばベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(3,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−ドデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられ、より好ましくはベンジル基である。   Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms include benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, and (2,3-dimethylphenyl). ) Methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, (3 , 5-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, (3 , 4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,4,5-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3,4) 6-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methyl group, (pentamethylphenyl) methyl group, (ethylphenyl) methyl group, (n-propylphenyl) methyl group, ( Isopropylphenyl) methyl group, (n-butylphenyl) methyl group, (sec-butylphenyl) methyl group, (tert-butylphenyl) methyl group, (n-pentylphenyl) methyl group, (neopentylphenyl) methyl group, (N-hexylphenyl) methyl group, (n-octylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group, (n-dodecylphenyl) methyl group, naphthylmethyl group, anthracenylmethyl group, etc. More preferred is a benzyl group.

炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えばフェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられ、より好ましくはフェニル基である。   Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl group, 2-tolyl group, 3-tolyl group, 4-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,4-xylyl group, and 2,5-xylyl group. Group, 2,6-xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethyl Phenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl group, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2 , 3,5,6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, ethylphenyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, n-butylphenyl group, sec-butylphenyl group, tert-butyl group Nyl group, n-pentylphenyl group, neopentylphenyl group, n-hexylphenyl group, n-octylphenyl group, n-decylphenyl group, n-dodecylphenyl group, n-tetradecylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group More preferred is a phenyl group.

炭素原子数3〜20のアルケニル基としては、例えばアリル基、メタリル基、クロチル基、1,3−ジフェニル−2−プロペニル基などが挙げられ、より好ましくはアリル基またはメタリル基である。   Examples of the alkenyl group having 3 to 20 carbon atoms include an allyl group, a methallyl group, a crotyl group, a 1,3-diphenyl-2-propenyl group, and more preferably an allyl group or a methallyl group.

上記Rとしてより好ましくは、アルキル基、アラルキル基またはアリール基であり、さらに好ましくはアルキル基である。
上記R’としてより好ましくは、アルキル基、アラルキル基またはアリール基であり、さらに好ましくはアルキル基である。
R is more preferably an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group, and still more preferably an alkyl group.
R ′ is more preferably an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group, and still more preferably an alkyl group.

上記式(I)におけるrは2または3であり、2であることが好ましい。
rが2のとき、RもR’も2つずつ存在することになるが、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。rが3のとき、Rは3つ存在することになるが、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。
R in the above formula (I) is 2 or 3, and is preferably 2.
When r is 2, both R and R ′ exist, but they may be the same or different. When r is 3, there are three Rs, which may be the same or different.

本発明の上記式(I)で表わされるケイ素化合物からなる帯電防止剤は、オレフィン類の気相重合用帯電防止剤として好適に用いられる。本発明の帯電防止剤をオレフィン類の気相重合用帯電防止剤として用いる際の態様としては、(A)重合を開始する際に予め反応器に供給しておくシードパウダーに該帯電防止剤を付着させておく方法や、(B)気相流動床式重合反応器の内壁面に該停電防止剤を塗布しておく方法が挙げられる。   The antistatic agent comprising the silicon compound represented by the above formula (I) of the present invention is suitably used as an antistatic agent for gas phase polymerization of olefins. As an aspect when the antistatic agent of the present invention is used as an antistatic agent for gas phase polymerization of olefins, (A) the antistatic agent is added to the seed powder previously supplied to the reactor when the polymerization is started. Examples thereof include a method of adhering and (B) a method of applying the power failure preventing agent to the inner wall surface of the gas phase fluidized bed polymerization reactor.

前記(A)の態様の場合、シードパウダーとしては、前記した上記式(I)で表わされるケイ素化合物を付着させたシードパウダーを調製する。   In the case of the embodiment (A), as the seed powder, a seed powder to which the silicon compound represented by the above formula (I) is attached is prepared.

該ケイ素化合物をシードパウダーに付着させる手段としては、シードパウダーに該ケイ素化合物を付着させうる方法であれば特に限定されない。例えば、該ケイ素化合物とシードパウダーとを、V−ブレンダー等のV型混合機、リボンブレンダー等のリボン型混合機、タンブラブレンダー等のタンブラー型混合機、ヘンシェルミキサー等の加振機付撹拌型混合機などで混合する方法がある。また、シードパウダーのストックドラムにおいて、シードパウダーの上方から窒素雰囲気下で該ケイ素化合物を噴霧する方法もある。その際には、該ケイ素化合物を炭化水素溶媒等の適当な溶媒で希釈してもよい。またストックドラムに攪拌機が設置されていてもよい、
また、シードパウダーの一部に該ケイ素化合物を高濃度で付着させ、該ケイ素化合物を付着させていないシードパウダーにそれを混合して希釈して用いてもよい。
The means for attaching the silicon compound to the seed powder is not particularly limited as long as the silicon compound can be attached to the seed powder. For example, the silicon compound and seed powder are mixed with a V-type mixer such as a V-blender, a ribbon-type mixer such as a ribbon blender, a tumbler-type mixer such as a tumbler blender, or a stirring type mixer with a shaker such as a Henschel mixer. There is a method of mixing with a machine. There is also a method of spraying the silicon compound in a nitrogen atmosphere from above the seed powder in a seed powder stock drum. In that case, the silicon compound may be diluted with a suitable solvent such as a hydrocarbon solvent. Also, a stirrer may be installed on the stock drum.
Alternatively, the silicon compound may be adhered to a part of the seed powder at a high concentration, and mixed with a seed powder to which the silicon compound is not adhered may be diluted.

該ケイ素化合物の付着量は、少なすぎると、帯電防止作用が発現しない場合があり、しかしあまり多くしても、量の割にあまり効果が見られないことがある。該付着量は、0.01〜1000wtppmが好ましく、0.1〜400wtppmがより好ましく、1〜300wtppmがさらに好ましく、5〜200wtppmが特に好ましい。   If the adhesion amount of the silicon compound is too small, the antistatic action may not be exhibited. However, if the amount is too large, the effect may not be seen for the amount. The adhesion amount is preferably 0.01 to 1000 wtppm, more preferably 0.1 to 400 wtppm, further preferably 1 to 300 wtppm, and particularly preferably 5 to 200 wtppm.

前記(B)の態様の場合、前記した上記式(I)で表わされるケイ素化合物を、気相流動床式重合反応器の内壁面に予め塗布する。   In the case of the embodiment (B), the silicon compound represented by the above formula (I) is applied in advance to the inner wall surface of the gas phase fluidized bed polymerization reactor.

塗布する範囲は、ガス分散板および直胴部の壁面等の反応器と、流動している粉体粒子とが接触している部位全体の5%以上であることが好ましく、該部位全体の25%以上であることがより好ましく、該部位全体であることが最も好ましい。
また塗布する量としては、単位壁面に対して該ケイ素化合物を0.01〜10g/mの量で塗布するのが好ましく、0.05〜2g/mの量で塗布するのがさらに好ましい。塗布量が少なすぎると、帯電防止作用が発現しない場合があるし、塗布量をあまり多くしてもそれほど効果があがらないことがある。
The coating range is preferably 5% or more of the entire region where the reactor such as the gas dispersion plate and the wall surface of the straight body part and the flowing powder particles are in contact with each other, and 25% of the entire region. % Is more preferable, and the entire region is most preferable.
As the amount of coating, it is preferable to applying the silicon compound in an amount of 0.01 to 10 g / m 2 with respect to the unit wall, further preferably applied in an amount of 0.05 to 2 g / m 2 . If the coating amount is too small, the antistatic effect may not be exhibited, and even if the coating amount is too large, the effect may not be improved so much.

気相重合開始にあたって、シードパウダーを反応器に供給し、原料モノマー、水素等で重合圧力まで昇圧を実施する立ち上げの段階で、流動床式重合反応器内が静電気帯電してしまうと、その後に帯電除去処置を施そうとしても、有効に処置できないことがある。
上記のような化合物を付着させたシードポリマーを用いたり(態様A)、上記のような化合物を重合開始前に予め内壁面に塗布しておく(態様B)と、立ち上げの段階での帯電防止が主要な問題となる場合に特に有効である。
At the start of gas phase polymerization, seed powder is supplied to the reactor, and the fluidized bed polymerization reactor is charged electrostatically at the start-up stage where the pressure is increased to the polymerization pressure with raw material monomers, hydrogen, etc. Even if an attempt is made to apply a charge removal treatment to the surface, the treatment may not be effective.
Charging at the stage of start-up can be achieved by using a seed polymer to which the above compound is attached (Aspect A) or by applying the above compound to the inner wall surface in advance before the start of polymerization (Aspect B). This is especially effective when prevention is a major problem.

本発明において、オレフィン重合体を製造する際に用いられる触媒としては、均一系触媒を用いて分子量分布の広いオレフィン重合体を製造する際には、立ち上げの段階での帯電が主要な問題となるが、重合開始後の帯電は比較的問題とならないことから、本発明は、均一系触媒を用いる分子量分布の広いオレフィン重合体の製造に特に好適に適用される。   In the present invention, as a catalyst used when producing an olefin polymer, when producing an olefin polymer having a wide molecular weight distribution using a homogeneous catalyst, charging at the start-up stage is a major problem. However, since charging after the start of polymerization is relatively unproblematic, the present invention is particularly preferably applied to the production of an olefin polymer having a wide molecular weight distribution using a homogeneous catalyst.

一般に気相重合法においては、触媒として、固体成分を含む触媒について予備重合処理を施して得た予備重合触媒が用いられる。本発明では均一系触媒として均一系固体触媒が通常用いられる。   In general, in a gas phase polymerization method, a prepolymerized catalyst obtained by subjecting a catalyst containing a solid component to a prepolymerization treatment is used as a catalyst. In the present invention, a homogeneous solid catalyst is usually used as the homogeneous catalyst.

かかる均一系固体触媒としては、シリカなどの無機金属酸化物担体に遷移金属化合物、およびメチルアルミノキサン等のアルミノキサンを固定化、担持したもの(例えば、特開昭60−35006号公報、特開昭60−35007号公報、特開昭60−35008号公報);遷移金属化合物、ホウ素化合物、および担体から得られる均一系固体触媒、または遷移金属化合物、ホウ素化合物、有機アルミニウム化合物、および担体から得られる均一系固体触媒(特表平5−502906号公報や特開平6−336502号公報);ならびに;アルミノキサンやホウ素化合物の代替物として、粘土鉱物をその層間にカチオン導入可能な化合物で処理した変性粘土と、遷移金属化合物および有機アルミニウム化合物からなる均一系固体触媒(特開平7−224106号公報)が挙げられる。   As such a homogeneous solid catalyst, a transition metal compound and an aluminoxane such as methylaluminoxane are immobilized and supported on an inorganic metal oxide carrier such as silica (for example, JP-A-60-35006, JP-A-60). -35007, JP-A-60-35008); homogeneous solid catalyst obtained from transition metal compound, boron compound and carrier, or homogeneous obtained from transition metal compound, boron compound, organoaluminum compound and carrier And a modified clay obtained by treating a clay mineral with a compound capable of introducing a cation between its layers, as an alternative to an aluminoxane or boron compound, and a solid catalyst (Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-502906 and JP-A-6-336502); , Solid metal catalyst comprising transition metal compound and organoaluminum compound -224106 JP) and the like.

中でも、遷移金属化合物(A)、有機アルミニウム化合物(B)、並びに、改質された粒子(C)を接触させて得られるオレフィン重合用触媒であって、該改質された粒子(C)が、有機金属化合物(a)、活性水素と電子吸引性基とを有する化合物(b)および粒子(d)を接触させて得られる改質された粒子であるオレフィン重合用固体触媒が好ましい。
以下、この好ましいオレフィン重合用固体触媒について詳しく説明する。
Among them, a catalyst for olefin polymerization obtained by contacting a transition metal compound (A), an organoaluminum compound (B), and modified particles (C), wherein the modified particles (C) A solid catalyst for olefin polymerization, which is a modified particle obtained by bringing the organometallic compound (a), the compound (b) having active hydrogen and an electron-withdrawing group into contact with the particle (d), is preferable.
Hereinafter, this preferred solid catalyst for olefin polymerization will be described in detail.

(A)遷移金属化合物
上記遷移金属化合物(A)としてはシングルサイト触媒を形成する遷移金属化合物が使用され、改質された粒子(C)および有機アルミニウム化合物(B)を活性化用共触媒成分として用いることにより付加重合活性を示す第3〜11族もしくはランタノイド系列の遷移金属化合物であれば特に制限はない。なお、ここでいうシングルサイト触媒は、分子量分布が狭く、共重合の場合には組成分布が狭いオレフィン重合体の得られる狭義のシングルサイト触媒のみならず、そのような狭義のシングルサイト触媒と似た調整法で得られる触媒であれば、分子量分布が広い付加重合体や、共重合の場合に組成分布が広い付加重合体の得られる触媒も含まれる。
(A) Transition metal compound As the transition metal compound (A), a transition metal compound that forms a single site catalyst is used, and the modified particles (C) and the organoaluminum compound (B) are activated as cocatalyst components. There is no particular limitation as long as it is a Group 3-11 or lanthanoid series transition metal compound exhibiting addition polymerization activity. The single-site catalyst referred to here is not only a narrowly-defined single-site catalyst that has a narrow molecular weight distribution and, in the case of copolymerization, a narrow composition distribution, but is similar to such a narrowly-defined single-site catalyst. If the catalyst is obtained by the above-described adjustment method, an addition polymer having a broad molecular weight distribution and a catalyst capable of obtaining an addition polymer having a wide composition distribution in the case of copolymerization are also included.

かかる遷移金属化合物(A)としては、下記一般式[1]で表される遷移金属化合物またはそのμ−オキソタイプの遷移金属化合物二量体が好ましい。
aMX1 b [1]
(式中、Mは周期律表第3〜11族もしくはランタノイド系列の遷移金属原子である。Lはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有する基であり、複数のLは互いに直接連結されているか、または、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。X1 はハロゲン原子、炭化水素基(但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く)、または炭化水素オキシ基である。aは0<a≦8を満足する数を、bは0<b≦8を満足する数を表す。)
The transition metal compound (A) is preferably a transition metal compound represented by the following general formula [1] or a μ-oxo type transition metal compound dimer thereof.
L a MX 1 b [1]
(In the formula, M is a transition metal atom of Groups 3 to 11 of the periodic table or a lanthanoid series. L is a group having a cyclopentadiene type anion skeleton or a group containing a hetero atom, and a plurality of L are directly Or may be linked via a residue containing a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom, X 1 is a halogen atom, a hydrocarbon group (provided that And a hydrocarbon oxy group, a represents a number satisfying 0 <a ≦ 8, and b represents a number satisfying 0 <b ≦ 8.)

一般式[1]において、Mは周期律表(IUPAC1989年)第3〜11族もしくはランタノイド系列の遷移金属原子である。その具体例としては、スカンジウム原子、イットリウム原子、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子、バナジウム原子、ニオビウム原子、タンタル原子、クロム原子、鉄原子、ルテニウム原子、コバルト原子、ロジウム原子、ニッケル原子、パラジウム原子、サマリウム原子、イッテルビウム原子等が挙げられる。一般式[1]におけるMとして好ましくは、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子、バナジウム原子、クロム原子、鉄原子、コバルト原子またはニッケル原子であり、特に好ましくはチタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子であり、最も好ましくはジルコニウム原子である。   In the general formula [1], M is a transition metal atom of Group 3 to 11 or lanthanoid series of the periodic table (IUPAC 1989). Specific examples thereof include scandium atom, yttrium atom, titanium atom, zirconium atom, hafnium atom, vanadium atom, niobium atom, tantalum atom, chromium atom, iron atom, ruthenium atom, cobalt atom, rhodium atom, nickel atom, palladium atom. , Samarium atoms, ytterbium atoms, and the like. M in the general formula [1] is preferably a titanium atom, a zirconium atom, a hafnium atom, a vanadium atom, a chromium atom, an iron atom, a cobalt atom or a nickel atom, and particularly preferably a titanium atom, a zirconium atom or a hafnium atom. Most preferably, it is a zirconium atom.

一般式[1]において、Lはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有する基であり、複数のLは同じであっても異なっていてもよい。また複数のLは互いに直接連結されているか、または、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。   In the general formula [1], L is a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton or a group containing a hetero atom, and a plurality of L may be the same or different. A plurality of L may be directly connected to each other, or may be connected via a residue containing a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom.

Lにおけるシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としてはη5 −(置換)シクロペンタジエニル基、η5 −(置換)インデニル基、η5 −(置換)フルオレニル基などが挙げられる。具体的に例示すれば、η5 −シクロペンタジエニル基、η5 −メチルシクロペンタジエニル基、η5 −エチルシクロペンタジエニル基、η5 −n−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −tert−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −1,2−ジメチルシクロペンタジエニル基、η5 −1,3−ジメチルシクロペンタジエニル基、η5 −1−メチル−2−エチルシクロペンタジエニル基、η5 −1−メチル−3−エチルシクロペンタジエニル基、η5 −1−tert−ブチル−2−メチルシクロペンタジエニル基、η5 −1−tert−ブチル−3−メチルシクロペンタジエニル基、η5 −1−メチル−2−イソプロピルシクロペンタジエニル基、η5 −1−メチル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル基、η5 −1−メチル−2−n−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −1−メチル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −1,2,3−トリメチルシクロペンタジエニル基、η5 −1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル基、η5 −テトラメチルシクロペンタジエニル基、η5 −ペンタメチルシクロペンタジエニル基、η5 −インデニル基、η5 −4,5,6,7−テトラヒドロインデニル基、η5 −2−メチルインデニル基、η5 −3−メチルインデニル基、η5 −4−メチルインデニル基、η5 −5−メチルインデニル基、η5 −6−メチルインデニル基、η5 −7−メチルインデニル基、η5 −2−tert−ブチルインデニル基、η5 −3−tert−ブチルインデニル基、η5 −4−tert−ブチルインデニル基、η5 −5−tert−ブチルインデニル基、η5 −6−tert−ブチルインデニル基、η5 −7−tert−ブチルインデニル基、η5 −2,3−ジメチルインデニル基、η5 −4,7−ジメチルインデニル基、η5 −2,4,7−トリメチルインデニル基、η5 −2−メチル−4−イソプロピルインデニル基、η5 −4,5−ベンズインデニル基、η5 −2−メチル−4,5−ベンズインデニル基、η5 −4−フェニルインデニル基、η5 −2−メチル−5−フェニルインデニル基、η5 −2−メチル−4−フェニルインデニル基、η5 −2−メチル−4−ナフチルインデニル基、η5 −フルオレニル基、η5 −2,7−ジメチルフルオレニル基、η5 −2,7−ジ−tert−ブチルフルオレニル基、およびこれらの置換体等が挙げられる。
なお、本明細書においては、遷移金属化合物の名称については「η5 −」を省略することがある。
Examples of the group having a cyclopentadiene-type anion skeleton in L include η 5- (substituted) cyclopentadienyl group, η 5- (substituted) indenyl group, η 5- (substituted) fluorenyl group and the like. Specifically, η 5 -cyclopentadienyl group, η 5 -methylcyclopentadienyl group, η 5 -ethylcyclopentadienyl group, η 5 -n-butylcyclopentadienyl group, η 5 -Tert-butylcyclopentadienyl group, η 5 -1,2-dimethylcyclopentadienyl group, η 5 -1,3-dimethylcyclopentadienyl group, η 5 -1-methyl-2-ethylcyclopenta Dienyl group, η 5 -1-methyl-3-ethylcyclopentadienyl group, η 5 -1-tert-butyl-2-methylcyclopentadienyl group, η 5 -1-tert-butyl-3-methyl Cyclopentadienyl group, η 5 -1-methyl-2-isopropylcyclopentadienyl group, η 5 -1-methyl-3-isopropylcyclopentadienyl group, η 5 -1-methyl-2-n-butyl Cyclopentadienyl group, η 5 -1-methyl-3-n-butylcyclopentadienyl group, η 5 -1,2,3-trimethylcyclopentadienyl group, η 5 -1,2,4-trimethyl cyclopentadienyl group, eta 5 - tetramethylcyclopentadienyl group, eta 5 - pentamethylcyclopentadienyl group, eta 5 - indenyl group, eta 5-4,5,6,7-tetrahydroindenyl group, η 5 -2-methylindenyl group, η 5 -3-methylindenyl group, η 5 -4-methylindenyl group, η 5 -5-methylindenyl group, η 5 -6-methylindenyl group, eta 5-7-methylindenyl group, η 5 -2-tert- butyl indenyl group, η 5 -3-tert- butyl indenyl group, η 5 -4-tert- butylindenyl group, eta 5 -5 -Tert-butylindenyl group, η 5-6 -tert-butylindenyl group, η 5 -7-tert-butylindenyl group, η 5 -2,3-dimethylindenyl group, η 5 -4,7-dimethylindenyl group, η 5- 2,4,7-trimethylindenyl group, η 5 -2-methyl-4-isopropylindenyl group, η 5 -4,5-benzindenyl group, η 5 -2-methyl-4,5-benzindenyl group, η 5-4-phenyl indenyl group, eta 5-2-methyl-5-phenyl indenyl group, eta 5-2-methyl-4-phenyl indenyl group, eta 5-2-methyl-4-naphthyl indenyl group , Η 5 -fluorenyl group, η 5 -2,7-dimethylfluorenyl group, η 5 -2,7-di-tert-butylfluorenyl group, and substituted products thereof.
In the present specification, “η 5 −” may be omitted for the names of transition metal compounds.

