JP2005128069A - 反射体及び液晶表示装置並びに反射体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 バックライト光の透過量を増加させるとともに、所定の反射特性を得ることができ、更に液晶表示装置に容易に組み込むことが可能な反射体を提供する。
【解決手段】 一面に複数の凹部が設けられた透明反射基材と、透明反射基材の一面側に成膜された反射膜３２とから構成され、凹部が、内面全面に反射膜３２が成膜された反射性凹部３１Ａ_１と、内面全面に反射膜３２が成膜されない透過性凹部３１Ａ_２とから構成され、透明性凹部３１Ａ_２が一面上に分散して配置されていることを特徴とする反射体を採用する。
【選択図】 図５

Description

本発明は、反射体及び液晶表示装置並びに反射体の製造方法に関するものである。

携帯電話や携帯用ゲーム機などの携帯電子機器には、そのバッテリ駆動時間が使い勝手に大きく影響するために、消費電力を抑えることができる反射型液晶表示装置が備えられている。反射型液晶表示装置には、例えば、その前面から入射する外光を全反射させる反射体や、その前面から入射する外光を反射するとともに後方からのバックライト光を透過させる反射体などが備えられており、これらの反射体を装着する形態としては、液晶パネルを構成する２枚の基板の間に反射体を内蔵させたものや、透過型の液晶パネルの背面側に反射体を配設させたものなどが知られている。
例えば、下記特許文献１に記載の反射型液晶表示装置では、液晶層を透過した光を反射させるための反射体として、表面に複数の凹部が設けられた反射体を用いている。

下記特許文献１に記載の反射体は、複数の凹部の全面に金属反射膜が形成されたものである。従ってこの反射体を半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、金属反射膜に開口部を設ける必要がある。図９及び図１０に開口部を設けた反射体の一例を示す。

図１０は、反射体を液晶表示装置の表示面側からみた平面模式図であって、反射体の一画素分の画素領域を示す拡大図であり、図１１は、図１０のＸ-Ｘ線に対応する断面模式図である。
図１０及び図１１に示すように、この従来の反射体は、複数の凹部１３１Ａが設けられた透明反射基材１３１に、金属からなる反射膜１３２が積層されて構成されている。反射膜１３２には略矩形の開口部１３２Ａが設けられ、この開口部１３２Ａから透明反射基材１３１が露出している。
また、図１０に示すように、通常の液晶表示装置においては、一つの画素領域１３０に対して開口部１３２Ａが一つ設けられる関係になっている。この画素領域１３０において、開口部１３２Ａが形成された領域はバックライト光が透過する透過領域となっており、それ以外の反射膜１３２が形成された領域は、外光が反射される反射領域になっている。
特開平１１−５２１１０号公報

しかしながら、従来の反射体において、透過領域（開口部１３２Ａ）の面積を広げてバックライト光の透過量を増大させるように設計した場合には、一画素領域１３０における反射領域の面積が相対的に狭くなり、反射領域における凹部１３１Ａの個数が減少することになる。
従来の反射体は、ある程度の数の凹部１３１Ａが纏まって存在することによってはじめて、所定の反射特性が得られるという特性があり、上記のように反射領域における凹部１３１Ａの個数が減少すると、反射モードにおいて所定の反射特性が得られないという問題があった。

また、反射体を液晶表示装置に組み込む際には、画素領域の位置と開口部の位置を精密に合わせながら組み込む必要があり、液晶表示装置の製造工程が煩雑になるという問題もあった。

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、バックライト光の透過量を増加させるとともに、所定の反射特性を得ることができ、更に液晶表示装置に容易に組み込むことが可能な反射体を提供することを目的とする。また、このような反射体の製造方法並びに反射体を備えた液晶表示装置を提供することを目的とする。

上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明の反射体は、一面に複数の凹部が設けられた透明反射基材と、該透明反射基材の一面側に成膜された反射膜とから構成され、前記凹部が、内面全面に前記反射膜が成膜された反射性凹部と、内面全面に反射膜が成膜されない透過性凹部とから構成され、前記透明性凹部が前記一面上に分散して配置されていることを特徴とする。

