JP2005123439A - 発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光を透過可能な基板1と、基板1に積層されたn層3と、n層3に積層されたn側電極7および発光層4と、発光層4に積層されたp層5と、p層5に積層されたp側電極6とを有する発光素子において、p側電極6は、p層に積層されPt層61と、Pt層61に積層されたAg層62とを含み、Pt層61の平均膜厚を3nm以下としたことを特徴としたものであり、Pt層61に入射してきた光をPt層61自体で吸収されるのを抑えることができ、しかもAg層62で十分に反射させることができるので、電極構造の改良のみで輝度を向上させることができる。
【選択図】図1
Description
本発明の実施の形態1に係る発光素子を図1に基づいて説明する。
とすることを特徴とする。すなわち、Ag層62の平均膜厚が5nmより薄いと十分な反射特性を得ることはできず、逆に2000nmより厚いと、反射特性に変化は無く、膜の形成に必要となる蒸発原料が多く必要となり、又この工程にかかる時間が長くなる為、製造コストが高くなってしまう。
本発明の実施の形態2に係る発光素子を図2に基づいて説明する。
本発明の実施例として、図3に示す窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の作製方法を記す。以下の実施例においては、窒化ガリウム系化合物半導体の成長方法として有機金属気相成長法を用いたものを示すが、成長方法はこれに限定されるものではなく、分子線エピタキシー法や有機金属分子線エピタキシー法等を用いることも可能である。
実施例2においては、上記実施例1と同様の手順で、Pt層61を平均膜厚0.0μmから10.0μmとした発光素子を作製した。この発光素子を20mAの順方向電流で駆動したところ、ピーク発光波長470nmの青色で発光し、基板1の積層構造を形成した側の反対側の面から均一な面発光が得られた。そして、輝度および駆動電圧を測定し、表1および表2に示されるような結果が得られた。
次に、図6に示す窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の作製方法を記す。本実施例においても、窒化ガリウム系化合物半導体の成長方法として有機金属気相成長法を用いたものを示すが、成長方法はこれに限定されるものではなく、分子線エピタキシー法や有機金属分子線エピタキシー法等を用いることも可能である。
実施例4においては、上記実施例3と同様の手順で、Pt層91を平均膜厚0.0μmから10.0μmとした発光素子を作製した。この発光素子を20mAの順方向電流で駆動したところ、ピーク発光波長470nmの青色で発光し、基板1の積層構造を形成した側の反対側の面から均一な面発光が得られた。そして、輝度および駆動電圧を測定し、表3および表4に示されるような結果が得られた。
2 バッファ層
3 n層
4 発光層
5 p層
6 p側電極
7 n側電極
8 実装部材
9 p側電極
10,11 電極パターン
51 p型クラッド層
52 p型コンタクト層
61 Pt層
62 Ag層
63 Mo層
64 Au層
71 Ti層
72 Au層
91 Pt層
92 Rh層
93 Au層
Claims (3)
- 光を透過可能な基板と、前記基板に積層されたn層と、前記n層に積層されたn側電極および発光層と、前記発光層に積層されたp層と、前記p層に積層されたp側電極とを有する発光素子において、
前記n層、前記p層、および前記発光層は、それぞれGaとNを含む半導体層で形成され、
前記p側電極は、前記p層に積層されたPt層と、前記Pt層に積層されたAg層またはRh層とを含み、
前記Pt層の平均膜厚を3nm以下とした
ことを特徴とする発光素子。 - 前記Ag層は、平均膜厚が5nm以上、2000nm以下である請求項1記載の発光素子。
- 前記Rh層は、平均膜厚が5nm以上、2000nm以下である請求項1または2に記載の発光素子。
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