JP2005116851A - ロードロックチャンバー、露光装置、デバイスの製造方法 - Google Patents

ロードロックチャンバー、露光装置、デバイスの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 高真空雰囲気下で被露光体を露光する露光装置に用いるロードロックチャンバーであって、高スループットを保ったまま、水蒸気凝結によるパーティクルの発生を防ぐことが可能なロードロックチャンバーを提供する。
【解決手段】 露光装置に用いるロードロックチャンバーの給気用配管と排気用配管をバイパスする配管と、内部ガスをその配管内に強制的に循環させる強制循環手段と、その循環経路の途中に内部ガスの水分を除去する水分除去手段を設けた。
【選択図】 図1

Description

本発明は、半導体露光装置に関するものであり、特に真空雰囲気下で半導体基板を露光する装置に付帯して設けられている、ロードロックチャンバーに関するものである。
現在、DRAM、MPU、等の半導体デバイス製造に関して、デザインルールで0.1μm以下の線幅を有するデバイスの実現に向けて精力的に研究開発がなされている。この世代に用いられる露光装置は、その露光光にエレクトロンビーム(EB)、あるいは極端紫外域光(EUV)、等が用いられると予測されている。
EB露光装置、EUV露光装置では、大気中での露光は不可能になるため、露光は真空中で行わざるを得なくなり、必然的に、ウエハーの搬入、搬出にはロードロックチャンバーを介して行うことになる。
通常、露光装置のロードロック室は、大気圧下でウエハーを受け入れ、チャンバー内を所定圧力まで真空排気した後、露光装置側の扉を開いて、露光装置側にウエハーを搬入し、露光が終了すると、装置側からウエハーが搬出され、露光装置側の扉を閉め、室内を大気圧下に戻し、ウエハーが取り出される、という機能を有する。
以前より、ロードロック内が真空排気される際に、チャンバー内にパーティクルが発生し、ウエハー表面に付着、堆積することにより、デバイス製造の歩留まりや、デバイスの信頼性が低下するという問題があった。
この現象のメカニズムとしては、従来より、チャンバー内に付着、堆積しているパーティクルが真空排気時に巻き上げられ、それらウエハーに付着するという考え方が主流であった。しかし、これとは別に、チャンバー内に含まれる水蒸気が内部ガスの断熱膨張による急激な温度低下により、凝結し、これがウエハーに付着するという現象も確認されるようになった。
真空排気時のガスの温度は、ガスの種類、チャンバー容積、排気速度、等に大きく依存するが、数十℃の低下量が観測されている。チャンバー内に水蒸気が含まれていると、ガス温度の急激な低下によって、小さなパーティクルを核に水蒸気の凝結が生じ大きなパーティクルに成長し(不均質核形成凝結)、温度によってはさらに氷に凝固し、それがウエハーに付着する。この水蒸気の凝結という現象は、チャンバー内に核となるパーティクルがなくても、ガス中の種々のイオンが凝結核となったり(不均質核形成凝結)、水分子同志が凝集して大きく成長する(均質核形成凝結)など、チャンバー内に水蒸気が含まれること自体が深刻な問題を引き起こす。
そこで、従来より、この真空排気時に発生するパーティクルの対策として、(1)排気速度を制御しスロー排気を行う方法、(2)ベンティング時にドライガスを導入する方法、(3)チャンバー内の水分を除去する方法、(4)ガスに加熱手段を設ける方法、等が提案されている。特に、(3)のチャンバー内の水分除去する方法は、具体的には、ガス導入時にコールドトラップの手法を用いて水分を除去したり、チャンバー内に水分を除去可能な乾燥剤を配置したりする方法である。このような従来技術は、特許文献1、2に開示されている。
特開平10−149999号公報 特開平05−190497号公報
しかしながら、従来例(1)は、スロー排気により内部ガス温度の急激な低下を防ぐことが可能になるため有効であるが、スループットの低下が懸念される。