前記ヘテロ原子を含有する基におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、リン原子等が挙げられ、かかる基としてはアルコキシ基、アリールオキシ基、チオアルコキシ基、チオアリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキルホスフィノ基、アリールホスフィノ基、キレート性配位子、あるいは酸素原子、硫黄原子、窒素原子および/またはリン原子を環内に有する芳香族もしくは脂肪族複素環基が好ましい。   Examples of the hetero atom in the group containing a hetero atom include an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a phosphorus atom. Examples of such a group include an alkoxy group, an aryloxy group, a thioalkoxy group, a thioaryloxy group, and an alkyl group. Amino group, arylamino group, alkylphosphino group, arylphosphino group, chelating ligand, or aromatic or aliphatic heterocyclic group having an oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom and / or phosphorus atom in the ring Is preferred.

ヘテロ原子を含有する基を具体的に例示すれば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基,2,6−ジメチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、2−エチルフェノキシ基、4−n−プロピルフェノキシ基、2−イソプロピルフェノキシ基、2,6−ジイソプロピルフェノキシ基、4−sec−ブチルフェノキシ基、4−tert−ブチルフェノキシ基、2,6−ジ−sec−ブチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、2,6−ジメトキシフェノキシ基、3,5−ジメトキシフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−ニトロソフェノキシ基、4−ニトロフェノキシ基、2−アミノフェノキシ基、3−アミノフェノキシ基、4−アミノチオフェノキシ基、2,3,6−トリクロロフェノキシ基、2,4,6−トリフルオロフェノキシ基、チオメトキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジフェニルアミノ基、イソプロピルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、ピロリル基、ジメチルホスフィノ基、2−(2−オキシ−1−プロピル)フェノキシ基、カテコール、レゾルシノール、4−イソプロピルカテコール、3−メトキシカテコール、1,8−ジヒドロキシナフチル基、1,2−ジヒドロキシナフチル基、2,2’−ビフエニルジオール基、1,1’−ビ−2−ナフトール基、2,2’−ジヒドロキシ−6,6’−ジメチルビフェニル基、4,4’,6,6’−テトラ−tert−ブチル−2,2’メチレンジフェノキシ基、4,4’,6,6’−テトラメチル−2,2’−イソブチリデンジフェノキシ基等が例示できる。   Specific examples of groups containing heteroatoms include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, phenoxy, 2-methylphenoxy, 2,6-dimethylphenoxy, 2,4,6-trimethyl. Phenoxy group, 2-ethylphenoxy group, 4-n-propylphenoxy group, 2-isopropylphenoxy group, 2,6-diisopropylphenoxy group, 4-sec-butylphenoxy group, 4-tert-butylphenoxy group, 2,6 -Di-sec-butylphenoxy group, 2-tert-butyl-4-methylphenoxy group, 2,6-di-tert-butylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group, 2,6-dimethoxyphenoxy group, 3,5 -Dimethoxyphenoxy group, 2-chlorophenoxy group, 4-nitrosophenoxy group, 4-nitrophene Xy group, 2-aminophenoxy group, 3-aminophenoxy group, 4-aminothiophenoxy group, 2,3,6-trichlorophenoxy group, 2,4,6-trifluorophenoxy group, thiomethoxy group, dimethylamino group, Diethylamino group, dipropylamino group, diphenylamino group, isopropylamino group, tert-butylamino group, pyrrolyl group, dimethylphosphino group, 2- (2-oxy-1-propyl) phenoxy group, catechol, resorcinol, 4- Isopropylcatechol, 3-methoxycatechol, 1,8-dihydroxynaphthyl group, 1,2-dihydroxynaphthyl group, 2,2′-biphenyldiol group, 1,1′-bi-2-naphthol group, 2,2 ′ -Dihydroxy-6,6'-dimethylbiphenyl group, 4,4 ', 6,6'-te La -tert- butyl 2,2 'methylenedianiline phenoxy group, 4,4', 6,6'-tetramethyl-2,2'-isobutenyl dust Denji phenoxy group and the like.

また、前記ヘテロ原子を含有する基としては下記一般式[2]で表される基も例示することができる。
1 3P=N− [2]
(式中、R1 はそれぞれの場合に水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基を表し、それらは互いに同じであっても異なっていても良く、それら2つ以上が互いに結合していても良く、環を形成していても良い。)
Moreover, as group containing the said hetero atom, group represented by following General formula [2] can also be illustrated.
R 1 3 P = N− [2]
(Wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group in each case, and they may be the same or different from each other, and two or more of them may be bonded to each other; A ring may be formed.)

前記一般式[2]におけるR1 の具体例としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、よう素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロへプチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、ベンジル基等が挙げれられるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of R 1 in the general formula [2] include hydrogen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, Examples thereof include, but are not limited to, a tert-butyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cycloheptyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, and a benzyl group.

さらに前記ヘテロ原子を含有する基としては下記一般式[3]で表される基も例示することができる。

Figure 2005194454
(式中、R2 はそれぞれの場合に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素オキシ基、シリル基またはアミノ基を表し、それらは互いに同じであっても異なっていても良く、それら2つ以上が互いに結合していても良く、環を形成していても良い。) Further, examples of the group containing a hetero atom include a group represented by the following general formula [3].
Figure 2005194454
(Wherein R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, a halogenated hydrocarbon group, a hydrocarbon oxy group, a silyl group or an amino group in each case, and they may be the same or different from each other. Or two or more of them may be bonded to each other and may form a ring.)

前記一般式[3]におけるR2 の具体例としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、よう素原子、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、tert−ブチル基、2,6−ジメチルフェニル基、2−フルオレニル基、2−メチルフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−ピリジル基、シクロヘキシル基、2−イソプロピルフェニル基、ベンジル基、メチル基、トリエチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、1,1−ジメチルプロピル基、2−クロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of R 2 in the general formula [3] include hydrogen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, tert-butyl group, 2 , 6-dimethylphenyl group, 2-fluorenyl group, 2-methylphenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-pyridyl group, cyclohexyl group, 2-isopropylphenyl group, benzyl group, methyl Group, triethylsilyl group, diphenylmethylsilyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, 1,1-dimethylpropyl group, 2-chlorophenyl group, pentafluorophenyl group, etc., but are not limited thereto is not.

前記キレート性配位子とは複数の配位部位を有する配位子を指し、具体的に例示すれば、アセチルアセトナート、ジイミン、オキサゾリン、ビスオキサゾリン、テルピリジン、アシルヒドラゾン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ポルフィリン、クラウンエーテル、クリプタートなどが挙げられる。   The chelating ligand refers to a ligand having a plurality of coordination sites. Specifically, acetylacetonate, diimine, oxazoline, bisoxazoline, terpyridine, acylhydrazone, diethylenetriamine, triethylenetetramine, Porphyrin, crown ether, cryptate and the like can be mentioned.

前記複素環基の具体例としては、ピリジル基、N−置換イミダゾリル基、N−置換インダゾリル基であり、好ましくはピリジル基である。   Specific examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, an N-substituted imidazolyl group, and an N-substituted indazolyl group, preferably a pyridyl group.

シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基同士、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基とヘテロ原子を含有する基、またはヘテロ原子を含有する基同士は、それぞれ、直接連結されていても良く、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。かかる残基として好ましくは、2つのLと結合する原子が炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子および/またはリン原子である2価の残基であり、さらに好ましくは、2つのLと結合する原子が炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子および/またはリン原子であり、2つのLと結合する原子間の最小原子数が3以下の2価の残基(これには2つのLと結合する原子が単一の場合を含む。)である。具体的には、エチレン基、プロピレン基等のアルキレン基、ジメチルメチレン基、ジフェニルメチレン基などの置換アルキレン基、またはシリレン基、ジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、テトラメチルジシリレン基などの置換シリレン基、または窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子などのヘテロ原子などが挙げられ、特に好ましくはメチレン基、エチレン基、ジメチルメチレン基(イソプロピリデン基)、ジメチルシリレン基、ジエチルシリレン基またはジフェニルシリレン基である。   A group having a cyclopentadiene type anion skeleton, a group having a cyclopentadiene type anion skeleton and a group containing a hetero atom, or a group containing a hetero atom may be directly connected to each other, such as a carbon atom, silicon It may be linked via a residue containing an atom, nitrogen atom, oxygen atom, sulfur atom or phosphorus atom. Such a residue is preferably a divalent residue in which two atoms bonded to L are a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and / or a phosphorus atom, and more preferably two A divalent residue wherein the atom bonded to L is a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and / or a phosphorus atom, and the minimum number of atoms between the two L bonded atoms is 3 or less ( This includes the case where there is a single atom bonded to two L). Specifically, an alkylene group such as an ethylene group or a propylene group, a substituted alkylene group such as a dimethylmethylene group or a diphenylmethylene group, or a substituted silylene group such as a silylene group, a dimethylsilylene group, a diphenylsilylene group, or a tetramethyldisylylene group. Or a hetero atom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom, particularly preferably a methylene group, an ethylene group, a dimethylmethylene group (isopropylidene group), a dimethylsilylene group, a diethylsilylene group or a diphenylsilylene. It is a group.

一般式[1]におけるX1 は、ハロゲン原子、炭化水素基(但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く)、または炭化水素オキシ基である。ハロゲン原子の具体例としてフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。ここでいう炭化水素基としてはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を含まない。ここでいう炭化水素基としてはアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基等が挙げられ、好ましくは、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基または炭素原子数3〜20のアルケニル基が好ましい。 X 1 in the general formula [1] is a halogen atom, a hydrocarbon group (excluding a group having a cyclopentadiene type anion skeleton), or a hydrocarbon oxy group. Specific examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. The hydrocarbon group here does not include a group having a cyclopentadiene type anion skeleton. Examples of the hydrocarbon group include an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, and an alkenyl group. Preferably, the alkyl group has 1 to 20 carbon atoms, the aralkyl group has 7 to 20 carbon atoms, and the number of carbon atoms. An aryl group having 6 to 20 carbon atoms or an alkenyl group having 3 to 20 carbon atoms is preferable.

炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ペンタデシル基、n−エイコシル基などが挙げられ、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、イソブチル基またはアミル基である。
これらのアルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換された炭素原子数1〜10のアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パーブロモプロピル基などが挙げられる。
またこれらのアルキル基はいずれも、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, Neopentyl group, amyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, n-eicosyl group, etc. are mentioned, more preferably methyl group, ethyl group, isopropyl Group, tert-butyl group, isobutyl group or amyl group.
Any of these alkyl groups may be substituted with a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms substituted with a halogen atom include a fluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a chloromethyl group, a trichloromethyl group, a fluoroethyl group, a pentafluoroethyl group, a perfluoropropyl group, Examples thereof include a perfluorobutyl group, a perfluorohexyl group, a perfluorooctyl group, a perchloropropyl group, a perchlorobutyl group, and a perbromopropyl group.
Any of these alkyl groups may be partially substituted with an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group, an aryloxy group such as a phenoxy group, or an aralkyloxy group such as a benzyloxy group.

炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、例えばベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(3,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−ドデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられ、より好ましくはベンジル基である。
これらのアラルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms include benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, and (2,3-dimethylphenyl). ) Methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, (3 , 5-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, (3 , 4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,4,5-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3,4) 6-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methyl group, (pentamethylphenyl) methyl group, (ethylphenyl) methyl group, (n-propylphenyl) methyl group, ( Isopropylphenyl) methyl group, (n-butylphenyl) methyl group, (sec-butylphenyl) methyl group, (tert-butylphenyl) methyl group, (n-pentylphenyl) methyl group, (neopentylphenyl) methyl group, (N-hexylphenyl) methyl group, (n-octylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group, (n-dodecylphenyl) methyl group, naphthylmethyl group, anthracenylmethyl group, etc. More preferred is a benzyl group.
These aralkyl groups are all halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group, and aralkyloxy groups such as benzyloxy group. Etc. may be partially substituted.

炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えばフェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられ、より好ましくはフェニル基である。
これらのアリール基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl group, 2-tolyl group, 3-tolyl group, 4-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,4-xylyl group, and 2,5-xylyl group. Group, 2,6-xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethyl Phenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl group, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2 , 3,5,6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, ethylphenyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, n-butylphenyl group, sec-butylphenyl group, tert-butyl group Nyl group, n-pentylphenyl group, neopentylphenyl group, n-hexylphenyl group, n-octylphenyl group, n-decylphenyl group, n-dodecylphenyl group, n-tetradecylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group More preferred is a phenyl group.
These aryl groups are all halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group or aralkyloxy groups such as benzyloxy group Etc. may be partially substituted.

炭素原子数3〜20のアルケニル基としては、例えばアリル基、メタリル基、クロチル基、1,3−ジフェニル−2−プロペニル基などが挙げられ、より好ましくはアリル基またはメタリル基である。   Examples of the alkenyl group having 3 to 20 carbon atoms include an allyl group, a methallyl group, a crotyl group, a 1,3-diphenyl-2-propenyl group, and more preferably an allyl group or a methallyl group.

またここでいう炭化水素オキシ基としてはアルコキシ基、アラルキルオキシ基やアリールオキシ基等が挙げられ、好ましくは、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基または炭素原子数6〜20のアリールオキシ基が好ましい。   The hydrocarbon oxy group herein includes an alkoxy group, an aralkyloxy group, an aryloxy group, and the like, and preferably an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms, or carbon. An aryloxy group having 6 to 20 atoms is preferred.

炭素原子数1〜20のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペントキシ基、ネオペントキシ基、n−ヘキソキシ基、n−オクトキシ基、n−ドデソキシ基、n−ペンタデソキシ基、n−イコソキシ基などが挙げられ、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、またはtert−ブトキシ基である。
これらのアルコキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, an n-pentoxy group, and a neopentoxy group. , N-hexoxy group, n-octoxy group, n-dodesoxy group, n-pentadesoxy group, n-icosoxy group, etc., more preferably methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, or tert-butoxy group. .
These alkoxy groups are all halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group, and aralkyloxy groups such as benzyloxy group. Etc. may be partially substituted.

炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基としては、例えばベンジルオキシ基、(2−メチルフェニル)メトキシ基、(3−メチルフェニル)メトキシ基、(4−メチルフェニル)メトキシ基、(2、3−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2、4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2、5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2、6−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(n−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(n−ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェニル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メトキシ基、(n−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(n−オクチルフェニル)メトキシ基、(n−デシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられ、より好ましくはベンジルオキシ基である。
これらのアラルキルオキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
Examples of the aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms include benzyloxy group, (2-methylphenyl) methoxy group, (3-methylphenyl) methoxy group, (4-methylphenyl) methoxy group, (2,3- (Dimethylphenyl) methoxy group, (2,4-dimethylphenyl) methoxy group, (2,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,6-dimethylphenyl) methoxy group, (3,4-dimethylphenyl) methoxy group, (3,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,6-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4,6-trimethylphenyl) methoxy group, (3,4,5-trimethyl) Phenyl) methoxy group, (2,3,4,5-tetramethylphenyl) methoxy group, (2,3,4,6-tetramethylphenyl) methoxy group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) Methoxy group, (pentamethylphenyl) methoxy group, (ethylphenyl) methoxy group, (n-propylphenyl) methoxy group, (isopropylphenyl) methoxy group, (n-butylphenyl) methoxy group, (sec-butylphenyl) methoxy Group, (tert-butylphenyl) methoxy group, (n-hexylphenyl) methoxy group, (n-octylphenyl) methoxy group, (n-decylphenyl) methoxy group, naphthylmethoxy group, anthracenylmethoxy group and the like. More preferably, it is a benzyloxy group.
These aralkyloxy groups are all halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group, and aralkyloxy groups such as benzyloxy group. A part thereof may be substituted with a group or the like.

炭素原子数6〜20のアリールオキシ基としては、例えばフェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、2、3−ジメチルフェノキシ基、2、4−ジメチルフェノキシ基、2、5−ジメチルフェノキシ基、2、6−ジメチルフェノキシ基、3,4−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3−メチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−5−メチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−6−メチルフェノキシ基、2,3,4−トリメチルフェノキシ基、2,3,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,6−トリメチルフェノキシ基、2,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,4−ジメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,5−ジメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,6−ジメチルフェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチル−3−メチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−4,5−ジメチルフェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ基、3,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5−テトラメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,6−テトラメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,4,6−トリメチルフェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチル−3,4−ジメチルフェノキシ基、2,3,5,6−テトラメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,5,6−トリメチルフェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチル−3,5−ジメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、n−オクチルフェノキシ基、n−デシルフェノキシ基、n−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などが挙げられる。
これらのアリールオキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
Examples of the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms include phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 2,3-dimethylphenoxy group, and 2,4-dimethylphenoxy group. 2,5-dimethylphenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, 3,4-dimethylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, 2-tert-butyl-3-methylphenoxy group, 2-tert-butyl -4-methylphenoxy group, 2-tert-butyl-5-methylphenoxy group, 2-tert-butyl-6-methylphenoxy group, 2,3,4-trimethylphenoxy group, 2,3,5-trimethylphenoxy group 2,3,6-trimethylphenoxy group, 2,4,5-trimethylphenoxy group, 2,4,6-trimethyl Phenoxy group, 2-tert-butyl-3,4-dimethylphenoxy group, 2-tert-butyl-3,5-dimethylphenoxy group, 2-tert-butyl-3,6-dimethylphenoxy group, 2,6-di -Tert-butyl-3-methylphenoxy group, 2-tert-butyl-4,5-dimethylphenoxy group, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy group, 3,4,5-trimethylphenoxy group 2,3,4,5-tetramethylphenoxy group, 2-tert-butyl-3,4,5-trimethylphenoxy group, 2,3,4,6-tetramethylphenoxy group, 2-tert-butyl-3 , 4,6-trimethylphenoxy group, 2,6-di-tert-butyl-3,4-dimethylphenoxy group, 2,3,5,6-tetramethylphenoxy group 2-tert-butyl-3,5,6-trimethylphenoxy group, 2,6-di-tert-butyl-3,5-dimethylphenoxy group, pentamethylphenoxy group, ethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, Isopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, n-hexylphenoxy group, n-octylphenoxy group, n-decylphenoxy group, n-tetradecylphenoxy group, naphthoxy group, Anthracenoxy group etc. are mentioned.
These aryloxy groups are all halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group and aralkyloxy groups such as benzyloxy group. A part thereof may be substituted with a group or the like.