このような構成によって、反射性凹部は、外光を反射する反射領域となり、透過性凹部はバックライト光を透過する透過領域となる。従って上記の反射体によれば、透過領域である透過性凹部が分散して配置されているため、透過領域が細かく分割されて均等に配置されることになり、透過性凹部の数を増やしたとしても反射領域の特性が大きく劣化することがなく、バックライト光の透過量を増加させつつ、所定の反射特性を得ることができる。

また、本発明の反射体においては、一面上における透過性凹部の占める面積比が２５％以上８０％以下の範囲であることが好ましい。

次に本発明の液晶表示装置は、一対の基板と該一対の基板の間に配置された液晶層とが備えられてなる液晶表示パネルと、前記液晶表示パネルを照明するバックライトとから構成され、前記液晶表示パネルに、先のいずれかに記載の反射体が備えられていることを特徴とする。

かかる液晶表示装置によれば、反射体の透過領域である透過性凹部が分散して配置され、透過領域が細かく分割されて均等に配置されることになるので、従来のように画素領域の位置と反射体の開口部の位置を厳密に合わせる必要がなく、反射体の位置ズレによる透過特性または反射特性の劣化を防止することができる。
また、上記の反射体を備えているので、バックライト光の透過量を増加させつつ、所定の反射特性を得ることができ、明るい表示の液晶表示装置を構成することができる。

次に本発明の反射体の製造方法は、一面に複数の凹部が設けられた透明反射基材と、該透明反射基材の一面側に成膜された反射膜とから構成される反射体を製造するに際し、前記複数の凹部のうちの一部の凹部に蒸着防止オイルを塗布し、他の凹部に反射膜材料を減圧雰囲気下で蒸着することにより、内面全面に反射膜が成膜された反射性凹部と、内面全面に反射膜が成膜されない透過性凹部とを形成することを特徴とする。

かかる反射体の製造方法によれば、蒸着防止オイルを塗布しない他の凹部に反射膜材料を蒸着して反射膜を形成するので、蒸着防止オイルがマスク層として機能し、反射膜が成膜されない透過性凹部を容易に形成することができる。

また本発明の反射体の製造方法は、先に記載の反射体の製造方法であり、前記蒸着防止オイルを分散して塗布することを特徴とする。すなわち、蒸着防止オイルを塗布された凹部が、透明反射基材上に分散して配置されることが必要である。具体的には、蒸着防止オイルを、凹版印刷方法や、インクジェット法等により、分散して塗布することが好ましい。

かかる反射体の製造方法によれば、蒸着防止オイルの塗布位置を容易に設定でき、所定の位置に塗布することができる。また、蒸着防止オイルを塗布された凹部が、透明反射基材上に分散して配置されることにより、透明性凹部が分散して配置されることになる。これにより、透過領域が細かく分割されて均等に配置されることになるので、高い透過光量と所定の反射特性とを有する反射体を容易に製造することができる。

また本発明の反射体の製造方法は、先に記載の反射体の製造方法であり、前記蒸着防止オイルとして、下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で示される繰り返し単位を有するものの夫々単独、またはこれらの中の２種以上の混合物であるパーフロロアルキルポリエーテルを用いることを特徴とする。
式（Ｉ）：−（−Ｃ₃Ｆ₆Ｏ−）_n−
式（ＩＩ）：−（−Ｃ₃Ｆ₆Ｏ−）_n−（−ＣＦ₂Ｏ−）_m−
式（ＩＩＩ）：−（−Ｃ₂Ｆ₄Ｏ−）_n−（−ＣＦ₂Ｏ−）_m−
ただし、上記のｎ、ｍは、パーフロロアルキルポリエーテル全体として１０００〜１５０００の平均分子量を与える平均繰り返し単位数を示す。

