JP2005109363A - Aluminum plate, its manufacturing method, and aluminum-based printed wiring board - Google Patents

Aluminum plate, its manufacturing method, and aluminum-based printed wiring board Download PDF

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邦夫 森
Nobumasa Kimura
信正 木村
Shigenori Ichihara
滋教 市原
Misuzu Onodera
美鈴 小野寺
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an aluminum plate which can realize its inline manufacturing and form an accurate pattern in manufacturing an aluminum-based printed wiring board. <P>SOLUTION: A surface layer of the aluminum plate surface-treated for use in the aluminum-based printed wiring board is a triazine dithiol derivative layer, a contact angle thereof is between 40 and 75 degrees, and the triazine dithiol derivative layer is made of an electrolytic polymer of triazine dithiol derivative expressed by formula 1. In formula 1, R is expressed by -N<SP>1</SP>R<SP>1</SP>R<SP>2</SP>, R<SP>1</SP>R<SP>2</SP>indicates an alkyl group or an unsaturated alkyl group, and M indicates a hydrogen atom or an alkyl metal. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、アルミニウム導体プリント配線板、アルミニウムコアプリント配線板などのアルミニウム系プリント配線板の製造に用いられる表面処理されたアルミニウム板およびその製造方法に関し、特にトリアジンジチオール誘導体にて表面処理し、その表面に接着可能な接触角を付与する薄膜を形成させたアルミニウム板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a surface-treated aluminum plate used for producing an aluminum-based printed wiring board such as an aluminum conductor printed wiring board and an aluminum core printed wiring board, and a method for producing the same, and in particular, surface treatment with a triazine dithiol derivative, The present invention relates to an aluminum plate on which a thin film that provides a contact angle that can be adhered to the surface is formed, and a method for manufacturing the same.

従来、アルミニウム板をコアとしたアルミニウムコアプリント配線板は放熱特性を必要とする高電流を流す目的で用いられている。アルミニウム板は耐食性に優れ、長期間金属光沢を保つことができる。しかし、元素としてのアルミニウムは非常に活性であり、通常環境下で金属として存在することは困難である。例えば、アルミニウム圧延材は圧延仕上がり状態で、すでに1nm 以上の表面酸化皮膜が存在する。水分を含む環境下では酸化物ではなく、水酸化物皮膜を形成し密着性を低下させる場合がある。
そのため、一般的にはアルミニウム材の表面処理としては、ブラスト研磨、バフ研磨などの機械的処理の後に有機溶剤や酸化性の酸による脱脂、または腐食性の酸やアルカリによるエッチング処理を行なう。最終的な下地処理として硫酸浴中やリン酸浴中で材料表面に数μm〜数 10μm のアルマイト皮膜(多孔質型陽極酸化皮膜)を形成する方法が用いられている。例えば、アルミニウム系プリント配線板に用いられるアルミニウム板の表面処理方法として、アルミニウム板を硫酸イオンを含有するクロム酸酸性水溶液中にて陰極電解処理する方法が知られている。
特開2000−22293号公報
Conventionally, an aluminum core printed wiring board having an aluminum plate as a core is used for the purpose of flowing a high current that requires heat dissipation characteristics. The aluminum plate is excellent in corrosion resistance and can maintain a metallic luster for a long time. However, aluminum as an element is very active, and it is difficult to exist as a metal in a normal environment. For example, a rolled aluminum material is already in a rolled state and already has a surface oxide film of 1 nm or more. In an environment containing moisture, not an oxide but a hydroxide film may be formed to reduce adhesion.
Therefore, in general, as the surface treatment of the aluminum material, degreasing with an organic solvent or an oxidizing acid or etching with a corrosive acid or alkali is performed after mechanical treatment such as blast polishing or buffing. As a final base treatment, a method of forming an alumite film (porous type anodic oxide film) of several μm to several tens of μm on the material surface in a sulfuric acid bath or a phosphoric acid bath is used. For example, as a surface treatment method of an aluminum plate used for an aluminum-based printed wiring board, a method of cathodic electrolytic treatment of an aluminum plate in a chromic acid aqueous solution containing sulfate ions is known.
JP 2000-22293 A

アルミニウムコアプリント配線板に用いられるアルミニウム銅張板を図6により説明する。図6は断面図で示す製造工程図である。
アルミニウム板62を準備する(図6(a))。このアルミニウム板62の必要な部位に穴明加工を行ない穴63を明け、その後に機械研磨から下地処理までの一連の密着性処理を行なう(図6(b))。次に、この穴明加工済みアルミニウム板表面64に絶縁樹脂またはプリプレグ65および銅箔66を重ねあわせて、積層プレスを行なう。
An aluminum copper-clad board used for an aluminum core printed wiring board will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a manufacturing process diagram shown in a sectional view.
An aluminum plate 62 is prepared (FIG. 6A). A drilling process is performed at a required portion of the aluminum plate 62 to form a hole 63, and then a series of adhesion processes from mechanical polishing to base treatment are performed (FIG. 6B). Next, an insulating resin or prepreg 65 and copper foil 66 are overlapped on the perforated aluminum plate surface 64 and a lamination press is performed.

