JP2005126434A - ベンジルイミダゾール誘導体の製造方法 - Google Patents

ベンジルイミダゾール誘導体の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 ロサルタンの製造には、原料の互変異性体の存在のため除去が容易でない不純物の生成があった。
【解決手段】 本発明は、ロサルタンの製造のための中間体として有用なベンジルイミダゾール誘導体を用いた製造方法であり、その製造のための新規な中間体およびロサルタンの製造方法を提供する。
【選択図】なし

Description

本発明は、ロサルタンの製造に有用なベンジルイミダゾール誘導体の新規な製造方法、その製造用の新規な中間体および該誘導体を用いるロサルタンの製造方法に関する。
ロサルタンカリウム、すなわち、2−n−ブチル−4−クロロ−1−[(2’−(テトラゾール−5−イル)−1,1’−ビフェニル−4−イル)メチル]−1H−イミダゾール−5−メタノールカリウム塩は、治療、例えば、高血圧症の治療に広く用いられる、下式(I):
Figure 2005126434
を有する公知のアンジオテンシンIIアンタゴニストである。
ロサルタンの製造のための様々な公知の合成ルートの1つによれば、鍵中間体の1つは、以下に報告される式c)を有する1−ブロモ−4−(2’−ブチル−4’−クロロ−5−ヒドロキシメチルイミダゾール−1’H−1’−イル)メチルベンゼンである。特許文献1に記載のこの中間体の製造は、式a)の2−n−ブチル−4−クロロ−1−H−インダゾール−5−カルボキサルデヒドと式b)のp−ブロモ−ベンジルブロミドとの反応で、式c)の化合物を得ることからなる。
Figure 2005126434
式a)のイミダゾール化合物には2つの互変異性体が存在し、両方ともが式b)の化合物と反応し、式c)の目的化合物および式d)の位置異性体が形成されるという事実から、この方法は選択的ではない。ロサルタンカリウムを形成させるクロスカップリング反応において、式d)の化合物は式c)の化合物と同様の化学的挙動を有するので、繰り返しの困難な結晶化でしか除去できない不純物を生じ、これにより大きく収率を減少させ、生産コストを増加させる。
国際公開WO 93/10106
従って、上記の欠点を克服する該ベンジルイミダゾール中間体の新規な製造方法が要求されている。本発明は該中間体の新規な製造方法を提供する。
第一の態様において、本発明は下式(II):
Figure 2005126434
[式中、Yは脱離基である]
を有する化合物の新規な製造方法であって、式(III):
Figure 2005126434
[式中、Yは上記と同義である]
の化合物をクロロホルミル化して、式(IV):
Figure 2005126434
[式中、Yは上記と同義である]
の化合物を得て、さらに該アルデヒド基をアルコールに還元することからなる製造方法に関する。
脱離基Yは、例えばハロゲン原子、好ましくは塩素または臭素、特に臭素であるか、または活性エステル化した水酸基であり、そのエステル化は例えば、アルキルスルホニル基、典型的にはメシレート、またはアリールスルホニル基、典型的にはトシレート、またはペルフルオロアルキルスルホニル基、例えばトリフルオロメタンスルホニルおよびノナフルオロブタンスルホニルによるエステル化である。
クロロホルミル化反応は、例えば式(III)の化合物を最初オキシ塩化リンで、次いでジメチルホルムアミド(DMF)で処理して行い得る。クロル化段階は、式(III)の化合物に対して2から4のモル比、好ましくは3のモル比でオキシ塩化リンを用いて処理して行い、付加反応は−10℃から10℃の範囲の温度、好ましくは約5℃で、続いて30分から2時間の範囲の時間約90℃に加熱して行う。続く工程で、DMFは2から4、好ましくは3当量の化学量論比で、約90℃にて加えられ、反応液を3〜5時間還流する。溶媒は典型的には不活性な有機溶媒であり、例えばトルエンまたはキシレン、好ましくはトルエンである。
別法として、該反応は式(III)の化合物を、適当なN,N−ジメチルホルムアミドジアルキルアセタールで、例えばN,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジイソプロピルアセタールまたはN,N−ジメチルホルムアミドジイソブチルアセタール、好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールで処理し、続いてオキシ塩化リンで処理して実施され得る。該反応は典型的には不活性な有機溶媒で行われ、例えばトルエンまたはキシレン、好ましくはトルエンで行われる。ホルミル化反応は−50℃から100℃の温度範囲で行われ、クロル化反応は50℃から150℃の温度範囲で行われる。
アルデヒド基をアルコールに還元して、式(IV)の化合物を得る反応は、公知の方法、例えば水素化ホウ素アルカリ金属、好ましくは水素化ホウ素ナトリウムもしくは水素化ホウ素カリウムで、または水素化ホウ素テトラメチルアンモニウムで、約0.25から2、好ましくは1のモル比で処理して行われ得る。該反応は−30℃から50℃、好ましくは0℃から5℃の温度範囲で行われる。適当な溶媒は、例えばアルコール類で、好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノールおよびブタノールであるか;または芳香族炭化水素(例えばトルエン)、ハロゲン化炭化水素(例えば塩化メチレン);またはエステル類で、好ましくは酢酸エチル、酢酸イソプロピルまたは酢酸ブチルであるか;またはエーテル類で、好ましくはテトラヒドロフランまたはジオキサンで、水との混合液であり、適宜相間移動触媒、例えばテトラアルキルアンモニウムハライドまたはヒドロスルフェートが存在する。
式(III)の化合物は新規であり、本発明の付加的な目的である。
式(III)の化合物は、式(V):
Figure 2005126434
[式中、Yは上記と同義である]
の化合物を、オルト吉草酸トリアルキル、例えばオルト吉草酸トリ−(C〜C)アルキル、好ましくは吉草酸トリメチルと反応させて得ることができる。