従来例(4)は、内部ガスを暖めることにより、相対湿度を低下させ、露点に達しないようにするという方法であるが、真空排気前にガス温度のみを上げても、真空排気時にチャンバー壁からのガスへの熱供給が不十分なため、その効果が小さいということがある。
従来例(2)、(3)はともに、真空排気時に内部ガスの水蒸気濃度を完全に0%に保つことが可能であれば、凝結対策として有効である。しかし、ウエハー搬入時にゲート弁が開いた際、クリーンルームエアが流れや拡散によってチャンバー内に不可避的に混入する。発明者のシミュレーション結果では、相対湿度50%、ダウンフロー0.2m/sのクリーンルームエア中で、相対湿度を0%に保った枚葉処理用のロードロックチャンバのゲート弁を全開した際、約5秒間で相対湿度が数%に上昇する、という結果が得られた。このシミュレーションでは、ウエハーの搬入動作、ウエハーに付着水蒸気を考慮していないため、この程度の湿度ですむが、これらを考慮した場合は、さらに相対湿度が上昇すると考えられる。従って、このように相対湿度をクリーンルームエアに比較して低く抑えることが可能でも、排気速度が大きくなって、ガス温度が急激に低下する場合は、水蒸気の凝結が発生するため、この対策も十分とはいえない。
本発明は、このようにロードロックチャンバーの動作に伴う不可避的に混入する水蒸気に対しても、従来例(3)をさらに改良することによって、チャンバー内の水蒸気を可能な限り取り除いた上で、真空排気を開始するため、スループットを低下させず、かつ、チャンバー内の水蒸気の凝結を防ぐことが可能となる。
本発明は、前述のように不可避的にロードロックチャンバーに混入した水蒸気に対し、真空排気時の凝結を防ぐため、ロードロックチャンバーに付帯して水分除去機構を設けることを特徴としている。
具体的には、
(1)ロードロックチャンバーの給気用配管と排気用配管をバイパスする配管と、内部ガスをその配管内に強制的に循環させる強制循環手段と、その循環経路の途中に内部ガスの水分を除去する水分除去手段を設けたことを特徴としている。
(2)チャンバー内ガスは、真空排気を行う前に、前記強制循環手段により前記バイパス配管内を循環させ、前記水分除去手段に所定時間通気して、あらかじめ水分を除去しておく事を特徴としている。
(3)第1の水分除去手段としては、シリカゲル、ゼオライト、等の水分吸着剤を用い、それをHEPA、ULPAフィルターで挟み込んだ構造をしていることを特徴としている。
(4)前記第1の水分除去手段には、その内部に水分吸着剤加熱手段が設けられており、必要に応じて前記水分吸着剤を加熱することで、吸着している水分を蒸発させ、真空ポンプでその水分を吸引、排気することが可能な事を特徴としている。
(5)第2の水分除去手段としては、コールドトラップを用い、その前もしくは後にHEPA、ULPAフィルターを配置していることを特徴としている。
(6)前記第2の水分除去手段は、必要に応じて前記コールドトラップの冷熱源をOFFし、トラップ部材に付着している水分を蒸発させ、真空ポンプでその水分を吸引することが可能な事を特徴としている。
以上説明したように、本発明によれば、内部ガスの水分をあらかじめ水分除去手段により除去することにより、相対湿度を低くする事が可能になる。
以下、本発明の一実施例について図を用いて説明する。
先ず、本発明の詳細について説明する前に、本発明が適用される投影露光装置について、EUV露光装置を例に挙げ、その構成を図2を用いて簡単に説明する。