かかる反射体の製造方法によれば、パーフロロアルキルポリエーテルをマスクとして用いることにより、反射膜材料の蒸着に際し、透過性凹部に対する反射膜の付着がなく、かつ反射性凹部の全面に反射膜を形成することができる。
すなわち、本発明で用いるパーフロロアルキルポリエーテルは、従来のマスキング油に比べてかなり高い平均分子量（１０００〜１５０００）を有し、また表面張力が約２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下という極めて小さな表面張力を有し、且つ離型性にも優れる。従って、パーフロロアルキルポリエーテルが減圧雰囲気下で蒸発するにせよ、また油膜として残留している状態においても、その大きな分子が、反射膜材料の付着に対するマスキング効果を発揮し、かつその高度な化学的不活性および優れた離型性が蒸着核の形成防止にも寄与する。また、表面張力が極めて小さいため、パーフロロアルキルポリエーテル自体の蒸発あるいは反射膜材料との衝突により、残油量が減少しても、凝集による塗布形状の縮小は防止される。このような要因により、パーフロロアルキルポリエーテルは優れた蒸着物付着防止効果ならびに縁部の鮮明な反射膜の形成効果を有するものとなる。

尚、蒸着防止オイルの塗布方法としては、凹版印刷法またはインクジェット法を用いればよい。

更に本発明の反射体の製造方法は、一面に複数の凹部が設けられた透明反射基材と、該透明反射基材の一面側に成膜された反射膜とから構成される反射体を製造するに際し、前記透明反射基材の全面に反射膜を成膜し、複数の凹部のうち一部の凹部上にレジストを形成し、レジストに覆われていない凹部上の反射膜をエッチングにより除去することにより、内面全面に反射膜が成膜された反射性凹部と、内面全面に反射膜が成膜されない透過性凹部とを形成することを特徴とする。

かかる反射体の製造方法によれば、レジストに覆われていない凹部上の反射膜をエッチングにより除去することにより、透過性凹部と反射性凹部を同時に形成するので、レジストがマスク層として機能し、反射膜が成膜されない透過性凹部を容易に形成することができる。

本発明の反射体においては、反射性凹部が外光を反射する反射領域となり、透過性凹部がバックライト光を透過する透過領域となる。従って上記の反射体によれば、透過領域である透過性凹部が分散して配置されているため、透過領域が細かく分割されて均等に配置されることになり、透過性凹部の数を増やしたとしても反射領域の特性が大きく劣化することがなく、バックライト光の透過量を増加させつつ、所定の反射特性を得ることができる。

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態のみに限定されるものではない。また、各図において各構成部材の縮尺は図示し易いように適宜変更して記載してある。

図１は、本実施形態の半透過型の液晶表示装置の断面構成図であり、図２は液晶表示装置の要部を示す拡大断面模式図である。尚、本実施形態の液晶表示装置は、いわゆるパッシブマトリックス型と呼ばれるものである。

図１に示すように、本実施形態の液晶表示装置Ａは、液晶表示パネル２０と、この液晶表示パネル２０の背面側に配置されて液晶表示パネル２０を裏面側から照明するためのバックライト１０とから概略構成されている。

液晶表示パネル２０は半透過型のものであり、液晶層２３を挟持して対向するガラスなどからなる透明の第１の基板２１と、透明の第２の基板２２をシール材２４で接合一体化して概略構成されている。第１の基板２１および第２の基板２２の液晶層２３側には、表示回路２６，２７がそれぞれ形成されている。

バックライト１０は透明な導光板１２と光源装置１３とから概略構成されている。バックライト１０において、光源装置（光源）１３は、導光板１２に光を導入する側の端面１２ａ側に配設されている。
導光板１２は、上記液晶表示パネル２０の背面側（基板２２の外側）に配置されて光源装置１３から入射された光を液晶表示パネル２０に照射するものであり、平板状の透明なアクリル樹脂板などから構成されている。図１に示すように導光板１２の一側の端面１２ａ（以下、入射面１２ａということもある）に光源装置１３が配設され、光源装置１３から出射される光が入射面１２ａを介して導光板１２の内部に導入されるようになっている。
導光板１２を構成する材料としてはアクリル系樹脂のほか、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ樹脂などの透明な樹脂材料や、ガラスなどを用いることができる。

また、図２に示すように、第２の基板２２の液晶層２３側に表示回路２７が形成されている。表示回路２７は、第２の基板２２に積層された反射体３０と、カラー表示を行うためのカラーフィルタ３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂと、反射体３０を被覆して保護するとともに透明有機膜３１やカラーフィルタ３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂによる凹凸を平坦化するためのオーバーコート膜３４と、液晶層２３を駆動するためのストライプ電極３５と、液晶層２３を構成する液晶分子の配向を制御するための配向膜３６とが順次積層されて形成されている。尚、反射体３０は、透明反射基材３１と、反射膜３２とが積層されて構成されている。