式(V)の化合物の、オルト吉草酸トリアルキル、典型的にはオルト吉草酸トリメチルとの反応は、式(V)の化合物とオルト吉草酸トリアルキルとの化学量論比が1/1から1/1.5、好ましくは1/1.2で実施される。該反応は1から10%モル、好ましくは約5%モルの範囲の触媒量の酸の存在下行われる。上記の酸は、鉱酸(例えば硫酸)、または有機酸(例えば、ギ酸、酢酸、メタンスルホン酸、カンファースルホン酸であり、好ましくは酢酸)であり得る。反応温度は、形成するメタノールを除去するために、約65℃から120℃、好ましくは80℃から110℃の範囲である。該反応は溶媒なしで、または有機溶媒中、例えば炭化水素、好ましくはトルエン、または高沸点の塩化物、好ましくはジクロロエタン中行われ得る。生じた式(III)の化合物は、好ましくは該反応混合物から回収されることなく、クロロホルミル化を受ける。
式(V)の化合物(Yは塩素)は、例えば文献[J. Am. Chem. Soc., (1956), 78, 6189-92]から公知である。式(V)の化合物(Yは塩素以外で上記と同義)は新規であり、本発明の付加的な目的である。式(V)の化合物は公知の方法により得られ、例えば以下の反応式に示されるように還元的アミノ化で得られる。
Figure 2005126434
本発明はまた、上記の式(II)の化合物を、式(VI):
Figure 2005126434
[式中、Qはテトラゾール保護基であり;および
Zは−B(R)基であり、ここでRおよびRの各々は同一または異なって、ハロゲン、ヒドロキシまたはC〜Cアルコキシであり;またはZはリチウムもしくは銅原子、またはハロゲン化金属である]
のシントンと反応させ;
保護基Qを除去し;および所望により
ロサルタンをその医薬的に許容される塩に変換することからなる、ロサルタンまたはその医薬的に許容される塩、特にカリウム塩の新規な製造方法であって、式(II)の化合物が上述の方法に従って得られることを特徴とする方法に関する。
保護基Qは、例えばトリフェニルメチル、tert−ブチル、C〜Cアルコキシメチル、メチルチオメチル、フェニル−(C〜C)アルコキシメチル、p−メトキシベンジル、2,4,6−トリメチルベンジル、1−メチル−1−フェニルエチル、2−(トリメチルシリル)エチル、テトラヒドロピラニル、ピペロニルまたはベンゼンスルホニル基である。
Zで表されるハロゲン化金属の例には、−ZnCl、−MgCl、−NiCl、−CuCl、−BCl、−ZnBr、−MgBr、−CuBr、および−BBrが含まれる。式(VI)のシントンは、市販品として入手可能か、または公知の方法に従って得ることができる。いずれの場合においても、式(VI)の化合物の製造は、式(II)の化合物および式(VI)の化合物との反応と同様に、公知の方法に従い、例えばEP 579766、EP 539086、EP 760815、WO 93/10106またはEP 782996に記載のように実施し得る。同様に、保護基Qの除去およびロサルタンの医薬的に許容される塩への適宜の変換は公知の方法に従って実施し得る。
以下の実施例は本発明を例証する。
1−(4−ブロモ−ベンジル)−2−ブチル−1,5−ジヒドロイミダゾール−4−オン(III)の製造
丸底フラスコに、1−(4−ブロモ−ベンジル)アミノアセトアミド(V)(7.5)、オルト吉草酸トリメチル(6.5 mL)および氷酢酸(0.1 mL)を加える。得られる二相の混合物を120℃の油浴に入れる。温度を105℃まで昇温し、その後該混合物を1.5時間攪拌しながら放置し、次いで冷却し、高真空下蒸発させ、すべての揮発性基質を除去する。化合物(III)を油状物として得て、次反応にそれ自身を用いる。
3−(4−ブロモベンジル)−2−ブチル−5−クロロ−3H−イミダゾール−4−カルボキサルデヒド(IV)の製造
1−(4−ブロモ−ベンジル)−2−ブチル−1,5−ジヒドロイミダゾール−4−オン(1.61 g)およびトルエン(10 mL)を、丸底フラスコに加える。該混合物を0〜5℃に冷却し、次いでオキシ塩化リン(1.4 mL)を滴下して加える。温度をゆっくりと90℃になるようにし、ジメチルホルムアミド(1.2 mL)を滴下して加える。該混合物を2時間115℃に加熱し、次いで室温に冷却し、トルエン(50 mL)、粉砕氷(100 g)およびセライト(登録商標)(10 g)を加える。攪拌を30分間続けて、次いで30%NaOH水でpHを8に調整し、ブフナーロートを用いて沈殿を濾去する。有機相を減圧濃縮し、ヘキサン−ジエチルエーテル(容積比1:1)で溶離してクロマトグラフィ精製する。無色の油状物として生成物(IV)を得る(380 mg)。
3−(4−ブロモベンジル−2−ブチル−5−クロロ−3H−イミダゾール−4−イル)−メタノール(II)の製造
丸底フラスコに、3−(4−ブロモベンジル)−2−ブチル−5−クロロ−3H−イミダゾール−4−カルボキサルデヒド(0.6 g)およびメタノール(5 mL)を加える。該混合物を0〜5℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム(78 mg)を加える。攪拌を30分間続け、次いで飽和塩化アンモニウム溶液(5 mL)を加える。溶媒を蒸発させ、残渣を酢酸エチル(10 mL)に取る。水(5 mL)で2回洗浄した後、有機相を蒸発させ、粗残渣を得て(480 mg)、エタノール−水から結晶化する。無色の結晶として3−(4−ブロモベンジル−2−ブチル−5−クロロ−3H−イミダゾール−4−イル)−メタノールを得る(320 mg)。
3−(4−ブロモベンジル)−2−ブチル−5−クロロ−3H−イミダゾール−4−カルボキサルデヒド(IV)の製造
丸底フラスコに、1−(4−ブロモ−ベンジル)−2−ブチル−1,5−ジヒドロイミダゾール−4−オン(1.61 g)、N,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(1.80 g)およびメタノール(10 mL)を加える。該混合物を室温で3時間攪拌しながら置き、次いで水(10 mL)で洗浄し、溶媒を蒸発させ、水を除去する。該混合物をトルエン(10 mL)に取り、0〜5℃でオキシ塩化リン(1.4 mL)を滴下して加え、次いで徐々に100℃に加熱する。反応を2時間続け、その後、該混合物を室温に冷却し、トルエン(50 mL)、粉砕氷(100 g)およびセライト(登録商標)(10 g)を加える。攪拌を30分間続け、次いで30%NaOH水でpHを8に調整し、ブフナーロートを用いて沈殿を濾去する。有機相を減圧濃縮し、ヘキサン−ジエチルエーテル(容積比1:1)で溶離してクロマトグラフィ精製する。無色の油状物として生成物を得る(360 mg)。