しかしながら、アルミニウム銅張板のアルミニウム表面処理工程における機械研磨から下地処理までの一連の密着性処理工程は一般のプリント配線板加工工程とは異なる。特にアルマイト皮膜処理工程は作業環境面、地球環境面にも悪く、多くはアルミニウムメッキ専業者に限られる。そのため、アルマイト皮膜処理工程のインライン化が簡単にはできず、短納期化が図れない。また、導体パターンの高精度エッチング工程においても、アルマイト皮膜処理板の品質によりエッチングに差が生じる問題がある。   However, a series of adhesion treatment steps from mechanical polishing to ground treatment in an aluminum surface treatment step of an aluminum copper clad plate is different from a general printed wiring board processing step. In particular, the alumite film treatment process is bad in terms of work environment and global environment, and many are limited to specialists in aluminum plating. For this reason, it is not easy to inline the alumite film treatment process, and the delivery time cannot be shortened. Further, even in the high-precision etching process of the conductor pattern, there is a problem that a difference in etching occurs due to the quality of the alumite film treated plate.

一方、薄いアルミニウム板を用いたアルミニウム系プリント配線板は上記の密着性処理方法では対応ができず、実用化がされていないのが現状である。なぜならば、アルミニウム板の厚さが 200μm 以下の場合は、機械的処理においてアルミニウム板が延伸されカール状になる。また、下地処理工程においてアルミニウム板に強度(腰)がないため、打痕、曲がり、擦り傷等が発生する。そのため、アルミニウム系プリント配線板の製造においては、機械研磨から下地処理までの一連の密着性処理工程は使用できないという問題がある。
また、アルマイト皮膜は硫酸浴中やリン酸浴中で材料表面に数μm〜数 10μm の多孔質型陽極酸化皮膜を形成するため、回路形成工程におけるエッチングのバラツキがパターン精度の向上を妨げる。
On the other hand, an aluminum-based printed wiring board using a thin aluminum plate cannot be dealt with by the above-described adhesion processing method, and is currently not in practical use. This is because when the thickness of the aluminum plate is 200 μm or less, the aluminum plate is drawn into a curl shape by mechanical treatment. In addition, since the aluminum plate does not have strength (waist) in the base treatment process, dents, bends, scratches, etc. are generated. Therefore, in the production of an aluminum-based printed wiring board, there is a problem that a series of adhesion processing steps from mechanical polishing to ground treatment cannot be used.
In addition, since the alumite film forms a porous anodic oxide film having a thickness of several μm to several tens of μm on the material surface in a sulfuric acid bath or a phosphoric acid bath, variations in etching in the circuit forming process hinder improvement in pattern accuracy.

現在、コア部に厚さ 0.5mm〜1.2mm のアルミニウム板、導体部に厚さ 70μm〜500μm の銅箔を使用したアルミニウムコアプリント配線板が高電流を流す目的で工作機械、自動販売機などの高電流回路や自動車の電装品に用いられている。特に最近では自動車の室内配線のワイヤーハーネス代替として、厚さ 200μm〜500μm の銅板を使用したアルミニウムコアプリント配線板がハイブリット車、電気自動車、燃料電池車などへ検討されている。しかし、上述したように、アルミニウム薄板を用いたアルミニウム系プリント配線板の実用化が困難である。   Currently, an aluminum core printed wiring board using an aluminum plate with a thickness of 0.5mm to 1.2mm for the core and a copper foil with a thickness of 70μm to 500μm for the conductor is used for machine tools, vending machines, etc. Used in high current circuits and automotive electrical components. In recent years, aluminum core printed wiring boards using copper plates with a thickness of 200 μm to 500 μm have been studied for hybrid cars, electric cars, fuel cell cars, etc. as a substitute for wiring harnesses for automobile interior wiring. However, as described above, it is difficult to put an aluminum-based printed wiring board using an aluminum thin plate into practical use.

