JP2005167042A - 半導体ウェハ固定用粘着テープ - Google Patents

半導体ウェハ固定用粘着テープ Download PDF

Info

Publication number
JP2005167042A
JP2005167042A JP2003405407A JP2003405407A JP2005167042A JP 2005167042 A JP2005167042 A JP 2005167042A JP 2003405407 A JP2003405407 A JP 2003405407A JP 2003405407 A JP2003405407 A JP 2003405407A JP 2005167042 A JP2005167042 A JP 2005167042A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fibers
adhesive tape
fixing
pressure
base film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003405407A
Other languages
English (en)
Inventor
Shozo Yano
正三 矢野
Shinichi Ishiwatari
伸一 石渡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP2003405407A priority Critical patent/JP2005167042A/ja
Publication of JP2005167042A publication Critical patent/JP2005167042A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

【課題】ダイシング時に粘着剤層と基材との剥離を生じない。
【解決手段】(1)基材フィルム上に粘着剤層を有してなる半導体固定用粘着テープであって、基材フィルムが繊維で構成される多孔質フィルムであり、繊維の少なくとも一部が表面に凹凸を有し、(2)基材フィルムを構成する繊維の少なくとも一部を複数の繊維を束ねて1本の繊維に構成することによって、表面に凹凸を有する形状となっている、(3)基材フィルムが縦方向および横方向の繊維が織られた織物で構成されている、および(4)縦方向および横方向の繊維が、繊維が交差する交点部の少なくとも一部において、熱融着されている。
【選択図】 なし

Description

本発明は、ウォータージェットにガイドされたレーザーによって半導体ウェハをダイシングする際に、半導体ウェハを支持固定するために用いられる半導体固定用粘着テープに関する。
最近における半導体チップの薄膜化・小型化への進化はめざましく、特に、携帯電話等の薄型化による三次元実装のケースや、メモリカード・スマートカードの様な半導体ICチップが内蔵されたICカードの場合、半導体チップの厚さとしては100μm以下が要求されるものであり、今後これらの需要が増えるにつれ上記の薄膜化・小型化のニーズはより一層高まるものと考えられる。
これらの半導体チップは、半導体ウェハをバックグラインド工程やエッチング工程等において所定厚みに薄膜化した後、ダイシング工程にてチップ化する事により得られるが、このダイシング工程においては、半導体ウェハはダイシングブレードにより切断されるブレードカット方式が用いられるのが一般的である。この場合、切断時にはブレードによる切削抵抗が半導体ウェハに直接かかり、この切削抵抗によって半導体チップには微小な欠け(チッピング)が発生する事がある。このチッピング発生は半導体チップの外観を損なうだけでなく、場合によってはチップ上の回路パターンまで破損してしまう可能性があり、昨今、重要な問題のうちの1つとして捉えられこれまでにも検討が種々行われてきたが、未だ完全な手段は無いのが現状である。更には、前述の様な薄膜小チップの場合は、許容されるチッピングレベルも厳しくなってくるため、今後の半導体チップの薄膜化・小型化の傾向がますます進むことにより、このチッピングの問題は今後より一層深刻化してくるものと推測される。
このチッピング発生防止を解決する方法の1つとしてレーザービームにより半導体ウェハを切断する方式が種々検討されている。この場合においては、ブレードカット方式の様にブレードによる切削抵抗がウェハに直接かかる事は無いため、チッピングの発生を低減することが可能となる。既に、このレーザービーム方式による切断方法については、その方式に適用される装置が知られておりレーザーマイクロジェットとも言われるものである。
例えば、図1、図2に示すように切断時にレーザービーム5と同時に柱状のウォータージェット6が噴射され、レーザービーム5はこのウォータージェット6の中を通過する事によりガイドされるというものである。(特表平10−500903号公報)つまりウォータージェット6がレーザービーム5の光軸ガイドとして作用するもので、半導体ウェハ1のチップ間ストリート上をガイドさせる事でダイシングが可能となる。又、レーザービーム5はウォータージェット6中を通過するので散乱がなく、ウォータージェット6の径の幅で半導体ウェハ1を切断する。このレーザーマイクロジェットと言われるレーザーダイシング方式において半導体ウェハ1をダイシングする場合は従来のブレードカット方式と同様に半導体ウェハ1を支持固定するための支持固定用粘着テープ4を必要とするが、該テープはレーザービーム5により全厚さ方向に渡って切断されることなくダイシング工程終了後も半導体ウェハ1を支持固定する必要がある。又、レーザービーム5のガイドとして噴射される数十μm径のウォータージェット6は、ダイシング時、該支持固定用粘着テープ4を貫通し、装置の固定テーブル8に設置された微細孔に受けられ排水されるために、該テープ4はウォータージェット6が貫通出来る様に多孔質のものでなければならない。よって、この方式に対応するためには該支持固定用粘着テープ4のうち粘着剤層2のみがレーザービーム5の熱によりフルカットされ、更に基材フィルム3はレーザーを透過させる材質で、且つ、ウォータージェット6が貫通出来る様に、多孔質のフィルムとする必要がある。そのような粘着テープを用いることによって図3、図4に示すように、レーザービーム5により半導体ウェハ1と該支持固定用粘着テープ4の粘着剤層のみがチップ状1′にフルカットされ、スクライブライン9上には多孔質の基材フィルム3のみが切断されずに残り、更に、数十μm径のウォータージェット6は多孔質の基材フィルム3の開口部を貫通した後、固定テーブル8の微細孔から排水される。(図3,図4)。この様なテープとしては、例えば、特開2003−34780号公報にて適用可能な多孔質の基材フィルムとして、不織布、中空糸、織物などを用いた粘着テープが提案されている。