Claims (11)

  1. 式(II):
    Figure 2005126434
    [式中、Yは脱離基である]
    で示される化合物の製造方法であって、式(III):
    Figure 2005126434
    [式中、Yは上記と同義である]
    で示される化合物をクロロホルミル化して、式(IV):
    Figure 2005126434
    [式中、Yは上記と同義である]
    の化合物を得て、さらに該アルデヒド基をアルコールに還元することからなる製造方法。
  2. 該脱離基がハロゲン原子または活性エステル化した水酸基である、請求項1の方法。
  3. 該クロロホルミル化反応をオキシ塩化リンおよびジメチルホルムアミドを用いるか、またはN,N−ジメチルホルムアミドジアルキルアセタールおよびオキシ塩化リンを用いて処理して行う、請求項1の方法。
  4. 該反応を不活性な有機溶媒中で行い、該ホルミル化段階を−50℃から100℃の温度範囲で、また該クロル化段階を50℃から150℃の温度範囲で行う、請求項3の方法。
  5. 該アルデヒド基の還元を水素化ホウ素アルカリ金属との処理によって行う、請求項1の方法。
  6. 式(III)の化合物が式(V):
    Figure 2005126434
    [式中、Yは請求項1と同義である]
    の化合物とオルト吉草酸トリアルキルとの反応で得られる、請求項1の方法。
  7. 式(V)の化合物とオルト吉草酸トリアルキルとの化学量論比が1/1から1/1.2の範囲であり、該反応が触媒量の酸の存在下行われる、請求項6の方法。
  8. 式(III)の化合物が単離されない、請求項6の方法。
  9. 式(III):
    Figure 2005126434
    [式中、Yは脱離基である]
    の化合物。
  10. 式(V):
    Figure 2005126434
    [式中、Yは塩素以外の脱離基である]
    の化合物。
  11. 請求項1に記載の式(II)の化合物を、式(VI):
    Figure 2005126434
    [式中、Qはテトラゾール保護基であり;および
    Zは−B(R)基であり、ここでRおよびRの各々は同一または異なって、ハロゲン、ヒドロキシまたはC〜Cアルコキシであり;またはZはリチウムもしくは銅原子、またはハロゲン化金属である]
    のシントンと反応させ;
    保護基Qを除去し;および所望により
    ロサルタンをその医薬的に許容される塩に変換することからなる、ロサルタンまたはその医薬的に許容される塩の製造方法であって、
    式(II)の化合物が請求項1の方法に従って得られることを特徴とする方法。

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