JP2005166787A - Conveying equipment and method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide floating conveying equipment and method in which charging due to stripping is prevented and a panel can be conveyed while neutralizing local charging appropriately. <P>SOLUTION: The equipment for conveying a substrate 6 while floating from a conveyance table 1 comprises a first gas pipe 7 forming a hole 2 for jetting floating control gas of the substrate 6, a mechanism 3 for detecting local charging potential of the substrate 6, a mechanism 4 provided on the downstream side of the charging detection mechanism 3 in the conveying direction and neutralizing charging of the substrate 6, and a control section 5 as a control means connected with the charging detection mechanism 3 and the charging neutralization mechanism 4 and generating ions in the charging neutralization mechanism 4 depending on the charging potential of the substrate 6 detected by the charging detection mechanism 3. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、搬送装置および搬送方法に関し、特に、液晶パネル基板、プラズマディスプレイパネル、およびエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルなどのガラス基板や、半導体ウエハなどの基板を搬送する搬送装置および搬送方法に関する。   The present invention relates to a transport apparatus and a transport method, and more particularly to a transport apparatus and a transport method for transporting a glass substrate such as a liquid crystal panel substrate, a plasma display panel, and an electroluminescence display panel, and a substrate such as a semiconductor wafer.

液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、およびエレクトロルミネッセンスディスプレイなどに使用されるパネルにおいては、成膜工程、リソグラフィ工程、エッチング工程、ドーピング工程、配線形成工程などの複雑な製造工程を経た結果、パネル全体に微細配線パターンが形成される。   In panels used for liquid crystal displays, plasma displays, electroluminescent displays, etc., fine wiring is formed throughout the panel as a result of complicated manufacturing processes such as film formation, lithography, etching, doping, and wiring formation. A pattern is formed.

上記の各工程において、被搬送体としてのパネルはさまざまな要因により帯電する。帯電の形態としては、たとえば帯電した装置テーブルにパネルを接触させる工程などにおいて生じる接触帯電、装置テーブル上からパネルを剥離させる工程などにおいて生じる剥離帯電、および液晶装置のラビング工程などにおいて生じる摩擦帯電などが挙げられる。   In each of the above steps, the panel as the transported body is charged due to various factors. Examples of charging modes include contact charging that occurs in the process of bringing the panel into contact with the charged device table, peeling charging that occurs in the step of peeling the panel from the device table, and frictional charging that occurs in the rubbing process of the liquid crystal device. Is mentioned.

上記のような要因により、パネルが帯電することにより、たとえば、ガラス基板上に微細な配線パターンが形成されているTFT液晶パネルなどにおいて、塵埃などの異物が配線パターン上に付着したり、放電による配線パターンの破壊が生じたりする場合がある。この結果、配線に欠陥が生じる。   When the panel is charged due to the above factors, for example, in a TFT liquid crystal panel or the like in which a fine wiring pattern is formed on a glass substrate, foreign matters such as dust adhere to the wiring pattern or due to electric discharge. The wiring pattern may be destroyed. As a result, a defect occurs in the wiring.

上記のような、被搬送体の帯電の問題に対する従来の対策としては、たとえば、特開平6−243988号公報(従来例1)に開示されるものなどが挙げられる。   Examples of conventional measures against the problem of charging of the transported member as described above include those disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-243988 (conventional example 1).

従来例1においては、TFT基板を載置する導電性材料よりなるテーブルと、該テーブルとアースとを接続するアース線と、テーブルとアースとの間のアース線に設けられたコンデンサと、該コンデンサに蓄えられる電荷に基づきTFT基板表面に供給するイオン供給量および極性を制御するイオン供給量制御手段とが備えられた静電気中和装置が開示されている。   In Conventional Example 1, a table made of a conductive material on which a TFT substrate is placed, a ground wire connecting the table and the ground, a capacitor provided on a ground wire between the table and the ground, and the capacitor There is disclosed an electrostatic neutralization device provided with ion supply amount control means for controlling the amount and polarity of ions supplied to the surface of a TFT substrate based on the charge stored in the TFT.

しかしながら、従来例1においては、イオン供給によって帯電を中和させた後に、パネル(TFT基板)をテーブルから剥離させる工程によって再び帯電が生じる(剥離帯電)という問題がある。   However, the conventional example 1 has a problem that charging is generated again (peeling charging) by a process of peeling the panel (TFT substrate) from the table after neutralizing the charge by supplying ions.

これに対し、たとえば、特開2000−62953号公報(従来例2)においては、搬送面に設けられた溝部と、この溝部内に設置されると共に、気体をイオン化する電磁波を溝部から搬送面上の搬送空間に向けて出力する帯電中和部とを設けた帯電中和装置を備えた浮上搬送装置が開示されている。   On the other hand, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-62953 (conventional example 2), a groove provided on the conveyance surface and an electromagnetic wave ionizing a gas from the groove on the conveyance surface are installed in the groove. There is disclosed a levitation conveyance device including a charge neutralization device provided with a charge neutralization unit that outputs toward the conveyance space.

従来例2においては、被搬送体はテーブルから浮上して搬送されるため、上記の剥離帯電を生じることはない。
特開平6−243988号公報 特開2000−62953号公報
In Conventional Example 2, the transported body is lifted and transported from the table, so that the above-described peeling charging does not occur.
Japanese Patent Laid-Open No. 6-243988 JP 2000-62953 A

しかしながら、上記の搬送装置においては、以下のような問題があった。   However, the above conveying apparatus has the following problems.

従来例2においては、被搬送体の帯電電位を検知する機構を備えていないため、帯電電位に応じた適切な量のイオンを発生させることができない場合がある。この結果、イオンの発生が少ない場合は、被搬送体の帯電を十分に中和することができない。また、イオンの発生が多い場合は、残留イオンが生じ、かえって被搬送体の帯電の要因となる。   In Conventional Example 2, since there is no mechanism for detecting the charged potential of the transported body, there are cases where an appropriate amount of ions according to the charged potential cannot be generated. As a result, when the generation of ions is small, the charge of the conveyed object cannot be sufficiently neutralized. In addition, when a large amount of ions are generated, residual ions are generated, which in turn causes charging of the conveyed object.

本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、剥離による帯電が生じない浮上型の搬送措置および搬送方法であって、局所的な帯電を適切に中和させながら被搬送体の搬送を行なうことができる搬送装置および搬送方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is a floating-type transporting measure and transporting method in which charging due to peeling does not occur. It is an object of the present invention to provide a transport apparatus and a transport method that can transport a transported object while making them uniform.