同図で、1はウエハー、2は電子回路パターンが形成されている反射型レチクルで、3はその反射型レチクルを保持し、スキャン方向に粗微動させるためのレチクルステージである。5はレチクルからの反射光をウエハー1に投影露光するための光学系である。6はウエハーを保持して6軸方向に粗動、微動可能なウェハーステージであり、そのxy位置は不図示のレーザー干渉計によって常にモニターされている。通常、レチクルステージ3とウエハーステージ6のスキャン動作は、投影光学系の縮小倍率を1/βとし、レチクルステージの走査速度をVr、ウエハステージの走査速度をVwとすると、両者の走査速度の間には、Vr/Vw=βの関係が成立するように同期制御される。8は後述するロードロックチャンバーとウエハーステージ6との間でウエハーを搬入、搬出する搬送ハンドである。露光は、真空下で行われるため、これらのユニットは装置チャンバー4の中に入っており、7はチャンバー内を真空排気するための真空ポンプである。15は本発明のロードロックチャンバーの略図で、詳細は後述するが、9はロードロック内を真空排気するための真空排気系、10はロードロック内の真空状態を大気圧に戻す際のドライN2,ドライエア、等のベント用ガス供給源である。11は装置チャンバーとロードロックチャンバーとの間を仕切る装置側ゲートバルブ、12はロードロックチャンバーと後述するウエハー交換室との間を仕切る交換室側ゲートバルブである。14はウエハーを大気圧下で一時保管するウエハー交換室であり、13はロードロックとの間でウエハーを搬入、搬出する搬送ハンドである。
次に本発明のロードロックチャンバーについて詳細に説明する。
ウエハーの搬送手順としては、まず基板交換室14のウエハーが搬送ハンド13により大気圧下のロードロック15内に搬入され、ゲートバルブ12が閉じると真空排気系9のバルブが開き、排気が開始される。数十秒して、所定の圧力になるとゲートバルブ11が開き、搬送ハンド8によりウエハーがロードロック15からウエハーステージ6に搬送され、アライメントの後に露光となる。
このロードロックの真空排気の過程で内部のガスが断熱膨張により急速に冷却される。この温度低下の様子は、図3で説明できる。ゲートバルブ12が閉じ、真空排気が開始される直前のガス、ウエハーの温度をT0とする。真空排気が始まると、ガスの温度は急速に低下し、チャンバー容積、排気速度、等にもよるが、数十秒後にT0よりも数十度温度低下し、その後は熱容量の大きいチャンバー壁からの伝熱により急速にT0に漸近する。一方、ガスに対し熱容量の大きいウエハーは、ガスよりも長い時定数で温度低下し、数度温度低下した後、再びT0に漸近するのに30分以上かかる。
前述したように、このガスの急速冷却は、次の問題を引き起こす。すなわち、ガス中に不可避的に混入した水蒸気が、急激な温度低下により露点に達し、凝結し、温度によっては、さらに氷に凝固し、それらがパーティクルとなって、ウエハー上に付着、堆積するというものである。
本発明は、この水蒸気凝結の問題に対し、ロードロックチャンバーの給気系と排気系をバイパスするように配管系を設け、チャンバー内部ガスをこの配管内に強制的に循環させる強制循環手段と、その循環経路の途中に水分除去手段を設けることにより、あらかじめチャンバー内のガスをこの水分除去手段に通気させ、含まれる水分を除去した上で真空排気を行う、ということが技術的背景にある。
本発明のロードロックチャンバーを図1を用いて具体的に説明する。同図で20はロードロックチャンバーで、ウエハーの出し入れの際、開閉するゲートバルブは省略している。1は、ウエハーである。21はチャンバー内にドライN2、ドライエア、等をベントする際の給気系に設けられた給気バルブであり、一方、26は排気系に設けられた排気バルブであり、その下流側にターボ分子ポンプ27、ドライポンプ28が直列に接続されている。この給気系と排気系をバイパスするように設けられた配管系が本発明の特徴である水分除去用の循環配管系である。この配管系は、給気側に設けられたAバルブ22と、水分除去ユニット23と、ガスを強制循環させるファン24と、排気側に設けられたBバルブ25から構成されており、これらが直列につながっている。従って、給気バルブ21と排気バルブ26を閉じ、Aバルブ22とBバルブ25を開けることで、循環閉管路が形成される。水分除去ユニット23は、内部に水分除去材、例えばシリカゲル、ゼオライト等30が、HEPA,ULPAフィルター29,32によってサンドイッチされた構造になっている。この2枚のフィルターは水蒸気を透過し、かつ水分除去材の飛散を封止し、かつチャンバー内のパーティクル、を吸着する役割を果たす。水分除去材30の内部には、吸着された水分を蒸発させるためのヒーター31が埋め込まれている。