1 としてより好ましくは塩素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、トリフルオロメトキシ基、フェニル基、フェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチルフェノキシ基、3,4,5−トリフルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ペンタフルオロフェニルフェノキシ基またはベンジル基である。 X 1 is more preferably chlorine, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, trifluoro Methoxy group, phenyl group, phenoxy group, 2,6-di-tert-butylphenoxy group, 3,4,5-trifluorophenoxy group, pentafluorophenoxy group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4- A pentafluorophenylphenoxy group or a benzyl group.

一般式[1]におけるaは0<a≦8を満足する数を、bは0<b≦8を満足する数を表し、Mの価数に応じて適宜選択される。Mがチタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子である場合、aは2であることが好ましく、bも2であることが好ましい。   In the general formula [1], a represents a number satisfying 0 <a ≦ 8, b represents a number satisfying 0 <b ≦ 8, and is appropriately selected according to the valence of M. When M is a titanium atom, a zirconium atom or a hafnium atom, a is preferably 2, and b is also preferably 2.

遷移金属化合物は一種類のみを用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。   Only one type of transition metal compound may be used, or two or more types may be used in combination.

遷移金属化合物(A)として好ましくは上記の一般式[1]で表される遷移金属化合物である。中でも、上記一般式[1]におけるMが第4族原子である遷移金属化合物が好ましく、特に一般式[1]におけるLとしてシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を少なくとも一つ持つ遷移金属化合物が好ましい。   The transition metal compound (A) is preferably a transition metal compound represented by the above general formula [1]. Among them, a transition metal compound in which M in the general formula [1] is a Group 4 atom is preferable, and a transition metal compound having at least one group having a cyclopentadiene-type anion skeleton is particularly preferable as L in the general formula [1]. .

(B)有機アルミニウム化合物
有機アルミニウム化合物(B)としては、公知の有機アルミニウム化合物が使用される。好ましくは、下記一般式[4]で示される有機アルミニウム化合物である。
3 cAlY3-c [4]
(式中、R3 は炭化水素基を表し、全てのR3 は同一であっても異なっていてもよい。Yは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アラルキルオキシ基またはアリールオキシ基を表し、全てのYは同一であっても異なっていてもよい。cは0<c≦3を満足する数を表す。)
(B) Organoaluminum compound As the organoaluminum compound (B), a known organoaluminum compound is used. Preferably, it is an organoaluminum compound represented by the following general formula [4].
R 3 c AlY 3-c [4]
(Wherein R 3 represents a hydrocarbon group, and all R 3 may be the same or different. Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, an aralkyloxy group or an aryloxy group; All Y may be the same or different, and c represents a number satisfying 0 <c ≦ 3.)

有機アルミニウム化合物を表す一般式[4]におけるR3 として好ましくは炭素原子数1〜24の炭化水素基であり、より好ましくは炭素原子数1〜24のアルキル基である。具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ヘキシル基、2−メチルヘキシル基、n−オクチル基等が挙げられ、好ましくはエチル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ヘキシル基、またはn−オクチル基である。 R 3 in the general formula [4] representing the organoaluminum compound is preferably a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. Specific examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, isobutyl group, n-hexyl group, 2-methylhexyl group, n-octyl group and the like, preferably ethyl group, n -A butyl group, an isobutyl group, an n-hexyl group, or an n-octyl group.

また、Yがハロゲン原子である場合の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子である。
Yにおけるアルコキシ基としては炭素原子数1〜24のアルコキシ基が好ましく、具体例としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペントキシ基、ネオペントキシ基、n−ヘキソキシ基、n−オクトキシ基、n−ドデソキシ基、n−ペンタデソキシ基、n−イコソキシ基などが挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基またはt−ブトキシ基である。
Specific examples when Y is a halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, preferably a chlorine atom.
The alkoxy group in Y is preferably an alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms. Specific examples thereof include, for example, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, t -Butoxy group, n-pentoxy group, neopentoxy group, n-hexoxy group, n-octoxy group, n-dodesoxy group, n-pentadexoxy group, n-icosoxy group, etc., preferably methoxy group, ethoxy group or t -Butoxy group.

Yにおけるアリールオキシ基としては炭素原子数6〜24のアリールオキシ基が好ましく、具体例としては、例えばフェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、2,3−ジメチルフェノキシ基、2,4−ジメチルフェノキシ基、2,5−ジメチルフェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ基、3,4−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチルフェノキシ基、2,3,4−トリメチルフェノキシ基、2,3,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,6−トリメチルフェノキシ基、2,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、3,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5−テトラメチルフェノキシ基、2,3,4,6−テトラメチルフェノキシ基、2,3,5,6−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、n−オクチルフェノキシ基、n−デシルフェノキシ基、n−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などが挙げられる。   The aryloxy group in Y is preferably an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms. Specific examples thereof include phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 2,3 -Dimethylphenoxy group, 2,4-dimethylphenoxy group, 2,5-dimethylphenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, 3,4-dimethylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, 2,3,4 -Trimethylphenoxy group, 2,3,5-trimethylphenoxy group, 2,3,6-trimethylphenoxy group, 2,4,5-trimethylphenoxy group, 2,4,6-trimethylphenoxy group, 3,4,5 -Trimethylphenoxy group, 2,3,4,5-tetramethylphenoxy group, 2,3,4,6-tetramethylphenoxy 2,3,5,6-tetramethylphenoxy group, pentamethylphenoxy group, ethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group N-hexylphenoxy group, n-octylphenoxy group, n-decylphenoxy group, n-tetradecylphenoxy group, naphthoxy group, anthracenoxy group and the like.

Yにおけるアラルキルオキシ基としては炭素原子数7〜24のアラルキルオキシ基が好ましく、具体例としては、例えばベンジルオキシ基、(2−メチルフェニル)メトキシ基、(3−メチルフェニル)メトキシ基、(4−メチルフェニル)メトキシ基、(2,3−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,6−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(n−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(n−ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェニル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メトキシ基、(n−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(n−オクチルフェニル)メトキシ基、(n−デシルフェニル)メトキシ基、(n−テトラデシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基である。   The aralkyloxy group in Y is preferably an aralkyloxy group having 7 to 24 carbon atoms. Specific examples include benzyloxy group, (2-methylphenyl) methoxy group, (3-methylphenyl) methoxy group, (4 -Methylphenyl) methoxy group, (2,3-dimethylphenyl) methoxy group, (2,4-dimethylphenyl) methoxy group, (2,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,6-dimethylphenyl) methoxy group (3,4-dimethylphenyl) methoxy group, (3,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,5-trimethylphenyl) methoxy group, 2,3,6-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4,6- Limethylphenyl) methoxy group, (3,4,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4,5-tetramethylphenyl) methoxy group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methoxy Group, (pentamethylphenyl) methoxy group, (ethylphenyl) methoxy group, (n-propylphenyl) methoxy group, (isopropylphenyl) methoxy group, (n-butylphenyl) methoxy group, (sec-butylphenyl) methoxy group , (Tert-butylphenyl) methoxy group, (n-hexylphenyl) methoxy group, (n-octylphenyl) methoxy group, (n-decylphenyl) methoxy group, (n-tetradecylphenyl) methoxy group, naphthylmethoxy group , Anthracenylmethoxy group and the like, preferably a benzyloxy group That.

一般式[4]で表される有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−n−プロピルアルミニウム、トリ−n−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウム、トリ−n−オクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム;ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジ−n−プロピルアルミニウムクロライド、ジ−n−ブチルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジ−n−ヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド;メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、n−プロピルアルミニウムジクロライド、n−ブチルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、n−ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド;ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジ−n−プロピルアルミニウムハイドライド、ジ−n−ブチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジ−n−ヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド;トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリ(t−ブトキシ)アルミニウム等のトリアルコキシアルミニウム;メチル(ジメトキシ)アルミニウム、メチル(ジエトキシ)アルミニウム、メチル(ジ−t−ブトキシ)アルミニウム等のアルキル(ジアルコキシ)アルミニウム;ジメチル(メトキシ)アルミニウム、ジメチル(エトキシ)アルミニウム、ジメチル(t−ブトキシ)アルミニウム等のジアルキル(アルコキシ)アルミニウム;トリフェノキシアルミニウム、トリス(2,6−ジイソプロピルフェノキシ)アルミニウム、トリス(2,6−ジフェニルフェノキシ)アルミニウム等のトリアリールオキシアルミニウム;メチル(ジフェノキシ)アルミニウム、メチルビス(2,6−ジイソプロピルフェノキシ)アルミニウム、メチルビス(2,6−ジフェニルフェノキシ)アルミニウム等のアルキル(ジアリールオキシ)アルミニウム;ジメチル(フェノキシ)アルミニウム、ジメチル(2,6−ジイソプロピルフェノキシ)アルミニウム、ジメチル(2,6−ジフェニルフェノキシ)アルミニウム等のジアルキル(アリールオキシ)アルミニウム等を例示することができる。   Specific examples of the organoaluminum compound represented by the general formula [4] include trimethylaluminum, triethylaluminum, tri-n-propylaluminum, tri-n-butylaluminum, triisobutylaluminum, tri-n-hexylaluminum, tri -Trialkylaluminum such as n-octylaluminum; Dialkylaluminum such as dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, di-n-propylaluminum chloride, di-n-butylaluminum chloride, diisobutylaluminum chloride, di-n-hexylaluminum chloride Chloride: methylaluminum dichloride, ethylaluminum dichloride, n-propylaluminum dichloride, n-butylaluminum Alkyl aluminum dichlorides such as mudichloride, isobutylaluminum dichloride, n-hexylaluminum dichloride; dimethylaluminum hydride, diethylaluminum hydride, di-n-propylaluminum hydride, di-n-butylaluminum hydride, diisobutylaluminum hydride, di-n- Dialkylaluminum hydrides such as hexylaluminum hydride; trialkoxyaluminums such as trimethoxyaluminum, triethoxyaluminum, tri (t-butoxy) aluminum; methyl (dimethoxy) aluminum, methyl (diethoxy) aluminum, methyl (di-t-butoxy) Alkyl (dialkoxy) aluminum such as aluminum; dimethyl (Methoxy) aluminum, dimethyl (ethoxy) aluminum, dialkyl (alkoxy) aluminum such as dimethyl (t-butoxy) aluminum; triphenoxyaluminum, tris (2,6-diisopropylphenoxy) aluminum, tris (2,6-diphenylphenoxy) Triaryloxyaluminum such as aluminum; methyl (diphenoxy) aluminum, alkyl (diaryloxy) aluminum such as methylbis (2,6-diisopropylphenoxy) aluminum, methylbis (2,6-diphenylphenoxy) aluminum; dimethyl (phenoxy) aluminum, Dialkyl such as dimethyl (2,6-diisopropylphenoxy) aluminum, dimethyl (2,6-diphenylphenoxy) aluminum ( Aryloxy) aluminum and the like can be exemplified.

これらの内、好ましくはトリアルキルアルミニウムであり、さらに好ましくはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−n−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウム、またはトリ−n−オクチルアルミニウムであり、特に好ましくはトリイソブチルアルミニウムまたはトリ−n−オクチルアルミニウムである。
これらの有機アルミニウム化合物は一種類のみを用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
Of these, trialkylaluminum is preferable, and trimethylaluminum, triethylaluminum, tri-n-butylaluminum, triisobutylaluminum, tri-n-hexylaluminum, or tri-n-octylaluminum is particularly preferable. Triisobutylaluminum or tri-n-octylaluminum is preferred.
These organoaluminum compounds may be used alone or in combination of two or more.

(C)改質された粒子
改質された粒子(C)は、有機金属化合物(a)、活性水素と電子吸引性基とを有する化合物(b)および粒子(d)を接触させて得られる。改質された粒子(C)としては、これら(a)、(b)および(d)のほかに、さらに水(c)をも接触させて得られるものが、より好ましい。
(C) Modified Particles Modified particles (C) are obtained by contacting an organometallic compound (a), a compound (b) having active hydrogen and an electron-withdrawing group, and particles (d). . As the modified particles (C), those obtained by bringing water (c) into contact with these particles (a), (b) and (d) are more preferable.

(a)有機金属化合物
有機金属化合物(a)は、炭素原子と金属原子との結合を有する化合物であり、好ましくは下記一般式[5]で表される化合物である。
4 nAX2 q-n [5]
(式中、Aは元素の周期律表(1993年、IUPAC)の第2族、第12族または第13族の金属原子であり、R4 は炭素原子数1〜20からなる炭化水素基または炭素原子数1〜20個からなる炭化水素オキシ基であり、X2 はハロゲン原子または水素原子である。nは0<n≦qを満足する数、qは金属原子Aの原子価に相当する数である。)
(A) Organometallic compound The organometallic compound (a) is a compound having a bond between a carbon atom and a metal atom, and is preferably a compound represented by the following general formula [5].
R 4 n AX 2 qn [5]
Wherein A is a metal atom of Group 2, 12 or 13 of the Periodic Table of Elements (1993, IUPAC), and R 4 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or A hydrocarbon oxy group having 1 to 20 carbon atoms, X 2 is a halogen atom or a hydrogen atom, n is a number satisfying 0 <n ≦ q, and q is a valence of a metal atom A Number.)

上記一般式[5]においてAは元素の周期律表(1993年、IUPAC)の第2族、第12族または第13族の金属原子であり、Aとして好ましくはホウ素原子、アルミニウム原子、マグネシウム原子または亜鉛原子である。なお、Aがホウ素原子またはアルミニウム原子の場合、原子価は3(q=3)であり、Aがマグネシウム原子または亜鉛原子の場合、原子価は2(q=2)である。   In the above general formula [5], A is a metal atom of Group 2, 12 or 13 of the Periodic Table of Elements (1993, IUPAC), and A is preferably a boron atom, an aluminum atom or a magnesium atom. Or it is a zinc atom. When A is a boron atom or an aluminum atom, the valence is 3 (q = 3), and when A is a magnesium atom or a zinc atom, the valence is 2 (q = 2).

Aがホウ素原子の場合、R4 は上記炭化水素基が好ましく、具体例としては、トリメチルボラン、トリエチルボラン、トリプロピルボラン、トリブチルボラン、トリフェニルボラン等のトリアルキルボラン、ジメチルクロロボラン、ジエチルクロロボラン、ジプロピルクロロボラン、ジブチルクロロボラン、ジフェニルクロロボラン等のジアルキルハライドボラン、ジメチルヒドリドボラン、ジエチルヒドリドボラン、ジプロピルヒドリドボラン、ジブチルヒドリドボラン、ジフェニルヒドリドボラン等のジアルキルヒドリドボラン、メチルジクロロボラン、エチルジクロロボラン、プロピルジクロロボラン、ブチルジクロロボラン、フェニルジクロロボラン等のアルキルジハライドボラン等が挙げられる。 When A is a boron atom, R 4 is preferably the above hydrocarbon group. Specific examples include trialkylborane such as trimethylborane, triethylborane, tripropylborane, tributylborane, triphenylborane, dimethylchloroborane, diethylchloro Dialkyl halide boranes such as borane, dipropylchloroborane, dibutylchloroborane, diphenylchloroborane, dimethylhydridoborane, diethylhydridoborane, dipropylhydridoborane, dibutylhydridoborane, diphenylhydridoborane, etc., methyldichloroborane, Examples thereof include alkyl dihalide boranes such as ethyldichloroborane, propyldichloroborane, butyldichloroborane and phenyldichloroborane.

Aがアルミニウム原子の場合、R4 は上記炭化水素基が好ましく、具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリノルマルブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリノルマルヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジノルマルブチルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジノルマルヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムハライド、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、ノルマルブチルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ノルマルヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジハライド、ジメチルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジプロピルアルミニウムヒドリド、ジノルマルブチルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、ジノルマルヘキシルアルミニウムヒドリド等のジアルキルアルミニウムヒドリド等が挙げられる。
好ましくはトリアルキルアルミニウムであり、さらに好ましくはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリノルマルブチルアルミニウム、トリノルマルヘキシルアルミニウムである。特に好ましくはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムである。
When A is an aluminum atom, R 4 is preferably the above hydrocarbon group. Specific examples thereof include trialkylaluminums such as trimethylaluminum, triethylaluminum, tripropylaluminum, trinormalbutylaluminum, triisobutylaluminum, and trinormalhexylaluminum. Dialkylaluminum halides such as dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, dipropylaluminum chloride, dinormal butylaluminum chloride, diisobutylaluminum chloride, dinormalhexylaluminum chloride, methylaluminum dichloride, ethylaluminum dichloride, propylaluminum dichloride, normal butylaluminum Dichloride, isobu Alkyl aluminum dihalides such as rualuminum dichloride and normal hexyl aluminum dichloride, dimethylaluminum hydride, diethylaluminum hydride, dipropylaluminum hydride, dinormalbutylaluminum hydride, diisobutylaluminum hydride, dialkylaluminum hydride such as dinormalhexylaluminum hydride, etc. Can be mentioned.
Trialkylaluminum is preferable, and trimethylaluminum, triethylaluminum, triisobutylaluminum, trinormalbutylaluminum, and trinormalhexylaluminum are more preferable. Particularly preferred are trimethylaluminum, triethylaluminum, and triisobutylaluminum.

Aがマグネシウム原子の場合、R4 は上記炭化水素基が好ましく、具体例としてはジエチルマグネシウム、ジノルマルブチルマグネシウム等が挙げられるが、R4 が上記炭化水素オキシ基であるジノルマルブトキシマグネシウム等も例示される。 When A is a magnesium atom, R 4 is preferably the above hydrocarbon group, and specific examples include diethyl magnesium, dinormal butyl magnesium and the like, and dinormal butoxy magnesium where R 4 is the above hydrocarbon oxy group, etc. Illustrated.

Aが亜鉛原子の場合、R4 は上記炭化水素基が好ましく、具体例としてはジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジ−n−ブチル亜鉛、ジイソブチル亜鉛、ジ−n−ヘキシル亜鉛等のジアルキル亜鉛;ジフェニル亜鉛、ジナフチル亜鉛、ビス(ペンタフルオロフェニル)亜鉛等のジアリール亜鉛;ジアリル亜鉛等のジアルケニル亜鉛;ビス(シクロペンタジエニル)亜鉛;塩化メチル亜鉛、塩化エチル亜鉛、塩化プロピル亜鉛、塩化−n−ブチル亜鉛、塩化イソブチル亜鉛、塩化−n−ヘキシル亜鉛、臭化メチル亜鉛、臭化エチル亜鉛、臭化プロピル亜鉛、臭化−n−ブチル亜鉛、臭化イソブチル亜鉛、臭化−n−ヘキシル亜鉛、よう化メチル亜鉛、よう化エチル亜鉛、よう化プロピル亜鉛、よう化−n−ブチル亜鉛、よう化イソブチル亜鉛、よう化−n−ヘキシル亜鉛等のハロゲン化アルキル亜鉛;ふっ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、よう化亜鉛等のハロゲン化亜鉛等が挙げられる。 When A is a zinc atom, R 4 is preferably the above hydrocarbon group, and specific examples include dialkyl zinc such as dimethyl zinc, diethyl zinc, dipropyl zinc, di-n-butyl zinc, diisobutyl zinc, di-n-hexyl zinc and the like. Diaryl zinc such as diphenyl zinc, dinaphthyl zinc and bis (pentafluorophenyl) zinc; dialkenyl zinc such as diallyl zinc; bis (cyclopentadienyl) zinc; methyl zinc chloride, ethyl zinc chloride, propyl zinc chloride, -n -Butyl zinc, isobutyl zinc chloride, -n-hexyl chloride, methyl zinc bromide, ethyl zinc bromide, propyl zinc bromide, -n-butyl zinc bromide, isobutyl zinc bromide, -n-hexyl zinc bromide , Methyl zinc iodide, ethyl zinc iodide, propyl zinc iodide, n-butyl zinc iodide, isobutyl iodide Le zinc, halogenated alkyl zinc such as iodide -n- hexyl zinc; zinc fluoride, zinc chloride, zinc bromide, and halogenated zinc such as zinc iodide.

