JP2005114509A - 走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 走査型プローブ顕微鏡用カンチレバー10は、レバー11の一端に探針12、他端に支持体13が一体に形成され、SOIウエハ100から作製される。製造工程は、レバー11の長さ方向をSOIウエハ100の厚さ方向に選び、探針12の長手方向をSOIウエハ100の表面と平行に選んで、SOIウエハ100を選択的に除去するものである。SOIウエハ100の代わりにSi単結晶ウエハを用いてもほぼ同様の工程で走査型プローブ顕微鏡用カンチレバー10を作製できる。
【選択図】 図2
Description
(4)請求項1または2の走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーの製造方法では、半導体基板にSiウエハを用いることができる。この場合、レバー部の長さは、ICP−RIE法によりSiウエハをその厚さ方向に除去した深さに等しくすることが好ましい。
(5)請求項7の走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーは、請求項1〜6のいずれかの製造方法によって作製されたことを特徴とする。
図1は、本実施の形態のカンチレバーを取り付けたSPMの主要部の構成を模式的に示す概略構成図である。SPM用カンチレバー10は、レバー11、探針12および支持体13を有し、ホルダー14に着脱可能に保持される。すなわち、ホルダー14は、支持体13を着脱可能に保持する構造であり、SPM用カンチレバー10全体を支持する。着脱方法には、支持体13をホルダー14の溝部にスライドさせる方法や支持体13をホルダー14に取り付けられた板バネで押圧する方法などがある。
レバー11は、例えば、長さL=150μm、厚さt=2μm、幅30μmの薄膜状である。探針12は、例えば、長さd=5μmの三角錐である。支持体13は直方体である。
図2は、1枚のウエハから多数のカンチレバーを作製する工程にある3個のカンチレバーを示している。図示のように、YZ面に平行な2つの平面29で切断することにより、寸法形状が等しい3個のSPM用カンチレバー10が得られる。SPM用カンチレバーは、SOI(Silicon on Insulator)ウエハ100から一体で作製される。SOIウエハ100は、2枚のSi単結晶板の一方にSiO2層を形成し、SiO2層を介して張り合わせたものである。
なお、レバー11の下端には、後述する製造工程に起因する三角柱の突起部14が形成されている。また、仮想線(2点鎖線)で表示する部分は、製造工程により上部Si層20が除去された部分である。
工程(a)では、SOIウエハ100を準備する。SOIウエハ100は、厚さ150μmの上部Si層20、厚さ1μmのSiO2層30、厚さ500μmの下部Si層40の3層構造を有する。上部Si層20の結晶方位は、XY平面が(001)、ZX平面が(110)、Y方向が<110>である。以下、説明の便宜上、SOIウエハ100の表面を<110>に平行に2分割し、面P1,P2とする。
工程(e)では、面P1の酸化膜22をマスクとして、RIEにより面P2のSiN層21を除去する。すなわち、プロセスガスとしてCF4を用い、エッチング速度12nm/minのエッチングを行う。
工程(i)では、パターニングされた厚膜レジスト24をマスクとして、ICP−RIE(inductively coupled plasma - reactive ion etching)により上部Si層20を深くエッチングし、柱状構造体26を形成する。柱状構造体26は、後工程で作製されるレバー11の原型である。ICP−RIEによるエッチング作用は、SiO2層30により停止するので、エッチング深さ、換言すれば柱状構造体26の高さは、上部Si層20の厚さである150μmに等しい。エッチング後には、SiO2層30の面が露出する。
図7は、1枚のSOIウエハ100上の複数の柱状構造体27の配置を示す上面図である。図7は、上述した工程(i)〜(k)に対応する図として示されている。図7では、図6(a)、(b)の線分25は、X方向に平行な切断面25として表わされ、図6(e)の平面29は、Y方向に平行な切断面29として表わされている。また、柱状構造体27について、レバー11の幅、厚さ、探針12の長さは、それぞれw、t、dで表されている。
11:レバー
12:探針
13:支持体
14:ホルダー
20:上部Si層
30:SiO2層
30:下部Si層
25:線分(切断面)
26,27,28:柱状構造体
29:平面(切断面)
100:SOIウエハ
Claims (7)
- レバー部の一端に探針部、他端に支持部が一体に形成された走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーを半導体基板から作製する方法であって、
前記レバー部の長さ方向を前記半導体基板の厚さ方向に選び、前記探針部の長手方向を前記半導体基板の表面と平行に選んで、前記半導体基板を選択的に除去することを特徴とする走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーの製造方法。 - レバー部の一端に探針部、他端に支持部が一体に形成された走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーを半導体基板から作製する方法であって、
前記半導体基板の厚さ方向にエッチングして前記レバー部の長さを規定する第1の工程と、
前記第1の工程により露出した前記レバー部の側面をエッチングして前記レバー部の厚さを規定するとともに前記探針部を形成する第2の工程とを有することを特徴とする走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーの製造方法。 - 請求項1または2に記載の走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーの製造方法において、
前記半導体基板は、SOIウエハであることを特徴とする走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーの製造方法。 - 請求項3に記載の走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーの製造方法において、
前記レバー部の長さは、前記SOIウエハの一方のSi層の厚さに等しいことを特徴とする走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーの製造方法。 - 請求項1または2に記載の走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーの製造方法において、
前記半導体基板は、Siウエハであることを特徴とする走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーの製造方法。 - 請求項5に記載の走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーの製造方法において、
前記レバー部の長さは、ICP−RIE法により前記Siウエハをその厚さ方向に除去した深さに等しいことを特徴とする走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーの製造方法。 - 請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法によって作製された走査型プローブ顕微鏡用カンチレバー。
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JPH10170527A (ja) * | 1996-12-10 | 1998-06-26 | Seiko Instr Inc | カンチレバーおよびその製造方法 |
JP2001091441A (ja) * | 1999-07-16 | 2001-04-06 | Japan Science & Technology Corp | ナノメートルオーダの機械振動子、その製造方法及びそれを用いた測定装置 |
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