一方、第１の基板２１の液晶層２３側には、表示回路２６が形成されている。表示回路２６は、第１の基板２１側から順に、ストライプ電極３５、オーバーコート膜３４、配向膜３６が積層されて形成されている。

更に、第２の基板２２の液晶層２３側と反対側（第２の基板２２の外面側）には偏光板３８が設けられており、第１の基板２１の液晶層２３側と反対側（第１の基板２１の外面側）には位相差板４７と偏光板４８がこの順で積層されている。
そして、第２の基板２２の偏光板３８の外側に、半透過液晶表示装置Ａにおいて透過表示を行うための光源としての導光板１２が配設されている。

第１，第２の基板２１、２２に各々設けられたストライプ電極３５、３５は、ＩＴＯ（Indium tin oxide）などの透明導電膜からなる短冊状の平面形状のものを多数整列形成したもので、外部の駆動回路（図示せず）に個々に接続されて液晶層２３を構成する液晶分子を駆動するためのものである。各ストライプ電極３５，３５は互いに平面視直角に向くように配置されて上記の液晶表示装置Ａがパッシブマトリクス型とされている。各ストライプ電極３５，３５が交差する部分が画素領域とされている。

次に、本実施形態の反射体３０について詳細に説明する。
図３には、反射体３０と、ストライプ電極３５，３５の交差部分からなる画素領域３３との位置関係を示している。図３に示すように、反射体３０に対して、画素領域３３がマトリックス状に配置されている。

次に、図４に反射体の要部の斜視図を示し、図５には一つの画素領域３３に対応する反射体の拡大平面図を示し、図６には図５のＹ-Ｙ線に対応する断面図を示す。
図４に示すように、本実施形態の反射体３０は、一面３１Ｂに複数の凹部３１Ａが形成された透明反射基材３１と、透明反射基材３１の一面側に成膜された反射膜３２とから構成されている。
透明反射基材３１はその上に形成される反射膜３２に凹凸形状を与えて反射光を効率よく散乱させるために設けられているものである。反射膜３２に凹凸形状を与えることにより、液晶表示装置Ａに入射する光を効率よく反射することができるため、反射モードにおける明るい表示を実現することができる。
すなわち図４に示すように、透明反射基材３１の表面には、その内面が球面の一部をなす多数の凹部３１Ａが左右上下に重なり合うようにして連続して形成されており、各凹部３１Ａに反射膜３２が成膜されている。透明反射基材３１は、例えば、アクリル樹脂等から構成されている。

反射膜３２は、Ａｌ、Ａｇ等の金属光沢を有する金属薄膜からなるものであり、厚みが０．０８〜０．４μｍの範囲とされている。反射膜３２には、所々に開口部３２Ａが設けられている。この開口部３２Ａが設けられた部分からは、下地である透明反射基材３１が露出するようになっている。

また、図４、図５及び図６に示すように、凹部３１Ａは、その内面全面に反射膜３２Ａが成膜されている反射性凹部３１Ａ_１と、内面全面に反射膜３２Ａが成膜されていない透過性凹部３１Ａ_２とから構成されている。反射膜３２には開口部３２Ａが設けられており、この開口部３２Ａが一の凹部３１Ａと重なることで、反射膜３２が成膜されない透明性凹部３１Ａ_２が構成され、それ以外の凹部３１Ａが反射性凹部３１Ａ_１となる。
また、透明性凹部３１Ａ_２は、透明反射基材３１の一面３１Ｂ上に規則的あるいは不規則的に分散して配置されている。

反射性凹部３１Ａ_１は、その内面の全面に反射膜３２が成膜されているため、第１の基板２１側から入射した外光を反射する反射領域となる。一方、透過性凹部３１Ａ_２は、その内面に反射膜３２が成膜されていないため、透明反射基材３１を透過してきたバックライト光を透過させる透過領域となる。
本実施形態の反射体３０においては、透過領域である透過性凹部３１Ａ_２が分散して配置されているため、一つの画素領域Ｚに対して透過領域が細かく分割されて均等に配置されることになる。