レーザーマイクロジェットによるダイシング方式おいては、ウォータージェット6が、ダイシング時、該支持固定用粘着テープ4を貫通し、装置の固定テーブル8に設置された微細孔に受けられ排水されるしくみになっているが、ウォ−タージェット6の径が大きく支持固定用粘着テープ4の基材フィルム24の開口部を貫通する際の貫通性がよく無い場合、図8に示す様にウォータージェット6の水が部分的に散乱されてしまい、その散乱部分にもレーザービーム5が拡散してしまう。ウォータージェット6の径は切断されるストリート幅に合わせた径になるよう調整されるが、ストリート幅が広い場合はそれに合わせてウォータージェット6の径も大きくする必要があるため、相対的に織物24の開口部12に十分な大きさがなくなる事になり、ウォータージェット6が織物24を貫通しにくくなるケースが出てくる(図7)。その結果、図8、図9の様に、半導体ウェハ1中の切断されるべきスクライブライン9以外の部分まで拡散されたレーザービーム5によりチップ端部等が溶融され、チップ切断面の仕上がりが悪くなったり、或いはウォータージェットの貫通性が悪いため、ウォータージェット圧により支持固定用粘着テープ4に振動が与えられ、それに保持されたチップ1´も同時に振動し、チッピングがひどくなる。この問題を解決するためには、織物24の開口部を比率を高くする方法が挙げられるが、開口部を多くする事により基材フィルム3と粘着剤層2との接着面積が減少してしまう事になり、図10に示したピックアップ工程においてチップ1´を剥離する応力によって織物24から粘着剤層2が界面剥離し、その結果図11に示した様に、チップ裏面に粘着剤層2が転着してしまう場合がある。
特表平10−500903号公報 特開2003−34780号公報
そこで本発明は、繊維で構成される多孔質基材フィルムに粘着剤層が積層された半導体固定用粘着テープにおいて、ダイシング時に粘着剤層が基材から剥離しない半導体固定用粘着テープを提供することを目的とする。
前述した目的を達成するために鋭意検討した結果、前述した半導体固定粘着テープの多孔質基材フィルムを構成する繊維の表面を凹凸形状とすることで、粘着剤層との接着面積を増やし、多孔質基材であっても粘着剤層との接着性が強く、ダイシング時に接着剤層と基材フィルムの剥離を抑制できる半導体固定粘着テープを開発するに至った。
すなわち、本発明は、
(1)基材フィルム上に粘着剤層を有してなる半導体固定用粘着テープであって、該基材フィルムが繊維で構成される多孔質フィルムであり、該繊維の少なくとも一部が表面に凹凸を有していることを特徴とする半導体固定用粘着テープ、
(2)前記基材フィルムを構成する繊維の少なくとも一部を複数の繊維を束ねて1本の繊維に構成することによって、表面に凹凸を有する形状となっていることを特徴とする(1)に記載の半導体固定用粘着テープ、
(3)前記基材フィルムが縦方向および横方向の繊維が織られた織物で構成されていることを特徴とする(1)または(2)に記載の半導体固定用粘着テープ、および
(4)前記縦方向および横方向の繊維が、繊維が交差する交点部の少なくとも一部において、熱融着されていることを特徴とする(3)に記載の半導体固定用粘着テープである。
本発明によれば、ウォータージェットを使用するダイシング時に使用される半導体固定用粘着テープにおいて、多孔質基材フィルムを構成する繊維の表面に凹凸を設けることによって、粘着剤層と基材フィルムの接着性が良く、チッピング特性が良く、ピックアップ後のチップ裏面に糊残りのない半導体固定用粘着テープを提供することができる。
本発明の具体的な実施の形態について、添付の図面を参照して述べる。本発明の半導体固定用粘着テープは繊維で構成された多孔質の基材フィルムと粘着剤層からなる粘着テープであって、基材フィルムを構成する繊維の少なくとも一部がその表面に凹凸を有しているものである。粘着剤層との接着面積を増やすために表面に凹凸を有する繊維として例えば、図16に示すように、繊維断面が円形ではなく、凹凸を有している繊維を使用することができる。
