JP2005191139A - Multiple-pattern wiring board - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multiple-pattern wiring board which allows easy and effective attachment of the plating layer of a different thickness and type to interconnection conductors in wiring board regions. <P>SOLUTION: In the multiple-pattern wiring board 1, the plurality of wiring board regions 2 are arranged lengthwise and crosswise on an insulation substrate, and patterns 4 and 5 for conduction of plating for attaching the plating layer to the wiring conductors 6a-6c formed in the wiring board regions 2 by electrolytic plating method are also formed on the insulation substrate. The wiring conductors 6a-6c include first wiring conductors 6a and 6b and second wiring conductors 6c. The patterns 4 and 5 for conduction of plating include first patterns 4 for conduction of plating which are connected to all the first wiring conductors 6a and 6b formed in each wiring board region 2, and n pieces of second patterns 5 (n is an integer of 2 or above) for conduction of plating which are connected to all the second wiring conductors 6c in each group of wiring board regions 2 divided into n groups. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、広面積の母基板中に各々が半導体素子や水晶振動子等の電子部品を搭載するための配線基板となる配線基板領域を多数個配列形成して成る多数個取り配線基板に関するものである。   The present invention relates to a multi-cavity wiring board formed by arranging a large number of wiring board regions each serving as a wiring board for mounting electronic components such as semiconductor elements and crystal resonators in a large-area mother board. It is.

従来、半導体素子や水晶振動子等の電子部品を搭載するための配線基板は、例えば酸化アルミニウム質焼結体等の電気絶縁材料から成る絶縁基体の表面に、タングステンやモリブデン等の高融点金属粉末メタライズから成る配線導体を配設することにより形成されている。   Conventionally, wiring boards for mounting electronic components such as semiconductor elements and crystal resonators have a high melting point metal powder such as tungsten or molybdenum on the surface of an insulating base made of an electrically insulating material such as an aluminum oxide sintered body. It is formed by disposing a wiring conductor made of metallization.

そして、配線基板上に電子部品を搭載するとともに、この電子部品の各電極を半田やボンディングワイヤ等の電気的接続手段を介して配線導体に電気的に接続し、しかる後、この配線基板上に金属やセラミックスから成る蓋体あるいはポッティング樹脂を電子部品を覆うようにして接合することによって電子部品を気密に封止し、製品としての電子装置が製作される。   And while mounting an electronic component on a wiring board, each electrode of this electronic component is electrically connected to a wiring conductor through electrical connection means such as solder or bonding wire, and then, on this wiring board. A lid made of metal or ceramics or a potting resin is joined so as to cover the electronic component, whereby the electronic component is hermetically sealed, and an electronic device as a product is manufactured.

ところで、このような配線基板は、近時の電子装置の小型化の要求に伴いその大きさが数mm角程度の極めて小さなものとなってきている。   By the way, such a wiring board has become extremely small with a size of about several mm square in accordance with the recent demand for miniaturization of electronic devices.

そこで、このような小型の配線基板は、その取り扱いを容易なものとするために、また配線基板やこれを使用した電子装置の製作を効率良いものとするために、いわゆる多数個取り配線基板の形態で製作される。   Therefore, in order to facilitate the handling of such a small-sized wiring board and to efficiently manufacture the wiring board and an electronic device using the wiring board, a so-called multi-cavity wiring board is used. Made in form.

このような多数個取り配線基板は、各々が配線導体を有する多数の配線基板領域を1枚の広面積の母基板中に縦横に一体に配列形成して成り、各配線基板領域に電子部品を搭載して封止した後、母基板を各配線基板領域毎に分割することにより、多数の電子装置を同時集約的に得るようにしたものである。   Such a multi-piece wiring board is formed by arranging a large number of wiring board regions each having wiring conductors in a single large-area mother board vertically and horizontally, and in which electronic components are arranged in each wiring board region. After mounting and sealing, the mother board is divided into each wiring board region, so that a large number of electronic devices can be obtained simultaneously and collectively.

なお、かかる多数個取り配線基板の各配線基板領域に形成された配線導体には、配線導体が酸化腐食するのを防止するとともに、配線導体と電子部品の各電極との電気的接続性を良好なものとするために、その露出する表面にニッケルや金等から成るめっき金属層が例えば電解めっき法により被着されている。   In addition, the wiring conductor formed in each wiring board region of the multi-cavity wiring board prevents the wiring conductor from being oxidatively corroded and has good electrical connectivity between the wiring conductor and each electrode of the electronic component. Therefore, a plating metal layer made of nickel, gold, or the like is applied to the exposed surface by, for example, an electrolytic plating method.

ここで、このような多数個取り配線基板の例を図4に平面図で示す。図4に示すように、多数個取り配線基板は、例えば長方形の母基板11の中央部に各々が配線基板となる多数の配線基板領域12が縦横に一体に配列形成されており、母基板11の外周部には縦横に配列形成された配線基板領域12を取り囲むように捨て代領域13が形成されている。   Here, an example of such a multi-piece wiring board is shown in a plan view in FIG. As shown in FIG. 4, in the multi-piece wiring board, for example, a large number of wiring board regions 12, each of which becomes a wiring board, are integrally formed vertically and horizontally at the center of a rectangular mother board 11. A margin area 13 is formed on the outer periphery of the wiring board so as to surround the wiring board areas 12 arranged in the vertical and horizontal directions.