チャンバー内ガスの水分除去動作としては、給気バルブ21と排気バルブ26を閉じ、Aバルブ22とBバルブ25を開けた状態で、強制循環ファン24を作動させると、チャンバー内のガスが水分除去ユニット23に送り込まれ、水分吸着材30が水分を吸着し、乾燥した状態のガスが水分除去ユニット23から排出される。そしてこのガスが再び、チャンバーに送り込まれる。循環経路内のガスの流れる向きは、真空排気時のガスの流れる方向に準じて、図中の矢印のように左回りが望ましく、さらには循環ファンの配置は、発塵の懸念も考慮すると、HEPAフィルター32の上流側にあるほうがよい。この強制循環をしばらく継続する事により、チャンバー内にわずかに含まれていた水分を除去する事が可能となる。
このガスを強循環させる時間は、チャンバー内の相対湿度がほぼ0%になるまで継続されるか、もしくは真空排気時にチャンバー内に含まれる水蒸気が凝結しない程度の湿度になるまで継続されるかのいずれかである。この真空排気時の水蒸気凝結に関して、本発明者が行なったシミュレーション結果について図4〜7を用いて説明する。
図4〜7はロードロックを真空引きした際の、ガスの圧力低下、ガス温度低下、及び水蒸気の凝結の可能性をシミュレーションしたものである。具体的には、300mmウエハーを枚葉処理で真空引きする際の容積数リットルのロードロックチャンバーに対し、実効排気速度210L/minの理想排気系で真空引きした場合の、チャンバー内圧力変化を図4に示し、ガス温度変化を図5に示す。図6,7は飽和水蒸気圧Psと水蒸気圧Pvによって定まるS(以後これを飽和度と呼ぶ)、
Figure 2005116851
をプロットしたものである。通常、0<S<1のときは、水蒸気凝結が発生しないことを示し、S>1のときは、ガス内に微小なパーティクルが存在するとそれを核に凝結が生じる(不均質核形成)。
図6は真空引き前の相対湿度が10%の場合、図7は本発明の水蒸気除去を行なって相対湿度2%まで低減させた場合を示す。
これらの図からも明らかなように、相対湿度10%では、排気開始後2秒前後で飽和度Sが最大で3.6に達するため、水蒸気凝結は避けられない事がわかる。しかし、真空引き直前に本発明の水蒸気除去を行い、相対湿度を2%以下まで低減させると、最大飽和度Sを0.7以下まで小さくすることができ、チャンバー内の水蒸気凝結を防ぐことが可能になる。もちろん、相対湿度10%のガスでも、実効排気速度を小さくすることで、ガス温度低下を小さくして、飽和度Sを1以下にすることは可能であるが、スループットが低下するという問題が生じる。チャンバー内のパーティクル発生とスループットはトレードオフになっているが、本発明を用いる事により、スループットの低下を最小限に押さえつつ、水蒸気凝結によるパーティクル発生を防ぐ事が可能になる。
本発明の水蒸気除去法を用いる場合、チャンバー内ガスを所望の相対湿度に下げるために要する強制循環時間は、あらかじめ実験を行ない、強制循環時間と相対湿度低下量を把握しておけばよい。
本発明の水分除去動作の一例を図11を用いて説明する。N枚目のウエハーが露光を終了すると(ステップ100)、N枚目ウエハーが露光装置からロードロックチャンバーに搬入される(ステップ101)。チャンバー内圧力を大気圧まで復帰させるために、装置側ゲート弁を閉じ、ドライN2,ドライエア、等の乾燥ベントガスが導入され(ステップ102)、大気圧まで導入される(ステップ103)。大気圧復帰後、ウエハー交換室側ゲート弁が開き、N枚目ウエハーが搬出される(ステップ104)。そして、N+1枚目のウエハーが搬入され(ステップ105)、ウエハー交換室側のゲート弁が閉じる。