本発明に係る搬送装置は、被搬送体を浮上させながら搬送する搬送装置であって、被搬送体の浮上を制御するガスを噴出/吸引するガス孔と、被搬送体の局部的な帯電電位を検知する帯電検知機構と、搬送方向に対して、帯電検知機構の下流に設けられ、被搬送体の帯電を中和する帯電中和機構と、帯電検知機構と帯電中和機構とに接続され、帯電検知機構によって検知された被搬送体の帯電電位に応じたイオンを帯電中和機構に発生させる制御手段とを備える。   A transport apparatus according to the present invention is a transport apparatus that transports a transported object while levitating, a gas hole that ejects / sucks a gas that controls the floating of the transported object, and a local charging potential of the transported object. Connected to a charge detection mechanism for detecting the charge, a charge neutralization mechanism provided downstream of the charge detection mechanism with respect to the transport direction, and neutralizing the charge of the transported object, and a charge detection mechanism and a charge neutralization mechanism. And a control means for causing the charge neutralization mechanism to generate ions corresponding to the charged potential of the conveyed object detected by the charge detection mechanism.

これにより、任意の位置に設置された帯電検知機構によって検知された結果に応じて、帯電中和機構における帯電の中和を行なうことができるので、被搬送体の局所的な帯電を適切に中和させながら被搬送体の搬送を行なうことができる。   As a result, neutralization of the charge in the charge neutralization mechanism can be performed according to the result detected by the charge detection mechanism installed at an arbitrary position. The to-be-conveyed body can be conveyed while being unified.

帯電検知機構は、テーブルに設置された被搬送体に非接触な電位センサを含むことが好ましい。   It is preferable that the charge detection mechanism includes a potential sensor that is not in contact with the transported body installed on the table.

被搬送体に非接触な状態で帯電電位の検知を行なうことで、摩擦による新たな帯電を生じされることがない。したがって、より帯電電位の検知をより正確に行なうことができる。   By detecting the charging potential in a non-contact state with the transported body, new charging due to friction is not generated. Therefore, the charged potential can be detected more accurately.

搬送方向に対して最も下流側に設けられたガス孔または該ガス孔よりも下流側に帯電中和機構を設けることが好ましい。   It is preferable to provide a charging neutralization mechanism on the most downstream side with respect to the transport direction or on the downstream side of the gas hole.

上記ガス孔に接続される配管においては、ガスと管との摩擦によって、被搬送体を浮上させるガスは帯電し、被搬送体を帯電させる要因となっている。これに対し、上記のような構造とすることで、帯電中和機構において被搬送体の帯電が中和された後、ガス孔から噴出されるガスによって新たな帯電が生じることがない。   In the pipe connected to the gas hole, the gas that floats the transported body is charged due to the friction between the gas and the pipe, which causes charging of the transported body. On the other hand, with the structure as described above, after the charge of the transported body is neutralized by the charge neutralization mechanism, no new charge is generated by the gas ejected from the gas hole.

帯電中和機構は、1つの局面では、接地電極としてのガス管と、ガス管内に設けられた放電電極と、接地電極と放電電極との間に電圧を印加する電圧印加手段とを備えることが好ましい。   In one aspect, the charging neutralization mechanism includes a gas tube as a ground electrode, a discharge electrode provided in the gas tube, and a voltage applying unit that applies a voltage between the ground electrode and the discharge electrode. preferable.

帯電中和機構におけるガス噴出のためのガス管を接地電極とすることで、ガス管との摩擦によるガスの帯電を防止することができる。したがって、帯電中和機構において、被搬送体に新たな帯電を生じさせることがない。   By using the gas pipe for gas ejection in the charge neutralization mechanism as a ground electrode, charging of the gas due to friction with the gas pipe can be prevented. Therefore, in the charge neutralization mechanism, new charge is not generated on the conveyed object.

ガス管は、プラスイオンを発生させるガス管と、マイナスイオンを発生させるガス管とを含むことが好ましい。   The gas pipe preferably includes a gas pipe that generates positive ions and a gas pipe that generates negative ions.

帯電中和機構においては、被搬送体の帯電と逆極性のイオンが帯電の中和に寄与する。プラスイオンとマイナスイオンを別個のガス管から発生させることで、この逆極性のイオンを多く発生させることができるので、より効率的に帯電を中和することができる。   In the charge neutralization mechanism, ions having the opposite polarity to the charge of the conveyed object contribute to the neutralization of the charge. By generating positive ions and negative ions from separate gas tubes, a large number of ions having opposite polarities can be generated, so that the charge can be neutralized more efficiently.

帯電中和機構は、他の局面では、紫外線照射手段またはX線照射手段を含むものであってもよい。   In another aspect, the charging neutralization mechanism may include ultraviolet irradiation means or X-ray irradiation means.

紫外線照射手段またはX線照射手段により、被搬送体付近のガスを励起してイオンを発生させ、該イオンを被搬送体に接触させることができる。この結果、被搬送体の帯電が中和される。   By the ultraviolet irradiation means or the X-ray irradiation means, the gas in the vicinity of the transported body is excited to generate ions, and the ions can be brought into contact with the transported body. As a result, the charge of the conveyed object is neutralized.

ガス孔の内壁を接地、または帯電防止膜で覆うことが好ましい。   The inner wall of the gas hole is preferably grounded or covered with an antistatic film.

これにより、ガス孔から噴出され、被搬送体の浮上に寄与するガスの帯電を防止することができる。この結果、ガスによる被搬送体の帯電を防止することができる。   Thereby, it is possible to prevent charging of the gas that is ejected from the gas hole and contributes to the floating of the conveyed object. As a result, it is possible to prevent the object to be transported from being charged by the gas.

本発明に係る搬送方法は、ガスを噴出/吸引して被搬送体を浮上させながら搬送する搬送方法であって、被搬送体の局所的な帯電電位を検知する工程と、帯電電位の検知後に該帯電電位に応じたイオンを発生させ、イオンを被搬送体に接触させて被搬送体の帯電を中和する工程とを備える。   A transport method according to the present invention is a transport method for transporting while ejecting / sucking gas to float a transported body, and detecting a local charged potential of the transported body, and after detecting the charged potential A step of generating ions according to the charging potential and bringing the ions into contact with the transported body to neutralize the charge of the transported body.