解決しようとする問題点は、アルミニウム系プリント配線板の製造においてインライン化が可能であり、かつ高精度パターンの形成も可能なアルミニウム板が得られないという点である。   The problem to be solved is that an aluminum plate that can be inlined in the production of an aluminum-based printed wiring board and that can form a high-precision pattern cannot be obtained.

本発明は、アルミニウム系プリント配線板に用いるためのトリアジンジチオール誘導体層で表面処理されたアルミニウム板であって、表面処理されたアルミニウム板の表面層がトリアジンジチオール誘導体層であって、その接触角が 40 度〜75 度であることを特徴とする。
また、トリアジンジチオール誘導体層が下記式(1)で表されるトリアジンジチオール誘導体の電解重合体であることを特徴とする。

Figure 2005109363
上式において、Rは、−NR12で表され、R1およびR2は、アルキル基または不飽和アルキル基を表し、Mは水素原子またはアルカリ金属を表す。
また、上記トリアジンジチオール誘導体は、Rが異なるトリアジンジチオール誘導体の混合物であり、特に2−ジブチルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオールモノソジウム(以下、DBNと略称する)と2−ジイソオクチルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオールモノソジウム(以下、iso-DONと略称する)との混合物であることを特徴とする。
また、トリアジンジチオール誘導体の電解重合体が熱処理されてなることを特徴とする。 The present invention is an aluminum plate surface-treated with a triazine dithiol derivative layer for use in an aluminum-based printed wiring board, wherein the surface layer of the surface-treated aluminum plate is a triazine dithiol derivative layer, and the contact angle thereof is It is characterized by 40 to 75 degrees.
The triazine dithiol derivative layer is an electrolytic polymer of a triazine dithiol derivative represented by the following formula (1).
Figure 2005109363
In the above formula, R is represented by —NR 1 R 2 , R 1 and R 2 represent an alkyl group or an unsaturated alkyl group, and M represents a hydrogen atom or an alkali metal.
The triazine dithiol derivative is a mixture of triazine dithiol derivatives having different Rs, particularly 2-dibutylamino-1,3,5-triazine-2,4-dithiol monosodium (hereinafter abbreviated as DBN). It is a mixture with 2-diisooctylamino-1,3,5-triazine-2,4-dithiol monosodium (hereinafter abbreviated as iso-DON).
Further, the electrolytic polymer of a triazine dithiol derivative is heat-treated.

本発明のアルミニウム板の製造方法は、上記式(1)で表されるトリアジンジチオール誘導体の電解重合によりアルミニウム金属板表面に重合膜を形成する重合工程と、該重合膜に熱処理を施こす熱処理工程とを備えてなる製造方法において、重合工程の前処理として、トリアジンジチオール誘導体とアルミニウム金属板との密着性向上処理工程を有することを特徴とする。
また、上記重合工程は、水酸化ナトリウム、亜硝酸ナトリウムおよび炭酸ナトリウムの少なくとも一つの化合物を含む支持電解質を用いることを特徴とする。
The method for producing an aluminum plate of the present invention includes a polymerization step of forming a polymer film on the surface of the aluminum metal plate by electrolytic polymerization of the triazine dithiol derivative represented by the above formula (1), and a heat treatment step of subjecting the polymer film to a heat treatment In the manufacturing method provided with these, it has the adhesiveness improvement process process of a triazine dithiol derivative and an aluminum metal plate as pre-processing of a superposition | polymerization process, It is characterized by the above-mentioned.
In the polymerization step, a supporting electrolyte containing at least one compound of sodium hydroxide, sodium nitrite and sodium carbonate is used.

本発明のアルミニウム系プリント配線板は、プリプレグ、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂に上述したアルミニウム板を積層接着して得られることを特徴とする。   The aluminum-based printed wiring board of the present invention is obtained by laminating and bonding the above-described aluminum plate to a prepreg, a thermosetting resin, or a thermoplastic resin.

本発明のアルミニウム板は、表面処理された表面層がトリアジンジチオール誘導体層であって、その接触角が 40 度〜75 度であるので、樹脂基材との接着性に優れているとともに、接着後の耐熱性に優れている。
本発明のアルミニウム板の製造方法は、重合工程の前処理として、密着性向上処理工程を有するので、インライン化が可能である。
本発明のアルミニウム系プリント配線板は、上述したアルミニウム板を積層接着して得られるので、アルミニウム薄板を用いたアルミニウム系プリント配線板に容易に適用できる。
In the aluminum plate of the present invention, the surface-treated surface layer is a triazine dithiol derivative layer, and the contact angle is 40 to 75 degrees. Excellent heat resistance.
Since the manufacturing method of the aluminum plate of this invention has an adhesive improvement process process as a pre-process of a superposition | polymerization process, it can be made in-line.
Since the aluminum-based printed wiring board of the present invention is obtained by laminating and bonding the above-described aluminum plates, it can be easily applied to an aluminum-based printed wiring board using an aluminum thin plate.