このウエハー交換の際、ウエハー交換室側の水蒸気や、ウエハーに付着している水分がロードロックチャンバー内に不可避的に混入する。本発明では、この不可避的に混入した水蒸気、及び水分を前述した水分除去手段を用いて除去する。すなわち、主配管側の給気バルブ21と排気バルブ26を閉じ、強制循環配管側のAバルブ22とBバルブ25をあけた状態で、強制循環ファン24を作動させると、チャンバー内のガスが水分除去ユニット23に送り込まれ、水分吸着材30が水分を吸着し、乾燥した状態のガスが水分除去ユニット23から排出される。そしてこのガスが再び、チャンバーに送り込まれ、これを所定時間T1以上、継続する事により(ステップ106、107)、チャンバー内を所望の湿度以下に保つことが可能になる。所定時間経過の後、強制循環配管側のAバルブ22とBバルブ25排気バルブが閉じ、主配管側の排気バルブ26が開いて真空排気が開始される(ステップ108)。真空排気の過程で、ガス温度が急激に下がるが、相対湿度が凝結しない程度に保たれているので、チャンバー内にパーティクルは発生しない。そして、所定圧力まで到達したのち(ステップ109)、N+1枚ウエハーがロードロックチャンバーから搬出され(ステップ110)、露光となる(ステップ111)。以後これを繰り返す。以上が本発明の水分除去動作の一例である。
このように、繰り返し水分除去を行なうことで、水分除去材30の水分吸着効率が落ちて来るため、これを必要に応じてメンテナンスする必要がある。この動作としては、ロードロックチャンバー内にウエハーが無い状態のときに、吸気バルブ21、Aバルブ22を閉じ、ヒーター31をONにした状態で、排気バルブ26、Bバルブ25を開けることにより、水分吸着材から蒸発した水蒸気が、真空ポンプにより内部ガスとともに吸引、排気される。これを所定時間継続することで、水分吸着材から水分が離脱し、再び効率的に吸着が可能な状態になる。
本実施例では、水分吸着手段の配管を図1のように、吸気、排気用配管にバイパスするような構成としたが、配管の分岐が複雑になる場合は、図8のように、独立に構成することも可能である。こうした場合でも、その動作、効果はまったく同様である。
以上説明したように、真空排気前に本水分除去手段を用いて、内部ガスからあらかじめ水分を吸着することにより、相対湿度を低くする事が可能になる。そして、排気速度を大きくしてガス温度が急激に低下しても、ガス中に含まれる水蒸気が露点に達しないため、高スループットを保ったまま、水蒸気凝結によるパーティクルの発生を防ぐことが可能になる。
(実施例)
第2の実施例は、水分除去手段にコールドトラップを用いることを特徴とする。本実施例を図9を用いて説明する。第一の実施例と大きく異なるのは、水分除去ユニット46の構成である。45はHEPA、ULPAフィルターであり、水蒸気を透過し、かつチャンバー内のパーティクルを吸着する役割を果たし、強制循環ファンの下流側に一箇所配置されている。第一実施例の場合、水分吸着剤の飛散を防ぐため、これらのフィルターが水分吸着材の前後に二箇所設けられていたが、本実施例では一箇所で必要十分である。本実施例ではコールドトラップの冷熱源に、ペルチェ素子を用いており、42,44がペルチェ素子ユニットである。ガス中の水蒸気をトラップするトラップ手段は、トラップ効率が高くなるように図中紙面垂直方向に複数枚配置されたトラップ平板40から構成され、二つのペルチェ素子ユニット42,44の冷却側(吸熱側)にサンドイッチされる形式で接続されている。一方、ペルチェ素子ユニットの高温側(放熱側)は、効果的に熱を散逸させるために、冷却管41,43が配置されている。トラップ平板40の設定温度は、本発明の水蒸気除去動作が常温常圧環境下で行われるため、0℃以下であれば、トラップされた水蒸気が、水滴から氷に相転移することが可能である。