これにより、局所的な帯電電位を検知した結果に応じて、被搬送体の帯電を中和することができるので、被搬送体の局所的な帯電を適切に中和させながら被搬送体の搬送を行なうことができる。   This makes it possible to neutralize the charge of the transported object according to the result of detecting the local charging potential, so that the transport of the transported object can be performed while appropriately neutralizing the local charge of the transported object. Can be performed.

本発明によれば、局所的な帯電電位を検知した結果に応じて、被搬送体の帯電を中和することができるので、被搬送体の局所的な帯電を適切に中和させながら被搬送体の搬送を行なうことができる。   According to the present invention, since the charge of the conveyed object can be neutralized according to the result of detecting the local charged potential, the charged object can be conveyed while appropriately neutralizing the local charge of the conveyed object. The body can be transported.

以下に、本発明に基づく搬送装置および搬送方法の実施の形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of a transport apparatus and a transport method according to the present invention will be described.

(実施の形態1)
図1から図3は、実施の形態1における搬送装置について示した図である。
(Embodiment 1)
1 to 3 are diagrams showing the transfer device according to the first embodiment.

本発明に係る搬送方法は、ガスを噴出して被搬送体としての基板6を浮上させながら搬送する搬送方法であって、基板6の局所的な帯電電位を検知する工程と、帯電電位の検知後に該帯電電位に応じたイオンを発生させ、イオンを基板6に接触させて基板6の帯電を中和する工程とを備える。   The transport method according to the present invention is a transport method for transporting a substrate 6 as an object to be transported while jetting gas, and detecting a local charged potential of the substrate 6 and detecting the charged potential. A step of generating ions corresponding to the charged potential later and bringing the ions into contact with the substrate 6 to neutralize the charging of the substrate 6.

基板6としては、たとえば、液晶ディスプレイパネルなどの薄型ガラス基板や半導体ウエハなどの板状部材が挙げられる。   Examples of the substrate 6 include a thin glass substrate such as a liquid crystal display panel and a plate member such as a semiconductor wafer.

図1は、本実施の形態に係る搬送装置の断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view of the transport apparatus according to the present embodiment.

本実施の形態に係る搬送装置は、基板6を搬送テーブル1から浮上させながら搬送する搬送装置であって、図1に示すように、基板6の浮上を制御するガスを白矢印の方向に噴出するガス噴出孔2を形成する第1のガス管7と、基板6の局部的な帯電電位を検知する帯電検知機構3と、搬送方向に対して、帯電検知機構3の下流に設けられ、基板6の帯電を中和する帯電中和機構4と、帯電検知機構3と帯電中和機構4とに接続され、帯電検知機構3によって検知された基板6の帯電電位に応じたイオンを帯電中和機構4に発生させる制御手段としての制御部5とを備える。   The transport apparatus according to the present embodiment is a transport apparatus that transports the substrate 6 while floating from the transport table 1, and, as shown in FIG. 1, jets a gas that controls the floating of the substrate 6 in the direction of the white arrow. A first gas pipe 7 that forms a gas ejection hole 2 to be formed, a charge detection mechanism 3 that detects a local charging potential of the substrate 6, and a downstream of the charge detection mechanism 3 with respect to the transport direction. 6 is connected to the charge neutralization mechanism 4 for neutralizing the charge of 6, the charge detection mechanism 3, and the charge neutralization mechanism 4, and neutralizes ions according to the charge potential of the substrate 6 detected by the charge detection mechanism 3. And a control unit 5 as a control means to be generated by the mechanism 4.

帯電検知機構3は、搬送テーブル1に設置された基板6に非接触な電位センサ3aと、電位センサ3aによって検出された基板6の帯電電位を示すアナログ信号をデジタル信号に変換して、制御部5に向けて出力する信号処理部3bとを含む。   The charging detection mechanism 3 converts a potential sensor 3a that is not in contact with the substrate 6 installed on the transfer table 1 and an analog signal that indicates the charging potential of the substrate 6 detected by the potential sensor 3a into a digital signal, and And a signal processing unit 3b that outputs the signal to the signal processing unit 5.

電位センサ3aは、搬送テーブル1上のガス噴出孔2と他のガス噴出孔2との間に、基板6の帯電電位を検出できるように、基板6に近接した位置に設置されている。   The potential sensor 3 a is installed between the gas ejection hole 2 on the transfer table 1 and another gas ejection hole 2 at a position close to the substrate 6 so that the charged potential of the substrate 6 can be detected.

電位センサ3aとしては、たとえば、(図1中には図示しない)帯電電位検知用電極を基板6に近接させて設置し、該電極から得られる静電誘導電圧をFET(Field−Effect Transistor)などの高入力インピーダンスや高増幅率の増幅器により直流増幅する誘導電極形などが挙げられる。   As the potential sensor 3a, for example, a charging potential detection electrode (not shown in FIG. 1) is installed close to the substrate 6, and an electrostatic induction voltage obtained from the electrode is used as an FET (Field-Effect Transistor) or the like. Inductive electrode type that amplifies a direct current with an amplifier having a high input impedance or a high amplification factor.

また、帯電中和機構4は、ステンレス鋼などの金属パイプからなる接地電極4bとしての第2のガス管8と、第2のガス管8内に設けられた、タングステンなどの金属を石英などの絶縁体で被覆した放電電極4aと、接地電極4bと放電電極4aとの間にコロナ放電を生じさせるような高電圧を印加する電圧印加手段としての電圧印加部4cとを備える。   Further, the charging neutralization mechanism 4 includes a second gas pipe 8 as a ground electrode 4b made of a metal pipe such as stainless steel, and a metal such as tungsten provided in the second gas pipe 8 such as quartz. A discharge electrode 4a covered with an insulator, and a voltage application unit 4c as voltage application means for applying a high voltage that causes corona discharge between the ground electrode 4b and the discharge electrode 4a are provided.

放電電極4aは、電圧印加部4cと接続され、絶縁体によって接地金属4b内で支持された構造となっている。   The discharge electrode 4a is connected to the voltage application unit 4c and has a structure supported in the ground metal 4b by an insulator.

基板6の搬送を行なう際は、第1のガス管7に、たとえば窒素、アルゴン、乾燥空気などを含むガスを送り込み、ガス噴出孔2から噴出させることで、基板6を搬送テーブル1から浮上させる。その後、搬送テーブル1の主表面と平行な方向に力を加えることで、基板6は搬送テーブル1から浮上したまま搬送される。   When transporting the substrate 6, a gas containing, for example, nitrogen, argon, dry air, or the like is fed into the first gas pipe 7 and ejected from the gas ejection hole 2, so that the substrate 6 is floated from the transport table 1. . Thereafter, by applying a force in a direction parallel to the main surface of the transport table 1, the substrate 6 is transported while floating from the transport table 1.