また、図12に示す様に、単繊維に替えて該繊維の径よりも小さい径を持つ単繊維21が束ねられて1本に構成された構造を持つマルチフィラメント20を用いて良い。
このようなマルチフィラメント20を用いた本発明の半導体固定用粘着テープの断面模式図を図14に示す。半導体固定用粘着テープの多孔質基材フィルムを構成する繊維には図14に示すようなマルチフィラメント20が使用されており、粘着剤層2はマルチフィラメント20を構成する小径の単繊維21の間隙中に入り込む状態となっている。通常、化学繊維等は1本の繊維からなるモノフィラメント22を用いて織物が織られているが、本発明では、図12に示す様に、該繊維の径よりも小さい径を持つ単繊維21が束ねられて1本に構成された構造を持つマルチフィラメント20が用いられている。これによって、粘着剤と繊維との接着面積が増大するばかりでなく、粘着剤層2が単繊維21に絡みつく状態となり、モノフィラメントのみによって構成された織物を基材フィルムとして適用した場合(図13)と比較して、基材フィルムと粘着剤との密着性が向上する。通常、粘着剤を塗布する際、粘着剤は均一に塗布される程度に流動性を持ち、塗布後、乾燥工程を通す事により粘着剤硬度が上昇し凝集力が向上する。塗布される時点で流動性を持つ粘着剤はマルチフィラメント20の小径の単繊維21の間隙中に入り込み絡みついた状態となり、その状態で乾燥工程を通る事により凝集力が向上する。つまり、粘着剤層2が絡みついた状態でしっかりと固定される状態になり、密着性を向上させる。特に粘着剤が放射線硬化型粘着剤の場合では、粘着剤はピックアップ工程に移される前に放射線を照射され硬化反応により収縮を起こすため、より強固に小径の単繊維21との密着性が向上する。
基材フィルムを構成する繊維の少なくとも一部をこのようなマルチフィラメントとすることにより、基材フィルムと粘着剤層との密着性を向上させることができる。基材フィルムを構成する繊維の50%以上をマルチフィラメントとすることにより特に密着性を向上させることが可能である。
図15に示すように、多孔質基材フィルムが縦方向と横方向の繊維からなる織物である場合には1方向の繊維をマルチフィラメントであれば、粘着剤層との密着性を向上させることができる。
本発明で言うマルチフィラメント20の径としては、10〜100μm程度である事が望ましい。10μm以下になると基材フィルムとしての強度が保持出来なくなるためハンドリングが悪くなる可能性がある。一方、100μm以上になると繊維径が太すぎる事によりウォータージェット6の貫通性が損なわれる可能性がある。基材フィルムに、マルチフィラメントと共に使用されるモノフィラメントについても同様の径であることが望ましい。基材フィルムが織物である場合、縦方向の繊維10と横方向の繊維11により四角状の開口部12が出来る事になるが、ウォータージェットはこの開口部12を通ってテープ裏面に貫通する事となる。よって、この開口部12の大きさとしては貫通性を考慮した大きさとする必要がある。一般的には四角状の開口部12の一辺が10〜200μm程度が望ましい。200μm以上になるとその開口部が広すぎることにより塗布した粘着剤が脱落したり、或いは塗布時に粘着剤2が織物の裏面側にまで抜け出してしまう可能性がある。又、10μm以下になるとウォータージェット6の貫通性が損なわれる可能性がある。
本発明で言うマルチフィラメント20を構成する単繊維21径としては3〜50μm程度のものが使用され、これらが複数束ねられて1本のマルチフィラメント20を構成する。又、これら小径の単繊維21は単に束ねられているだけでなく、図12に示した様に部分的に撚り合わされている。撚り合わされていないと単繊維21はばらけてしまい、部分的に開口部12が狭まったりする事がある。その結果、ウォータージェト6の貫通性に支障をきたす可能性もある。