有機金属化合物(a)としてより好ましくは有機アルミニウム化合物または有機亜鉛化合物であり、最も好ましくは有機亜鉛化合物である。   The organometallic compound (a) is more preferably an organoaluminum compound or an organozinc compound, and most preferably an organozinc compound.

(b)活性水素と電子吸引性基を有する化合物
活性水素と電子吸引性基を有する化合物(b)としては、電子吸引性基を有するフェノール化合物やアルコール化合物等が挙げられ、一般式[6]で表される化合物が好ましい。
5 t-1TH [6]
(式中、R5 は電子吸引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、R5 が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。Tは周期律表の第15族または第16族の原子を表し、tはTの原子価に相当する数を表す。)
(B) Compound having active hydrogen and electron withdrawing group Examples of the compound (b) having active hydrogen and an electron withdrawing group include phenol compounds and alcohol compounds having an electron withdrawing group. The compound represented by these is preferable.
R 5 t-1 TH [6]
(In the formula, R 5 represents an electron-withdrawing group or a group containing an electron-withdrawing group, and when a plurality of R 5 are present, they may be the same or different from each other. T is a periodic table. Represents a group 15 or group 16 atom, and t represents a number corresponding to the valence of T.)

上記一般式[6]におけるTは、元素の周期律表(IUPAC無機化学命名法改訂版1989)の第15族または第16族の原子を表す。第15族原子の具体例としては、窒素原子、リン原子などが、第16族原子の具体例としては、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。Tとして好ましくは、窒素原子または酸素原子であり、特に好ましくはTは酸素原子である。
上記一般式[6]におけるtはTの原子価に相当する数を表し、Tが第15族原子の場合はtは3であり、Tが第16族原子の場合はtは2である。
T in the general formula [6] represents an atom of Group 15 or Group 16 of the Periodic Table of Elements (IUPAC Inorganic Chemical Nomenclature Revised Edition 1989). Specific examples of the Group 15 atom include a nitrogen atom and a phosphorus atom, and specific examples of the Group 16 atom include an oxygen atom and a sulfur atom. T is preferably a nitrogen atom or an oxygen atom, and particularly preferably T is an oxygen atom.
In the general formula [6], t represents a number corresponding to the valence of T. When T is a Group 15 atom, t is 3, and when T is a Group 16 atom, t is 2.

上記一般式[6]におけるR5 は、電子吸引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、R5 が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。電子吸引性の指標としては、ハメット則の置換基定数σ等が知られており、ハメット則の置換基定数σが正である官能基が電子吸引性基として挙げられる。 R 5 in the above general formula [6] represents an electron-withdrawing group or a group containing an electron-withdrawing group, and when a plurality of R 5 are present, they may be the same as or different from each other. As an index of electron withdrawing property, Hammett's rule substituent constant σ and the like are known, and functional groups having positive Hammett's rule constant σ are listed as electron withdrawing groups.

電子吸引性基の具体例として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホン基、フェニル基等が挙げられる。電子吸引性基を含有する基としてはハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、(ハロゲン化アルキル)アリール基、シアノ化アリール基、ニトロ化アリール基、エステル基(アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基やアリールオキシカルボニル基)、アシル基等が挙げられる。   Specific examples of the electron withdrawing group include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a cyano group, a nitro group, a carbonyl group, a sulfone group, and a phenyl group. Examples of the group containing an electron-withdrawing group include a halogenated alkyl group, a halogenated aryl group, a (halogenated alkyl) aryl group, a cyanated aryl group, a nitrated aryl group, an ester group (an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group), acyl group and the like.

ハロゲン化アルキル基の具体例としては、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、ジブロモメチル基、ジヨードメチル基トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、2,2,2−トリブロモエチル基、2,2,2−トリヨードエチル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタクロロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタブロモプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタヨードプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル基、2,2,2−トリクロロ−1−トリクロロメチルエチル基、2,2,2−トリブロモ−1−トリブロモメチルエチル基、2,2,2−トリヨード−1−トリヨードメチルエチル基、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1−ビス(トリクロロメチル)−2,2,2−トリクロロエチル基、1,1−ビス(トリブロモメチル)−2,2,2−トリブロモエチル基、1,1−ビス(トリヨードメチル)−2,2,2−トリヨードエチル基等が挙げられる。   Specific examples of the halogenated alkyl group include a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a bromomethyl group, an iodomethyl group, a difluoromethyl group, a dichloromethyl group, a dibromomethyl group, a diiodomethyl group, a trifluoromethyl group, a trichloromethyl group, and a tribromomethyl group. Group, triiodomethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2,2,2-tribromoethyl group, 2,2,2-triiodoethyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentachloropropyl group, 2,2,3,3,3-pentabromopropyl group, 2,2,3 , 3,3-pentaiodopropyl group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl group, 2,2,2-trichloro-1-trichloromethyl Ethyl group, 2,2,2-tribromo-1-tribromomethylethyl group, 2,2,2-triiodo-1-triiodomethylethyl group, 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2, 2-trifluoroethyl group, 1,1-bis (trichloromethyl) -2,2,2-trichloroethyl group, 1,1-bis (tribromomethyl) -2,2,2-tribromoethyl group, 1 , 1-bis (triiodomethyl) -2,2,2-triiodoethyl group and the like.

ハロゲン化アリール基の具体例としては、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,6−ジフルオロフェニル基、3,4−ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、2,4,6−トリフルオロフェニル基、3,4,5−トリフルオロフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ペンタフルオロフェニルフェニル基、パーフルオロ−1−ナフチル基、パーフルオロ−2−ナフチル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,6−ジクロロフェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2,4,6−トリクロロフェニル基、3,4,5−トリクロロフェニル基、2,3,5,6−テトラクロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、2,3,5,6−テトラクロロ−4−トリクロロメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラクロロ−4−ペンタクロロフェニルフェニル基、パークロロ−1−ナフチル基、パークロロ−2−ナフチル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、2,4−ジブロモフェニル基、2,6−ジブロモフェニル基、3,4−ジブロモフェニル基、3,5−ジブロモフェニル基、2,4,6−トリブロモフェニル基、3,4,5−トリブロモフェニル基、2,3,5,6−テトラブロモフェニル基、ペンタブロモフェニル基、2,3,5,6−テトラブロモ−4−トリブロモメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラブロモ−4−ペンタブロモフェニルフェニル基、パーブロモ−1−ナフチル基、パーブロモ−2−ナフチル基、2−ヨードフェニル基、3−ヨードフェニル基、4−ヨードフェニル基、2,4−ジヨードフェニル基、2,6−ジヨードフェニル基、3,4−ジヨードフェニル基、3,5−ジヨードフェニル基、2,4,6−トリヨードフェニル基、3,4,5−トリヨードフェニル基、2,3,5,6−テトラヨードフェニル基、ペンタヨードフェニル基、2,3,5,6−テトラヨード−4−トリヨードメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラヨード−4−ペンタヨードフェニルフェニル基、パーヨード−1−ナフチル基、パーヨード−2−ナフチル基等が挙げられる。   Specific examples of the halogenated aryl group include 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2,4-difluorophenyl group, 2,6-difluorophenyl group, 3,4-difluorophenyl. Group, 3,5-difluorophenyl group, 2,4,6-trifluorophenyl group, 3,4,5-trifluorophenyl group, 2,3,5,6-tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-trifluoromethylphenyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-pentafluorophenylphenyl group, perfluoro-1-naphthyl group, perfluoro-2 -Naphthyl group, 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2,4-dichlorophenyl group, 2,6 Dichlorophenyl group, 3,4-dichlorophenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 2,4,6-trichlorophenyl group, 3,4,5-trichlorophenyl group, 2,3,5,6-tetrachlorophenyl group, penta Chlorophenyl group, 2,3,5,6-tetrachloro-4-trichloromethylphenyl group, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pentachlorophenylphenyl group, perchloro-1-naphthyl group, perchloro-2- Naphtyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2,4-dibromophenyl group, 2,6-dibromophenyl group, 3,4-dibromophenyl group, 3,5-dibromo Phenyl group, 2,4,6-tribromophenyl group, 3,4,5-tribromophenyl group, 2,3,5,6-tetrabromide Phenyl group, pentabromophenyl group, 2,3,5,6-tetrabromo-4-tribromomethylphenyl group, 2,3,5,6-tetrabromo-4-pentabromophenylphenyl group, perbromo-1-naphthyl group Perbromo-2-naphthyl group, 2-iodophenyl group, 3-iodophenyl group, 4-iodophenyl group, 2,4-diiodophenyl group, 2,6-diiodophenyl group, 3,4-diiodo Phenyl group, 3,5-diiodophenyl group, 2,4,6-triiodophenyl group, 3,4,5-triiodophenyl group, 2,3,5,6-tetraiodophenyl group, pentaiodophenyl Group, 2,3,5,6-tetraiodo-4-triiodomethylphenyl group, 2,3,5,6-tetraiodo-4-pentaiodophenylphenyl group, A do-1-naphthyl group, a periodo-2-naphthyl group, etc. are mentioned.

(ハロゲン化アルキル)アリール基の具体例としては、2−(トリフルオロメチル)フェニル基、3−(トリフルオロメチル)フェニル基、4−(トリフルオロメチル)フェニル基、2,6−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、2,4,6−トリス(トリフルオロメチル)フェニル基、3,4,5−トリス(トリフルオロメチル)フェニル基等が挙げられる。   Specific examples of the (halogenated alkyl) aryl group include 2- (trifluoromethyl) phenyl group, 3- (trifluoromethyl) phenyl group, 4- (trifluoromethyl) phenyl group, 2,6-bis (tri Fluoromethyl) phenyl group, 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 2,4,6-tris (trifluoromethyl) phenyl group, 3,4,5-tris (trifluoromethyl) phenyl group, etc. Can be mentioned.

シアノ化アリール基の具体例としては、2−シアノフェニル基、3−シアノフェニル基、4−シアノフェニル基等が挙げられる。   Specific examples of the cyanated aryl group include 2-cyanophenyl group, 3-cyanophenyl group, 4-cyanophenyl group and the like.

ニトロ化アリール基の具体例としては、2−ニトロフェニル基、3−ニトロフェニル基、4−ニトロフェニル基等が挙げられる。   Specific examples of the nitrated aryl group include 2-nitrophenyl group, 3-nitrophenyl group, 4-nitrophenyl group and the like.

エステル基の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ノルマルプロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、ペンタフルオロフェノキシカルボニル基等が挙げられる。   Specific examples of the ester group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, normal propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, trifluoromethoxycarbonyl group, pentafluorophenoxycarbonyl group and the like.

アシル基の具体例としては、ホルミル基、エタノイル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロエタノイル基、ベンゾイル基、ペンタフルオロベンソイル基等が挙げられる。   Specific examples of the acyl group include formyl group, ethanoyl group, propanoyl group, butanoyl group, trifluoroethanoyl group, benzoyl group, pentafluorobenzoyl group and the like.

5 として好ましくはハロゲン化炭化水素基であり、より好ましくはハロゲン化アルキル基またはハロゲン化アリール基である。さらに好ましくは、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル基、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,6−ジフルオロフェニル基、3,4−ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、2,4,6−トリフルオロフェニル基、3,4,5−トリフルオロフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ペンタフルオロフェニルフェニル基、パーフルオロ−1−ナフチル基、パーフルオロ−2−ナフチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、2,2,3,3,3−ペンタクロロプロピル基、2,2,2−トリクロロ−1−トリクロロメチルエチル基、1,1−ビス(トリクロロメチル)−2,2,2−トリクロロエチル基、4−クロロフェニル基、2,6−ジクロロフェニル基、3.5−ジクロロフェニル基、2,4,6−トリクロロフェニル基、3,4,5−トリクロロフェニル基、またはペンタクロロフェニル基であり、特に好ましくは、フルオロアルキル基またはフルオロアリール基であり、最も好ましくは、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル基、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基、3,5−ジフルオロフェニル基、3,4,5−トリフルオロフェニル基またはペンタフルオロフェニル基である。 R 5 is preferably a halogenated hydrocarbon group, more preferably a halogenated alkyl group or a halogenated aryl group. More preferably, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,2-trimethyl Fluoro-1-trifluoromethylethyl group, 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethyl group, 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2,4-difluorophenyl group, 2,6-difluorophenyl group, 3,4-difluorophenyl group, 3,5-difluorophenyl group, 2,4,6-trifluorophenyl group, 3,4,5-tri Fluorophenyl group, 2,3,5,6-tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-trifluoro Tilphenyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-pentafluorophenylphenyl group, perfluoro-1-naphthyl group, perfluoro-2-naphthyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2,2,3,3,3-pentachloropropyl group, 2,2,2-trichloro-1-trichloromethylethyl group, 1,1-bis (trichloromethyl)- 2,2,2-trichloroethyl group, 4-chlorophenyl group, 2,6-dichlorophenyl group, 3.5-dichlorophenyl group, 2,4,6-trichlorophenyl group, 3,4,5-trichlorophenyl group, or A pentachlorophenyl group, particularly preferably a fluoroalkyl group or a fluoroaryl group, and most preferably a trichlorophenyl group. Fluoromethyl group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl group, 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethyl group, 3,5-difluorophenyl group, A 3,4,5-trifluorophenyl group or a pentafluorophenyl group.

(d)粒子
粒子(d)としては一般に担体として用いられているものが好ましく使用され、粒径の整った、多孔性の物質が好ましく、無機物質または有機ポリマーが好適に使用され、無機物質がより好適に使用される。
粒子(d)としては、得られるポリマーの粒径分布の観点から、粒子(d)の粒径の体積基準の幾何標準偏差として好ましくは2.5以下、より好ましくは2.0以下、さらに好ましくは1.7以下である。
(D) Particles As the particles (d), those generally used as carriers are preferably used, porous materials having a uniform particle size are preferred, inorganic materials or organic polymers are suitably used, and inorganic materials are preferably used. More preferably used.
The particle (d) is preferably 2.5 or less, more preferably 2.0 or less, more preferably 2.0 or less as a volume-based geometric standard deviation of the particle size of the particle (d) from the viewpoint of the particle size distribution of the obtained polymer. Is 1.7 or less.

粒子(d)として用いられ得る無機物質の例としては、無機酸化物等が挙げられ、粘土や粘土鉱物等も使用可能である。これらは混合して用いてもかまわない。
無機酸化物の具体例としては、SiO2、Al23、MgO、ZrO2、TiO2、B23、CaO、ZnO、BaO、ThO2等、およびこれらの混合物、例えば、SiO2−MgO、SiO2−Al23、SiO2−TiO2、SiO2−V25、SiO2−Cr23、SiO2−TiO2−MgOなどを例示することができる。これらの無機酸化物の中では、SiO2および/またはAl23が好ましく、特にSiO2(即ちシリカ)が好ましい。なお、上記無機酸化物には少量のNa2CO3、K2CO3、CaCO3、MgCO3、Na2SO4、Al2(SO43、BaSO4、KNO3、Mg(NO32、Al(NO33、Na2O、K2O、Li2
等の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有してもかまわない。
Examples of inorganic substances that can be used as the particles (d) include inorganic oxides, and clays and clay minerals can also be used. These may be mixed and used.
Specific examples of the inorganic oxide include SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , TiO 2 , B 2 O 3 , CaO, ZnO, BaO, ThO 2 and the like, and mixtures thereof such as SiO 2 — Examples thereof include MgO, SiO 2 —Al 2 O 3 , SiO 2 —TiO 2 , SiO 2 —V 2 O 5 , SiO 2 —Cr 2 O 3 , and SiO 2 —TiO 2 —MgO. Among these inorganic oxides, SiO 2 and / or Al 2 O 3 are preferable, and SiO 2 (that is, silica) is particularly preferable. The inorganic oxide includes a small amount of Na 2 CO 3 , K 2 CO 3 , CaCO 3 , MgCO 3 , Na 2 SO 4 , Al 2 (SO 4 ) 3 , BaSO 4 , KNO 3 , Mg (NO 3 ). 2 , Al (NO 3 ) 3 , Na 2 O, K 2 O, Li 2 O
Such carbonates, sulfates, nitrates, and oxide components may be contained.

粘土または粘土鉱物としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、ヒシンゲル石、バイロフィライト、タルク、ウンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイト等が挙げられる。
これらの中で好ましくは、スメクタイト、モンモリロナイト、ヘクトライト、ラポナイト、サポナイトであり、さらに好ましくはモンモリロナイト、ヘクトライトである。
Clay or clay minerals include kaolin, bentonite, kibushi clay, gyrome clay, allophane, hysinger gel, bayophyllite, talc, unmo group, montmorillonite group, vermiculite, ryokdeite group, palygorskite, kaolinite, nacrite, dickite, Halloysite and the like.
Among these, preferred are smectite, montmorillonite, hectorite, laponite and saponite, and more preferred are montmorillonite and hectorite.

これらの無機物質のうちでは、無機酸化物が好適に用いられる。
これらの無機物質は、乾燥し実質的に水分が除去されていることが好ましく、加熱処理により乾燥させたものが好ましい。加熱処理は通常、目視で水分を確認できない無機物質について温度100〜1,500℃で、好ましくは100〜1,000℃で、さらに好ましくは200〜800℃で実施される。その加熱時間は特に限定されるものではないが、好ましくは10分間〜50時間、より好ましくは1時間〜30時間である。さらに加熱中、例えば、乾燥した不活性ガス(例えば、窒素またはアルゴン等)を一定の流速で流通させる方法、あるいは、減圧する方法等も挙げられるが、その方法に限定されるものではない。
Of these inorganic substances, inorganic oxides are preferably used.
These inorganic substances are preferably dried to substantially remove moisture, and those dried by heat treatment are preferred. The heat treatment is usually carried out at a temperature of 100 to 1,500 ° C., preferably 100 to 1,000 ° C., more preferably 200 to 800 ° C. for an inorganic substance whose moisture cannot be visually confirmed. The heating time is not particularly limited, but is preferably 10 minutes to 50 hours, more preferably 1 hour to 30 hours. Further, during heating, for example, a method of circulating a dry inert gas (for example, nitrogen or argon) at a constant flow rate or a method of reducing the pressure can be used, but the method is not limited thereto.

また、無機酸化物には通常、表面に水酸基が生成し存在しているが、無機酸化物としてはその表面水酸基の活性水素を種々の置換基で置換した改質無機酸化物を使用しても良い。この際の置換基はシリル基が好ましい。改質無機酸化物として具体的には、トリメチルクロロシラン、tert−ブチルジメチルクロロシラン等のトリアルキルクロロシラン、トリフェニルクロロシラン等のトリアリールクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のジアルキルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン等のジアリールジクロロシラン、メチルトリクロロシラン等のアルキルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン等のアリールトリクロロシラン、トリメチルメトキシシラン等のトリアルキルアルコキシシラン、トリフェニルメトキシシラン等のトリアリールアルコシキシラン、ジメチルジメトキシシラン等のジアルキルジアルコキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のジアリールジアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン、テトラメトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン等のアルキルジシラザン、テトラクロロシランなどと接触処理した無機酸化物が挙げられる。   In addition, a hydroxyl group is usually formed on the surface of an inorganic oxide, but a modified inorganic oxide in which active hydrogen of the surface hydroxyl group is substituted with various substituents may be used as the inorganic oxide. good. In this case, the substituent is preferably a silyl group. Specific examples of the modified inorganic oxide include trialkylchlorosilanes such as trimethylchlorosilane and tert-butyldimethylchlorosilane, triarylchlorosilanes such as triphenylchlorosilane, dialkyldichlorosilanes such as dimethyldichlorosilane, and diaryldisilanes such as diphenyldichlorosilane. Dialkyldialkoxy such as chlorosilane, alkyltrichlorosilane such as methyltrichlorosilane, aryltrichlorosilane such as phenyltrichlorosilane, trialkylalkoxysilane such as trimethylmethoxysilane, triarylalkoxysilane such as triphenylmethoxysilane, and dimethyldimethoxysilane Diaryl dialkoxysilanes such as silane, diphenyldimethoxysilane, and alkyltria such as methyltrimethoxysilane Contact treatment with aryltrialkoxysilane such as coxisilane, phenyltrimethoxysilane, tetraalkoxysilane such as tetramethoxysilane, alkyldisilazane such as 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane, tetrachlorosilane, etc. Inorganic oxides.