図2は、本実施の形態に係る搬送装置の上面図である。   FIG. 2 is a top view of the transport apparatus according to the present embodiment.

ガス噴出孔2は、図2に示すように、ほぼ同一径で、かつ規則的な配置で搬送テーブル1全体に複数個配置されている。第1のガス管7より供給されるガスは、ほぼ一定圧力でガス噴出孔2から噴出され、基板6を搬送テーブル1から所定距離浮上させる。   As shown in FIG. 2, a plurality of gas ejection holes 2 are arranged on the entire transfer table 1 with substantially the same diameter and regular arrangement. The gas supplied from the first gas pipe 7 is ejected from the gas ejection hole 2 at a substantially constant pressure, and the substrate 6 is lifted from the transfer table 1 by a predetermined distance.

ここで、ガス噴出孔2の直上に基板6が達した場合、直上に基板6がない場合に比べてガス噴出に対する抵抗が増大する。ここで、第1のガス管7内のガス圧が極端に小さいと、直上に基板6があるガス噴出孔2からガスが噴出しにくくなる。したがって、直上に基板6がないガス噴出孔2に流れるガス流量が増大し、直上に基板6があるガス噴出孔2に流れるガス流量は減少する。この結果、基板6を浮上させる機能が低下する。   Here, when the substrate 6 reaches just above the gas ejection hole 2, the resistance against gas ejection increases as compared with the case where the substrate 6 does not exist directly above. Here, if the gas pressure in the first gas pipe 7 is extremely small, it becomes difficult for gas to be ejected from the gas ejection holes 2 in which the substrate 6 is located immediately above. Therefore, the gas flow rate flowing through the gas ejection holes 2 without the substrate 6 directly above increases, and the gas flow rate flowing through the gas ejection holes 2 with the substrate 6 directly above decreases. As a result, the function of floating the substrate 6 is reduced.

一方、第1のガス管7内のガス圧を大きくして、ガス噴出孔2に流れるガス流量が極端に大きくなった場合は、基板6が搬送テーブル1から離れすぎることとなり、帯電検知機構3において、基板6の帯電電位を検知することができず、また、帯電中和機構4において基板6をイオンに十分に接触させることができない。   On the other hand, when the gas pressure in the first gas pipe 7 is increased and the flow rate of the gas flowing through the gas ejection hole 2 becomes extremely large, the substrate 6 is too far from the transfer table 1, and the charge detection mechanism 3. In this case, the charging potential of the substrate 6 cannot be detected, and the charging neutralization mechanism 4 cannot sufficiently bring the substrate 6 into contact with ions.

したがって、第1のガス管7内のガス圧を基板6を浮上させる機能が低下しない程度に大きくし、その際、ガス噴出孔2に流れるガス流量が極端に大きくならないように、第1のガス管7の配管抵抗を十分に大きくする必要がある。   Accordingly, the gas pressure in the first gas pipe 7 is increased to such an extent that the function of levitating the substrate 6 is not reduced, and the flow rate of the gas flowing through the gas ejection hole 2 is not excessively increased. It is necessary to increase the pipe resistance of the pipe 7 sufficiently.

図1および図2に示すように、帯電検知中和ユニット9は、帯電検知機構3と帯電中和機構4とを含み、基板6の搬送方向に対して、帯電検知機構3の下流側に帯電中和機構4が備えられる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the charge detection neutralization unit 9 includes a charge detection mechanism 3 and a charge neutralization mechanism 4, and is charged downstream of the charge detection mechanism 3 with respect to the conveyance direction of the substrate 6. A neutralization mechanism 4 is provided.

ここで、第1のガス管7と第2のガス管8とを別個の管とし、両方のガス管からガスを噴出しているが、第2のガス管8のガス圧力は、第1のガス管7のガス圧力に比べて低く、基板6の浮上に影響を及ぼすものではない。したがって、帯電中和機構4は、搬送テーブル1の任意の位置に設置することができる。   Here, the first gas pipe 7 and the second gas pipe 8 are separate pipes, and gas is ejected from both gas pipes. The gas pressure in the second gas pipe 8 is It is lower than the gas pressure in the gas pipe 7 and does not affect the floating of the substrate 6. Therefore, the charging neutralization mechanism 4 can be installed at any position on the transport table 1.

図3は、本実施の形態に係る搬送装置の回路ブロック図である。   FIG. 3 is a circuit block diagram of the transport apparatus according to the present embodiment.

帯電検知機構3の電位センサ3aにおいて、基板6の帯電が検知されると、アナログ信号である帯電検出信号が、電位センサ3aから信号処理部3bに送られる。信号処理部3bは、上記のアナログ信号をデジタル信号に変換し、制御部5に送信する。   When the potential sensor 3a of the charge detection mechanism 3 detects the charge of the substrate 6, a charge detection signal that is an analog signal is sent from the potential sensor 3a to the signal processing unit 3b. The signal processing unit 3 b converts the analog signal into a digital signal and transmits it to the control unit 5.

ここで、基板6の進行速度v(mm/sec)は一定であり、電位センサ3aから放電電極4aまでの距離L(mm)は既知である。したがって、基板6のある部分が電位センサ3a上を通過してから放電電極4a上に達するまでの時間T(sec)は、
T(sec)=L(mm)/v(mm/sec)
により求められる。
Here, the traveling speed v (mm / sec) of the substrate 6 is constant, and the distance L (mm) from the potential sensor 3a to the discharge electrode 4a is known. Therefore, the time T (sec) from when a portion of the substrate 6 passes over the potential sensor 3a until it reaches the discharge electrode 4a is:
T (sec) = L (mm) / v (mm / sec)
Is required.

一方、帯電中和機構4の放電電極4aは電圧印加部4cに接続されている。該放電電極4aに電圧を印加すると、接地電極4bとしての第2のガス管8との間でコロナ放電が生じる。第2のガス管8には第1のガス管7と同じく、窒素、アルゴン、乾燥空気などを含むガスが送り込まれており、上記のコロナ放電により励起されてイオン化したガスが図1中の黒矢印の方向に噴出され、基板6の表面に吹き付けられる。   On the other hand, the discharge electrode 4a of the charging neutralization mechanism 4 is connected to the voltage application unit 4c. When a voltage is applied to the discharge electrode 4a, corona discharge occurs between the second gas tube 8 as the ground electrode 4b. Like the first gas pipe 7, the second gas pipe 8 is fed with a gas containing nitrogen, argon, dry air, etc., and the ionized gas excited by the corona discharge is black in FIG. It is ejected in the direction of the arrow and sprayed onto the surface of the substrate 6.