また、基材フィルムに織物を使用した場合、縦方向の繊維と横方向の繊維により構成されているため、両繊維による交点23が多数存在する。この交点部は両繊維が重なっているだけの状態であり、外部の応力によってずれる場合がある。粘着剤が塗布されたテープの状態であれば、粘着剤層により各繊維は固定されているが、粘着剤層がレーザービームにより切断され粘着剤が除去された状態では、交点部23は外部の応力により容易にずれる状態となる。この状態においてウォータージェットの水圧がかかると、交点部分がずれたり、或いは、振動してしまう事になり、ウォータージェットの貫通性を悪くしたり、場合によってはずれや振動がテープ上のチップにまで伝わる事によりチッピング性を悪くすることも生じる。この場合、縦方向繊維と横方向繊維の交点部23が熱融着された織物を基材フィルムとして適用すると効果的である。熱融着によりしっかりと固定された状態になるため、ウォータージェットの水圧によってもずれや振動が起こる事は無い。交点部23の熱融着は織物が形成された後の2次加工として、織物表面全面に加熱プレスにより熱をかけ融着させる方法があるが、この場合、加熱プレス時の圧力によっては交点以外にも若干熱がかかる場合があり、その結果、マルチフィラメント20を持つ織物の場合であれば、マルチフィラメント自体も若干熱融着されてしまう可能性がある。マルチフィラメント自体が完全に熱融着されてしまうと、粘着剤は小径の単繊維の間隙中に入り込む事が出来なくなる。従って、小径の単繊維21が完全に熱融着されない程度に加熱プレス時の圧力を設定することが望ましい。但し、完全に熱融着されたとしても、マルチフィラメント表面に小径の単繊維21による凹凸が残っている場合は、凹凸を有さないモノフィラメントの繊維で構成された基材フィルムに比べて接触面積は増大しているのである程度の密着性向上の効果は得られる。
本発明における基材フィルムに使用される繊維の材質としては、ポリエチレン、EVA、EMMA等のポリオレフィン系、又は、エラストマー、ポリエステル、ナイロン系等の化学繊維が適用可能であるが、レーザーを透過させる必要があるため、使用されるレーザーの波長領域において透過性の高い材質のものを選択する事が望ましい。例えば、波長1064nmの基本波レーザーの場合であればPET、ナイロン、PP等を適用する事が望ましい。その他、倍波、3倍波の場合も、これらの波長領域における透過性により種々選択する事が望ましい。又、これらの材質を適用した織物の厚みとしては特に制限は無いが、30〜300μm程度のものが望ましい。
本発明のウォータージェットを使用したレーザーダイシング方式に適用可能な半導体固定用粘着テープの粘着剤は特に限定されるものでもなく、通常使用されるアクリル系粘着剤等が適用可能である。又、粘着剤が放射線硬化型の粘着剤であっても良く、チップのサイズやデバイスの種類により、適宜使い分ける事が出来る。放射線硬化型粘着剤も特に制限は無く、一般的には、アクリル系粘着剤と放射線重合性化合物とを主成分としてなる。これらの粘着剤は、アクリル系粘着剤、及び放射線重合性化合物が適用可能である。
アクリル系粘着剤は、(メタ)アクリル系共重合体及び硬化剤を成分とするものである。(メタ)アクリル系共重合体は、例えば(メタ)アクリル酸エステルを重合体構成単位とする重合体、及び(メタ)アクリル酸エステル系共重合体の(メタ)アクリル系重合体、或いは官能性単量体との共重合体、及びこれらの重合体の混合物等が挙げられる。これらの重合体の分子量としては重量平均分子量が50万〜100万程度の高分子量のものが一般的に適用される。
