JP2005165352A - フォトリソグラフィ用マスク、薄膜形成方法、並びに液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 遮光部3、半透過部4及び透過部5が設けられたフォトリソグラフィ用マスク1において、複数の半透過部4及び透過部5を有し、互いに隣接する半透過部4又は透過部5を透過する光の位相差を任意に設定し、複数の半透過部4及び透過部5の数以上の段差を有する薄膜パターンを形成する。
【選択図】 図1
Description
成膜不良の無い良好な薄膜パターン13が得られると判断できる。
13bを同時に形成する場合に適用することができる。
用することができる。
く形成された反射用フィルタ部21Rb、Gb、Bbとを有する2段構造とされており、これら透過用と反射用のフィルタ部が一体に形成されている。
Claims (11)
- 遮光領域と、複数の透過領域とが設けられたフォトリソグラフィ用マスクにおいて、
上記複数の透過領域のうち隣接する透過領域を透過する光の位相差が任意に設定され、上記透過領域の数以上の段差を有する薄膜パターンを形成することを特徴とするフォトリソグラフィ用マスク。 - 上記複数の透過領域は、異なる光透過率を有する透過領域を含むことを特徴とする請求項1記載のフォトリソグラフィ用マスク。
- 遮光領域と、複数の透過領域とが設けられ、該複数の透過領域のうち隣接する透過領域を透過する光の位相差が任意に設定されたフォトリソグラフィ用マスクを用いて露光し、上記透過領域の数以上の段差を有する薄膜パターンを形成することを特徴とする薄膜形成方法。
- 上記複数の透過領域は、異なる光透過率を有する透過領域を含むことを特徴とする請求項3記載の薄膜形成方法。
- 上記フォトリソグラフィ用マスクは、薄膜形成対象に対して50μm以上、500μm以下の間隔を隔てて配置されることを特徴とする請求項3記載の薄膜形成方法。
- 遮光領域と、複数の透過領域とが設けられ、該複数の透過領域のうち隣接する透過領域を透過する光の位相差が任意に設定されたフォトリソグラフィ用マスクを用いて露光するフォトリソグラフィ工程を有し、上記透過領域の数以上の段差を有する薄膜パターンを形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
- 上記複数の透過領域は、異なる光透過率を有する透過領域を含むことを特徴とする請求項6記載の液晶表示装置の製造方法。
- 上記フォトリソグラフィ用マスクは、薄膜形成対象に対して50μm以上、500μm以下の間隔を隔てて配置されることを特徴とする請求項6記載の液晶表示装置の製造方法。
- 遮光領域と、複数の透過領域とが設けられ、該複数の透過領域のうち隣接する透過領域を透過する光の位相差が任意に設定されたフォトリソグラフィ用マスクを用いて露光し、上記透過領域の数以上の段差を有する薄膜パターンが形成された基板を有することを特徴とする液晶表示装置。
- 上記複数の透過領域は、異なる光透過率を有する透過領域を含むことを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置。
- 上記薄膜パターンは、上記フォトリソグラフィ用マスクが薄膜形成対象に対して50μm以上、500μm以下の間隔を隔てて配置された状態で露光され形成されることを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置。
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