ここで、第1および第2のガス管7,8に送り込まれるガスは、基板への異物付着を防ぐため、超清浄ガスである必要がある。   Here, the gas sent into the first and second gas pipes 7 and 8 needs to be an ultra-clean gas in order to prevent foreign matter from adhering to the substrate.

電圧印加部4cは、交流電圧を印加するものであり、第2のガス管8内のガスはプラスイオンとマイナスイオンとに交互にイオン化される。基板6がプラスに帯電している場合は、交流電圧振幅の負電圧が正電圧より大きくなるようにオフセットしてマイナスイオンをプラスイオンより多く発生させ、マイナスイオンが中和に寄与するようにする。また、基板6がマイナスに帯電している場合は、交流電圧振幅の正電圧が負電圧より大きくなるようにオフセットしてプラスイオンをマイナスイオンより多く発生させ、プラスイオンが中和に寄与するようにする。なお、いずれの局面においても、中和完了後はプラスイオンとマイナスイオンとを同量発生させる。このようにすることで、基板6のもとの帯電と同じ極性のイオンは中和に寄与しない。   The voltage application unit 4c applies an alternating voltage, and the gas in the second gas pipe 8 is ionized alternately into positive ions and negative ions. When the substrate 6 is positively charged, offset is performed so that the negative voltage of the AC voltage amplitude becomes larger than the positive voltage, and more negative ions are generated than the positive ions, so that the negative ions contribute to neutralization. . Further, when the substrate 6 is negatively charged, the positive voltage of the AC voltage amplitude is offset so as to be larger than the negative voltage to generate more positive ions than the negative ions, so that the positive ions contribute to neutralization. To. In any aspect, after the completion of neutralization, the same amount of positive ions and negative ions is generated. By doing so, ions having the same polarity as the original charging of the substrate 6 do not contribute to neutralization.

また、制御部5には、基板6の帯電電位に対応したイオンを発生させるための印加電圧があらかじめインプットされており、電位センサ3aによって検知された帯電電位に応じたイオンを、検知からT(sec)後に発生させ、基板6の表面に吹き付けることができるように電圧印加部4cに信号を送信する。   Further, an applied voltage for generating ions corresponding to the charged potential of the substrate 6 is input to the control unit 5 in advance, and ions corresponding to the charged potential detected by the potential sensor 3a are detected from the detection T ( sec) and a signal is transmitted to the voltage application unit 4c so that it can be sprayed onto the surface of the substrate 6.

これにより、帯電検知機構3によって検知された基板6の帯電電位に応じて、帯電中和機構4における帯電の中和を行なうことができ、また、電位センサ3aと放電電極4aとの距離、および基板6の搬送速度に応じて電圧印加部4cを作動させるタイミングを制御できる。これを所定時間ごとに繰り返し行なうことで、基板6の局所的な帯電を適切に中和し、基板6全体の帯電を取り除きながら該基板6の搬送を行なうことができる。   Thereby, neutralization of the charge in the charge neutralization mechanism 4 can be performed according to the charge potential of the substrate 6 detected by the charge detection mechanism 3, and the distance between the potential sensor 3a and the discharge electrode 4a, and The timing for operating the voltage application unit 4c can be controlled according to the conveyance speed of the substrate 6. By repeating this every predetermined time, the local charge of the substrate 6 can be appropriately neutralized, and the substrate 6 can be transported while removing the entire charge of the substrate 6.

帯電検知機構3は、基板6に非接触な状態で帯電電位の検知を行なうので、摩擦による新たな帯電を生じされることがなく、帯電電位を正確に検知することができる。   Since the charging detection mechanism 3 detects the charging potential without contacting the substrate 6, it can detect the charging potential accurately without generating new charging due to friction.

また、帯電中和機構4におけるガス噴出のための第2のガス管8を接地電極とすることで、第2のガス管8との摩擦によるガスの帯電を防止することができる。したがって、帯電中和機構4において、基板6に新たな帯電を生じさせることがない。   In addition, by using the second gas pipe 8 for gas ejection in the charging neutralization mechanism 4 as a ground electrode, charging of the gas due to friction with the second gas pipe 8 can be prevented. Therefore, the charging neutralization mechanism 4 does not cause a new charge on the substrate 6.

なお、帯電検知部3および帯電中和部4からなる帯電検知中和ユニット9は、図2に示すように、基板6の搬送方向に対して直交する方向に等間隔で1列に並び、基板6の両側の端部に達するように配置されている。   As shown in FIG. 2, the charge detection neutralization units 9 including the charge detection unit 3 and the charge neutralization unit 4 are arranged in a line at equal intervals in a direction orthogonal to the conveyance direction of the substrate 6. 6 are arranged so as to reach the end portions on both sides of 6.

これにより、基板6の全体にわたって、基板6の帯電を中和することができる。   Thereby, the charging of the substrate 6 can be neutralized over the entire substrate 6.

ここで、帯電検知中和ユニット9が並ぶ方向は、基板6の搬送方向に直交する方向に限定されるものではなく、搬送方向に対して交差し、かつ、搬送方向に対して基板6の左右両側の端部に達する配列であればよい。   Here, the direction in which the charge detection neutralizing units 9 are arranged is not limited to the direction orthogonal to the transport direction of the substrate 6, but intersects the transport direction and the left and right sides of the substrate 6 with respect to the transport direction. Any arrangement that reaches both ends may be used.

また、帯電検知中和ユニット9の間隔についても、等間隔に限定されるものではなく、様々な配置が可能である。   Further, the interval between the charge detection neutralization units 9 is not limited to an equal interval, and various arrangements are possible.