また、硬化剤は、(メタ)アクリル系共重合体が有する官能基と反応させて粘着力及び凝集力を調整するために用いられるものである。例えば、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)トルエン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)ベンゼン、N,N,N,N′−テトラグリシジル−m−キシレンジアミンなどの分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネートなどの分子中に2個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート系化合物、テトラメチロール−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリメチロール−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリメチロールプロパン−トリ−β−(2−メチルアジリジン)プロピオネートなどの分子中に2個以上のアジリジニル基を有するアジリジン系化合物等が挙げられる。硬化剤の添加量は、書房の粘着力に応じて調整すればよく、(メタ)アクリル系共重合体100質量部に対して0.1〜5.0質量部が適当である。
更に、前記の放射線重合性化合物は、例えば光照射によって三次元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも2個以上有する低分量化合物が広く用いられ、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレートや、オリゴエステルアクリレート等が広く適用可能である。
又、上記の様なアクリレート系化合物のほかに、ウレタンアクリレート系オリゴマーを用いる事も出来る。ウレタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエステル型またはポリエーテル型などのポリオール化合物と、多価イソシアナート化合物(例えば、2,4−トリレンジイソシアナート、2,6−トリレンジイソシアナート、1,3−キシリレンジイソシアナート、1,4−キシリレンジイソシアナート、ジフェニルメタン4,4−ジイソシアナートなど)を反応させて得られる末端イソシアナートウレタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有するアクリレートあるいはメタクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレートなど)を反応させて得られる。
放射線硬化型粘着剤中のアクリル系粘着剤と放射線重合性化合物との配合比としては、アクリル系粘着剤100質量部に対して放射線重合性化合物を50〜200質量部、好ましくは50〜150質量部の範囲で配合されるのが望ましい。この配合比の範囲である場合、放射線照射後に粘着剤層の粘着力は大きく低下する。
更には、放射線硬化型粘着剤は、上記の様にアクリル系粘着剤に放射線重合性化合物を配合する替わりに、アクリル系粘着剤自体を放射線重合性アクリル酸エステル共重合体とする事も可能である。
又、放射線により粘着剤層を重合させる場合には、光重合性開始剤、例えばイソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、クロロチオキサントン、ベンジルメチルケタール、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシメチルフェニルプロパン等を併用する事が出来る。これらのうち少なくとも1種類を粘着剤層に添加する事により、効率よく重合反応を進行させる事が出来る。尚、ここで言う放射線とは、紫外線のような光線、または電子線のような電離性放射線の事をさす。
以下、実施例を用いて詳細に説明する。
なお、本発明は以下の実施例に限定されるものでない。
(粘接着剤Aの調製)
アクリル系共重合体100質量部と、硬化剤2質量部、ウレタンアクリル系オリゴマー150質量部、光重合開始剤1質量部を混合し、粘着剤Aを得た。
