JP2005150665A - プラズマエッチング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 プラズマを利用した半導体製造装置は、工程チャンバの側壁に一定の円周方向に間隔を置いて放射状に設けられ、各々がプラズマを発生させ、発生されたプラズマを工程チャンバに注入する多数の高密度プラズマ発生ユニットを有する。この高密度プラズマ発生ユニットは工程チャンバの円周方向に間隔を置いて放射状に2〜24個所に設けられている。
【選択図】 図1
Description
120 プラズマソースチャンバ
122 プラズマ発生ユニット
124 プラズマチューブ
126 誘導性アンテナ
128 永久磁石(電磁石)
140 基板維持部
150 サセプタ
160 リフト装置
170 排気部
180 ガス供給部
Claims (24)
- プラズマを利用した半導体製造装置において、
所定の真空度に維持可能な内部空間を有する工程チャンバと、
前記工程チャンバの上部に前記内部空間と連結されるように設けられ、プラズマを前記工程チャンバに供給するためのプラズマソースチャンバと、
前記工程チャンバの側面から支持されて設けられ、少なくとも一つ以上の被処理体が載置される被処理体維持部と、
前記維持部に載置された被処理体を基準にガス排出が垂直下方からなるように、前記工程チャンバの下端に設けられる排気部とを含むことを特徴とするプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記プラズマソースチャンバは、
側壁に一定の円周方向に間隔を置いて放射状に設けられ、各々がプラズマを発生させ、発生されたプラズマを前記工程チャンバの内部の空間に注入するプラズマ発生ユニットと、
前記プラズマ発生ユニット各々にソースガスを均一に供給するためのガス供給部とを含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体製造装置。 - 前記ガス供給部は、
ガス供給管と、
前記ガス供給管から供給されるガスが一時的にとどまるバッファ空間を提供するバッファ部と、
前記バッファ部から各々の前記プラズマ発生ユニットにガスを供給する分岐管とを含むことを特徴とする請求項2に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記被処理体の維持部は、
前記工程チャンバの側面から延長されて形成される少なくとも3つの水平支持台と、前記少なくとも3つの水平支持台により支持される中央部を有する支持部と、
前記中央部の上部に着脱可能に設けられ、少なくとも一つの被処理体が置かれるサセプタとを含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記被処理体維持部は、
前記工程チャンバの中央部に設けられ、少なくとも一つの被処理体が置かれるサセプタと、
前記サセプタに被処理体を装着させるのに使用するリフト装置とを含み、
前記リフト装置は前記サセプタの内部に設けられ、被処理体の底面を支持するための少なくとも3つのリフトピンと、
前記リフトピンが固定されるピン固定板と、
前記ピン固定板を昇降させるためのエアシリンダとを含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記ピン固定板は、
前記被処理体を支持するためのリフトピンが固定される第1固定ホールと、
前記被処理体とは相異なるサイズの被処理体を支持するためのリフトピンが固定される第2固定ホールとを含み、前記リフトピンの装着位置を被処理体のサイズに従って変更可能とすることを特徴とする請求項5に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記ピン固定板は、
前記被処理体の中心から同一の半径に形成され、前記リフトピンが固定される第1固定ホールと、
前記第1固定ホールとは同一の中心を有し、第1固定ホールとは別の半径に形成される第2固定ホールとを含み、前記リフトピンの装着位置を被処理体のサイズに従って変更可能とすることを特徴とする請求項5に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記サセプタは、
前記第1固定ホールと同一線上に形成され、前記リフトピンが挿入可能な第1貫通ホールと、
前記第2固定ホールと同一線上に形成され、前記リフトピンが挿入可能な第2貫通ホールとを含み、前記被処理体のサイズに従って前記第1、2貫通ホールは一つのみ選択的に使用されることを特徴とする請求項6に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記サセプタは、
前記第1貫通ホールまたは第2貫通ホールのうち前記リフトピンが挿入されないホールを塞ぐためのダミーピンをさらに含むことを特徴とする請求項8に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記サセプタは、
陰極と、
前記陰極上に設けられる被処理体が置かれる静電チャックと、
前記静電チャックと陰極との間に設けられる絶縁体からなることを特徴とする請求項4に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記水平支持台は内部通路を有し、
前記水平支持台の内部通路を通じて前記陰極にRFパワーラインが連結され、前記静電チャックにはDC電源ラインが連結され、前記静電チャックには不活性冷却ガスが供給されることを特徴とする請求項10に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記静電チャックは少なくとも3つの被処理体が各々載置されるステージを有することを特徴とする請求項10に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。
- 前記ステージは、
前記被処理体のエッジにをシールリングするための第1Oリングと、
前記被処理体の中央部分をシールリングするための第2Oリングと、
前記第1Oリングと前記第2Oリング、及び被処理体の底面により形成された空間に前記被処理体を冷却させる不活性ガスを供給するガスホールとを含むことを特徴とする請求項12に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記第1Oリングと前記第2Oリングとは、
前記ステージに形成された固定溝に固定される固定部分と、
前記固定部分の上部から前記外側に傾くように延長されて形成され、被処理体が置かれる時に、緩衝される自由端とを有することを特徴とする請求項13に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記プラズマ発生ユニットは、前記プラズマソースチャンバの円周方向に間隔に置いて放射状に2〜24個所に設けられることを特徴とする請求項2に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。
- 前記プラズマ発生ユニットから生成されて前記工程チャンバに供給されるプラズマの密度をより均一にするため、前記プラズマソースチャンバの上部に螺旋形で形成された誘導性アンテナをさらに含むことを特徴とする請求項2に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。
- 前記プラズマ発生ユニットは、
ガス供給部と連結されるプラズマチューブと、
前記プラズマチューブの外部を囲む誘導性アンテナと、
前記アンテナ及び前記プラズマチューブを囲み、前記プラズマチューブ内に磁場を発生させる磁場発生手段とを含むことを特徴とする請求項2に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記プラズマチューブはセラミックまたは石英材質からなり、
前記誘導性アンテナはM=0モードであるモリタイプ、またはM=1モードタイプのアンテナ構造からなり、
前記磁場発生手段は永久磁石または電磁石であることを特徴とする請求項17に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記誘導性アンテナは高周波印加時に発生される過熱を防止するため、水冷式または空冷式からなることを特徴とする請求項17に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。
- 前記プラズマ発生ユニット各々によって形成される磁場の方向は隣接のプラズマ発生ユニットによって形成される磁場の方向と反対方向であることを特徴とする請求項17に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。
- 前記磁場発生手段はN極とS極とが互いに交互に配置されることを特徴とする請求項17に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。
- 前記工程チャンバの下部で前記プラズマからイオンビームを抽出するためのイオンビーム抽出器をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。
- 薄膜のエッチング時、工程温度は−30℃から600℃、工程圧力は0.1mT〜300mTの範囲で実施し、特に、不揮発性薄膜のエッチング時、工程温度は150℃から500℃、工程圧力は0.5mT〜30mTの範囲内で実施し、
前記誘導性アンテナに供給される工程周波数は1MHz〜500MHz範囲であり、陰極に供給される工程周波数は100KHz〜60MH範囲であり、誘導性アンテナに供給される工程周波数の電力は0W〜5000W範囲であり、陰極に供給される工程周波数の電力は0W〜500W範囲であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。 - 前記工程ガスは、通常半導体工程で使用するガスを使用し、この時に、各々使用されるガスの量は0sccm〜300sccmであることを特徴とする請求項1に記載のプラズマを利用した半導体製造装置。
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