こうすることで、一つの画素領域３３あたりの透過性凹部３１Ａ_２の数を増やしたとしても、反射領域の特性が大きく劣化することがなく、バックライト光の透過量を増加させつつ、所定の反射特性を得ることができる。

また、一面３１Ｂにおける透過性凹部３１Ａ_２の占める面積比は、２５％以上８０％以下の範囲であることが好ましい。面積比が小さいほど透過領域の面積が小さくなることを意味するが、面積比が２５％未満だと、バックライト光の透過量が減少し、バックライト点灯時における液晶表示装置Ａの表示が暗くなってしまうので好ましくない。また、面積比が８０％を越えると、透過領域の面積が増える分、反射領域の面積が減少し、これにより反射性凹部３１Ａ_１の数が減少し、所定の反射特性が得られなくなるので好ましくない。

尚、本実施形態においては、内面の一部に反射膜が成膜された凹部は、反射性凹部３１Ａ_１、透過性凹部３１Ａ_２のいずれにも該当しない。また、図４に示すように、反射体３０の各凹部３１Ａの間には、平坦部３１Ｃが存在するが、この平坦部には反射膜３２が成膜されていてもよく、成膜されていなくても良い。

更に、凹部３１Ａの形状について説明すると、上記凹部３１Ａの深さを０．１μｍ〜３μｍの範囲でランダムに形成し、隣接する凹部３１Ａのピッチを５μｍ〜５０μｍの範囲でランダムに配置し、上記凹部３１Ａ内面の傾斜角を−３０度〜＋３０度の範囲に設定することが望ましい。
特に、凹部３１Ａ内面の傾斜角分布を−３０度〜＋３０度の範囲に設定する点、隣接する凹部３１Ａのピッチを平面全方向に対してランダムに配置する点が重要である。なぜならば、仮に隣接する凹部３１Ａのピッチに規則性があると、光の干渉色が出て反射光が色付いてしまうという不具合があるからである。また、凹部３１Ａ内面の傾斜角分布が−３０度〜３０度の範囲を超えると、反射光の拡散角が広がりすぎて反射強度が低下し、明るい表示が得られない（反射光の拡散角が空気中で３６度以上になり、液晶表示装置内部の反射強度ピークが低下し、全反射ロスが大きくなる）からである。
また、凹部３１Ａの深さが３μｍを超えると、後工程で凹部３１Ａを平坦化する場合に凸部の頂上が平坦化膜（オーバーコート膜３４）で埋めきれず、所望の平坦性が得られなくなり、表示むらの原因となる。

隣接する凹部３１Ａのピッチが５μｍ未満の場合、透明反射基材３１を形成するために用いる転写型の製作上の制約があり、加工時間が極めて長くなる、所望の反射特性が得られるだけの形状が形成できない、干渉光が発生する等の問題が生じる。また、実用上、前記転写型の製作に使用しうる３０μｍ〜１００μｍ径のダイヤモンド圧子を用いる場合、隣接する凹部３１Ａのピッチを５μｍ〜５０μｍとすることが望ましい。

次に、本実施形態の反射体の製造方法の一例について説明する。図７には、本実施形態の反射体の製造方法の工程図を示す。
まず、図７Ａに示すように、透明反射基材３１を用意する。この透明反射基材３１の一面３１Ｂには、複数の凹部３１Ａが相互に接するように形成されている。

次に、図７Ｂに示すように、透明反射基材３１に形成された複数の凹部３１Ａ…のうち、一部の凹部３１Ａ…に蒸着防止オイル７０を塗布する。蒸着防止オイル７０は、凹部３１Ａ毎に分散して規則的若しくは不規則的に塗布することが好ましい。また、蒸着防止オイル７０は、一つの凹部３１Ａの領域にのみ塗布し、隣接する他の凹部３１Ａには塗布されないようにすることが望ましい。本実施形態において蒸着防止オイル７０を塗布する手段としては、凹版印刷法や、いわゆるインクジェット法などを利用することができる。
こうすることで、透明反射基材３１には、蒸着防止オイルの塗布部分７０ａと、未塗布部分７０ｂが所定の位置にそれぞれ形成される。