(粘着剤Bの調製)
アクリル酸エステル共重合体100質量部と硬化剤2質量部とを混合して粘着剤Bを得た。
実施例1
縦方向の繊維が径48μmのモノフィラメントと、横方向の繊維が径67μmのマルチフィラメントとで構成された織物であって、縦方向および横方向の繊維で囲まれた開口部の一辺長が107μmであるポリエチレンテレフタレート(PET)製の織物を基材フィルム(日本特殊織物製TG1600)に、粘着剤Aを厚さ10μmになるよう塗布し、粘着テープを得た。
実施例2
実施例1と同様の基材フィルムに、粘着剤Bを厚さ10μmになるよう塗布し、粘着テープを得た。
実施例3
実施例1の基材フィルムに替えて、縦方向の繊維の径48μmのモノフィラメントと、横方向の繊維の径83μmのマルチフィラメントからなる織物であって、開口部の一辺長が128μmである基材フィルム(日本特殊織物製TG1350)を使用して同様に粘着テープを得た。
実施例4
実施例1の基材フィルムに替えて、縦方向の繊維の径95μmのマルチフィラメントと、横方向の繊維の径95μmのマルチフィラメントからなる織物であって、開口部の一辺長が140μmである基材フィルム(日本特殊織物製10TXX)を使用して同様に粘着テープを得た。
実施例5
実施例1の基材フィルムに使用された同様の織物(日本特殊織物製TG1600)に、200℃で30分間、面圧1kg/cmで加熱プレスし、織物の交点部が熱融着されたものを基材フィルムに使用し、他は実施例1と同様の方法で粘着テープを得た。
比較例1
基材フィルムとして、縦方向および横方向の繊維の径が48μmのモノフィラメントである織物であって、開口部の一辺長が65μmである基材フィルム(日本特殊織物製TNo225T)を使用して他は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
比較例2
基材フィルムとして、縦方向および横方向の繊維の径が48μmのモノフィラメントである織物であって、開口部の一辺長が111μmである基材フィルム(日本特殊織物製TNo160ST)を使用して他は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
(評価方法)
上記実施例1〜5及び比較例1、2で得られた各粘接着テープを用いて、これらのテープをリングフレームに貼着固定し、その貼着固定された支持固定用粘着テープに100μm厚のシリコンウェハを貼合し、SYNOVA社製のレーザーマイクロジェットダイシング装置(レーザー波長1064nm)にてカーフ幅50μm(ウォータージェット径50μm)になる様に5mm×5mmのチップサイズにダイシングした。ダイシング後、NECマシナリー製CPS−100FMを用いてピックアップ工程を実施した。この際、エキスパンドストロークは2mmとし、又、突き上げピン数は4本で5mm×5mmチップの4角を突き上げる配置とした。突き上げ時にはピックアップステージにてテープ吸着をしながらピックアップし、φ3mmの円形コレットにてチップを吸着しリードフレーム上に設置した。
このようにしてダイシングされたチップを、チップ切断面の仕上がり、チッピング、チップへの糊残りについて、以下の方法にて評価をおこなった結果を表1に示す。
チップ切断面の仕上がりについては、チップ切断面の状態を顕微鏡にて観察し、以下のように判定した。
切断面が非常に平滑であるもの・・・・・◎
切断面が平滑であるもの・・・・・・・・○
切断面に段差や凹凸が見られるもの・・・×
また、チッピングの評価は各粘着テープをもちいてダイシングされたチップ30について裏面に発生したチッピングの大きさを測定し平均値を求めた。
チップへの糊残りについてはピックアップ後のチップ30個についてチップ裏面への糊残りの有無を目視にて観察した。
Figure 2005167042