無機物質の平均粒子径として好ましくは、5〜1000μmであり、より好ましくは10〜500μm、さらに好ましくは10〜100μmである。細孔容量として好ましくは0.1ml/g以上、より好ましくは0.3〜10ml/gである。比表面積として好ましくは、10〜1000m2/g、より好ましくは1
00〜500m2/gである。
The average particle diameter of the inorganic substance is preferably 5 to 1000 μm, more preferably 10 to 500 μm, and still more preferably 10 to 100 μm. The pore volume is preferably 0.1 ml / g or more, more preferably 0.3 to 10 ml / g. The specific surface area is preferably 10 to 1000 m 2 / g, more preferably 1
It is 00-500 m < 2 > / g.

粒子(d)として用いられ得る有機ポリマーとしては、どの有機ポリマーを用いても良く、また複数種の有機ポリマーを混合物として用いても構わない。有機ポリマーとしては、活性水素を有する官能基もしくは非プロトン供与性のルイス塩基性官能基を有する重合体が好ましい。   As the organic polymer that can be used as the particles (d), any organic polymer may be used, and a plurality of types of organic polymers may be used as a mixture. As the organic polymer, a polymer having a functional group having active hydrogen or a non-proton-donating Lewis basic functional group is preferable.

活性水素を有する官能基としては、活性水素を有していれば特に制限はなく、具体例としては1級アミノ基、2級アミノ基、イミノ基、アミド基、ヒドラジド基、アミジノ基、ヒドロキシ基、ヒドロペルオキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、スルフェン酸基、チオール基、チオホルミル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピペリジル基、インダゾリル基、カルバゾリル基等が挙げられる。好ましくは、1級アミノ基、2級アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホン酸基またはチオール基である。特に好ましくは、1級アミノ基、2級アミノ基、アミド基またはヒドロキシ基である。なお、これらの基はハロゲン原子や炭素原子数1〜20の炭化水素基で置換されていてもよい。   The functional group having active hydrogen is not particularly limited as long as it has active hydrogen. Specific examples include primary amino group, secondary amino group, imino group, amide group, hydrazide group, amidino group, hydroxy group. , Hydroperoxy group, carboxyl group, formyl group, carbamoyl group, sulfonic acid group, sulfinic acid group, sulfenic acid group, thiol group, thioformyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, piperidyl group, indazolyl group, carbazolyl group, etc. . A primary amino group, secondary amino group, imino group, amide group, imide group, hydroxy group, formyl group, carboxyl group, sulfonic acid group or thiol group is preferred. Particularly preferred are a primary amino group, a secondary amino group, an amide group or a hydroxy group. These groups may be substituted with a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.

非プロトン供与性のルイス塩基性官能基としては、活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する官能基であれば特に制限はなく、具体例としてはピリジル基、N−置換イミダゾリル基、N−置換インダゾリル基、ニトリル基、アジド基、N−置換イミノ基、N,N−置換アミノ基、N,N−置換アミノオキシ基、N,N,N−置換ヒドラジノ基、ニトロソ基、ニトロ基、ニトロオキシ基、フリル基、カルボニル基、チオカルボニル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、N,N−置換カルバモイル基、チオアルコキシ基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、置換スルホン酸基等が挙げられる。好ましくは、複素環基であり、さらに好ましくは、酸素原子および/または窒素原子を環内に有する芳香族複素環基である。特に好ましくは、ピリジル基、N−置換イミダゾリル基、N−置換インダゾリル基であり、最も好ましくはピリジル基である。なお、これらの基はハロゲン原子や炭素原子数1〜20の炭化水素基で置換されていてもよい。   The non-proton-donating Lewis basic functional group is not particularly limited as long as it is a functional group having a Lewis base portion that does not have an active hydrogen atom. Specific examples include a pyridyl group, an N-substituted imidazolyl group, and an N-substituted group. Indazolyl group, nitrile group, azide group, N-substituted imino group, N, N-substituted amino group, N, N-substituted aminooxy group, N, N, N-substituted hydrazino group, nitroso group, nitro group, nitrooxy group , Furyl group, carbonyl group, thiocarbonyl group, alkoxy group, alkyloxycarbonyl group, N, N-substituted carbamoyl group, thioalkoxy group, substituted sulfinyl group, substituted sulfonyl group, substituted sulfonic acid group and the like. Preferred is a heterocyclic group, and more preferred is an aromatic heterocyclic group having an oxygen atom and / or a nitrogen atom in the ring. Particularly preferred are a pyridyl group, an N-substituted imidazolyl group, and an N-substituted indazolyl group, and most preferred is a pyridyl group. These groups may be substituted with a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.

かかる活性水素を有する官能基もしくは非プロトン供与性のルイス塩基性官能基の量は特に限定されないが、好ましくは、重合体の単位グラム当りの官能基のモル量として0.01〜50mmol/gであり、より好ましくは0.1〜20mmol/gである。   The amount of the functional group having active hydrogen or the non-proton donating Lewis basic functional group is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 50 mmol / g as the molar amount of the functional group per unit gram of the polymer. Yes, more preferably from 0.1 to 20 mmol / g.

かかる官能基を有する重合体は、例えば、活性水素を有する官能基もしくは非プロトン供与性のルイス塩基性官能基と1個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーを単独重合することにより、またはこれと重合性不飽和基を有する他のモノマーとを共重合することにより得ることができる。このときさらに2個以上の重合性不飽和基を有する架橋重合性モノマーをもいっしょに共重合することが好ましい。   The polymer having such a functional group is obtained by, for example, homopolymerizing a monomer having a functional group having active hydrogen or a non-proton-donating Lewis basic functional group and one or more polymerizable unsaturated groups, or It can be obtained by copolymerizing this and another monomer having a polymerizable unsaturated group. At this time, it is preferable to copolymerize together a crosslinkable monomer having two or more polymerizable unsaturated groups.

かかる活性水素を有する官能基もしくは非プロトン供与性のルイス塩基性官能基と1個以上の重合性不飽和基を有するモノマーとしては、上記の活性水素を有する官能基と1個以上の重合性不飽和基を有するモノマー、あるいは、上記の活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する官能基と1個以上の重合性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。かかる重合性不飽和基の例としては、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、エチン基等のアルキニル基等が挙げられる。
活性水素を有する官能基と1個以上の重合性不飽和基を有するモノマーの例としては、ビニル基含有1級アミン、ビニル基含有2級アミン、ビニル基含有アミド化合物、ビニル基含有ヒドロキシ化合物を挙げることができる。具体例としては、N−(1−エテニル)アミン、N−(2−プロペニル)アミン、N−(1−エテニル)−N−メチルアミン、N−(2−プロペニル)−N−メチルアミン、1−エテニルアミド、2−プロペニルアミド、N−メチル−(1−エテニル)アミド、N−メチル−(2−プロペニル)アミド、ビニルアルコール、2−プロペン−1−オール、3−ブテン−1−オール等が挙げられる。
活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する官能基と1個以上の重合性不飽和基を有するモノマーの具体例としては、ビニルピリジン、ビニル(N−置換)イミダゾール、ビニル(N−置換)インダゾールを挙げることができる。
Such a functional group having active hydrogen or a non-proton-donating Lewis basic functional group and one or more polymerizable unsaturated groups include the above-described functional group having active hydrogen and one or more polymerizable groups. A monomer having a saturated group, or a monomer having a functional group having a Lewis base having no active hydrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups may be used. Examples of such polymerizable unsaturated groups include alkenyl groups such as vinyl groups and allyl groups, and alkynyl groups such as ethyne groups.
Examples of monomers having a functional group having active hydrogen and one or more polymerizable unsaturated groups include vinyl group-containing primary amines, vinyl group-containing secondary amines, vinyl group-containing amide compounds, and vinyl group-containing hydroxy compounds. Can be mentioned. Specific examples include N- (1-ethenyl) amine, N- (2-propenyl) amine, N- (1-ethenyl) -N-methylamine, N- (2-propenyl) -N-methylamine, 1 -Ethenylamide, 2-propenylamide, N-methyl- (1-ethenyl) amide, N-methyl- (2-propenyl) amide, vinyl alcohol, 2-propen-1-ol, 3-buten-1-ol, etc. Can be mentioned.
Specific examples of the monomer having a functional group having a Lewis base moiety having no active hydrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups include vinylpyridine, vinyl (N-substituted) imidazole, and vinyl (N-substituted) indazole. Can be mentioned.

重合性不飽和基を有する他のモノマーとしては、エチレン、α−オレフィン、芳香族ビニル化合物等が例示され、具体例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、スチレンなどが挙げられる。好ましくはエチレンまたはスチレンである。これらのモノマーは2種以上を用いても良い。
また、2個以上の重合性不飽和基を有する架橋重合性モノマーの具体例としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
Examples of other monomers having a polymerizable unsaturated group include ethylene, α-olefin, aromatic vinyl compounds and the like. Specific examples include ethylene, propylene, 1-butene, 1-hexene, 4-methyl-1 -Pentene, styrene and the like. Preferred is ethylene or styrene. Two or more of these monomers may be used.
Specific examples of the crosslinkable monomer having two or more polymerizable unsaturated groups include divinylbenzene.

有機ポリマーの平均粒子径として好ましくは、5〜1000μmであり、より好ましくは10〜500μmである。細孔容量として好ましくは、0.1ml/g以上、より好ましくは0.3〜10ml/gである。比表面積として好ましくは、10〜1000m2/g、より好ましくは50〜500m2/gである。 The average particle diameter of the organic polymer is preferably 5 to 1000 μm, more preferably 10 to 500 μm. The pore volume is preferably 0.1 ml / g or more, more preferably 0.3 to 10 ml / g. The specific surface area is preferably 10 to 1000 m 2 / g, more preferably 50 to 500 m 2 / g.

これらの有機ポリマーは、乾燥し実質的に水分が除去されていることが好ましく、加熱処理により乾燥させたものが好ましい。加熱処理は通常、目視で水分を確認できない有機ポリマーについて温度30〜400℃で、好ましくは50〜200℃で、さらに好ましくは70〜150℃で実施される。その加熱時間は特に限定されるものではないが、好ましくは10分間〜50時間、より好ましくは1時間〜30時間である。さらに加熱中、例えば、乾燥した不活性ガス(例えば、窒素またはアルゴン等)を一定の流速で流通させる方法、あるいは、減圧する方法等も挙げられるが、その方法に限定されるものではない。   These organic polymers are preferably dried to substantially remove moisture, and those dried by heat treatment are preferred. The heat treatment is usually carried out at a temperature of 30 to 400 ° C., preferably 50 to 200 ° C., more preferably 70 to 150 ° C. for an organic polymer whose moisture cannot be visually confirmed. The heating time is not particularly limited, but is preferably 10 minutes to 50 hours, more preferably 1 hour to 30 hours. Further, during heating, for example, a method of circulating a dry inert gas (for example, nitrogen or argon) at a constant flow rate or a method of reducing the pressure can be used, but the method is not limited thereto.

上記(a)、(b)、(c)各化合物の使用量は特に制限はないが、各化合物の使用量のモル比率を(a):(b):(c)=1:y:zのモル比率とすると、yおよびzが下記式(1)を実質的に満足することが好ましい。
|m−y−2z|≦1 (1)
(上記式(1)において、mは(a)中の金属原子(例えば一般式[5]におけるA)の原子価に相当する数を表す。)
上記式(1)におけるyとして好ましくは0.01〜1.99の数であり、より好ましくは0.10〜1.80の数であり、さらに好ましくは0.20〜1.50の数であり、最も好ましくは0.30〜1.00の数であり、また上記式(1)におけるzの同様の好ましい範囲は、m、yおよび上記式(1)によって決定される。
The amount of each compound (a), (b), (c) used is not particularly limited, but the molar ratio of the amount of each compound used is (a) :( b) :( c) = 1: y: z It is preferable that y and z substantially satisfy the following formula (1).
| M−y−2z | ≦ 1 (1)
(In the above formula (1), m represents a number corresponding to the valence of the metal atom in (a) (for example, A in the general formula [5]).)
In the above formula (1), y is preferably a number of 0.01 to 1.99, more preferably a number of 0.10 to 1.80, and still more preferably a number of 0.20 to 1.50. Yes, most preferably a number from 0.30 to 1.00, and the same preferred range of z in the above formula (1) is determined by m, y and the above formula (1).

実際の各化合物の接触処理においては、仮に完全に上記式(1)を満足するよう各化合物の使用を企図しても、微妙に使用量は変動してしまうことがあり、また未反応で残存してしまう化合物の量等を考慮して適宜使用量を若干増減させることは通常行われることである。ここでいう“式(1)を実質的に満足する”とは、完全に上記式(1)を満足せずとも、上記式(1)を満足するモル比率で各化合物を接触させて得られるような目的物を得ようと企図する場合は含むことを意味する。   In the actual contact treatment of each compound, even if the use of each compound is intended to completely satisfy the above formula (1), the amount used may fluctuate slightly and remain unreacted. In consideration of the amount of the compound to be used, etc., it is usual to slightly increase or decrease the amount used as appropriate. Here, “substantially satisfying the formula (1)” is obtained by bringing each compound into contact with each other at a molar ratio satisfying the above formula (1) without completely satisfying the above formula (1). It is meant to be included when attempting to obtain such objects.

前記改質された粒子の調製において、(a)に対して使用する(d)の量としては、(a)と(d)との接触により得られる粒子に含まれる(a)に由来する金属原子が、得られる粒子1gに含まれる金属原子のモル数にして、0.1mmol以上となる量であることが好ましく、0.5〜20mmolとなる量であることがより好ましいので、該範囲になるように適宜決めればよい。   In the preparation of the modified particles, the amount of (d) used for (a) is the metal derived from (a) contained in the particles obtained by contacting (a) and (d). It is preferable that the amount of atoms is 0.1 mmol or more, more preferably 0.5 to 20 mmol, in terms of the number of moles of metal atoms contained in 1 g of the obtained particles. What is necessary is just to decide suitably so that it may become.

本発明で用いられる予備重合触媒は、このような固体成分を含む触媒について予備重合処理を施したものである。   The prepolymerization catalyst used in the present invention is obtained by subjecting a catalyst containing such a solid component to a prepolymerization treatment.

予備重合処理は、上記の固体成分を含む触媒の存在下、少量のオレフィン類を供給して実施され、スラリー状態で行うのが好ましい。スラリー化するのに用いる溶媒としては、プロパン、ブタン、イソブタン、ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンのような不活性炭化水素を挙げることができる。また、スラリー化に際し、不活性炭化水素溶媒の一部または全部に変えて液状のオレフィン類を用いることができる。   The prepolymerization treatment is preferably carried out in a slurry state by supplying a small amount of olefins in the presence of the catalyst containing the solid component. Examples of the solvent used for the slurry include inert hydrocarbons such as propane, butane, isobutane, pentane, isopentane, hexane, heptane, octane, cyclohexane, benzene, and toluene. In addition, liquid olefins can be used in place of some or all of the inert hydrocarbon solvent during slurrying.

また、予備重合されるオレフィン類の量は、触媒中の固体成分1g当たり通常0.01〜1000g、好ましくは0.05〜500g、特に好ましくは0.1〜200gである。   The amount of olefins to be prepolymerized is usually 0.01 to 1000 g, preferably 0.05 to 500 g, particularly preferably 0.1 to 200 g, per 1 g of the solid component in the catalyst.

予備重合を行う際のスラリー濃度は、0.1〜50g−触媒中の固体成分/リットル−溶媒が好ましく、特に0.5〜20g−触媒中の固体成分/リットル−溶媒が好ましい。予備重合温度は、−20℃〜100℃が好ましく、特に0℃〜80℃が好ましい。また、予備重合中の気相部でのオレフィン類の分圧は、0.001MPa〜2MPaが好ましく、特に0.01MPa〜1MPaが好ましいが、予備重合の圧力、温度において液状であるオレフィン類については、この限りではない。さらに、予備重合時間に特に制限はないが、通常2分間から15時間が好適である。   The slurry concentration at the time of prepolymerization is preferably 0.1 to 50 g-solid component / liter-solvent in the catalyst, and more preferably 0.5 to 20 g-solid component / liter-solvent in the catalyst. The prepolymerization temperature is preferably -20 ° C to 100 ° C, particularly preferably 0 ° C to 80 ° C. Further, the partial pressure of olefins in the gas phase part during prepolymerization is preferably 0.001 MPa to 2 MPa, and particularly preferably 0.01 MPa to 1 MPa. For olefins that are liquid at prepolymerization pressure and temperature, This is not the case. Further, the prepolymerization time is not particularly limited, but usually 2 minutes to 15 hours is preferable.

予備重合を実施する際に、触媒を供給する方法としては、複数の触媒成分からなる触媒であれば、触媒成分の全部または一部を予め接触させた後に、予備重合反応器に供給してもよいし、全ての触媒成分を別々に予備重合反応器に供給し、その中で接触させて触媒を形成させてもよい。また、オレフィン類の供給方法としては、重合槽内が所定の圧力になるように保持しながら順次オレフィン類を供給する方法、或いは所定量のオレフィン類を最初にすべて供給する方法のいずれの方法を用いても良い。
得られる重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することも可能である。
When carrying out the prepolymerization, as a method of supplying the catalyst, if the catalyst is composed of a plurality of catalyst components, all or a part of the catalyst components are contacted in advance and then supplied to the prepolymerization reactor. Alternatively, all catalyst components may be fed separately to the prepolymerization reactor and contacted therein to form the catalyst. Further, as a method for supplying olefins, either a method of sequentially supplying olefins while maintaining the inside of the polymerization tank at a predetermined pressure, or a method of supplying all of a predetermined amount of olefins first is used. It may be used.
It is also possible to add a chain transfer agent such as hydrogen in order to adjust the molecular weight of the resulting polymer.

得られた予備重合触媒は通常、残存のオレフィン類を取り除き、溶媒とともに気相流動床式重合反応器に供給されるか、或いは使用した溶媒および残存のオレフィン類を取り除き、減圧または常圧不活性ガス雰囲気下で十分に乾燥した上で、重合モノマー或いは不活性ガス等のキャリアガスを用いて気相流動床式重合反応器に供給される。   The resulting prepolymerization catalyst usually removes the remaining olefins and is fed to the gas phase fluidized bed polymerization reactor together with the solvent, or removes the used solvent and the remaining olefins and is inert under reduced pressure or normal pressure. After being sufficiently dried in a gas atmosphere, it is supplied to a gas phase fluidized bed polymerization reactor using a carrier gas such as a polymerization monomer or an inert gas.