そして、各配線基板領域12には、例えば配線導体15a,15bが形成されている。各配線基板領域12の配線導体15a同士および配線導体15b同士は、それぞれ複数の列に並んでおり、かつ各列毎にめっき導通用パターン14を介して電気的に接続されている。このめっき導通用パターン14は、母基板11の対向する2辺に導出しており、母基板11の2辺に端子部14aを形成し、端子部14aをめっき用電源に接続することにより、めっき導通用パターン14を介して各列の配線導体15a,15bの全てに電解めっきのための電圧が印加される。   For example, wiring conductors 15 a and 15 b are formed in each wiring board region 12. The wiring conductors 15 a and the wiring conductors 15 b of each wiring board region 12 are arranged in a plurality of columns, and are electrically connected to each column via the plating conduction pattern 14. The plating conduction pattern 14 is led out on two opposing sides of the mother board 11, and terminal portions 14a are formed on the two sides of the mother board 11, and the terminal parts 14a are connected to a power source for plating, thereby plating. A voltage for electrolytic plating is applied to all the wiring conductors 15a and 15b in each column via the conductive pattern 14.

そして、この多数個取り配線基板では、母基板11をニッケルめっきや金めっきのための電解めっき浴中に浸漬するとともに、めっき導通用パターン14をめっき用電源に接続することによって、全ての配線導体15a,15bに電解めっきによるめっき金属層が被着される。   In this multi-cavity wiring board, all the wiring conductors are obtained by immersing the mother board 11 in an electrolytic plating bath for nickel plating or gold plating and connecting the plating conduction pattern 14 to a power source for plating. A plated metal layer by electrolytic plating is deposited on 15a and 15b.

そして、多数個取り配線基板を各配線基板領域12ごとに分割することにより、個々の配線基板を得ることができる。個々の配線基板領域12の分割方法としては、多数個取り配線基板の各配線基板領域12毎に分割溝を形成しておき、これに沿って分割する方法、またはスライシング法等により各配線基板領域12毎に切断する方法等があり、これらの方法により、個々の配線基板を得ることができる。
特開2000−165003号公報
Each wiring board can be obtained by dividing the multi-piece wiring board into each wiring board region 12. As a method for dividing each wiring board region 12, each wiring board region is formed by a method in which a dividing groove is formed for each wiring board region 12 of a multi-piece wiring board and divided along this, or by a slicing method or the like. There is a method of cutting every 12 or the like, and by these methods, individual wiring boards can be obtained.
JP 2000-165003 A

しかしながら、従来の多数個取り配線基板においては、1つの母基板に形成された全ての配線導体15a,15bは、全て一つのめっき導通用パターン14に電気的に接続されているために、電解めっき法により配線導体15a,15bにめっき層を被着する場合、めっき層が被着されるすべての部位に同じ厚みおよび同じ種類のめっき層しか被着することができなかった。このため、配線導体15a,15bに被着するめっき層の厚みを異ならせたり、種類の異なるめっき層を被着する場合には、配線導体15a,15b上にフィルム等によりマスキングを行ったりして、配線導体15a,15bにめっき層が被着しないようにするなどの必要性があり、非常に手間がかかるものであった。また、配線基板が非常に小型なものであったり、上面に凹部を有する配線基板のように配線基板の表面に凹凸を有するようなものであれば、マスキング等を正確かつ迅速に行うのが困難であるという問題点を有していた。   However, in the conventional multi-cavity wiring board, since all the wiring conductors 15a and 15b formed on one mother board are all electrically connected to one plating conduction pattern 14, electrolytic plating is performed. When the plating layer is applied to the wiring conductors 15a and 15b by the method, only the same thickness and the same type of plating layer can be applied to all the portions where the plating layer is applied. For this reason, when the thickness of the plating layer to be applied to the wiring conductors 15a and 15b is different, or when different types of plating layers are to be applied, the wiring conductors 15a and 15b are masked with a film or the like. In addition, there is a need to prevent the plating layer from being deposited on the wiring conductors 15a and 15b, which is very troublesome. Also, if the wiring board is very small, or has an uneven surface on the surface of the wiring board, such as a wiring board having a recess on the upper surface, it is difficult to perform masking etc. accurately and quickly. It had the problem of being.

本発明は、かかる上記従来の問題点に鑑み完成されたものであり、その目的は、配線基板の配線導体に被着される厚みや種類の異なるめっき層を容易かつ効率的に被着することができる多数個取り配線基板を提供することにある。   The present invention has been completed in view of the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to easily and efficiently deposit plating layers of different thicknesses and types deposited on the wiring conductor of the wiring board. An object of the present invention is to provide a multi-piece wiring board capable of achieving the above.

本発明の多数個取り配線基板は、絶縁基体に複数の配線基板領域が縦横に配列形成されているとともに、前記配線基板領域に形成された配線導体に電解めっき法によりめっき層を被着させるためのめっき導通用パターンが形成されている多数個取り配線基板であって、前記配線導体は第1の配線導体と第2の配線導体とを有しており、前記めっき導通用パターンは、前記配線基板領域にそれぞれ形成されたすべての第1の配線導体に連結された第1のめっき導通用パターンと、n個(nは2以上の整数)のグループに区分けされた前記配線基板領域の各グループ内のすべての前記第2の配線導体に連結されたn本の第2のめっき導通用パターンとから成ることを特徴とする。   In the multi-cavity wiring board of the present invention, a plurality of wiring board regions are arranged vertically and horizontally on an insulating base, and a plating layer is deposited on the wiring conductor formed in the wiring board region by electrolytic plating. In this case, the wiring conductor has a first wiring conductor and a second wiring conductor, and the plating conduction pattern is the wiring wiring. First plating conduction patterns connected to all first wiring conductors formed in the substrate region, respectively, and each group of the wiring substrate regions divided into n groups (n is an integer of 2 or more) And n second plating conduction patterns connected to all of the second wiring conductors therein.