また、図2においては、帯電検知中和ユニット9は、搬送方向に対して最も下流側に設けられたガス噴出孔2の上流側に設けられているが、より好ましくは、搬送方向に対して最も下流側に設けられたガス噴出孔2または該ガス孔よりも下流側に、帯電中和機構4を含む帯電検知中和ユニット9を設けた構造が考えられる。これにより、基板6をテーブル1から一定距離に保持しながら、帯電検知中和ユニット9によって帯電が中和された後、帯電を中和された部分が、ガス噴出孔2から噴出したガスと再度接触することがなく、帯電を中和する効果をより高めることができる。   In FIG. 2, the charge detection neutralization unit 9 is provided on the upstream side of the gas ejection hole 2 provided on the most downstream side with respect to the transport direction, but more preferably on the transport direction. A structure in which the gas ejection hole 2 provided on the most downstream side or a charging detection neutralizing unit 9 including the charging neutralization mechanism 4 is provided on the downstream side of the gas hole is conceivable. As a result, while the substrate 6 is held at a certain distance from the table 1, the charge is neutralized by the charge detection neutralization unit 9, and then the portion where the charge has been neutralized again becomes the gas ejected from the gas ejection hole 2. The effect of neutralizing charging can be further enhanced without contact.

また、その他の任意の箇所の第1のガス管7を、第2のガス管8として兼用することができる。   In addition, the first gas pipe 7 at any other location can also be used as the second gas pipe 8.

さらに、全ての第1のガス管7を第2のガス管8として兼用し、第2のガス管のみで基板6を浮上させる構造であってもよい。この場合は、第1のガス管7を省略することができるので、ガス供給系を減らして装置を小型化することができる。   Further, the structure may be such that all the first gas pipes 7 are also used as the second gas pipes 8 and the substrate 6 is floated only by the second gas pipes. In this case, since the first gas pipe 7 can be omitted, the gas supply system can be reduced and the apparatus can be downsized.

また、基板6の帯電を検知するタイミングは、すべての電位センサ3aにおいて同時に行なう場合に限定されるものではなく、個別の電位センサ3aごとにずらして検知してもよい。さらに、各電位センサ3aを基板6の搬送方向にずらして配置し、電位センサ3aにより基板6の帯電を検知するタイミングを全て同時としてもよい。このようにすることで、電圧印加部4cが放電電極4aに電圧を印加するタイミングをずらすことができるので、1つの電圧印加部4cによって全ての放電電極4aに電圧を印加することができる。この結果、装置を小型化することが可能となる。   In addition, the timing of detecting the charging of the substrate 6 is not limited to the case where all the potential sensors 3a are simultaneously performed, and may be detected by shifting each individual potential sensor 3a. Further, the potential sensors 3a may be arranged so as to be shifted in the transport direction of the substrate 6, and the timings at which the potential sensor 3a detects the charging of the substrate 6 may be all at the same time. By doing in this way, since the voltage application part 4c can shift the timing which applies a voltage to the discharge electrode 4a, a voltage can be applied to all the discharge electrodes 4a by one voltage application part 4c. As a result, the apparatus can be reduced in size.

図4は、本実施の形態に係る搬送装置の変形例を示したものである。   FIG. 4 shows a modification of the transport apparatus according to the present embodiment.

図4においては、帯電検知機構3の下流側に配置される帯電中和機構4は、プラスイオンを発生させる接地電極4bとしての第2のガス管8を含むプラスイオン発生部11と、マイナスイオンを発生させる接地電極4bとしての第2のガス管8を含むマイナスイオン発生部12とを備える。   In FIG. 4, the charge neutralization mechanism 4 disposed on the downstream side of the charge detection mechanism 3 includes a positive ion generator 11 including a second gas pipe 8 as a ground electrode 4 b that generates positive ions, and negative ions. And a negative ion generator 12 including a second gas pipe 8 as a ground electrode 4b.

プラス/マイナスイオン発生部11,12とも、第2のガス管8内には、放電電極4aが備えられ、該放電電極4aは、それぞれ正電圧印加部11aと、負電圧印加部12aとに接続されている。制御部5は、正/負電圧印加部11a,12aをそれぞれ別個に制御し、放電電極4aには、正または負の直流電圧が印加される。この結果、プラスイオンとマイナスイオンとが、それぞれ別個の第2のガス管8から供給される。   Both the plus / minus ion generators 11 and 12 are provided with a discharge electrode 4a in the second gas pipe 8, and the discharge electrode 4a is connected to a positive voltage application unit 11a and a negative voltage application unit 12a, respectively. Has been. The control unit 5 controls the positive / negative voltage application units 11a and 12a separately, and a positive or negative DC voltage is applied to the discharge electrode 4a. As a result, positive ions and negative ions are supplied from separate second gas pipes 8 respectively.

帯電中和機構4においては、基板6の帯電と逆極性のイオンが帯電の中和に寄与する。プラスイオンとマイナスイオンを別個のガス管から発生させることで、この逆極性のイオンを多く発生させることができるので、より効率的に帯電を中和することができる。   In the charge neutralization mechanism 4, ions having the opposite polarity to the charge of the substrate 6 contribute to charge neutralization. By generating positive ions and negative ions from separate gas tubes, a large number of ions having opposite polarities can be generated, so that the charge can be neutralized more efficiently.

図5は、本実施の形態に係る搬送装置の他の変形例を示したものである。   FIG. 5 shows another modification of the transport apparatus according to the present embodiment.

図5においては、搬送装置は、帯電中和機構としての紫外線照射装置13を備える。   In FIG. 5, the transport device includes an ultraviolet irradiation device 13 as a charging neutralization mechanism.

紫外線照射装置13により、基板6の表面付近のガスを励起してイオンを発生させ、該イオンを基板6に接触させることができる。この結果、基板6の帯電が中和される。また、紫外線やX線の照射時間および照射強度を帯電電位に合わせて調整し、効果的に帯電の中和を行なうことができる。   The ultraviolet irradiation device 13 can excite the gas near the surface of the substrate 6 to generate ions, and the ions can be brought into contact with the substrate 6. As a result, the charging of the substrate 6 is neutralized. In addition, the irradiation time and irradiation intensity of ultraviolet rays and X-rays can be adjusted according to the charging potential to effectively neutralize charging.

また、上記の紫外線照射装置13の代わりに、微弱なX線を照射するものを用いてもよい。   Moreover, you may use what irradiates weak X-ray instead of said ultraviolet irradiation device 13. FIG.

第1のガス管7の内壁および搬送テーブル1の表面は接地された良導体薄膜、または帯電防止膜で覆われていることが好ましい。   The inner wall of the first gas pipe 7 and the surface of the transfer table 1 are preferably covered with a grounded good conductor thin film or an antistatic film.

第1のガス管7の内壁の帯電を防止することにより、第1のガス管7から噴出され、基板6の浮上に寄与するガスの帯電を防止することができる。この結果、基板6を浮上させるためのガスによる基板6の帯電を防止することができる。   By preventing charging of the inner wall of the first gas pipe 7, it is possible to prevent charging of the gas ejected from the first gas pipe 7 and contributing to the floating of the substrate 6. As a result, it is possible to prevent the substrate 6 from being charged by the gas for floating the substrate 6.