トリアジンジチオール誘導体、特に式(1)で表されるトリアジンジチオール誘導体を用いることにより、表面の接触角を 40 度〜 75 度にできることが分かった。本発明はかかる知見に基づくものである。
本発明に使用できるアルミニウム板は、純アルミニウムまたは少なくともアルミニウムが 60 重量%含まれるアルミニウム基合金材を板状に成形したものが挙げられる。
電気信号の高速伝送では、電流が表面から 1μm 以内の表層導体を流れる。そのため、アルミニウム金属板は表面の凹凸が限りなく鏡面に近いことが望ましい。本発明のアルミニウム板は、本発明方法により製造することで平滑な表面処理アルミニウム板が得られるが、基材となるアルミニウム板としては、表面粗さ(JIS Ra値)が 0.05μm 以下のものが好ましい。Ra値 0.05μm 以下のアルミニウム板を用いることにより、表面処理アルミニウム板の表面粗さもRa値 0.05μm 以下となり、電気信号の高速伝送にも最適な特性を有するアルミニウム系プリント配線板が得られる。
本発明に使用できるアルミニウム金属板の板厚さは、0.005 〜 50 mmであり、本発明においては、特に 0.005 〜 0.5 mm の薄板状のアルミニウム金属板にも適用できる。
It was found that by using a triazine dithiol derivative, particularly a triazine dithiol derivative represented by the formula (1), the contact angle of the surface can be made 40 degrees to 75 degrees. The present invention is based on such knowledge.
Examples of the aluminum plate that can be used in the present invention include pure aluminum or an aluminum-based alloy material containing at least 60% by weight of aluminum formed into a plate shape.
In high-speed transmission of electrical signals, current flows through the surface conductor within 1 μm from the surface. Therefore, it is desirable that the aluminum metal plate has as many surface irregularities as possible and is close to a mirror surface. The aluminum plate of the present invention can be produced by the method of the present invention to obtain a smooth surface-treated aluminum plate. However, the aluminum plate serving as the substrate has a surface roughness (JIS Ra value) of 0.05 μm or less. preferable. By using an aluminum plate having an Ra value of 0.05 μm or less, the surface roughness of the surface-treated aluminum plate also becomes an Ra value of 0.05 μm or less, and an aluminum-based printed wiring board having optimal characteristics for high-speed transmission of electrical signals can be obtained.
The thickness of the aluminum metal plate that can be used in the present invention is 0.005 to 50 mm. In the present invention, the aluminum metal plate can be applied to a thin aluminum metal plate having a thickness of 0.005 to 0.5 mm.

本発明に使用できる式(1)で表されるトリアジンジチオール誘導体について説明する。
1およびR2は、アルキル基または不飽和アルキル基を表す。
アルキル基の具体例としては、−CH3、−C25、−C49、−C613、−C817、−C1021、−C1225、−C1837、−C2041、−C2245、−C2449が挙げられる。
不飽和アルキル基の具体例としては、−CH2CH=CH2、−(CH28CH=CH2、−(CH29CH=CH2、−C816CH=CHC817が挙げられる。
The triazine dithiol derivative represented by the formula (1) that can be used in the present invention will be described.
R 1 and R 2 represent an alkyl group or an unsaturated alkyl group.
Specific examples of the alkyl group include —CH 3 , —C 2 H 5 , —C 4 H 9 , —C 6 H 13 , —C 8 H 17 , —C 10 H 21 , —C 12 H 25 , —C 18 H 37, -C 20 H 41 , -C 22 H 45, include -C 24 H 49.
Examples of unsaturated alkyl groups, -CH 2 CH = CH 2, - (CH 2) 8 CH = CH 2, - (CH 2) 9 CH = CH 2, -C 8 H 16 CH = CHC 8 H 17 is mentioned.