気相重合は、公知の気相重合方法、重合条件に従って行えばよいが、それらに限定されることはない。
一般に、重合方法は、1種以上のオレフィン類を気相流動床式重合反応器において実質的に湿気、酸素、二酸化炭素のような触媒毒の不存在下に触媒有効量の触媒と重合反応を開始させるに十分な温度及び圧力において接触させることによって実施される。これらの重合方法は、例えば米国特許第4,482,687号、4,558,790号、4,994,534号等に記載されている。気相重合の圧力は、反応器内でオレフィン類が気相として存在し得る範囲内であればよく、通常0.1〜5.0MPa、好ましくは、1.5〜3.0MPaである。反応温度は、使用する触媒、反応器内の圧力、重合するオレフィン類の種類等により適宜選択されるが、一般には、30〜110℃が使用される。なお気相重合時の反応器内のガス流速は通常10〜100cm/sの範囲にあり、好ましくは20〜70cm/sである。
さらに最終製品の溶融流動性を調節する目的で、水素を分子量調節剤として添加しても構わない。また、重合に際して、混合ガス中に不活性ガスを共存させてもよい。オレフィン重合体の分子量は反応帯域の温度の調節、水素の導入等、公知の各種の手段によって制御することができる。
The gas phase polymerization may be performed according to a known gas phase polymerization method and polymerization conditions, but is not limited thereto.
In general, the polymerization process involves the polymerization reaction of one or more olefins with a catalytically effective amount of catalyst in the absence of a catalyst poison such as moisture, oxygen, carbon dioxide in a gas phase fluidized bed polymerization reactor. This is done by contacting at a temperature and pressure sufficient to initiate. These polymerization methods are described in, for example, US Pat. Nos. 4,482,687, 4,558,790, 4,994,534 and the like. The pressure of the gas phase polymerization may be within a range in which olefins can exist as a gas phase in the reactor, and is usually 0.1 to 5.0 MPa, preferably 1.5 to 3.0 MPa. The reaction temperature is appropriately selected depending on the catalyst to be used, the pressure in the reactor, the type of olefin to be polymerized, etc., but generally 30 to 110 ° C. is used. The gas flow rate in the reactor during the gas phase polymerization is usually in the range of 10 to 100 cm / s, preferably 20 to 70 cm / s.
Furthermore, hydrogen may be added as a molecular weight modifier for the purpose of adjusting the melt fluidity of the final product. In the polymerization, an inert gas may coexist in the mixed gas. The molecular weight of the olefin polymer can be controlled by various known means such as adjusting the temperature of the reaction zone and introducing hydrogen.

本発明で用いられるオレフィン類としては、炭素原子数2〜20のオレフィン、ジオレフィン、環状オレフィン、アルケニル芳香族炭化水素、極性モノマー等を挙げることができ、同時に2種以上のモノマーを用いることもできる。
これらの具体例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、5−メチル−1−ヘキセン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン等のオレフィン;1,5−ヘキサジエン、1,4−ヘキサジエン、1,4−ペンタジエン、1,7−オクタジエン、1,8−ノナジエン、1,9−デカジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、7−メチル−1,6−オクタジエン、5−エチリデン−2−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、5−ビニル−2−ノルボルネン、5−メチル−2−ノルボルネン、ノルボルナジエン、5−メチレン−2−ノルボルネン、1,5−シクロオクタジエン、5,8−エンドメチレンヘキサヒドロナフタレン、1,3−ブタジエン、イソプレン、1,3−ヘキサジエン、1,3−オクタジエン、1,3−シクロオクタジエン、1,3−シクロヘキサジエン等のジオレフィン;ノルボルネン、5−メチルノルボルネン、5−エチルノルボルネン、5−ブチルノルボルネン、5−フェニルノルボルネン、5−ベンジルノルボルネン、テトラシクロドデセン、トリシクロデセン、トリシクロウンデセン、ペンタシクロペンタデセン、ペンタシクロヘキサデセン、8−メチルテトラシクロドデセン、8−エチルテトラシクロドデセン、5−アセチルノルボルネン、5−アセチルオキシノルボルネン、5−メトキシカルボニルノルボルネン、5−エトキシカルボニルノルボルネン、5−メチル−5−メトキシカルボニルノルボルネン、5−シアノノルボルネン、8−メトキシカルボニルテトラシクロドデセン、8−メチル−8−テトラシクロドデセン、8−シアノテトラシクロドデセン等の環状オレフィン;スチレン、2−フェニルプロピレン、2−フェニルブテン、3−フェニルプロピレン等のアルケニルベンゼン、p−メチルスチレン、m−メチルスチレン、o−メチルスチレン、p−エチルスチレン、m−エチルスチレン、o−エチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、3,4−ジメチルスチレン、3,5−ジメチルスチレン、3−メチル−5−エチルスチレン、p−第3級ブチルスチレン、p−第2級ブチルスチレンなどのアルキルスチレン、ジビニルベンゼン等のビスアルケニルベンゼン、1−ビニルナフタレン等のアルケニルナフタレン等のアルケニル芳香族炭化水素;アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、ビシクロ(2,2,1)−5−ヘプテン−2,3−ジカルボン酸等のα,β−不飽和カルボン酸、およびそのナトリウム、カリウム、リチウム、亜鉛、マグネシウム、カルシウム等の金属塩、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル等のα,β−不飽和カルボン酸エステル、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、トリフルオロ酢酸ビニル等のビニルエステル、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、イタコン酸モノグリシジルエステル等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル等の極性モノマーなどが挙げられる。
Examples of the olefins used in the present invention include olefins having 2 to 20 carbon atoms, diolefins, cyclic olefins, alkenyl aromatic hydrocarbons, polar monomers and the like, and two or more monomers can be used at the same time. it can.
Specific examples thereof include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 4-methyl-1-pentene, 5-methyl-1-hexene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene and 1-nonene. Olefins such as 1-decene; 1,5-hexadiene, 1,4-hexadiene, 1,4-pentadiene, 1,7-octadiene, 1,8-nonadiene, 1,9-decadiene, 4-methyl-1, 4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, 7-methyl-1,6-octadiene, 5-ethylidene-2-norbornene, dicyclopentadiene, 5-vinyl-2-norbornene, 5-methyl-2- Norbornene, norbornadiene, 5-methylene-2-norbornene, 1,5-cyclooctadiene, 5,8-endomethylenehexahydronaphth Diolefins such as len, 1,3-butadiene, isoprene, 1,3-hexadiene, 1,3-octadiene, 1,3-cyclooctadiene, 1,3-cyclohexadiene; norbornene, 5-methylnorbornene, 5- Ethylnorbornene, 5-butylnorbornene, 5-phenylnorbornene, 5-benzylnorbornene, tetracyclododecene, tricyclodecene, tricycloundecene, pentacyclopentadecene, pentacyclohexadecene, 8-methyltetracyclododecene, 8 -Ethyltetracyclododecene, 5-acetylnorbornene, 5-acetyloxynorbornene, 5-methoxycarbonylnorbornene, 5-ethoxycarbonylnorbornene, 5-methyl-5-methoxycarbonylnorbornene, 5-cyanonorbo Cyclic olefins such as nene, 8-methoxycarbonyltetracyclododecene, 8-methyl-8-tetracyclododecene, 8-cyanotetracyclododecene; styrene, 2-phenylpropylene, 2-phenylbutene, 3-phenylpropylene Alkenylbenzene, p-methylstyrene, m-methylstyrene, o-methylstyrene, p-ethylstyrene, m-ethylstyrene, o-ethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, 3 , 4-dimethylstyrene, 3,5-dimethylstyrene, 3-methyl-5-ethylstyrene, p-tertiary butyl styrene, alkyl styrene such as p-secondary butyl styrene, bisalkenyl benzene such as divinylbenzene, Alkene such as alkenylnaphthalene such as 1-vinylnaphthalene Nyl aromatic hydrocarbons; α, β such as acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, bicyclo (2,2,1) -5-heptene-2,3-dicarboxylic acid -Unsaturated carboxylic acids and their metal salts such as sodium, potassium, lithium, zinc, magnesium, calcium, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, t-butyl acrylate, acrylic acid Such as 2-ethylhexyl, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, α, β-unsaturated carboxylic acid esters, maleic acid, itaconic acid, etc. Unsaturated dicarboxylic acid, vinyl acetate, vinyl propionate, capro Polar monomers such as vinyl esters such as vinyl acid, vinyl caprate, vinyl laurate, vinyl stearate, vinyl trifluoroacetate, unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, monoglycidyl itaconate, etc. Is mentioned.

本発明は、これらのモノマーの単独重合または共重合に適用される。共重合体を構成するモノマーの具体例としては、エチレンとプロピレン、エチレンと1−ブテン、エチレンと1−ヘキセン、エチレンと4−メチル−1−ペンテン、エチレンと1−オクテン、プロピレンと1−ブテン、エチレンと1−ブテンと1−ヘキセン、エチレンと1−ブテンと4−メチル−1−ペンテン等が例示される。   The present invention is applied to homopolymerization or copolymerization of these monomers. Specific examples of the monomer constituting the copolymer include ethylene and propylene, ethylene and 1-butene, ethylene and 1-hexene, ethylene and 4-methyl-1-pentene, ethylene and 1-octene, propylene and 1-butene. And ethylene, 1-butene and 1-hexene, ethylene, 1-butene and 4-methyl-1-pentene.

本発明で製造されるオレフィン重合体として、特に好ましくはエチレンとα−オレフィンとの共重合体であり、中でもポリエチレン結晶構造を有するエチレンとα−オレフィンとの共重合体が好ましい。ここでいうα−オレフィンとして好ましくは、炭素原子数3〜8のα−オレフィンであり、具体的には1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテンなどが挙げられる。   The olefin polymer produced in the present invention is particularly preferably a copolymer of ethylene and an α-olefin, and particularly preferably a copolymer of ethylene and an α-olefin having a polyethylene crystal structure. The α-olefin herein is preferably an α-olefin having 3 to 8 carbon atoms, and specifically includes 1-butene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene, 1-octene and the like. .

また触媒投入後に帯電しにくいことから、製造されるオレフィン重合体の分子量分布は3〜30であることが好ましく、分子量分布の広いオレフィン重合体を製造する均一系固体触媒が好ましく用いられる。   Moreover, since it is difficult to be charged after the catalyst is charged, the molecular weight distribution of the produced olefin polymer is preferably 3 to 30, and a homogeneous solid catalyst for producing an olefin polymer having a wide molecular weight distribution is preferably used.

以下、実施例および比較例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例中の各項目の測定値は、下記の方法で測定した。   Hereinafter, although an example and a comparative example explain the present invention still in detail, the present invention is not limited to these. The measured value of each item in an Example was measured with the following method.

(1)静電気帯電量
反応器内の静電気帯電量は、ディテック(株)製静電電圧計S−21をガス分散板から258mm上方と958mm上方の位置に設置して測定を行った。
(1) Electrostatic charge amount The electrostatic charge amount in the reactor was measured by installing an electrostatic voltmeter S-21 manufactured by Ditec Co., Ltd. at positions 258 mm above and 958 mm above the gas dispersion plate.

(2)密度
JIS K−6760に従って測定した。
(2) Density The density was measured according to JIS K-6760.

(3)メルトフローレート=MFR:JIS K7210−1995に規定された方法に従い、190℃にて荷重21.18N(2.16kg)で測定した(単位:g/10分)。 (3) Melt flow rate = MFR: Measured at 190 ° C. under a load of 21.18 N (2.16 kg) according to the method defined in JIS K7210-1995 (unit: g / 10 minutes).

(4)スウェル比=SR:MFR測定時に得られたストランド径をダイの内径である2.095mmで除した値である。 (4) Swell ratio = SR: A value obtained by dividing the strand diameter obtained at the time of MFR measurement by 2.095 mm which is the inner diameter of the die.

(5)メルトフローレート比=MFRR:JIS K7210−1995に規定された方法に従い、190℃、荷重211.82N(21.60kg)で測定されたメルトフローレート値を、荷重21.18N(2.16kg)で測定されたメルトフローレート値(MFR)で除した値である。
上記メルトフローレート測定についてはすべて、予め酸化防止剤を1000ppm配合した重合体を用いた。
(5) Melt flow rate ratio = MFRR: A melt flow rate value measured at 190 ° C. and a load of 211.82 N (21.60 kg) in accordance with the method defined in JIS K7210-1995 is calculated as a load of 21.18 N (2. It is a value divided by the melt flow rate value (MFR) measured at 16 kg).
For all the melt flow rate measurements, a polymer containing 1000 ppm of an antioxidant in advance was used.

(6)嵩密度
JIS K−6721に従って測定した。
(6) Bulk density It measured according to JIS K-6721.

(7)極限粘度[η]
ウベローデ型粘度計を用い、135℃でテトラリン溶液に重合体を融解して測定した(単位:dl/g)。
(7) Intrinsic viscosity [η]
Using an Ubbelohde viscometer, the polymer was melted in a tetralin solution at 135 ° C. and measured (unit: dl / g).

(8)分子量および分子量分布
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、下記の条件で測定した。検量線は標準ポリスチレンを用いて作成した。分子量分布は重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)で評価した。
機種: ミリポアウオーターズ社製 150C型
カラム: TSK−GEL GMH−HT 7.5×600×2本
測定温度:140℃
溶媒: オルトジクロロベンゼン、
測定濃度:5mg/5ml
(8) Molecular weight and molecular weight distribution It measured by the gel permeation chromatography (GPC) on the following conditions. A calibration curve was prepared using standard polystyrene. The molecular weight distribution was evaluated by the ratio (Mw / Mn) between the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn).
Model: Model 150C manufactured by Millipore Waters Inc .: TSK-GEL GMH-HT 7.5 × 600 × 2 Measurement temperature: 140 ° C.
Solvent: orthodichlorobenzene,
Measurement concentration: 5 mg / 5 ml

(9)元素分析
Zn:試料を硫酸水溶液(1M)に投じたのち超音波をあてて金属成分を抽出した。得られた液体部分についてICP発光分析法により定量した。
F:酸素を充填させたフラスコ中で試料を燃焼させて生じた燃焼ガスを水酸化ナトリウム水溶液(10%)に吸収させ、得られた当該水溶液についてイオン電極法を用いて定量した。
[実施例1]
(1)固体触媒成分(1)の合成
特開2003−171415号公報の実施例10(1)および(2)の成分(A)と同様にして製造した。Zn=2.5mmol/g、F=5.1mmol/gであった。
(9) Elemental analysis Zn: The sample was poured into a sulfuric acid aqueous solution (1M), and then ultrasonic waves were applied to extract metal components. The obtained liquid portion was quantified by ICP emission spectrometry.
F: Combustion gas generated by burning a sample in a flask filled with oxygen was absorbed in an aqueous sodium hydroxide solution (10%), and the obtained aqueous solution was quantified using an ion electrode method.
[Example 1]
(1) Synthesis of solid catalyst component (1) The solid catalyst component (1) was prepared in the same manner as component (A) in Example 10 (1) and (2) of JP-A No. 2003-171415. Zn = 2.5 mmol / g, F = 5.1 mmol / g.

(2)予備重合
予め窒素置換した内容積210リットルの撹拌機付きオートクレーブにブタン 80リットルと、常温常圧の水素として4リットルと、ブテン 8gを仕込んだ後、オートクレーブを40℃まで昇温した。エチレンを0.1kg仕込み、系内が安定した後、トリイソブチルアルミニウム 210mmol、ラセミ−エチレンビス(1−インデニル)ジルコニウムジフェノキシド 70mmol、続いて、実施例1(1)の固体触媒成分(1)690gを投入して重合を開始した。重合開始後、槽内の重合温度を1時間かけて40℃から50℃に昇温して、最初の0.5時間は、エチレン 0.5kg/時間と、常温常圧の水素として4.3リットル/時間とを供給して、重合開始後0.5時間目から、エチレン 1.8kg/時間と、常温常圧の水素として13.8リットル/時間とを供給して、合計6時間の予備重合を実施した。重合終了後、エチレン、水素ガスをパージして、乾燥ドラムへ移送して窒素流通乾燥を実施し、固体触媒成分(1)1g当り11.8gのエチレン−ブテン共重合体が予備重合された予備重合済オレフィン重合用触媒を得た。
(2) Prepolymerization Into an autoclave with a stirrer having an internal volume of 210 liters, which had been purged with nitrogen in advance, 80 liters of butane, 4 liters of hydrogen at normal temperature and pressure, and 8 g of butene were charged, and then the autoclave was heated to 40 ° C. After 0.1 kg of ethylene was charged and the system was stabilized, 210 mmol of triisobutylaluminum, 70 mmol of racemic-ethylenebis (1-indenyl) zirconium diphenoxide, and subsequently 690 g of the solid catalyst component (1) of Example 1 (1) To start polymerization. After the start of the polymerization, the polymerization temperature in the tank was raised from 40 ° C. to 50 ° C. over 1 hour, and the first 0.5 hour was 0.5 kg / hour of ethylene and 4.3 at room temperature and normal pressure as hydrogen. From 0.5 hour after the start of polymerization, 1.8 kg / hour of ethylene and 13.8 liter / hour of hydrogen at room temperature and normal pressure were fed for a total of 6 hours. Polymerization was performed. After completion of the polymerization, ethylene and hydrogen gas are purged, transferred to a drying drum, and nitrogen circulation drying is performed, and 11.8 g of ethylene-butene copolymer is preliminarily polymerized per 1 g of the solid catalyst component (1). A polymerized olefin polymerization catalyst was obtained.

(3)シードパウダーへの帯電防止剤の付着
気相法で重合したエチレン・1−ヘキセン共重合体のパウダーとトリメチルメトキシシランとを混合して、トリメチルメトキシシランが5000ppm付着したMBパウダーに調製した。そのトリメチルメトキシシランが付着したMBパウダーを、1.36wt%の割合となるよう、別途用意したエチレン・1−ヘキセン共重合体のシードパウダーに添加し、トリメチルメトキシシランが68wtppm付着したシードパウダーを80kg調製した。
そのシードパウダーをストックドラムに80kg供給した後に、真空ポンプでストックドラム内を95時間減圧処理した。その後、ストックドラム内を窒素雰囲気にした。
(3) Adhesion of antistatic agent to seed powder A powder of ethylene / 1-hexene copolymer polymerized by a gas phase method and trimethylmethoxysilane were mixed to prepare MB powder with 5000 ppm of trimethylmethoxysilane adhered. . The MB powder to which trimethylmethoxysilane is adhered is added to a separately prepared seed powder of ethylene / 1-hexene copolymer so that the ratio is 1.36 wt%, and 80 kg of seed powder to which trimethylmethoxysilane is adhered is 68 wtppm. Prepared.
After 80 kg of the seed powder was supplied to the stock drum, the inside of the stock drum was decompressed with a vacuum pump for 95 hours. Then, the inside of the stock drum was made into nitrogen atmosphere.

(4)気相重合
気相流動床式反応器内を窒素雰囲気に置換した後に、槽内圧力0.23MPaG、温度80℃の条件で、窒素ガスを反応器内の線速28cm/sで循環した。その後、シードパウダーのストックドラムの槽内圧力を1.0MPaGまで窒素ガスで昇圧し、シードパウダー 80kgを気相流動床式反応器に移送した。その後、トリイソブチルアルミニウムを250mmol投入した後に、原料モノマー、コモノマー、H2 等で昇圧を行い、重合圧力 2.0MPaGまで昇圧を行った。この間、静電気帯電量は−0.4KV〜+0.1KVの間にあり、殆ど静電気が発生しない状態であった。
昇圧完了後、上記実施例1(2)で得た予備重合済オレフィン重合用触媒を用い、連続式流動床気相重合装置で、全圧2.0MPa、重合温度75℃、圧力2.0MPaG、ホールドアップを80kgに調整して、エチレンと1−ヘキセンとの共重合を実施した。運転中のガス組成は、エチレン 91mol%、水素 1.05mol%、1−ヘキセン 0.51mol%、窒素 7.4mol%で、上記実施例1(2)で得た予備重合済オレフィン重合用触媒を約68g/hで供給し、トリイソブチルアルミニウムを21mmol/hで供給し、約21kg/hのエチレン・1−ヘキセン共重合体を得た。この間、静電電圧計が示す静電気帯電量は−0.5〜+0.5KVであり、安定していた。このような状態で約3日間、塊化物の発生は殆どない安定運転を実施することができた。
このとき生成していた気相重合ポリマーの密度は0.9239g/cm3、MFRは4.1g/10min、SRは1.55、MFRRは73.2で、分子量分布は11.4であった。
(4) Gas phase polymerization After replacing the inside of the gas phase fluidized bed reactor with a nitrogen atmosphere, nitrogen gas was circulated at a linear velocity of 28 cm / s in the reactor under the conditions of a tank pressure of 0.23 MPaG and a temperature of 80 ° C. did. Thereafter, the pressure in the tank of the seed powder stock drum was increased to 1.0 MPaG with nitrogen gas, and 80 kg of seed powder was transferred to the gas phase fluidized bed reactor. Thereafter, 250 mmol of triisobutylaluminum was added, and the pressure was increased with the raw material monomer, comonomer, H 2 and the like, and the pressure was increased to a polymerization pressure of 2.0 MPaG. During this time, the electrostatic charge amount was between -0.4 KV and +0.1 KV, and almost no static electricity was generated.
After completion of pressurization, using the prepolymerized olefin polymerization catalyst obtained in Example 1 (2) above, in a continuous fluidized bed gas phase polymerization apparatus, the total pressure was 2.0 MPa, the polymerization temperature was 75 ° C., the pressure was 2.0 MPaG, The holdup was adjusted to 80 kg and copolymerization of ethylene and 1-hexene was carried out. The gas composition during operation was 91 mol% ethylene, 1.05 mol% hydrogen, 0.51 mol% 1-hexene, 7.4 mol% nitrogen, and the prepolymerized olefin polymerization catalyst obtained in Example 1 (2) above. About 68 g / h was supplied, and triisobutylaluminum was supplied at 21 mmol / h to obtain about 21 kg / h of ethylene / 1-hexene copolymer. During this time, the electrostatic charge amount indicated by the electrostatic voltmeter was -0.5 to +0.5 KV and was stable. In such a state, stable operation with almost no generation of agglomerates could be carried out for about 3 days.
The density of the gas phase polymer produced at this time was 0.9239 g / cm 3 , the MFR was 4.1 g / 10 min, the SR was 1.55, the MFRR was 73.2, and the molecular weight distribution was 11.4. .