本発明の多数個取り配線基板において、好ましくは、前記第1の配線導体および前記第2の配線導体は、表面に互いに異なるめっき導体層が形成されていることを特徴とする。   In the multi-cavity wiring board of the present invention, it is preferable that the first wiring conductor and the second wiring conductor have different plated conductor layers on the surfaces thereof.

本発明の多数個取り配線基板は、配線導体は第1の配線導体と第2の配線導体とを有しており、めっき導通用パターンは、配線基板領域にそれぞれ形成されたすべての第1の配線導体に連結された第1のめっき導通用パターンと、n個(nは2以上の整数)のグループに区分けされた配線基板領域の各グループ内のすべての第2の配線導体に連結されたn本の第2のめっき導通用パターンとから成ることから、第1のめっき導通用パターンおよび第2のめっき導通用パターンに別々に電圧を印加することができるのでマスキング等を行なうことなく、第1のめっき導通用パターンに接続された第1の配線導体と、第2のめっき導通用パターンに接続された第2の配線導体とのそれぞれに、厚みや種類の異なるめっき層を電解めっき法により、容易かつ良好に被着させることができる。   In the multi-cavity wiring board of the present invention, the wiring conductor has a first wiring conductor and a second wiring conductor, and the plating conduction pattern is formed on each of the first wiring conductors formed in the wiring board region. Connected to all the second wiring conductors in each group of the wiring board region divided into the first plating conduction pattern connected to the wiring conductors and n (n is an integer of 2 or more) groups Since it comprises n second plating conduction patterns, a voltage can be separately applied to the first plating conduction pattern and the second plating conduction pattern, so that masking or the like can be performed without masking. A plating layer of different thickness and type is applied to each of the first wiring conductor connected to the first plating conduction pattern and the second wiring conductor connected to the second plating conduction pattern by electrolytic plating. , It can be easily and satisfactorily deposited.

また、第1のめっき導通用パターンは、全ての配線基板領域に連結して一括形成されていることで、端子部を少なくし、全ての配線基板領域の第1のめっき導通用パターンに接続された第1の配線導体に簡易にめっき層を被着することができる。   In addition, the first plating conduction pattern is connected to all the wiring board regions and formed in a lump so that the terminal portions are reduced and connected to the first plating conduction pattern in all the wiring board regions. In addition, the plating layer can be easily applied to the first wiring conductor.

さらに、第1のめっき導通用パターンに接続された第1の配線導体と、第2のめっき導通用パターンに接続された第2の配線導体とが短絡したとしても、第2のめっき導通用パターンは、n個のグループに区分けされていることから、1つのグループにおいては、第1の配線導体にめっき形成を行なう際、第1の配線導体および第2の配線導体の両方にめっき層が被着されるが、残りのグループには、第1の配線導体と第2の配線導体との絶縁性が維持されているので、第2の配線導体に第1の配線導体用のめっき層が被着されることはなく、1つの短絡不良よって多数個取り配線基板全体が不良となるのを有効に防止することができる。よって、第1のめっき導通用パターンに接続された第1の配線導体と、第2のめっき導通用パターンに接続された第2の配線導体とが非常に近接したものとして形成しても、不良数を抑制して歩留まりを向上させることができるので、より小型の配線基板を歩留まりよく形成することができる。   Furthermore, even if the first wiring conductor connected to the first plating conduction pattern and the second wiring conductor connected to the second plating conduction pattern are short-circuited, the second plating conduction pattern Are divided into n groups, and in one group, when the first wiring conductor is plated, the plating layer is covered on both the first wiring conductor and the second wiring conductor. However, since the insulation between the first wiring conductor and the second wiring conductor is maintained in the remaining groups, the plating layer for the first wiring conductor is covered on the second wiring conductor. Without being attached, it is possible to effectively prevent the entire multi-chip wiring board from being defective due to one short circuit failure. Therefore, even if the first wiring conductor connected to the first plating conduction pattern and the second wiring conductor connected to the second plating conduction pattern are formed very close to each other, it is defective. Since the number can be suppressed and the yield can be improved, a smaller wiring board can be formed with a high yield.

本発明の多数個取り配線基板は、第1の配線導体および第2の配線導体は、表面に互いに異なるめっき導体層が形成されていることから、例えば、電気導電材としての機能と光反射面としての機能のように、複数の機能のそれぞれに適しためっき層が被着された配線導体を一つの配線基板領域内に容易に作製することができ、各機能に優れた配線基板を生産性よく提供することができる。   In the multi-cavity wiring board of the present invention, the first wiring conductor and the second wiring conductor have different plating conductor layers formed on the surfaces, so that, for example, the function as an electrically conductive material and the light reflection surface As a function, it is possible to easily produce a wiring conductor coated with a plating layer suitable for each of several functions in one wiring board area, and to produce a wiring board with excellent functions. Can be provided well.