本発明に相当する実施例では、ダイシング後のチップ切断面は平滑であり、チッピングの大きさの平均値は5〜20μmと良好であり、ピックアップ後のチップ裏面への糊残りも観察されなかった。一方、比較例のものでは、ダイシング後のチップ切断面に部分的に余裕された凹凸や段差が観察されたり、チッピングの大きさの平均値は20μm以上であり、ピックアップ後のチップ裏面への糊残りが観察された。
本発明の粘着テープは、ウォータージェットを使用するダイシング方式においても、チッピング特性が良く、ピックアップ後のチップ裏面への糊残りの生じにくい半導体固定用粘着テープとして使用することができる。
レーザーダイシング方式による半導体ウェハのダイシングの様子を示す図である。 ウォータージェットでガイドされたレーザービームの様子を示す図である。 レーザーダイシング方式における半導体ウェハの切断の様子を示す図である。 レーザーダイシング方式によって切断された部位を示す図である。 織物を示す図である。 ウォータージェットが織物を貫通する様子を示す図である。 ウォータージェット径が織物の開口部よりも大きい場合の様子を示す図である。 ウォータージェットの貫通性が悪く、水が散乱される様子を示す図である。 ウォータージェットが散乱された場合に生ずる、チップ端部が溶融された様子を示す図である。 ダイシング後のチップのピックアップの様子を示す図である。 ピックアップの際、チップ裏面に粘着剤層が転着する様子を示す図である。 マルチフィラメントの繊維を示す図である。 モノフィラメントで構成された織物に粘着剤が塗布された粘着テープの断面図である。 マルチフィラメントで構成された織物に粘着剤が塗布された粘着テープの断面図である。 1方向がマルチフィラメントで構成された織物を示す図である。 表面に凹凸を有する繊維の一例を示す断面図である。
符号の説明
1: 半導体ウェハ
2: 粘着剤層
3:基材フィルム
4:半導体固定用粘着テープ
5:レーザービーム
6:ウォータージェット
7:リングフレーム
8:固定テーブル
9:スクライブライン
10:縦方向の繊維
11:横方向の繊維
12:開口部
13:ウォータージェットが散乱した水
14:拡散したレーザーにより溶融されたチップ端部
15:吸着コレット
16 :突き上げピン
17:エキスパンドリング
18:ピックアップステージ
19:界面剥離して裏面転着した粘着剤
20:マルチフィラメント
21:マルチフィラメントを構成する単繊維
22:モノフィラメント
23:縦方向の繊維と横方向の繊維の交点部
24:織物
25:1方向がマルチフィラメントの繊維で構成された織物