次に、図７Ｃに示すように、蒸着防止オイルの未塗布部分７０ｂに対して反射膜材料を減圧雰囲気下で蒸着することにより、反射膜３２を成膜する。反射膜材料としては、Ａｌの他にＡｇ等の金属が好ましく用いられる。
蒸着が行われる間、蒸着防止オイル７０は減圧雰囲気に曝されるために、その一部または全部が徐々にゆっくりと揮発する。このとき発生する蒸気が反射膜材料の蒸着粒子と衝突するため、蒸着防止オイルの塗布部分７０ａに対する反射膜材料の蒸着は行われない。このようにして、蒸着防止オイルの非塗布部分７０ｂにのみ反射膜３２が形成され、塗布部分７０ａには反射膜３２が形成されず開口部３２Ａが設けられる。
最後に図７Ｄに示すように、残存する蒸着防止オイル７０を洗浄除去することにより、本実施形態の反射体３０が得られる。

上記の製造方法によれば、図７Ｂに示したように、蒸着防止オイルの塗布部分７０ａが一の凹部３１Ａのみに限られ、隣接する他の凹部３１Ａは未塗布部分７０ｂとなる。このため、反射膜３２の成膜に伴って形成される開口部３２Ａは、塗布部分７０ａである一の凹部３１Ａに形成されることになる。これにより、開口部３２Ａと重なる透明性凹部３１Ａ_２と、反射膜３２が成膜された反射性凹部３１Ａ_１とが同時に形成される。

従って上記の反射体の製造方法によれば、蒸着防止オイルの未塗布部分７０ｂに反射膜材料を蒸着して反射膜３２Ａを形成するので、蒸着防止オイルがマスク層として機能し、反射膜３２Ａが成膜されない透過性凹部３１Ａ_２を容易に形成することができる。

尚、上記の製造方法で用いられる蒸着防止オイルとしては、両端がＦ基、ＣＦ₃ 基、ＣＦ₃ Ｏ基またはＣ₂ Ｆ₅ 基で安定化され、繰返し単位が下式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）示される構造を有するパーフロロアルキルポリエーテルの夫々単独またはそれらの中の２種以上の混合物が例示される。

式（Ｉ）：−（−Ｃ₃Ｆ₆Ｏ−）_n−
式（ＩＩ）：−（−Ｃ₃Ｆ₆Ｏ−）_n−（−ＣＦ₂Ｏ−）_m−
式（ＩＩＩ）：−（−Ｃ₂Ｆ₄Ｏ−）_n−（−ＣＦ₂Ｏ−）_m−
ただし、ｎ、ｍは、パーフロロアルキルポリエーテル全体として１０００〜１５０００の平均分子量を与える平均繰り返し単位数を示す。

尚、式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中のｎ：ｍは、例えば約３０〜４０：１というように、前者がかなり大であるのが通常である。繰返し単位−（−Ｃ₃ Ｆ₆ Ｏ −）_n −は、直鎖構造または分岐構造のいずれであってもよい。
上記のパーフロロアルキルポリエーテルには平均分子量が１０００〜１５０００のものが用いられるが、特に１５００〜１００００の範囲のものが好ましく用いられる。分子量が１０００未満のものは、蒸気圧が高く真空蒸着中の蒸発損失が大きい。また、パーフロロアルキルポリエーテルは透明反射基材３１に対するパターン塗布に適した粘度を有する必要があり、１５０００を超えるものは、塗布のために高温への加熱が必要となり、透明反射基材３１ヘの塗布時に透明反射基材３１の変形を招くため好ましくない。

次に、本実施形態の反射体の製造方法の別の例について説明する。図８には、この別の例の製造方法の工程図を示す。

まず、図８Ａに示すように、透明反射基材３１を用意する。この透明反射基材３１の一面３１Ｂには、複数の凹部３１Ａが相互に接するように形成されている。そして、一面３１Ｂの全面に反射膜３２を成膜する。