本発明の多数個取り配線基板を以下に詳細に説明する。本例では、配線基板が発光素子収納用パッケージである例について説明する。この発光素子収納用パッケージは、上面に発光素子を収納するための凹部が形成されており、凹部の底面に発光素子の電極が電気的に接続される配線導体が形成されており、凹部の内側面に全周にわたって発光素子から発光された光を反射させるための反射面としての配線導体が形成されている。   The multi-piece wiring board of the present invention will be described in detail below. In this example, an example in which the wiring board is a light emitting element storage package will be described. In this light emitting element storage package, a recess for storing the light emitting element is formed on the top surface, and a wiring conductor for electrically connecting the electrode of the light emitting element is formed on the bottom surface of the recess. A wiring conductor is formed on the side surface as a reflecting surface for reflecting light emitted from the light emitting element over the entire circumference.

このような発光素子収納用パッケージを配線基板領域として形成した本発明の多数個取り配線基板を図1に示す。図1(a)は、本発明の多数個取り配線基板の平面図である。図1(b)は、図1(a)に示す多数個取り配線基板における第1のめっき導通用パターンが形成された面を示す断面図であり、図1(c)は、第2のめっき導通用パターンが形成された面を示す断面図である。また、図1(d)は、本発明の多数個取り配線基板の第1および第2の配線導体にめっき層を被着した後の平面図である。さらに、図2は図1(a)の多数個取り配線基板のA−A’線における多数個取り配線基板に直角な方向の断面図である。これらの図において、1は多数個取り配線基板、2は配線基板領域、3は捨て代領域、4は第1のめっき導通用パターン、5は第2のめっき導通用パターン、6aおよび6bは第1の配線導体、6cは第2の配線導体を示している。   FIG. 1 shows a multi-chip wiring board of the present invention in which such a light emitting element storage package is formed as a wiring board region. FIG. 1A is a plan view of the multi-piece wiring board of the present invention. FIG. 1B is a cross-sectional view showing the surface on which the first plating conduction pattern is formed in the multi-cavity wiring board shown in FIG. 1A, and FIG. It is sectional drawing which shows the surface in which the pattern for conduction | electrical_connection was formed. Moreover, FIG.1 (d) is a top view after depositing the plating layer on the 1st and 2nd wiring conductor of the multi-cavity wiring board of this invention. Further, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of the multi-cavity wiring board of FIG. In these drawings, 1 is a multi-piece wiring board, 2 is a wiring board area, 3 is a disposal margin area, 4 is a first plating conduction pattern, 5 is a second plating conduction pattern, and 6a and 6b are first plating patterns. Reference numeral 1c denotes a first wiring conductor, and 6c denotes a second wiring conductor.

本発明の多数個取り配線基板(以下、母基板ともいう)1は、絶縁基体に複数の配線基板領域2が縦横に配列形成されているとともに、配線基板領域2に形成された配線導体6a〜6cに電解めっき法によりめっき層を被着させるためのめっき導通用パターン4,5が形成されており、配線導体6a〜6cは第1の配線導体6a,6bと第2の配線導体6cとを有しており、めっき導通用パターン4,5は、配線基板領域2にそれぞれ形成されたすべての第1の配線導体6a,6bに連結された第1のめっき導通用パターン4と、n個(nは2以上の整数)のグループに区分けされた配線基板領域2の各グループ内のすべての第2の配線導体6cに連結されたn本の第2のめっき導通用パターン5とから成っている。   A multi-piece wiring board (hereinafter also referred to as a mother board) 1 according to the present invention has a plurality of wiring board regions 2 arranged vertically and horizontally on an insulating base and wiring conductors 6a to 6 formed in the wiring board region 2. Plating conduction patterns 4 and 5 for depositing a plating layer on the electrode 6c by electrolytic plating are formed, and the wiring conductors 6a to 6c are connected to the first wiring conductors 6a and 6b and the second wiring conductor 6c. The plating conduction patterns 4 and 5 include the first plating conduction patterns 4 connected to all the first wiring conductors 6a and 6b formed in the wiring board region 2, respectively, and n ( n is an integer greater than or equal to 2) and includes n second plating conduction patterns 5 connected to all the second wiring conductors 6c in each group of the wiring board region 2 divided into groups. .

これにより、第1のめっき導通用パターン4および第2のめっき導通用パターン5に別々に電圧を印加することができるのでマスキング等を行なうことなく、第1のめっき導通用パターン4に接続された第1の配線導体6a,6bと、第2のめっき導通用パターン5に接続された第2の配線導体6cとのそれぞれに、厚みや種類の異なるめっき層を電解めっき法により、容易かつ良好に被着させることができる。   As a result, a voltage can be separately applied to the first plating conduction pattern 4 and the second plating conduction pattern 5, so that the first plating conduction pattern 4 is connected without masking or the like. Easily and satisfactorily applying plating layers of different thicknesses and types to the first wiring conductors 6a and 6b and the second wiring conductor 6c connected to the second plating conduction pattern 5 by electrolytic plating. Can be deposited.

また、第1のめっき導通用パターン4は、全ての配線基板領域2に連結して一括形成されていることで、端子部4’を少なくし、全ての配線基板領域2の第1のめっき導通用パターン4に接続された第1の配線導体6a,6bに容易にめっき層を被着することができる。   In addition, the first plating conduction pattern 4 is connected to all the wiring board regions 2 and formed in a lump so that the terminal portions 4 ′ are reduced and the first plating conduction patterns in all the wiring board regions 2 are formed. A plating layer can be easily applied to the first wiring conductors 6 a and 6 b connected to the common pattern 4.