Claims (4)

  1. 基材フィルム上に粘着剤層を有してなる半導体固定用粘着テープであって、該基材フィルムが繊維で構成される多孔質フィルムであり、該繊維の少なくとも一部が表面に凹凸を有していることを特徴とする半導体固定用粘着テープ。
  2. 前記基材フィルムを構成する繊維の少なくとも一部を複数の繊維を束ねて1本の繊維に構成することによって、表面に凹凸を有する形状となっていることを特徴とする請求項1に記載の半導体固定用粘着テープ。
  3. 前記基材フィルムが縦方向および横方向の繊維が織られた織物で構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体固定用粘着テープ。
  4. 前記縦方向および横方向の繊維が、繊維が交差する交点部の少なくとも一部において、熱融着されていることを特徴とする請求項3に記載の半導体固定用粘着テープ。















JP2003405407A 2003-12-04 2003-12-04 半導体ウェハ固定用粘着テープ Pending JP2005167042A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003405407A JP2005167042A (ja) 2003-12-04 2003-12-04 半導体ウェハ固定用粘着テープ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003405407A JP2005167042A (ja) 2003-12-04 2003-12-04 半導体ウェハ固定用粘着テープ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005167042A true JP2005167042A (ja) 2005-06-23

Family

ID=34728080

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003405407A Pending JP2005167042A (ja) 2003-12-04 2003-12-04 半導体ウェハ固定用粘着テープ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005167042A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008117943A (ja) * 2006-11-06 2008-05-22 Nitto Denko Corp ウォータージェットレーザダイシング用粘着シート
JP2008117945A (ja) * 2006-11-06 2008-05-22 Nitto Denko Corp ウォータージェットレーザダイシング用粘着シート
WO2008133104A1 (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Nitto Denko Corporation ウォータージェットレーザダイシング用粘着シート
WO2009087930A1 (ja) * 2008-01-10 2009-07-16 Nitto Denko Corporation 半導体素子の製造方法
JP2014505147A (ja) * 2011-01-26 2014-02-27 エボニック デグサ ゲーエムベーハー 薄手のマクロ孔質ポリマーフィルム

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008117943A (ja) * 2006-11-06 2008-05-22 Nitto Denko Corp ウォータージェットレーザダイシング用粘着シート
JP2008117945A (ja) * 2006-11-06 2008-05-22 Nitto Denko Corp ウォータージェットレーザダイシング用粘着シート
WO2008133104A1 (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Nitto Denko Corporation ウォータージェットレーザダイシング用粘着シート
JP2008270504A (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Nitto Denko Corp ウォータージェットレーザダイシング用粘着シート
WO2009087930A1 (ja) * 2008-01-10 2009-07-16 Nitto Denko Corporation 半導体素子の製造方法
JP2014505147A (ja) * 2011-01-26 2014-02-27 エボニック デグサ ゲーエムベーハー 薄手のマクロ孔質ポリマーフィルム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5075035B2 (ja) 半導体ウェハの処理方法
JP4762671B2 (ja) ダイシングテープ、および半導体ウェハダイシング方法
JP5019613B2 (ja) ウエハダイシング用粘着テープおよびそれを用いたチップの製造方法
JP5302951B2 (ja) 粘着シート
EP1883106A2 (en) Method for working object to be worked
JP2009141024A (ja) 粘着テープ
JP2015056446A (ja) 半導体ウエハ表面保護用粘着テープおよび半導体ウエハの加工方法
US11282736B2 (en) Mask-integrated surface protective tape with release liner
CN108713240B (zh) 掩模一体型表面保护带
US10971387B2 (en) Mask-integrated surface protective tape
JP4087144B2 (ja) レーザーダイシング用粘着テープ
JP2006286900A (ja) チップの製造方法
JP2002053819A (ja) 半導体ウエハ表面保護用粘着フィルム及びそれを用いる半導体ウエハ表面の保護方法
JP2006128577A (ja) 半導体チップの製造方法及びそれに使用されるダイボンドダイシングテープ
JP4128843B2 (ja) 半導体チップ製造方法
JP2005167042A (ja) 半導体ウェハ固定用粘着テープ
JP2006093368A (ja) ウエハ固定用粘着テープおよびダイシング方法
JP2001127029A (ja) ウエハ裏面研削時の表面保護シートおよび半導体チップの製造方法
TW524726B (en) Adhesive tape for laser dicing
JP3523947B2 (ja) ウェハ貼着用粘着シートおよびこれを用いた半導体装置の製造方法並びにその半導体装置
JP5006015B2 (ja) 半導体ウェハ表面保護テープおよびそれを用いた半導体チップの製造方法
KR101511806B1 (ko) 웨이퍼 가공용 테이프

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20060901

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Effective date: 20090617

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090619

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090812

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Effective date: 20090812

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20091027