1およびR2は、それぞれ相互に同一であっても、あるいは異なっていてもよい。本発明においては、Rの異なるトリアジンジチオール誘導体の混合物が好ましい。
本発明に好適なトリアジンジチオール誘導体を例示すれば、2−ジブチルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオール、2−ジイソオクチルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオール、および夫々のジチオールのモノまたはジアルカリ金属塩が挙げられる。本発明において特に好ましいトリアジンジチオール誘導体はDBNまたはiso-DONであり、さらに好ましくはDBNおよびiso-DONの混合物である。
DBNおよびiso-DONの混合割合は、モル比で、DBN:iso-DON=(3:7)〜(7:3)が好ましい。これらの混合物を用いることにより、アルミニウム金属板表面に生成した膜の接触角を 40 度〜75 度にできる。
なお、トリアジンジチオール誘導体は、公知の方法、例えば特開平11−71357号公報の方法等で得られる。
R 1 and R 2 may be the same as or different from each other. In the present invention, a mixture of triazine dithiol derivatives having different R is preferable.
Examples of triazine dithiol derivatives suitable for the present invention are 2-dibutylamino-1,3,5-triazine-2,4-dithiol, 2-diisooctylamino-1,3,5-triazine-2,4. -Dithiols, and mono- or dialkali metal salts of the respective dithiols. A particularly preferred triazine dithiol derivative in the present invention is DBN or iso-DON, more preferably a mixture of DBN and iso-DON.
The mixing ratio of DBN and iso-DON is preferably a molar ratio of DBN: iso-DON = (3: 7) to (7: 3). By using these mixtures, the contact angle of the film formed on the surface of the aluminum metal plate can be made 40 ° to 75 °.
The triazine dithiol derivative can be obtained by a known method, for example, the method described in JP-A No. 11-71357.

金属板表面へのトリアジンジチオール誘導体被膜層の形成方法は、電解重合法、真空蒸着法、スパッタ法等が挙げられる。
本発明においては、生成膜の接触角を調整しやすい電解重合法が好ましい。電解重合法は、例えば、トリアジンジチオール誘導体と電解質からなる電解溶液にアルミニウム金属板を浸漬して、アルミニウム金属板を陽極として電解重合させ、アルミニウム金属板表面にトリアジンジチオール誘導体被膜層を生成させる方法である。
Examples of the method for forming the triazine dithiol derivative coating layer on the surface of the metal plate include an electrolytic polymerization method, a vacuum deposition method, and a sputtering method.
In the present invention, an electropolymerization method that easily adjusts the contact angle of the formed film is preferable. The electrolytic polymerization method is, for example, a method in which an aluminum metal plate is immersed in an electrolytic solution composed of a triazine dithiol derivative and an electrolyte, and is electropolymerized using the aluminum metal plate as an anode, thereby generating a triazine dithiol derivative coating layer on the surface of the aluminum metal plate. is there.

トリアジンジチオール誘導体被膜層の層厚さとしては、50〜2000nm 、特に 100〜300nm が好ましく、この被膜層厚さになるように処理条件を設定する。   The layer thickness of the triazine dithiol derivative coating layer is preferably 50 to 2000 nm, particularly preferably 100 to 300 nm, and the processing conditions are set so that this coating layer thickness is obtained.

金属板表面へ形成されたトリアジンジチオール誘導体被膜層は熱処理を施すことができる。熱処理により、被膜層の重合度が上がり、あるいは不飽和結合部分の架橋反応が生じることにより、被膜強度を上げることができる。熱処理条件としては、空気雰囲気中で温度が 100〜350℃、好ましくは 150〜200℃、処理時間が 5〜600 分、好ましくは 10〜120 分の条件である。   The triazine dithiol derivative coating layer formed on the surface of the metal plate can be subjected to heat treatment. By the heat treatment, the degree of polymerization of the coating layer increases, or the crosslinking reaction of the unsaturated bond portion occurs, whereby the coating strength can be increased. As heat treatment conditions, the temperature is 100 to 350 ° C., preferably 150 to 200 ° C., and the treatment time is 5 to 600 minutes, preferably 10 to 120 minutes in an air atmosphere.

トリアジンジチオール誘導体表面被膜層の表面の接触角は、40 度〜 75 度、好ましくは 45〜72 度である。接触角がこの範囲にあると樹脂基材との接着性に優れているとともに、接着後の耐熱性に優れる。   The contact angle of the surface of the triazine dithiol derivative surface coating layer is 40 to 75 degrees, preferably 45 to 72 degrees. When the contact angle is within this range, the adhesiveness to the resin substrate is excellent, and the heat resistance after adhesion is excellent.