さらに、第1のめっき導通用パターン4に接続された第1の配線導体6a,6bと、第2のめっき導通用パターン5に接続された第2の配線導体6cとが短絡したとしても、第2のめっき導通用パターン5は、n個のグループに区分けされていることから、1つのグループにおいては、第1の配線導体6a,6bにめっき形成を行なう際、第1の配線導体6a,6bおよび第2の配線導体6cの両方にめっき層が被着されるが、残りのグループには、第1の配線導体6a,6bと第2の配線導体6cとの絶縁性が維持されているので、第2の配線導体6cに第1の配線導体6a,6b用のめっき層が被着されることはなく、1つの短絡不良よって多数個取り配線基板1全体が不良となるのを有効に防止することができる。よって、第1のめっき導通用パターン4に接続された第1の配線導体6a,6bと、第2のめっき導通用パターン5に接続された第2の配線導体6cとが非常に近接したものとして形成しても、不良数を抑制して歩留まりを向上させることができるので、より小型の配線基板を歩留まりよく形成することができる。   Further, even if the first wiring conductors 6a and 6b connected to the first plating conduction pattern 4 and the second wiring conductor 6c connected to the second plating conduction pattern 5 are short-circuited, Since the two plating conduction patterns 5 are divided into n groups, the first wiring conductors 6a and 6b are formed when plating is formed on the first wiring conductors 6a and 6b in one group. The plating layer is applied to both the second and second wiring conductors 6c, but the insulation between the first wiring conductors 6a and 6b and the second wiring conductor 6c is maintained in the remaining groups. The plating layer for the first wiring conductors 6a and 6b is not deposited on the second wiring conductor 6c, and it is possible to effectively prevent the entire wiring board 1 from being defective due to one short circuit failure. can do. Therefore, it is assumed that the first wiring conductors 6a and 6b connected to the first plating conduction pattern 4 and the second wiring conductor 6c connected to the second plating conduction pattern 5 are very close to each other. Even if it is formed, the number of defects can be suppressed and the yield can be improved, so that a smaller wiring board can be formed with a high yield.

また、本発明の多数個取り配線基板1は、第1の配線導体6a,6bおよび第2の配線導体6cは、表面に互いに異なるめっき導体層が形成されているのがよい。これにより、例えば、電気導電材としての機能と光反射面としての機能のように、複数の機能のそれぞれに適しためっき層が被着された配線導体6a〜6cを一つの配線基板領域2内に容易に作製することができ、各機能に優れた配線基板を生産性よく提供することができる。   Further, in the multi-cavity wiring board 1 of the present invention, the first wiring conductors 6a and 6b and the second wiring conductor 6c are preferably formed with different plating conductor layers on the surfaces thereof. As a result, for example, the wiring conductors 6a to 6c coated with plating layers suitable for each of a plurality of functions, such as a function as an electric conductive material and a function as a light reflecting surface, are formed in one wiring board region 2. Thus, a wiring board excellent in each function can be provided with high productivity.

本発明の母基板1は、セラミックスや樹脂等から成り、セラミックスからなる場合は、酸化アルミニウム質焼結体や窒化アルミニウム質焼結体,ムライト質焼結体,窒化珪素質焼結体,炭化珪素質焼結体,ガラスセラミックス等の電気絶縁材料から成る四角形状の平板であり、その中央部には多数の配線基板領域2が縦横に一体に配列形成されており、その外周部には四角枠状の捨て代領域3が形成されている。   The mother substrate 1 of the present invention is made of ceramics, resin, or the like, and when made of ceramics, an aluminum oxide sintered body, an aluminum nitride sintered body, a mullite sintered body, a silicon nitride sintered body, silicon carbide. This is a rectangular flat plate made of an electrically insulating material such as a sintered material and glass ceramics. A large number of wiring board regions 2 are integrally formed vertically and horizontally at the center, and a square frame is formed at the outer periphery. A shaped margin area 3 is formed.

このような母基板1は、例えば酸化アルミニウム質焼結体からなる場合であれば、酸化アルミニウム,酸化珪素,酸化カルシウム,酸化マグネシウム等の原料粉末に適当な有機バインダおよび溶剤を添加混合して泥漿状となすとともに、これを従来周知のドクターブレード法を採用してシート状に形成して複数枚のセラミックグリーンシートを得、しかる後、これらのセラミックグリーンシートに適当な打ち抜き加工を施すとともに上下に複数枚積層し、最後に、この積層体を還元雰囲気中、約1600℃の温度で焼成することによって製作される。   When such a mother substrate 1 is made of, for example, an aluminum oxide sintered body, a suitable organic binder and solvent are added to and mixed with raw material powders such as aluminum oxide, silicon oxide, calcium oxide, magnesium oxide and the like. This is formed into a sheet by using a conventionally known doctor blade method to obtain a plurality of ceramic green sheets, and thereafter, these ceramic green sheets are appropriately punched and moved up and down. A plurality of layers are laminated, and finally, this laminated body is manufactured by firing at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere.

