JP2005184541A - 弾性表面波素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 第1,第2の主面2a,2fを有する圧電性基板2の第1の主面側にインターデジタルトランスデューサが形成されており、該圧電性基板2の分極度が、第1の主面2aと直交する厚み方向において、傾斜的に変化したドメイン構造を有する弾性表面波素子、並びに第1,第2の主面2a,2fを有する圧電性基板2を用意する工程と、前記圧電性基板2の第1の主面2aと平行な方向に均一な分布の電界を印加し均一に分極を行う工程と、前記分極時とは電界印加方向が逆向きでかつ前記圧電性基板2の厚み方向に対して電界強度が傾斜的に分布するように電界の回り込み現象を利用して分極を行う工程と、前記圧電性基板2の第1の主面2a上にインターデジタルトランスデューサを形成する工程とを備えることを特徴とする、SH波型弾性表面波素子の製造方法。
【選択図】 図1
Description
候性、特に湿中放置時の共振周波数のシフト量が増大するという問題があった。
2…圧電性基板
2a…上面
2b,2c…端面
2f…下面
3…インターデジタルトランスデューサ
6a,6b,7a,7b…分極用電極
Claims (6)
- 第1,第2の主面を有する圧電性基板と、
前記圧電性基板の第1の主面側に配置されたインターデジタルトランスデューサとを備え、
前記圧電性基板の分極度が第1の主面と直交する厚み方向に対して、傾斜的に変化したドメイン構造を有することを特徴とする、SH波型弾性表面波素子。 - 前記圧電性基板が圧電セラミックスからなる、請求項1に記載のSH波型弾性表面波素子。
- BGS波が励振される、請求項1または2に記載のSH波型弾性表面波素子。
- 第1,第2の主面を有する圧電性基板を用意する工程と、
前記圧電性基板の第1の主面と平行な方向に均一な分布の電界を印加し均一に分極を行う工程と、
前記分極時とは電界印加方向が逆向きでかつ前記圧電性基板の厚み方向に対して電界強度が傾斜的に分布するように電界の回り込み現象を利用して分極を行う工程と、
前記圧電性基板の第1の主面上にインターデジタルトランスデューサを形成する工程とを備えることを特徴とする、SH波型弾性表面波素子の製造方法。 - 前記圧電性基板として、圧電セラミックスを用いる、請求項4に記載のSH波型弾性表面波素子の製造方法。
- BGS波が励振される、請求項4または5に記載のSH波型弾性表面波素子の製造方法。
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