[実施例2]
(1)予備重合
予め窒素置換した内容積210リットルの撹拌機付きオートクレーブにブタン 80リットルと、常温常圧の水素として12リットルと、ブテン 8gを仕込んだ後、オートクレーブを40℃まで昇温した。エチレンを0.3kg仕込み、系内が安定した後、トリイソブチルアルミニウム 210mmol、ラセミ−エチレンビス(1−インデニル)ジルコニウムジフェノキシド 70mmol、続いて、実施例1(1)の固体触媒成分(1)690gを投入して重合を開始した。重合開始後、槽内の重合温度を1時間かけて40℃から50℃に昇温して、最初の0.5時間は、エチレン 0.6kg/時間と、常温常圧の水素として5.2リットル/時間とを供給して、重合開始後0.5時間目から、エチレン 1.8kg/時間と、常温常圧の水素として14.0リットル/時間とを供給して、合計6時間の予備重合を実施した。重合終了後、エチレン、水素ガスをパージして、乾燥ドラムへ移送して窒素流通乾燥を実施し、固体触媒成分(1)1g当り13.0gのエチレン−ブテン共重合体が予備重合された予備重合済オレフィン重合用触媒を得た。
[Example 2]
(1) Prepolymerization Into an autoclave with a stirrer having an internal volume of 210 liters, which had been purged with nitrogen in advance, 80 liters of butane, 12 liters of hydrogen at room temperature and normal pressure, and 8 g of butene were charged, and the autoclave was heated to 40 ° C. After 0.3 kg of ethylene was charged and the system was stabilized, 210 mmol of triisobutylaluminum, 70 mmol of racemic-ethylenebis (1-indenyl) zirconium diphenoxide, and subsequently 690 g of the solid catalyst component (1) of Example 1 (1) To start polymerization. After the start of polymerization, the polymerization temperature in the tank was raised from 40 ° C. to 50 ° C. over 1 hour, and the first 0.5 hour was 0.6 kg / hour of ethylene and 5.2 at room temperature and normal pressure as hydrogen. From 0.5 hour after the start of polymerization, 1.8 kg / hour of ethylene and 14.0 liter / hour of hydrogen at room temperature and normal pressure are fed for a total of 6 hours. Polymerization was performed. After completion of the polymerization, ethylene and hydrogen gas are purged, transferred to a drying drum, and nitrogen circulation drying is performed, so that 13.0 g of ethylene-butene copolymer is preliminarily polymerized per 1 g of the solid catalyst component (1). A polymerized olefin polymerization catalyst was obtained.

(2)シードパウダーへの帯電防止剤の付着
気相法で重合したエチレン・1−ヘキセン共重合体のパウダーとトリメチルターシャリーブトキシシランとを混合して、トリメチルターシャリーブトキシシランが5000ppm付着したMBパウダーに調製した。そのトリメチルメトキシシランが付着したMBパウダーを、1.26wt%の割合となるよう、別途用意したエチレン・1−ヘキセン共重合体のシードパウダーに添加し、トリメチルターシャリーブトキシシランが63wtppm付着したシードパウダーを80kg調製した。
そのシードパウダーをストックドラムに80kg供給した。その後、ストックドラム内を窒素雰囲気にした。
(2) Adhesion of antistatic agent to seed powder MB in which powder of ethylene / 1-hexene copolymer polymerized by gas phase method and trimethyl tertiary butoxysilane were mixed and 5000 ppm of trimethyl tertiary butoxysilane adhered Prepared to powder. The MB powder to which trimethylmethoxysilane is adhered is added to a separately prepared seed powder of ethylene / 1-hexene copolymer so as to have a ratio of 1.26 wt%, and the seed powder to which 63 wtppm of trimethyl tertiary butoxysilane is adhered. 80 kg was prepared.
80 kg of the seed powder was supplied to the stock drum. Then, the inside of the stock drum was made into nitrogen atmosphere.

(3)気相重合
気相流動床式反応器内を窒素雰囲気に置換した後に、槽内圧力0.23MPaG、温度80℃の条件で、窒素ガスを反応器内の線速28cm/sで循環した。その後、シードパウダーのストックドラムの槽内圧力を1.0MPaGまで窒素ガスで昇圧し、シードパウダー 80kgを気相流動床式反応器に移送した。その後、トリイソブチルアルミニウムを250mmol投入した後に、原料モノマー、コモノマー、H2等で昇圧を行い、重合圧力 2.0MPaGまで昇圧を行った。この間、静電気帯電量は−2.9KV〜+0.3KVの間にあり、殆ど静電気が発生しない状態であった。
昇圧完了後、上記実施例2(1)で得た予備重合済オレフィン重合用触媒を用い、連続式流動床気相重合装置で、全圧2.0MPa、重合温度75℃、圧力2.0MPaG、ホールドアップを80kgに調整して、エチレンと1−ブテンと1−ヘキセンの3元共重合を実施した。運転中のガス組成は、エチレン 90.4mol%、水素 0.74mol%、1−ヘキセン 0.2mol%、1−ブテン 3.2mol%、窒素 5.5mol%で、上記実施例2(1)で得た予備重合済オレフィン重合用触媒を約42g/hで供給し、トリイソブチルアルミニウムを21mmol/hで供給し、約20.2kg/hのエチレン・1−ヘキセン・1−ブテン共重合体を得た。この間、静電電圧計が示す静電気帯電量は+0.1〜+0.7KVであり、安定していた。このような状態で約4日間、塊化物の発生は殆どない安定運転を実施することができた。運転終了後の開放点検でもシーティング塊は見られなかった。
このとき生成していた気相重合ポリマーの密度は0.9184g/cm3、MFRは0.47g/10min、SRは1.27、MFRRは140.4で、分子量分布は11.8であった。
(3) Gas phase polymerization After replacing the inside of the gas phase fluidized bed reactor with a nitrogen atmosphere, nitrogen gas was circulated at a linear velocity of 28 cm / s in the reactor under the conditions of 0.23 MPaG in the tank and a temperature of 80 ° C. did. Thereafter, the pressure in the tank of the seed powder stock drum was increased to 1.0 MPaG with nitrogen gas, and 80 kg of seed powder was transferred to the gas phase fluidized bed reactor. Thereafter, 250 mmol of triisobutylaluminum was added, and the pressure was increased with the raw material monomer, comonomer, H 2 and the like, and the pressure was increased to a polymerization pressure of 2.0 MPaG. During this time, the electrostatic charge amount was between -2.9 KV and +0.3 KV, and almost no static electricity was generated.
After completion of pressurization, using the prepolymerized olefin polymerization catalyst obtained in Example 2 (1) above, in a continuous fluidized bed gas phase polymerization apparatus, the total pressure was 2.0 MPa, the polymerization temperature was 75 ° C., the pressure was 2.0 MPaG, The hold-up was adjusted to 80 kg and terpolymerization of ethylene, 1-butene and 1-hexene was carried out. The gas composition during operation was ethylene 90.4 mol%, hydrogen 0.74 mol%, 1-hexene 0.2 mol%, 1-butene 3.2 mol%, nitrogen 5.5 mol%, and in Example 2 (1) above. The obtained prepolymerized olefin polymerization catalyst was fed at about 42 g / h, and triisobutylaluminum was fed at 21 mmol / h to obtain about 20.2 kg / h of ethylene / 1-hexene / 1-butene copolymer. It was. During this time, the electrostatic charge amount indicated by the electrostatic voltmeter was +0.1 to +0.7 KV and was stable. In this state, stable operation with almost no generation of agglomerates could be performed for about 4 days. In the open inspection after the operation was completed, no sheeting lump was seen.
The density of the gas phase polymer produced at this time was 0.9184 g / cm 3 , the MFR was 0.47 g / 10 min, the SR was 1.27, the MFRR was 140.4, and the molecular weight distribution was 11.8. .

[実施例3]
(1)予備重合
予め窒素置換した内容積210リットルの撹拌機付きオートクレーブにブタン 80リットルと、常温常圧の水素として4リットルと、ブテン 8gを仕込んだ後、オートクレーブを40℃まで昇温した。エチレンを0.3kg仕込み、系内が安定した後、トリイソブチルアルミニウム 225mmol、ラセミ−エチレンビス(1−インデニル)ジルコニウムジフェノキシド 75mmol、続いて、実施例1(1)の固体触媒成分(1)730gを投入して重合を開始した。重合開始後、槽内の重合温度を1時間かけて40℃から50℃に昇温して、最初の0.5時間は、エチレン 0.5kg/時間と、常温常圧の水素として3.9リットル/時間とを供給して、重合開始後0.5時間目から、エチレン 1.8kg/時間と、常温常圧の水素として19.6リットル/時間とを供給して、合計6時間の予備重合を実施した。重合終了後、エチレン、水素ガスをパージして、乾燥ドラムへ移送して窒素流通乾燥を実施し、固体触媒成分(1)1g当り12.0gのエチレン−ブテン共重合体が予備重合された予備重合済オレフィン重合用触媒を得た。
[Example 3]
(1) Preliminary polymerization Into an autoclave with a stirrer having an internal volume of 210 liters that had been previously purged with nitrogen, 80 liters of butane, 4 liters of hydrogen at room temperature and normal pressure, and 8 g of butene were charged, and then the autoclave was heated to 40 ° C. After charging 0.3 kg of ethylene and stabilizing the system, 225 mmol of triisobutylaluminum, 75 mmol of racemic-ethylenebis (1-indenyl) zirconium diphenoxide, and then 730 g of the solid catalyst component (1) of Example 1 (1) To start polymerization. After the start of polymerization, the polymerization temperature in the tank was raised from 40 ° C. to 50 ° C. over 1 hour, and the first 0.5 hour was 3.9 as 0.5 kg / hour of ethylene and hydrogen at normal temperature and pressure. From 0.5 hour after the start of polymerization, 1.8 kg / hour of ethylene and 19.6 liter / hour of hydrogen at room temperature and normal pressure were fed for a total of 6 hours of reserve. Polymerization was performed. After completion of the polymerization, ethylene and hydrogen gas were purged, transferred to a drying drum, and nitrogen circulation drying was carried out, so that 12.0 g of ethylene-butene copolymer per 1 g of the solid catalyst component (1) was prepolymerized. A polymerized olefin polymerization catalyst was obtained.

(2)シードパウダーへの帯電防止剤の付着
気相法で重合したエチレン・1−ヘキセン共重合体のパウダーとノルマルプロピルメチルジメトキシシランとをヘンシェルミキサーで2分間混合して、ノルマルプロピルメチルジメトキシシランが5000ppm付着したMBパウダーに調製した。そのノルマルプロピルメチルジメトキシシランが付着したMBパウダーを、1.12wt%の割合となるよう、別途用意したエチレン・1−ヘキセン共重合体のシードパウダーに添加し、ノルマルプロピルメチルジメトキシシランが56wtppm付着したシードパウダーを80kg調整した。
そのシードパウダーをストックドラムに80kg供給した。その後、ストックドラム内を窒素雰囲気にした。
(2) Adhesion of antistatic agent to seed powder Ethylene / 1-hexene copolymer powder polymerized by gas phase method and normal propylmethyldimethoxysilane are mixed for 2 minutes with a Henschel mixer, and then normalpropylmethyldimethoxysilane is mixed. Was prepared to MB powder with 5000 ppm adhered. The MB powder to which the normal propylmethyldimethoxysilane was attached was added to a separately prepared ethylene / 1-hexene copolymer seed powder so that the ratio was 1.12 wt%, and 56 wtppm of normalpropylmethyldimethoxysilane was attached. 80 kg of seed powder was adjusted.
80 kg of the seed powder was supplied to the stock drum. Then, the inside of the stock drum was made into nitrogen atmosphere.

(3)気相重合
気相流動床式反応器内を窒素雰囲気に置換した後に、槽内圧力0.23MPaG、温度80℃の条件で、窒素ガスを反応器内の線速28cm/sで循環した。その後、シードパウダーのストックドラムの槽内圧力を1.0MPaGまで窒素ガスで昇圧し、シードパウダー 80kgを気相流動床式反応器に移送した。その後、トリイソブチルアルミニウムを250mmol投入した後に、原料モノマー、コモノマー、H2等で昇圧を行い、重合圧力 2.0MPaGまで昇圧を行った。この間、静電気帯電量は−2.5KV〜+0KVの間にあり、殆ど静電気が発生しない状態であった。
昇圧完了後、上記実施例3(1)で得た予備重合済オレフィン重合用触媒を用い、連続式流動床気相重合装置で、全圧2.0MPa、重合温度75℃、圧力2.0MPaG、ホールドアップを80kgに調整して、エチレンと1−ブテンの共重合を実施した。運転中のガス組成は、エチレン 87.7mol%、水素 0.31mol%、1−ブテン 6.6mol%、窒素 5.4mol%で、上記実施例3(1)で得た予備重合済オレフィン重合用触媒を約45g/hで供給し、トリイソブチルアルミニウムを21mmol/hで供給し、約19.3kg/hのエチレン・1−ブテン共重合体を得た。途中、反応器の線速を37cm/sまで上昇させた。この間、静電電圧計が示す静電気帯電量は−0.1〜0KVであり、安定していた。このような状態で約3.5日間、塊化物の発生は殆どない安定運転を実施することができた。運転終了後の開放点検でもシーティング塊は見られなかった。
このとき生成していた気相重合ポリマーの密度は0.903g/cm3、MFRは0.03g/10min、MFRRは264.7で、分子量分布は9.2であった。
(3) Gas phase polymerization After replacing the inside of the gas phase fluidized bed reactor with a nitrogen atmosphere, nitrogen gas was circulated at a linear velocity of 28 cm / s in the reactor under the conditions of 0.23 MPaG in the tank and a temperature of 80 ° C. did. Thereafter, the pressure in the tank of the seed powder stock drum was increased to 1.0 MPaG with nitrogen gas, and 80 kg of seed powder was transferred to the gas phase fluidized bed reactor. Thereafter, 250 mmol of triisobutylaluminum was added, and the pressure was increased with the raw material monomer, comonomer, H 2 and the like, and the pressure was increased to a polymerization pressure of 2.0 MPaG. During this time, the electrostatic charge amount was between -2.5 KV and +0 KV, and almost no static electricity was generated.
After completion of pressurization, using the prepolymerized olefin polymerization catalyst obtained in Example 3 (1) above, in a continuous fluidized bed gas phase polymerization apparatus, the total pressure was 2.0 MPa, the polymerization temperature was 75 ° C., the pressure was 2.0 MPaG, The holdup was adjusted to 80 kg, and ethylene and 1-butene were copolymerized. The gas composition during operation was 87.7 mol% ethylene, 0.31 mol% hydrogen, 6.6 mol% 1-butene, 5.4 mol% nitrogen, and used for prepolymerized olefin polymerization obtained in Example 3 (1) above. The catalyst was supplied at about 45 g / h, and triisobutylaluminum was supplied at 21 mmol / h to obtain about 19.3 kg / h of ethylene / 1-butene copolymer. On the way, the linear velocity of the reactor was increased to 37 cm / s. During this time, the electrostatic charge amount indicated by the electrostatic voltmeter was -0.1 to 0 KV and was stable. In this state, stable operation with almost no generation of agglomerates could be carried out for about 3.5 days. In the open inspection after the operation was completed, no sheeting lump was seen.
The density of the gas phase polymer produced at this time was 0.903 g / cm 3 , the MFR was 0.03 g / 10 min, the MFRR was 264.7, and the molecular weight distribution was 9.2.

[実施例4]
(1)予備重合
予め窒素置換した内容積210リットルの撹拌機付きオートクレーブにブタン 80リットルと、常温常圧の水素として4リットルと、ブテン 8gを仕込んだ後、オートクレーブを40℃まで昇温した。エチレンを0.3kg仕込み、系内が安定した後、トリイソブチルアルミニウム 225mmol、ラセミ−エチレンビス(1−インデニル)ジルコニウムジフェノキシド 75mmol、続いて、実施例1(1)の固体触媒成分(1)720gを投入して重合を開始した。重合開始後、槽内の重合温度を1時間かけて40℃から50℃に昇温して、最初の0.5時間は、エチレン 0.6kg/時間と、常温常圧の水素として3.8リットル/時間とを供給して、重合開始後0.5時間目から、エチレン 1.8kg/時間と、常温常圧の水素として14.4リットル/時間とを供給して、合計6時間の予備重合を実施した。重合終了後、エチレン、水素ガスをパージして、乾燥ドラムへ移送して窒素流通乾燥を実施し、固体触媒成分(1)1g当り13.0gのエチレン−ブテン共重合体が予備重合された予備重合済オレフィン重合用触媒を得た。
[Example 4]
(1) Preliminary polymerization Into an autoclave with a stirrer having an internal volume of 210 liters that had been previously purged with nitrogen, 80 liters of butane, 4 liters of hydrogen at room temperature and normal pressure, and 8 g of butene were charged, and then the autoclave was heated to 40 ° C. After charging 0.3 kg of ethylene and stabilizing the system, 225 mmol of triisobutylaluminum, 75 mmol of racemic-ethylenebis (1-indenyl) zirconium diphenoxide, followed by 720 g of the solid catalyst component (1) of Example 1 (1) To start polymerization. After the start of polymerization, the polymerization temperature in the tank was raised from 40 ° C. to 50 ° C. over 1 hour, and the first 0.5 hour was 0.6 kg / hour of ethylene and 3.8 as hydrogen at normal temperature and pressure. From 0.5 hour after the start of polymerization, 1.8 kg / hour of ethylene and 14.4 liter / hour of hydrogen at room temperature and normal pressure were fed for a total of 6 hours of reserve. Polymerization was performed. After completion of the polymerization, ethylene and hydrogen gas are purged, transferred to a drying drum, and nitrogen circulation drying is performed, so that 13.0 g of ethylene-butene copolymer is preliminarily polymerized per 1 g of the solid catalyst component (1). A polymerized olefin polymerization catalyst was obtained.