母基板1の中央部に形成された各配線基板領域2には、配線導体6a〜6cが被着形成されており、配線導体6a〜6cは、タングステン(W)やモリブデン(Mo),銅(Cu),銀(Ag)等の金属から成り、配線基板上に搭載される図示しない電子部品の各電極が半田バンプ等の電気的接続手段を介して接続されたり、配線基板に形成される凹部の側壁に形成されたり、配線基板と金属部材等との接合部等として用いられる
図1において、母基板1内で、第1のめっき導通用パターン4は、全ての配線基板領域2の配線導体6a,6bに連結して一括接続されており、第2のめっき導通用パターン5は、複数のグループ(図1では4つのグループ)に区分けされて、それぞれ第2のめっき導通用パターン5a〜5dとして形成されている。
Wiring conductors 6a to 6c are deposited on each wiring board region 2 formed in the central portion of the mother board 1, and the wiring conductors 6a to 6c are made of tungsten (W), molybdenum (Mo), copper ( A recess formed of a metal such as Cu) or silver (Ag) and connected to each electrode of an electronic component (not shown) mounted on the wiring board via an electrical connection means such as a solder bump or formed on the wiring board. In FIG. 1, in the mother board 1, the first plating conduction pattern 4 is a wiring conductor in all the wiring board regions 2. The second plating conduction pattern 5 is divided into a plurality of groups (four groups in FIG. 1), and is connected to the first and second plating conduction patterns 5a to 5d. Formed as The

これらの第1のめっき導通用パターン4および第2のめっき導通用パターン5a〜5dは、例えば、母基板1となるセラミックグリーンシートにWペースト等により配線導体6a〜6cにそれぞれ接続するように所定のパターンに印刷塗布し、母基板1となるセラミックグリーンシート積層体とともに焼成することによって、母基板1の所定の位置に被着形成される。   The first plating conduction pattern 4 and the second plating conduction patterns 5a to 5d are predetermined so as to be connected to the wiring conductors 6a to 6c by W paste or the like, for example, on a ceramic green sheet to be the mother board 1. This pattern is printed and applied, and fired together with the ceramic green sheet laminate to be the mother substrate 1, thereby being deposited on a predetermined position of the mother substrate 1.

第1の配線導体6a,6bは、図2に示すように、配線基板領域2の上面の凹部の底面に形成されており、凹部の底面に発光素子を収容するとともに発光素子の電極が第1の配線導体6a,6bに電気的に接続される。また、第2の配線導体6cは、図2に示すように凹部の内側面に全周にわたって形成されており、凹部に収容される発光素子の光を反射するためのものである。   As shown in FIG. 2, the first wiring conductors 6 a and 6 b are formed on the bottom surface of the concave portion on the upper surface of the wiring board region 2. The light emitting element is accommodated on the bottom surface of the concave portion, and the electrodes of the light emitting element are the first. Are electrically connected to the wiring conductors 6a and 6b. Further, as shown in FIG. 2, the second wiring conductor 6c is formed on the inner surface of the recess over the entire circumference, and is for reflecting the light of the light emitting element accommodated in the recess.

そして、母基板1を電解めっき浴中に浸漬するとともに、第1のめっき導通用パターン4の端子部4’および第2のめっき導通用パターン5a〜5dの端子部5a’〜5d’をそれぞれめっき用電源に接続することによって、第1および第2の配線導体6a〜6cの露出する表面に第1のめっき層7および第2のめっき層8が被着される。例えば、第1の配線導体6a,6bの露出する表面に金めっき層を被着し、第2の配線導体6cの露出する表面に銀めっき層を被着する場合であれば、先ず、母基板1を電解金めっき浴中に浸漬するとともに第1のめっき導通用パターン4の端子部4’をめっき用電源に接続させて第1の配線導体6a,6bの露出する表面に第1のめっき層7である金めっき層を被着させ、次に、母基板1を電解銀めっき浴中に浸漬するとともに第2のめっき導通用パターン5の端子部5a’〜5d’をめっき用電源に接続させ、第2の配線導体6cの露出する表面に第2のめっき層8である銀めっき層を被着させることができる。   Then, the mother substrate 1 is immersed in the electrolytic plating bath, and the terminal portions 4 ′ of the first plating conduction pattern 4 and the terminal portions 5a ′ to 5d ′ of the second plating conduction patterns 5a to 5d are respectively plated. By connecting to the power source, the first plating layer 7 and the second plating layer 8 are deposited on the exposed surfaces of the first and second wiring conductors 6a to 6c. For example, if a gold plating layer is applied to the exposed surface of the first wiring conductors 6a and 6b and a silver plating layer is applied to the exposed surface of the second wiring conductor 6c, first, the mother board is used. 1 is immersed in the electrolytic gold plating bath, and the terminal portion 4 'of the first plating conduction pattern 4 is connected to the power source for plating, and the first plating layer is formed on the exposed surface of the first wiring conductors 6a and 6b. 7 is applied, and then the mother board 1 is immersed in an electrolytic silver plating bath and the terminal portions 5a ′ to 5d ′ of the second plating conduction pattern 5 are connected to the power source for plating. The silver plating layer that is the second plating layer 8 can be deposited on the exposed surface of the second wiring conductor 6c.

なお、銀めっき層および金めっき層は一例であり、他の異なるめっき層であっても良いし、厚みの異なる同じ材料のめっき層であっても構わない。   The silver plating layer and the gold plating layer are examples, and may be other different plating layers or plating layers of the same material having different thicknesses.