また、搬送テーブル1の基板6の接近による帯電を防止することにより、帯電を中和した基板6を、再度帯電させることがない。   Further, by preventing charging due to the approach of the substrate 6 of the transfer table 1, the substrate 6 neutralized by charging is not charged again.

本実施の形態においては、以上の構成により、局所的な帯電電位を検知した結果に応じて、被搬送体の帯電を中和することができるので、パネルの局所的な帯電を適切に中和させながらパネルの搬送を行なうことができる。   In the present embodiment, according to the above configuration, it is possible to neutralize the charge of the transported object according to the result of detecting the local charging potential, so that the local charging of the panel is appropriately neutralized. It is possible to carry the panel while making it happen.

また、本実施の形態に係る搬送装置は、従来の搬送装置に若干の改良を加えるだけで製作することが可能であり、コストアップさせることなくパネルの帯電を適切に中和することができる。   In addition, the transport apparatus according to the present embodiment can be manufactured by making a slight improvement to the conventional transport apparatus, and can appropriately neutralize the charging of the panel without increasing the cost.

(実施の形態2)
図6から図8は、実施の形態2における搬送装置について示した図である。
(Embodiment 2)
6 to 8 are diagrams illustrating the transfer device according to the second embodiment.

図6は、本実施の形態に係る搬送装置の断面図である。   FIG. 6 is a cross-sectional view of the transport apparatus according to the present embodiment.

本実施の形態における搬送装置は、実施の形態1と同様に、被搬送体を浮上させながら搬送する搬送方法に用いる搬送装置であって、図6に示すように、基板6の浮上を制御するガスを白矢印の方向に吸引するガス吸引孔10を形成する第1のガス管7と、基板6の局部的な帯電電位を検知する帯電検知機構3と、搬送方向に対して、帯電検知機構3の下流に設けられ、基板6を浮上させながら、基板6の帯電を中和するガス噴出帯電中和機構14と、帯電検知機構3とガス噴出帯電中和機構14とに接続され、帯電検知機構3によって検知された基板6の帯電電位に応じたイオンをガス噴出帯電中和機構14に発生させる制御部5とを備える。   The transport apparatus in the present embodiment is a transport apparatus used in a transport method for transporting an object to be transported in the same manner as in the first embodiment, and controls the floating of the substrate 6 as shown in FIG. A first gas pipe 7 that forms a gas suction hole 10 for sucking gas in the direction of a white arrow, a charge detection mechanism 3 that detects a local charging potential of the substrate 6, and a charge detection mechanism with respect to the transport direction 3, connected to a gas ejection charge neutralization mechanism 14 that neutralizes the charging of the substrate 6 while the substrate 6 is levitated, and a charge detection mechanism 3 and a gas ejection charge neutralization mechanism 14. And a control unit 5 that causes the gas ejection charging neutralization mechanism 14 to generate ions corresponding to the charging potential of the substrate 6 detected by the mechanism 3.

図7は、本実施の形態に係る搬送装置の上面図である。   FIG. 7 is a top view of the transport apparatus according to the present embodiment.

図7に示すように、放電電極4aおよび設置電極4bを含むガス噴出帯電中和機構14と帯電検知機構3からなる帯電検知中和ユニット9は、基板の全体にわたって配置される。また、ガス吸引孔10についても同様に基板の全体にわたって配置される。これにより、ガスの噴出と吸引とによる制御が可能となるので、実施の形態1と比較して、基板6の搬送テーブル1からの距離をより一定に保つことができる。   As shown in FIG. 7, the charge detection neutralization unit 9 including the gas ejection charge neutralization mechanism 14 including the discharge electrode 4a and the installation electrode 4b and the charge detection mechanism 3 is disposed over the entire substrate. Similarly, the gas suction holes 10 are arranged over the entire substrate. Thereby, since control by gas ejection and suction becomes possible, the distance of the substrate 6 from the transfer table 1 can be kept more constant than in the first embodiment.

本実施の形態に係る搬送装置の変形例としては、ガス噴出孔とガス吸引孔との両方を備える構造が考えられる。その場合、各々のガス孔を噴出・吸引両用とする構造としてもよいし、ガス噴出孔とガス吸引孔を別々に備える構造としてもよい。   As a modified example of the transport apparatus according to the present embodiment, a structure including both a gas ejection hole and a gas suction hole is conceivable. In that case, it is good also as a structure which uses each gas hole for both ejection and suction, and is good also as a structure provided with a gas ejection hole and a gas suction hole separately.

また、図6および図7に示す搬送装置の上下を反転させ、ガス吸引孔10からガスを吸引して基板6を搬送テーブル1に引きつけながら、搬送テーブル1の下側において基板6を搬送することもできる。その場合は、ガス吸引孔10のみによって基板6を搬送テーブル1から一定距離に保つことができるので、帯電検知中和ユニット9は搬送テーブル1全体に配置する場合に限定されず、実施の形態1と同様に1列に配置しても、基板6の帯電を中和する機能は損なわれない。   Also, the substrate 6 is transported below the transport table 1 while the transport device shown in FIGS. 6 and 7 is turned upside down and the substrate 6 is attracted to the transport table 1 by sucking gas from the gas suction holes 10. You can also. In that case, since the substrate 6 can be kept at a fixed distance from the transport table 1 only by the gas suction holes 10, the charge detection neutralization unit 9 is not limited to the case where it is disposed on the entire transport table 1, and the first embodiment Even if they are arranged in a row as in the case of the above, the function of neutralizing the charging of the substrate 6 is not impaired.

図8は、本実施の形態に係る搬送装置の変形例を示した上面図である。   FIG. 8 is a top view showing a modification of the transport apparatus according to the present embodiment.

図8においては、図7における搬送テーブル1をテーブルユニット15とし、該テーブルユニット15を並べて配置している。これにより、さらに大型の基板6(たとえば大型液晶パネル基板など)を搬送することができる。   In FIG. 8, the transport table 1 in FIG. 7 is a table unit 15, and the table units 15 are arranged side by side. Thereby, a larger substrate 6 (for example, a large liquid crystal panel substrate) can be transported.

本実施の形態においては、以上の構成により、局所的な帯電電位を検知した結果に応じて、被搬送体の帯電を中和することができるので、パネルの局所的な帯電を適切に中和させながらパネルの搬送を行なうことができる。   In the present embodiment, according to the above configuration, it is possible to neutralize the charge of the transported object according to the result of detecting the local charging potential, so that the local charging of the panel is appropriately neutralized. It is possible to carry the panel while making it happen.