チャンバー内ガスの水分除去動作としては、給気バルブ21と排気バルブ26を閉じ、Aバルブ22とBバルブ25をあけた状態で、そして強制循環ファン24を作動させると、チャンバー内のガスが水分除去ユニット23に送り込まれ、ペルチェ素子ユニットにより0℃以下に冷却されているトラップ平板間40をガスが通過する際に水分が吸着する。そして乾燥した状態のガスが水分除去ユニット23から排出される。このガスが再び、チャンバーに送り込まれ、これをしばらく継続する事により、チャンバー内にわずかに含まれていた水分を除去する事が可能となる。
また、このように繰り返し水分除去を行なうことで、トラップ板に氷が堆積し、水分吸着効率が落ちて来るため、これを定期的に取り除く必要がある。この動作としては、ロードロックチャンバー内にウエハーが無い状態のときに、吸気バルブ21、Aバルブ22を閉じ、ペルチェ素子ユニットの電源をOFFにしトラップ平板温度を雰囲気温度に戻し、排気バルブ26、Bバルブ25を開けることにより、トラップ板から蒸発した水蒸気が、真空ポンプにより内部ガスと共に吸引、排気される。これを所定時間継続することで、トラップ板から水分が離脱し、再び効率的に吸着が可能な状態になる。
本実施例のコールドトラップでは、冷熱源にペルチェ素子、トラップ手段に複数枚で構成されたトラップ平板を用いている。本実施例では、冷熱源の設定温度が0℃以下程度という、比較的実現しやすい温度範囲であるため、これ以外にも様々な手段が考えられる。例えば、冷熱源に、通常の冷却用冷媒(R407C,等)を使った蒸気圧縮式冷凍サイクルを用い、トラップ部材に伝熱管を用いる方法である。
これを図10を用いて説明する。55は強制循環ファンの下流側に設けられた、HEPA,ULPAフィルターである。冷媒は、まず圧縮器51で加圧され、吐出された冷媒は凝縮器52で凝縮し、キャピラリーチューブ53で減圧されて、低温冷媒がトラップ部50に供給される。そして、トラップ部50で、伝熱管55と冷媒が熱交換することにより、55のフィルターを経たガスの水蒸気は、伝熱管55内壁に付着し氷となって除去される。
以上のように、本実施例はこれ以外の様々な構成のコールドトラップを用いることも容易に可能なため、これに限定されるものではない。
以上説明したように、真空排気前にコールドとラップを用いて、内部ガスからあらかじめ水分を吸着することにより、相対湿度を低くする事が可能になる。そして、排気速度を大きくしてガス温度が急激に低下しても、ガス中に含まれる水蒸気が露点に達しないため、高スループットを保ったまま、水蒸気凝結によるパーティクルの発生を防ぐことが可能になる。特に、本実施例の場合は、トラップ部材に伝熱管を用い、かつ強制循環配管系のHELPA,ULPAフィルターを一箇所設けるだけなので、強制循環配管内の圧力損失を小さく出来るため、強制循環ファンを小型化でき、さらに循環配管の流量を大きくすることが可能になり、水分吸着時間も短くて済むという利点がある。
本出願に関わる第1の発明によれば、内部ガスの水分をあらかじめ水分除去手段により除去することにより、相対湿度を低くする事が可能になる。そして、排気速度を大きくしてガス温度が急激に低下しても、ガス中に含まれる水蒸気が露点に達しないため、高スループットを保ったまま、水蒸気凝結によるパーティクルの発生を防ぐことが可能になる。
本出願に関わる第2の発明によれば、内部ガスの水分をあらかじめ水分除去手段により除去することにより、相対湿度を低くする事が可能になる。
本出願に関わる第3の発明によれば、比較的簡単な構成で内部ガスの水分除去が可能になる。
本出願に関わる第4の発明によれば、水分吸着剤の吸着効率が低下した際、直ちに吸着剤の水分を蒸発させ、真空ポンプで吸引、排気できるため水分吸着剤の効率低下を防ぐ事が出来る。
本出願に関わる第5の発明によれば、循環配管内の圧力損失による流量低下を防ぐ事が可能になるため、水分除去の強制循環時間が短くて済む。
本出願に関わる第6の発明によれば、コールドトラップの吸着効率が低下した際、直ちにトラップ部材の水分を蒸発させ、真空ポンプで吸引、排気できるためコールドトラップの水分吸着効率低下を防ぐ事が出来る。