また、配線基板領域2のうちの一つにおいて、第1の配線導体6a,6bと第2の配線導体6cとの間に短絡が生じた場合、第1の配線導体6a,6bに第1のめっき層7を被着させた際、第2のめっき導通用パターン5が区分けされた複数のグループのうち、一つのグループ(例えば第2のめっき導通用パターン5dに接続されたグループ)に接続されているグループに含まれる第2の配線導体6cにも第1のめっき層7が被着されることとなり、このグループの配線基板領域2はすべて不良となる。しかし、他のグループ(第2のめっき導通用パターン5a〜5cに接続されたグループ)の配線基板領域2は不良になっておらず、第2の配線導体6cに第2のめっき層8を被着させる際、不良となったグループの第2のめっき導通用パターン5dに接続された接続部5d’以外の接続部5a’〜5c’にめっき用電源を接続することで、第2のめっき導通用パターン5a〜5cに接続された配線基板領域2に良好に第2のめっき層8を被着させることができる。   In addition, when a short circuit occurs between the first wiring conductors 6a and 6b and the second wiring conductor 6c in one of the wiring board regions 2, the first wiring conductors 6a and 6b are connected to the first wiring conductors 6a and 6b. When the plating layer 7 is deposited, the second plating conduction pattern 5 is connected to one group (for example, a group connected to the second plating conduction pattern 5d) among the plurality of groups into which the second plating conduction pattern 5 is divided. The first plating layer 7 is also deposited on the second wiring conductors 6c included in the group, and all the wiring board regions 2 of this group are defective. However, the wiring board region 2 of the other group (the group connected to the second plating conduction patterns 5a to 5c) is not defective, and the second plating conductor 8 is covered with the second wiring conductor 6c. At the time of deposition, the plating power source is connected to the connection portions 5a ′ to 5c ′ other than the connection portion 5d ′ connected to the second plating conduction pattern 5d of the defective group, thereby providing the second plating lead. The second plating layer 8 can be satisfactorily applied to the wiring board region 2 connected to the common patterns 5a to 5c.

また、第1および第2の配線導体6a〜6cの露出する表面に同一のめっき層を被着したい場合には、母基板1を電解めっき浴中に浸漬するとともに、第1のめっき導通用パターン4の端子部4’および第2のめっき導通用パターン5a〜5dの端子部5a’〜5d’をめっき用電源に接続させることによって、第1および第2の配線導体6a〜6cの露出する領域にめっき層を被着することができる。例えば、2層以上のめっき層を有する場合において、内側のめっき層の厚みや種類が同じで、外側のめっき層の厚みや種類が異なる場合等に用いることができる。また、単層および複数層の層数の異なるめっき層にも用いることができる。その結果、多数個取り配線基板1内の第1および第2の配線導体6a〜6cの、第1のめっき導通用パターン4に電気的に接続される部位と、第2のめっき導通用パターン5に電気的に接続される部位とに、それぞれ良好にめっき層を被着することができる。   When the same plating layer is to be applied to the exposed surfaces of the first and second wiring conductors 6a to 6c, the mother substrate 1 is immersed in an electrolytic plating bath and the first plating conduction pattern is used. The first and second wiring conductors 6a to 6c are exposed by connecting the four terminal portions 4 'and the terminal portions 5a' to 5d 'of the second plating conduction patterns 5a to 5d to a plating power source. A plating layer can be applied to the substrate. For example, in the case of having two or more plating layers, the inner plating layer has the same thickness and type, and the outer plating layer has a different thickness and type. Moreover, it can use also for the plating layer from which the number of layers of a single layer and several layers differs. As a result, portions of the first and second wiring conductors 6a to 6c in the multi-piece wiring board 1 that are electrically connected to the first plating conduction pattern 4 and the second plating conduction pattern 5 are obtained. The plating layer can be satisfactorily applied to the portions electrically connected to each other.

また、区分けされた第2のめっき導通用パターン5a〜5dは、それぞれ同じ数の配線基板領域2に分割されて形成されているのが好ましく、それぞれの配線長の差を小さくし、第2のめっき導通用パターン5a〜5dにより被着されるグループ毎の第2の配線導体6cに被着される第2のめっき層8のばらつきを小さくすることができる。   The divided second plating conduction patterns 5a to 5d are preferably formed by being divided into the same number of wiring board regions 2, respectively, to reduce the difference in wiring length between the second plating conductive patterns 5a to 5d. Variation in the second plating layer 8 deposited on the second wiring conductor 6c for each group deposited by the plating conduction patterns 5a to 5d can be reduced.

なお、区分けされるグループの数は、数が多くなると、端子部5’の形成や電極部への接続が煩雑になるので、2〜8程度であるのが好ましい。   In addition, since the formation of the terminal part 5 'and the connection to the electrode part become complicated as the number increases, the number of groups to be divided is preferably about 2 to 8.

また、区分けされた1つのグループにおいて、接続部5a’〜5d’に第2のめっき導通用パターン5a〜5dを介して直接接続されている配線基板領域2は、その他の接続部5a’〜5d’に直接には接続されていない配線基板領域2に比べて、より多くの隣接する配線基板領域2と第2のめっき導通用パターン5a〜5dで連結されているのがよい。これにより、接続部5a’〜5d’に第2のめっき導通用パターン5a〜5dを介して直接接続されている配線基板領域2の第2の配線導体6cには電圧が印加されやすく、めっき厚みが他よりも厚く被着されやすくなるのを電圧を分散して有効に防止でき、区分けされた1つのグループにおけるすべての配線基板領域2において、めっき厚みを均一にすることができる。   Further, in one divided group, the wiring board region 2 directly connected to the connection portions 5a ′ to 5d ′ via the second plating conduction patterns 5a to 5d includes the other connection portions 5a ′ to 5d. Compared to the wiring substrate region 2 that is not directly connected to ', it is preferable that the wiring substrate region 2 is connected to more adjacent wiring substrate regions 2 by the second plating conduction patterns 5a to 5d. Thereby, a voltage is easily applied to the second wiring conductor 6c of the wiring board region 2 directly connected to the connection portions 5a ′ to 5d ′ via the second plating conduction patterns 5a to 5d, and the plating thickness is increased. Can be effectively prevented by distributing the voltage, and the plating thickness can be made uniform in all the wiring board regions 2 in one divided group.