また、本実施の形態に係る搬送装置は、従来の搬送装置に若干の改良を加えるだけで製作することが可能であり、コストアップさせることなくパネルの帯電を適切に中和することができる。   In addition, the transport apparatus according to the present embodiment can be manufactured by making a slight improvement to the conventional transport apparatus, and can appropriately neutralize the charging of the panel without increasing the cost.

以上、本発明の実施の形態について説明したが、上述した各実施の形態の特徴部分を適宜組み合わせることは、当初から予定されている。また、今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。   Although the embodiments of the present invention have been described above, it is planned from the beginning to appropriately combine the characteristic portions of the above-described embodiments. Moreover, it should be thought that embodiment disclosed this time is an illustration and restrictive at no points. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明の実施の形態1に係る搬送装置の断面図である。It is sectional drawing of the conveying apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る搬送装置の上面図である。It is a top view of the conveying apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る搬送装置の回路ブロック図である。It is a circuit block diagram of the conveying apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る搬送装置の変形例の断面図である。It is sectional drawing of the modification of the conveying apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る搬送装置の他の変形例の断面図である。It is sectional drawing of the other modification of the conveying apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2に係る搬送装置の断面図である。It is sectional drawing of the conveying apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2に係る搬送装置の上面図である。It is a top view of the conveying apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2に係る搬送装置の変形例の上面図である。It is a top view of the modification of the conveying apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 搬送テーブル、2 ガス噴出孔、3 帯電検知機構、3a 電位センサ、3b 信号処理部、4 帯電中和機構、4a 放電電極、4b 接地電極、4c 電圧印加部、5 制御部、6 基板、7 第1のガス管、8 第2のガス管、9 帯電検知中和ユニット、10 ガス吸引孔、11 プラスイオン発生部、11a 正電圧印加部、12 マイナスイオン発生部、12a 負電圧印加部、13 紫外線(微弱X線)照射装置、13a 駆動部、14 ガス噴出帯電中和機構、15 テーブルユニット。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transfer table 2 Gas ejection hole 3 Charge detection mechanism 3a Potential sensor 3b Signal processing part 4 Charge neutralization mechanism 4a Discharge electrode 4b Ground electrode 4c Voltage application part 5 Control part 6 Substrate 7 1st gas pipe, 8 2nd gas pipe, 9 Charge detection neutralization unit, 10 Gas suction hole, 11 Positive ion generation part, 11a Positive voltage application part, 12 Negative ion generation part, 12a Negative voltage application part, 13 Ultraviolet (weak X-ray) irradiation device, 13a driving unit, 14 gas ejection charging neutralization mechanism, 15 table unit.

Claims (8)

被搬送体を浮上させながら搬送する搬送装置であって、
被搬送体の浮上を制御するガスを噴出/吸引するガス孔と、
前記被搬送体の局部的な帯電電位を検知する帯電検知機構と、
搬送方向に対して、前記帯電検知機構の下流に設けられ、前記被搬送体の帯電を中和する帯電中和機構と、
前記帯電検知機構と前記帯電中和機構とに接続され、前記帯電検知機構によって検知された前記被搬送体の帯電電位に応じたイオンを前記帯電中和機構に発生させる制御手段とを備えた搬送装置。
A transport device that transports a transported object while floating,
A gas hole for ejecting / sucking a gas for controlling the floating of the conveyed object;
A charge detection mechanism for detecting a local charge potential of the conveyed object;
A charge neutralization mechanism that is provided downstream of the charge detection mechanism with respect to the transport direction and neutralizes the charge of the transported body;
A transport unit connected to the charge detection mechanism and the charge neutralization mechanism, and having a control means for generating, in the charge neutralization mechanism, ions corresponding to the charged potential of the transported body detected by the charge detection mechanism. apparatus.
前記帯電検知機構は、テーブルに設置された前記被搬送体に非接触な電位センサを含む、請求項1に記載の搬送装置。   The transport apparatus according to claim 1, wherein the charge detection mechanism includes a potential sensor that is not in contact with the transported body installed on a table. 搬送方向に対して最も下流側に設けられた前記ガス孔または該ガス孔よりも下流側に前記帯電中和機構を設けた、請求項1または請求項2に記載の搬送装置。   The transport device according to claim 1, wherein the charging neutralization mechanism is provided on the downstream side of the gas hole provided on the most downstream side with respect to the transport direction. 前記帯電中和機構は、
接地電極としてのガス管と、
前記ガス管内に設けられた放電電極と、
前記接地電極と前記放電電極との間に電圧を印加する電圧印加手段とを備えた、請求項1から請求項3のいずれかに記載の搬送装置。
The charging neutralization mechanism is
A gas pipe as a ground electrode;
A discharge electrode provided in the gas tube;
The transport apparatus according to claim 1, further comprising a voltage applying unit that applies a voltage between the ground electrode and the discharge electrode.
前記ガス管は、
プラスイオンを発生させるガス管と、
マイナスイオンを発生させるガス管とを含む、請求項4に記載の搬送装置。
The gas pipe is
A gas pipe that generates positive ions;
The transport apparatus according to claim 4, further comprising a gas pipe that generates negative ions.
前記帯電中和機構は、紫外線照射手段またはX線照射手段を含む、請求項1から請求項3のいずれかに記載の搬送装置。   The transport apparatus according to claim 1, wherein the charging neutralization mechanism includes ultraviolet irradiation means or X-ray irradiation means. 前記ガス孔の内壁を接地、または帯電防止膜で覆う、請求項1から請求項6のいずれかに記載の搬送装置。   The transport apparatus according to claim 1, wherein an inner wall of the gas hole is grounded or covered with an antistatic film. ガスを噴出/吸引して被搬送体を浮上させながら搬送する搬送方法であって、
前記被搬送体の局所的な帯電電位を検知する工程と、
前記帯電電位の検知後に該帯電電位に応じたイオンを発生させ、前記イオンを前記被搬送体に接触させて前記被搬送体の帯電を中和する工程とを備えた搬送方法。
A transport method for transporting gas while jetting / sucking it and floating the transported object,
Detecting a local charging potential of the conveyed object;
And a step of generating ions corresponding to the charged potential after detecting the charged potential, and bringing the ions into contact with the transported body to neutralize the charge of the transported body.
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