また、本発明は上記実施例に記載されているロードロックチャンバーや露光装置(図2)に限定されるものではなく、デバイスの製造方法等にも適用可能である。具体的には、上述の露光装置を用いて、ウエハやガラス基板等の被露光体を露光する工程と、その露光された被露光体を現像する工程と、さらに現像された被露光体に後処理を施す工程とを有するデバイスの製造方法である。
本発明の第一の実施例を表す図 本発明が適用される露光装置システム ロードロック内のガス、ウエハーの真空排気時の温度低下を表す図 ロードロックの排気曲線を表す図 ロードロック内の真空排気時のガス温度低下を表す図 相対湿度10%のガスを真空排気した際の飽和度曲線 本発明を適用し、相対湿度を2%まで低減した場合の飽和度曲線 第一実施例をあらわす第1図とは別の図 本発明の第二の実施例を表す図 第二実施例をあらわす第9図とは別の図 本発明のロードロックの動作を表す図
符号の説明
1 ウエハー
21 給気バルブ
26 排気バルブ
27 ターボ分子ポンプ
28 ドライポンプ
22 Aバルブ
25 Bバルブ
23 水分除去ユニット
24 強制循環ファン
29,32 HEPAフィルター
30 水分吸着剤
31 ヒーター

Claims (10)

  1. ロードロックチャンバーの給気用配管と排気用配管をバイパスする配管と、内部ガスをその配管内に強制的に循環させる強制循環手段と、その循環経路の途中に内部ガスの水分を除去する水分除去手段を設けたことを特徴とするロードロックチャンバー。
  2. 前記ロードロックチャンバー内のガスは、真空排気を行う前に、前記強制循環手段により前記バイパス配管内を循環させ、前記水分除去手段に所定時間通気して、あらかじめ水分を除去しておく事を特徴としている請求項1のロードロックチャンバー。
  3. 第1の水分除去手段は水分吸着材を有しており、該水分吸着材をHEPA、ULPAフィルターで挟み込んだ構造をしていることを特徴としている請求項1のロードロックチャンバー。
  4. 前記第1の水分除去手段には、その内部に水分吸着剤加熱手段が設けられており、必要に応じて前記水分吸着剤を加熱することで、吸着している水分を蒸発させ、真空ポンプでその水分を吸引、排気することが可能な事を特徴としている請求項1のロードロックチャンバー。
  5. 第2の水分除去手段としては、コールドトラップを用い、その前もしくは後にHEPA、ULPAフィルターを配置していることを特徴としている請求項1のロードロックチャンバー。
  6. 前記第2の水分除去手段は、必要に応じて前記コールドトラップの冷熱源をOFFし、トラップ部材に付着している水分を蒸発させ、真空ポンプでその水分を吸引することが可能な事を特徴としている請求項1のロードロックチャンバー。
  7. 請求項1乃至6いずれかに記載のロードロックチャンバーを有することを特徴とする露光装置。
  8. 被露光体を真空環境下で露光することを特徴とする請求項7記載の露光装置。
  9. 前記ロードロックチャンバーを介して、被露光体の前記露光装置への搬入及び搬出を行うことを特徴とする請求項7又は8記載の露光装置。
  10. 請求項7乃至9いずれかに記載の投影露光装置を用いて被露光体を露光する工程と、前記露光された被露光体を現像する工程とを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007184361A (ja) * 2006-01-05 2007-07-19 Asahi Glass Co Ltd 薄膜デバイス用ガラス基板およびその成膜方法
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KR101933061B1 (ko) * 2015-05-11 2018-12-27 주식회사 엔씨디 유기발광소자를 위한 무기 박막 형성 방법

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