次に、図８Ｂに示すように、複数の凹部３１Ａのうち、一部の凹部３１Ａ上にレジスト８０を形成する。レジスト８０は、一つの凹部３１Ａの領域にのみ形成しても良く、複数の凹部３１Ａに渡って形成しても良い。レジスト８０の形成は、いわゆるフォトリソグラフィ技術を利用することができる。
こうすることで、透明反射基材３１には、レジストの形成部分８０ａと、未形成部分８０ｂがそれぞれ所定の位置に形成される。

次に、図８Ｃに示すように、レジストの未形成部分８０ｂに対してエッチングを行い、未形成部分８０ｂにおいて露出している反射膜３２を除去する。このようにして、レジストの未形成部分７０ｂに開口部３２Ａが設けられる。
最後に図８Ｄに示すように、残存するレジスト８０を除去することにより、本実施形態の反射体３０が得られる。

上記の製造方法によれば、図８Ｃに示したように、レジストの未形成部分８０ｂが一の凹部３１Ａのみに限られ、隣接する他の凹部３１Ａは形成部分８０ａとなる。このため、エッチングによって形成される開口部３２Ａは、未形成部分８０ｂである一の凹部３１Ａに設けられることになる。これにより、開口部３２Ａと重なる透明性凹部３１Ａ_２と、反射膜３２が成膜された反射性凹部３１Ａ_１とが同時に形成される。

上記の反射体の製造方法によれば、レジスト８０に覆われていない凹部３１Ａ上の反射膜３２をエッチングにより除去することにより、透過性凹部３１Ａ_２と反射性凹部３１Ａ_１を同時に形成するので、レジスト８０がマスク層として機能し、反射膜３２が成膜されない透過性凹部３１Ａ_２を容易に形成することができる。

（実施例１）
透明のアクリル基板上に複数の凹部が形成されてなる透明反射基材を用意した。次に、インクジェット法により、透明反射基材上に蒸着防止オイルをランダムに塗布した。そして、透明反射基材を真空雰囲気中に設置した上で、アルミニウムからなる反射膜を厚さ０．２５μｍとなるように蒸着した。このとき、真空防止オイルが蒸発したため、真空蒸着オイルの塗布部分には反射膜が形成されなかった。このようにして、図４〜図６に示すような反射体を形成した。

尚、反射体に設けられた凹部は４種類の形状のものをランダムに配置させた。４種類の凹部の形状について説明すると、各凹部はすべて曲率半径が３０μｍであり、その他の寸法については、深さ１.４７μｍで平面視半径が９．３μｍで最大傾斜角が１８°のもの、深さ１.３５μｍで平面視半径が８．９μｍで最大傾斜角が１７．３°のもの、深さ１.２μｍで平面視半径が８．４μｍで最大傾斜角が１６．２°のもの、深さ１.１μｍで平面視半径が８．０μｍで最大傾斜角が１５．６°のもの、の４種類であった。

また、反射膜が設けられていない透過性凹部の面積比は、一画素の面積当たり３５％であった。

（比較例１）
実施例１と同じ透明反射基材を用い、この透明反射基材の全面にアルミニウムからなる反射膜を形成し、更にフォトリソグラフィ技術によって反射膜に一部を除去することにより、反射膜に略矩形状の開口部を形成した。このようにして比較例１の反射体を製造した。尚、開口部の面積比は、一画素の面積当たり３５％であった。

実施例１及び比較例１の反射体について、透明反射基材の法線に対して入射角３０°で外光を照射たときの反射光の強度を測定した。図９には、実施例１及び比較例１について、表示面（基材表面）に対する正反射の方向である３０゜を中心として、受光角を−１０°から７０°まで振ったときの受光角（θ°）と反射光の明るさ（反射強度）との関係を示している。

図９に示すように、実施例１の反射体の反射光は、比較例１の反射体に比べて、透過部分の面積比が同じであるにもかかわらず、受光角１０°〜５０°の範囲で反射強度が１０％向上していることがわかる。これは、実施例１の反射体は、透過領域である透過性凹部が分散して配置されているため、透過領域が細かく分割されて均等に配置されることになり、反射光のロスが少なくなったためである。