(2)シードパウダーへの帯電防止剤の付着
気相法で重合したエチレン・1−ヘキセン共重合体のパウダーとターシャリーブチルノルマルプロピルジメトキシシランとをヘンシェルミキサーで2分間混合して、ターシャリーブチルノルマルプロピルジメトキシシランが5000ppm付着したMBパウダーに調製した。そのターシャリーブチルノルマルプロピルジメトキシシランが付着したMBパウダーを、0.98wt%の割合となるよう、別途用意したエチレン・1−ヘキセン共重合体のシードパウダーに添加し、ターシャリーブチルノルマルプロピルジメトキシシランが49wtppm付着したシードパウダーを80kg調整した。
そのシードパウダーをストックドラムに80kg供給した。その後、ストックドラム内を窒素雰囲気にした。
(2) Adhesion of the antistatic agent to the seed powder The powder of ethylene / 1-hexene copolymer polymerized by the gas phase method and tertiary butyl normal propyl dimethoxysilane are mixed for 2 minutes with a Henschel mixer. An MB powder having 5000 ppm of normal propyl dimethoxysilane was prepared. The MB powder to which tertiary butyl normal propyl dimethoxysilane is adhered is added to a separately prepared ethylene / 1-hexene copolymer seed powder so that the ratio becomes 0.98 wt%, and tertiary butyl normal propyl dimethoxy silane is added. 80 kg of seed powder with 49 wtppm attached was prepared.
80 kg of the seed powder was supplied to the stock drum. Then, the inside of the stock drum was made into nitrogen atmosphere.

(3)気相重合
気相流動床式反応器内を窒素雰囲気に置換した後に、槽内圧力0.23MPaG、温度80℃の条件で、窒素ガスを反応器内の線速25cm/sで循環した。その後、シードパウダーのストックドラムの槽内圧力を1.0MPaGまで窒素ガスで昇圧し、シードパウダー 80kgを気相流動床式反応器に移送した。その後、トリイソブチルアルミニウムを250mmol投入した後に、原料モノマー、コモノマー、H2等で昇圧を行い、重合圧力 2.0MPaGまで昇圧を行った。この間、静電気帯電量は−1.0KV〜+0.2KVの間にあり、殆ど静電気が発生しない状態であった。
昇圧完了後、上記実施例4(1)で得た予備重合済オレフィン重合用触媒を用い、連続式流動床気相重合装置で、全圧2.0MPa、重合温度70℃、圧力2.0MPaG、ホールドアップを80kgに調整して、エチレンと1−ヘキセンの共重合を実施した。運転中のガス組成は、エチレン 93.1mol%、水素 0.22mol%、1−ヘキセン 0.61mol%、窒素 6.0mol%で、上記実施例4(1)で得た予備重合済オレフィン重合用触媒を約33g/hで供給し、トリイソブチルアルミニウムを17mmol/hで供給し、約20.8kg/hのエチレン・1−ブテン共重合体を得た。この間、静電電圧計が示す静電気帯電量は−0.2〜+0.2KVであり、安定していた。このような状態で約3.5日間、塊化物の発生は殆どない安定運転を実施することができた。運転終了後の開放点検でもシーティング塊は見られなかった。
このとき生成していた気相重合ポリマーの密度は0.9294g/cm3、MFRは0.56g/10min、SRは1.27、MFRRは128.3で、分子量分布は8.8であった。
(3) Gas phase polymerization After replacing the inside of the gas phase fluidized bed reactor with a nitrogen atmosphere, nitrogen gas was circulated at a linear velocity of 25 cm / s in the reactor under the conditions of a tank pressure of 0.23 MPaG and a temperature of 80 ° C. did. Thereafter, the pressure in the tank of the seed powder stock drum was increased to 1.0 MPaG with nitrogen gas, and 80 kg of seed powder was transferred to the gas phase fluidized bed reactor. Thereafter, 250 mmol of triisobutylaluminum was added, and the pressure was increased with the raw material monomer, comonomer, H 2 and the like, and the pressure was increased to a polymerization pressure of 2.0 MPaG. During this time, the electrostatic charge amount was between -1.0 KV and +0.2 KV, and almost no static electricity was generated.
After completion of pressurization, using the prepolymerized olefin polymerization catalyst obtained in Example 4 (1) above, in a continuous fluidized bed gas phase polymerization apparatus, the total pressure was 2.0 MPa, the polymerization temperature was 70 ° C., the pressure was 2.0 MPaG, The holdup was adjusted to 80 kg and ethylene and 1-hexene were copolymerized. The gas composition during operation was 93.1 mol% ethylene, 0.22 mol% hydrogen, 0.61 mol% 1-hexene, 6.0 mol% nitrogen, and used for the prepolymerized olefin polymerization obtained in Example 4 (1) above. The catalyst was fed at about 33 g / h and triisobutylaluminum was fed at 17 mmol / h to obtain about 20.8 kg / h ethylene / 1-butene copolymer. During this time, the electrostatic charge amount indicated by the electrostatic voltmeter was -0.2 to +0.2 KV and was stable. In this state, stable operation with almost no generation of agglomerates could be carried out for about 3.5 days. In the open inspection after the operation was completed, no sheeting lump was seen.
The density of the gas phase polymer produced at this time was 0.9294 g / cm 3 , the MFR was 0.56 g / 10 min, the SR was 1.27, the MFRR was 128.3, and the molecular weight distribution was 8.8. .

[比較例1]
(1)接触物(e)の合成
窒素置換した5リットルの四つ口フラスコに、テトラヒドロフラン 1.50リットル、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液(2.0mol/リットル)1.343リットル(2.68mol)を入れ、5℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノール 199.2g(1.08mol)をテトラヒドロフラン 340mlに溶解させた溶液を60分間で滴下した。滴下終了後、5℃で60分間攪拌し、30分間かけて45℃まで温度を上げ、60分間攪拌を行った。その後、氷浴で19.6℃まで温度を下げ、HO 43.6g(2.42mol)を90分間で滴下した。その後、20℃で60分間攪拌し、25分間かけて45℃まで昇温して60分間攪拌を実施した。その後、50℃に昇温しながら、減圧にて溶媒留去を2.5時間実施し、その後120℃にて8時間減圧乾燥実施した。その結果、固体生成物 414gを得た。
[Comparative Example 1]
(1) Synthesis of contact product (e) To a 5-liter four-necked flask purged with nitrogen, 1.50 liters of tetrahydrofuran, hexane solution of diethylzinc (2.0 mol / liter) and 1.343 liters (2.68 mol) were added. And cooled to 5 ° C. A solution prepared by dissolving 199.2 g (1.08 mol) of pentafluorophenol in 340 ml of tetrahydrofuran was added dropwise thereto over 60 minutes. After completion of dropping, the mixture was stirred at 5 ° C. for 60 minutes, the temperature was raised to 45 ° C. over 30 minutes, and stirring was performed for 60 minutes. Thereafter, the temperature was lowered to 19.6 ° C. in an ice bath, and 43.6 g (2.42 mol) of H 2 O was added dropwise over 90 minutes. Then, it stirred at 20 degreeC for 60 minutes, heated up to 45 degreeC over 25 minutes, and stirred for 60 minutes. Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure for 2.5 hours while raising the temperature to 50 ° C., and then dried under reduced pressure at 120 ° C. for 8 hours. As a result, 414 g of a solid product was obtained.

(2)成分(B)の合成
窒素置換した5リットルの四つ口フラスコに、上記比較例1(1)で合成した固体生成物 414g、テトラヒドロフラン 3リットルを入れ、攪拌を行った。これに窒素流通下で300℃において加熱処理したシリカ(デビソン社製 Sylopol948;平均粒子径=59μm;細孔容量=1.61ml/g;比表面積=306m2/g)311.1gを入れた。40℃に加熱し、2時間攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のスラリー部分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操作として、これに、テトラヒドロフラン 3リットルを加え、攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降させ、同様に界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り除いた。以上の洗浄操作を計5回繰り返した。その後、減圧下、120℃で8時間乾燥を行うことにより、固体触媒成分(1)509.6gを得た。
(2) Synthesis of Component (B) 414 g of the solid product synthesized in Comparative Example 1 (1) and 3 liters of tetrahydrofuran were placed in a 5-liter four-necked flask purged with nitrogen and stirred. This was charged with 311.1 g of silica (Sypolol 948 manufactured by Devison; average particle size = 59 μm; pore volume = 1.61 ml / g; specific surface area = 306 m 2 / g) heated at 300 ° C. under a nitrogen flow. After heating to 40 ° C. and stirring for 2 hours, the mixture was allowed to stand, the solid component was allowed to settle, and when the interface between the precipitated solid component layer and the upper slurry portion was seen, the upper slurry portion was removed. . As a washing operation, 3 liters of tetrahydrofuran was added thereto, and after stirring, the mixture was allowed to stand to allow the solid component to settle. Similarly, when the interface was seen, the upper slurry portion was removed. The above washing operation was repeated 5 times in total. Thereafter, drying was performed at 120 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain 509.6 g of a solid catalyst component (1).

(3)予備重合
予め窒素置換した内容積 210リットルの撹拌機付きオートクレーブにトリイソブチルアルミニウムを濃度 2.5mmol/リットルで含んだブタン 100リットルと、常温常圧の水素として 12リットルを仕込んだ後、オートクレーブを45℃まで昇温した。エチレンをオートクレーブ内のガス相圧力で0.3MPaA分だけ仕込み、系内が安定した後、トリイソブチルアルミニウム 250mmol、ラセミ−エチレンビス(1−インデニル)ジルコニウムジフェノキシド 37.5mmol、続いて、比較例1(2)で得られた固体触媒成分(1)252gを投入して重合を開始した。触媒投入後からすぐにエチレン 4.0kg/時間と、常温常圧の水素として10リットル/時間とを供給した。重合開始後、槽内の重合温度を1時間かけて40℃から50℃に昇温して、その後は50℃で重合を行い、合計2.5時間の予備重合を実施した。重合終了後、エチレン、ブタン、水素ガスをパージして、溶媒のろ過を実施したのちに、生成した固体を室温にて真空乾燥し、固体触媒成分(1)1g当り37.1gのエチレンホモ共重合体が予備重合された予備重合済オレフィン重合用触媒を得た。得られた予備重合体の極限粘度[η]は0.91dl/gであった。
(3) Prepolymerization After charging 100 liters of butane containing triisobutylaluminum at a concentration of 2.5 mmol / liter in an autoclave with a stirrer with an internal volume of 210 liters previously substituted with nitrogen, and 12 liters as hydrogen at normal temperature and pressure, The autoclave was heated to 45 ° C. After ethylene was charged by 0.3 MPaA as the gas phase pressure in the autoclave and the system was stabilized, 250 mmol of triisobutylaluminum, 37.5 mmol of racemic-ethylenebis (1-indenyl) zirconium diphenoxide, and then Comparative Example 1 252 g of the solid catalyst component (1) obtained in (2) was added to initiate polymerization. Immediately after charging the catalyst, 4.0 kg / hour of ethylene and 10 liter / hour of hydrogen at ordinary temperature and pressure were supplied. After the start of polymerization, the polymerization temperature in the tank was raised from 40 ° C. to 50 ° C. over 1 hour, and then polymerization was carried out at 50 ° C. to carry out preliminary polymerization for a total of 2.5 hours. After completion of the polymerization, purging ethylene, butane and hydrogen gas and filtering the solvent, the resulting solid was vacuum-dried at room temperature, and 37.1 g of ethylene homopolymer per 1 g of the solid catalyst component (1). A prepolymerized olefin polymerization catalyst in which the polymer was prepolymerized was obtained. The preliminary polymer obtained had an intrinsic viscosity [η] of 0.91 dl / g.

(4)気相重合
気相流動床式反応器内を窒素雰囲気に置換した後に、槽内圧力0.23MPaG、温度80℃の条件で、窒素ガスを反応器内の線速24cm/sで循環した。その後、シードパウダーのストックドラムの槽内圧力を1.0MPaGまで窒素ガスで昇圧し、エチレン・1−ヘキセン共重合体の気相重合パウダーであるシードパウダー 80kgを気相流動床式反応器に移送した。シードパウダーを移送し、原料モノマー、コモノマー、H2等で昇圧を行い、重合圧力 2.0MPaAまで昇圧を行った段階で258mmに設置した静電電圧計は−13KVの値を示した。その後、―7KVほどまで静電気帯電量が低減した段階で、上記比較例1(3)で得た予備重合済オレフィン重合用触媒を用い、全圧2.0MPa、重合温度85℃、循環ガスの線速25cm/s、ホールドアップ80kgでエチレンと1−ヘキセンとの共重合を実施した。運転中のガス組成は、エチレン 92.7mol%、水素 0.07mol%、1−ヘキセン 0.92mol%、窒素 4.1mol%で、上記比較例1(3)で得た予備重合済オレフィン重合用触媒を供給し、トリイソブチルアルミニウムを79mmol/hで供給した。その際に活性はスムーズに発現したが、触媒投入開始から2時間後には−20KVの値を示した。そのため、一旦触媒の供給を停止して、静電気帯電量が−6KVになるまで待って触媒を再フィード実施した。その後、パウダーの生成量は、6.7kg/hまで負荷上げされたが、触媒投入開始後、13時間後に、生成パウダーの抜き出し不良が発生し重合停止に至った。その間生成したパウダーは50kgであった。運転停止後、反応器内部の開放観察を実施したところ、反応器内部にシート状塊化物が約24kg生成していることが確認された。
このとき反応器内部に残存していたパウダーの密度は0.9287g/cm3、MFRは1.8g/10min、SRは1.63、MFRRは47.5で、分子量分布は4.0であった。
(4) Gas phase polymerization After replacing the inside of the gas phase fluidized bed reactor with a nitrogen atmosphere, nitrogen gas was circulated at a linear velocity of 24 cm / s in the reactor under the conditions of a tank pressure of 0.23 MPaG and a temperature of 80 ° C. did. Thereafter, the pressure of the seed powder stock drum is increased to 1.0 MPaG with nitrogen gas, and 80 kg of seed powder, which is a gas phase polymerization powder of ethylene / 1-hexene copolymer, is transferred to the gas phase fluidized bed reactor. did. The electrostatic voltmeter installed at 258 mm showed a value of −13 KV when the seed powder was transferred, the pressure was increased with the raw material monomer, comonomer, H 2 and the like, and the pressure was increased to the polymerization pressure of 2.0 MPaA. Thereafter, when the electrostatic charge amount was reduced to about −7 KV, the prepolymerized olefin polymerization catalyst obtained in Comparative Example 1 (3) was used, and the total pressure was 2.0 MPa, the polymerization temperature was 85 ° C., the circulation gas line Copolymerization of ethylene and 1-hexene was carried out at a speed of 25 cm / s and a hold-up of 80 kg. The gas composition during operation was ethylene 92.7 mol%, hydrogen 0.07 mol%, 1-hexene 0.92 mol%, nitrogen 4.1 mol%, and used for prepolymerized olefin polymerization obtained in Comparative Example 1 (3). Catalyst was fed and triisobutylaluminum was fed at 79 mmol / h. At that time, the activity exhibited smoothly, but showed a value of −20 KV after 2 hours from the start of the catalyst charging. Therefore, the supply of the catalyst was once stopped, and the catalyst was re-feeded after waiting for the electrostatic charge amount to be -6 KV. Thereafter, the amount of powder produced was increased to 6.7 kg / h. However, after 13 hours from the start of catalyst addition, defective extraction of the produced powder occurred and polymerization was stopped. The powder produced during that time was 50 kg. When the inside of the reactor was opened after the operation was stopped, it was confirmed that about 24 kg of sheet-like agglomerates were formed inside the reactor.
At this time, the density of the powder remaining in the reactor was 0.9287 g / cm 3 , MFR was 1.8 g / 10 min, SR was 1.63, MFRR was 47.5, and molecular weight distribution was 4.0. It was.

Claims (8)

式(I)で表わされるケイ素化合物からなる帯電防止剤。
rSi(OR’)4-r (I)
(式中、RおよびR’はそれぞれ独立に炭素原子数1〜20の炭化水素基であり、rは2または3であり、複数存在する場合のRは互いに同じであっても異なっていてもよく、複数存在する場合のR’は互いに同じであっても異なっていてもよい。)
An antistatic agent comprising a silicon compound represented by the formula (I).
R r Si (OR ′) 4-r (I)
(In the formula, R and R ′ are each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, r is 2 or 3, and when there are plural Rs, they may be the same or different from each other). Well, when there are a plurality of R ′, they may be the same or different.)
気相流動床式重合反応器中に充填するシードパウダーであって、式(I)で表わされるケイ素化合物を付着させたシードパウダー。
rSi(OR’)4-r (I)
(式中、RおよびR’はそれぞれ独立に炭素原子数1〜20の炭化水素基であり、rは2または3であり、複数存在する場合のRは互いに同じであっても異なっていてもよく、複数存在する場合のR’は互いに同じであっても異なっていてもよい。)
A seed powder filled in a gas phase fluidized bed polymerization reactor, to which a silicon compound represented by the formula (I) is adhered.
R r Si (OR ′) 4-r (I)
(In the formula, R and R ′ are each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, r is 2 or 3, and when there are plural Rs, they may be the same or different from each other). Well, when there are a plurality of R ′, they may be the same or different.)
付着量が、0.01〜1000wtppmである請求項2記載のシードパウダー。   The seed powder according to claim 2, wherein the adhesion amount is 0.01 to 1000 wtppm. 式(I)で表わされるケイ素化合物を付着させたシードパウダーを気相流動床式重合反応器中に充填した後に重合を開始するオレフィン類の重合方法。
rSi(OR’)4-r (I)
(式中、RおよびR’はそれぞれ独立に炭素原子数1〜20の炭化水素基であり、rは2または3であり、複数存在する場合のRは互いに同じであっても異なっていてもよく、複数存在する場合のR’は互いに同じであっても異なっていてもよい。)
A method for polymerizing olefins, in which polymerization is started after a seed powder having a silicon compound represented by formula (I) attached thereto is charged in a gas phase fluidized bed polymerization reactor.
R r Si (OR ′) 4-r (I)
(In the formula, R and R ′ are each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, r is 2 or 3, and when there are plural Rs, they may be the same or different from each other). Well, when there are a plurality of R ′, they may be the same or different.)
式(I)で表わされるケイ素化合物を付着させたシードパウダーを気相流動床式重合反応器中に充填した後に重合を開始して、オレフィン類を重合するオレフィン重合体の製造方法。
rSi(OR’)4-r (I)
(式中、RおよびR’はそれぞれ独立に炭素原子数1〜20の炭化水素基であり、rは2または3であり、複数存在する場合のRは互いに同じであっても異なっていてもよく、複数存在する場合のR’は互いに同じであっても異なっていてもよい。)
A method for producing an olefin polymer, in which a seed powder having a silicon compound represented by formula (I) is charged into a gas phase fluidized bed polymerization reactor and then polymerization is started to polymerize olefins.
R r Si (OR ′) 4-r (I)
(In the formula, R and R ′ are each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, r is 2 or 3, and when there are plural Rs, they may be the same or different from each other). Well, when there are a plurality of R ′, they may be the same or different.)
内壁面に式(I)で表わされるケイ素化合物を塗布した気相流動床式重合反応器を用いてオレフィン類を重合するオレフィン重合体の製造方法。   A method for producing an olefin polymer, wherein an olefin is polymerized using a gas phase fluidized bed polymerization reactor in which a silicon compound represented by the formula (I) is coated on an inner wall surface. オレフィン重合体が、分子量分布3〜30のオレフィン重合体である請求項5または6記載のオレフィン重合体の製造方法。   The method for producing an olefin polymer according to claim 5 or 6, wherein the olefin polymer is an olefin polymer having a molecular weight distribution of 3 to 30. 均一系固体触媒の存在下にオレフィン類を重合する請求項7記載のオレフィン重合体の製造方法。
The method for producing an olefin polymer according to claim 7, wherein olefins are polymerized in the presence of a homogeneous solid catalyst.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012166157A (en) * 2011-02-15 2012-09-06 Asahi Kasei Chemicals Corp Conductive catalyst for fluidized bed reaction, manufacturing method for the same and method for producing propylene
JP2013209461A (en) * 2012-03-30 2013-10-10 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for producing olefin polymer

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