なお、本発明は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内であれば種々の変更は可能である。例えば、図1においては、全ての配線基板領域2を連結して形成しているが、図3に多数個取り配線基板1の平面図で示すように、配線基板領域2の集合体を複数のグループに分割していても構わない。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, in FIG. 1, all the wiring board regions 2 are connected and formed, but as shown in the plan view of the multi-piece wiring board 1 in FIG. You may divide into groups.

(a)は本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の一例を示す平面図、(b)は(a)の多数個取り配線基板における第1のめっき導通用パターンが形成された面を示す断面図、(c)は(a)の多数個取り配線基板における第2のめっき導通用パターンが形成された面を示す断面図、(d)は(a)の多数個取り配線基板の第1および第2の配線導体にめっき層を被着した後の平面図である。(A) is a top view which shows an example of embodiment of the multi-cavity wiring board of this invention, (b) is the surface in which the pattern for the 1st plating conduction in the multi-cavity wiring board of (a) was formed. FIG. 4C is a cross-sectional view showing a surface on which the second plating conduction pattern is formed in the multi-cavity wiring board of FIG. 5A, and FIG. 4D is a cross-sectional view of the multi-cavity wiring board of FIG. It is a top view after depositing the plating layer on the 1st and 2nd wiring conductor. 図1(a)の多数個取り配線基板のA−A’線における多数個取り配線基板に直角な方向の断面図である。It is sectional drawing of the direction orthogonal to the multi-cavity wiring board in the A-A 'line of the multi-cavity wiring board of Fig.1 (a). (a)は本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の他の例を示す平面図、(b)は(a)の多数個取り配線基板における第1のめっき導通用パターンが形成された面を示す断面図、(c)は(a)の多数個取り配線基板における第2のめっき導通用パターンが形成された面を示す断面図、(d)は(a)の多数個取り配線基板の第1および第2の配線導体にめっき層を被着した後の平面図である。(A) is a top view which shows the other example of embodiment of the multi-cavity wiring board of this invention, (b) has formed the 1st pattern for plating conduction in the multi-cavity wiring board of (a). FIG. 4C is a cross-sectional view showing the surface, FIG. 4C is a cross-sectional view showing the surface on which the second plating conduction pattern is formed in the multi-cavity wiring board of FIG. 5A, and FIG. It is a top view after depositing the plating layer on the first and second wiring conductors. 従来の多数個取り配線基板の平面図である。It is a top view of the conventional multi-piece wiring board.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・多数個取り配線基板(母基板)
2・・・配線基板領域
3・・・捨て代領域
4・・・第1のめっき導通用パターン
5・・・第2のめっき導通用パターン
6a,6b・・・第1の配線導体
6c・・第2の配線導体
7・・・第1のめっき層
8・・・第2のめっき層
1 ... Multi-piece wiring board (mother board)
2 ... Wiring board region 3 ... Discard allowance region 4 ... 1st plating conduction pattern 5 ... 2nd plating conduction pattern 6a, 6b ... 1st wiring conductor 6c ... 2nd wiring conductor 7 ... 1st plating layer 8 ... 2nd plating layer

Claims (2)

絶縁基体に複数の配線基板領域が縦横に配列形成されているとともに、前記配線基板領域に形成された配線導体に電解めっき法によりめっき層を被着させるためのめっき導通用パターンが形成されている多数個取り配線基板であって、前記配線導体は第1の配線導体と第2の配線導体とを有しており、前記めっき導通用パターンは、前記配線基板領域にそれぞれ形成されたすべての第1の配線導体に連結された第1のめっき導通用パターンと、n個(nは2以上の整数)のグループに区分けされた前記配線基板領域の各グループ内のすべての前記第2の配線導体に連結されたn本の第2のめっき導通用パターンとから成ることを特徴とする多数個取り配線基板。 A plurality of wiring board regions are arranged vertically and horizontally on the insulating base, and a plating conduction pattern for depositing a plating layer on the wiring conductor formed in the wiring board region by electrolytic plating is formed. The wiring board is a multi-cavity wiring board, wherein the wiring conductor has a first wiring conductor and a second wiring conductor, and the plating conduction pattern is formed on all the wiring boards formed in the wiring board region. All of the second wiring conductors in each group of the wiring board region divided into n (n is an integer of 2 or more) groups; and a first plating conduction pattern connected to one wiring conductor. And a plurality of second plating conductive patterns connected to each other. 前記第1の配線導体および前記第2の配線導体は、表面に互いに異なるめっき導体層が形成されていることを特徴とする請求項2記載の多数個取り配線基板。 3. The multi-cavity wiring board according to claim 2, wherein the first wiring conductor and the second wiring conductor have different plating conductor layers formed on the surfaces thereof.
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