本発明の実施形態である半透過型の液晶表示装置を示す断面構成図。 図１の液晶表示装置の要部を示す拡大断面模式図。 反射体と画素領域との位置関係を示す平面模式図。 本発明の実施形態である反射体の要部を示す斜視図。 本発明の実施形態である反射体の要部を示す図であって、一つの画素領域に対応する部分の拡大平面図。 図５のＹ-Ｙ線に対応する断面図。 本発明の実施形態である反射体の製造方法の一例を説明するための工程図。 本発明の実施形態である反射体の製造方法の別の例を説明するための工程図。 実施例１及び比較例１について、表示面（基材表面）に対する正反射の方向である３０゜を中心として、受光角を−１０°から７０°まで振ったときの受光角（θ°）と反射光の明るさ（反射強度）との関係を示すグラフ。 従来の反射体の要部を示す図であって、一つの画素領域に対応する部分の拡大平面図。 図１０のＸ-Ｘ線に対応する断面図。

符号の説明

１０…バックライト、２０…液晶表示パネル、２１…第１の基板（基板）、２２…第２の基板（基板）、２３…液晶層、３０…反射体、３１…透明反射基材、３１Ａ…凹部、３１Ａ_１…反射性凹部、３１Ａ_２…透過性凹部、３１Ｂ…一面、３２…反射膜、７０…蒸着防止オイル、８０…レジスト、Ａ…液晶表示装置

Claims (8)

1. 一面に複数の凹部が設けられた透明反射基材と、該透明反射基材の一面側に成膜された反射膜とから構成される反射体であり、
   前記凹部が、内面全面に前記反射膜が成膜された反射性凹部と、内面全面に反射膜が成膜されない透過性凹部とから構成され、前記透明性凹部が前記一面上に分散して配置されていることを特徴とする反射体。
2. 一面上における透過性凹部の占める面積比が２５％以上８０％以下の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の反射体。
3. 一対の基板と該一対の基板の間に配置された液晶層とが備えられてなる液晶表示パネルと、前記液晶表示パネルを照明するバックライトとから構成され、
   前記液晶表示パネルに、請求項１または請求項２に記載の反射体が備えられていることを特徴とする液晶表示装置。
4. 一面に複数の凹部が設けられた透明反射基材と、該透明反射基材の一面側に成膜された反射膜とから構成される反射体を製造するに際し、
   前記複数の凹部のうちの一部の凹部に蒸着防止オイルを塗布し、他の凹部に反射膜材料を減圧雰囲気下で蒸着することにより、内面全面に反射膜が成膜された反射性凹部と、内面全面に反射膜が成膜されない透過性凹部とを形成することを特徴とする反射体の製造方法。
5. 前記蒸着防止オイルを分散して塗布することを特徴とする請求項４に記載の反射体の製造方法。
6. 前記蒸着防止オイルとして、下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で示される繰り返し単位を有するものの夫々単独、またはこれらの中の２種以上の混合物であるパーフロロアルキルポリエーテルを用いることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の反射体の製造方法。
   式（Ｉ）：−（−Ｃ₃Ｆ₆Ｏ−）_n−
   式（ＩＩ）：−（−Ｃ₃Ｆ₆Ｏ−）_n−（−ＣＦ₂Ｏ−）_m−
   式（ＩＩＩ）：−（−Ｃ₂Ｆ₄Ｏ−）_n−（−ＣＦ₂Ｏ−）_m−
   ただし、上記のｎ、ｍは、パーフロロアルキルポリエーテル全体として１０００〜１５０００の平均分子量を与える平均繰り返し単位数を示す。
7. 蒸着防止オイルが凹版印刷法またはインクジェット法により塗布されることを特徴とする請求項４ないし請求項６のいずれかに記載の反射体の製造方法。
8. 一面に複数の凹部が設けられた透明反射基材と、該透明反射基材の一面側に成膜された反射膜とから構成される反射体を製造するに際し、
   前記透明反射基材の全面に反射膜を成膜し、複数の凹部のうち一部の凹部上にレジストを形成し、レジストに覆われていない凹部上の反射膜をエッチングにより除去することにより、内面全面に反射膜が成膜された反射性凹部と、内面全面に反射膜が成膜されない透過性凹部とを形成することを特徴とする反射体の製造方法。
   
   

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