表面被膜層の表面の接触角測定は、純水に対する接触角として、エルマ光学接触角測定器G−1型を用いて、液滴法により測定した。測定は 20 ℃で、測定点は 10 点の平均値を接触角とした。   The contact angle of the surface coating layer was measured by a droplet method using an Elmer optical contact angle measuring instrument G-1 as a contact angle with respect to pure water. The measurement was performed at 20 ° C, and the average value of 10 measurement points was defined as the contact angle.

表面処理されたアルミニウム板の製造方法について図1により説明する。図1は製造工程図である。
アルミニウム金属板1を準備する(工程1)。アルミニウム金属板はアルミニウム導体プリント配線板またはアルミニウムコアプリント配線板に適した形状の金属板を準備する。なお、表面粗さはRa値 0.05μm 以下のアルミニウム金属板を準備する。
A method for producing a surface-treated aluminum plate will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a manufacturing process diagram.
An aluminum metal plate 1 is prepared (step 1). As the aluminum metal plate, a metal plate having a shape suitable for an aluminum conductor printed wiring board or an aluminum core printed wiring board is prepared. An aluminum metal plate having a surface roughness Ra value of 0.05 μm or less is prepared.

アルミニウム板をアルミニウム導体プリント配線板に用いるときは穴明けなどの処理を行なうことなく前処理工程3に、アルミニウムコアプリント配線板に用いるときは穴明け処理を行なう穴明け工程(工程2)後に、前処理工程3に送られる。   When using an aluminum plate for an aluminum conductor printed wiring board, the pre-processing step 3 without performing drilling or the like, and when using an aluminum core printed wiring board after the drilling step (step 2) for performing a drilling process, It is sent to the pretreatment step 3.

電解重合前のアルミニウム金属板に対して、前処理として密着性向上処理を行う(工程3)。この前処理によりアルミニウム金属板へのトリアジンジチオール誘導体層の密着性が向上する。まず、有機溶媒で表面の脱脂を行なう。有機溶媒としては金属表面の脱脂に用いられるケトン系溶媒、例えばアセトンなどが挙げられる。また、脱脂は超音波処理と併用して行なうことができる。最後に純水、メタノールで十分洗浄し、乾燥する。
また、前処理工程として、還元処理を併用できる。還元処理は、脱脂処理されたアルミニウム金属板をヒドラジン水溶液に浸漬して行なう。ヒドラジン濃度としては 1〜10 重量%が好ましく、浸漬時間は 0.1〜5 分、浸漬温度は 20〜60 ℃が好ましい。この前処理条件により次工程であるアルミニウム金属板表面への電解重合が容易となる。最後に純水、メタノールで十分洗浄し、乾燥する。
Adhesion improvement treatment is performed as pretreatment on the aluminum metal plate before electrolytic polymerization (step 3). This pretreatment improves the adhesion of the triazine dithiol derivative layer to the aluminum metal plate. First, the surface is degreased with an organic solvent. Examples of the organic solvent include ketone solvents used for degreasing the metal surface, such as acetone. Degreasing can be performed in combination with ultrasonic treatment. Finally, it is thoroughly washed with pure water and methanol and dried.
Moreover, a reduction process can be used together as a pretreatment process. The reduction treatment is performed by immersing the degreased aluminum metal plate in an aqueous hydrazine solution. The concentration of hydrazine is preferably 1 to 10% by weight, the immersion time is preferably 0.1 to 5 minutes, and the immersion temperature is preferably 20 to 60 ° C. This pretreatment condition facilitates electrolytic polymerization on the surface of the aluminum metal plate, which is the next step. Finally, it is thoroughly washed with pure water and methanol and dried.

次に重合工程として、上記前処理されたアルミニウム金属板表面にトリアジンジチオール誘導体の電解重合膜を形成する(工程4)。
電解液はトリアジンジチオール誘導体および支持電解質を純水に溶解して得られる。
トリアジンジチオール誘導体は、混合トリアジンジチオール誘導体が好ましく、例えばDBNと、iso-DONとをモル比で1:1の割合で配合する。水溶液中の混合トリアジンジチオール誘導体濃度は 0.001〜5 重量%、好ましくは 0.01〜1 重量%である。混合トリアジンジチオール誘導体濃度が 0.001 重量%未満では電解重合膜の形成が困難であり、5 重量%をこえるとモノマーイオンの移動速度が遅くなり重合度が低下する。
支持電解質としては、NaNO2、NaOH、LiOH、KOH、Na2CO3、Na2SO4、K2SO3、Na2SO3、K2CO3、KNO2、KNO3、NaClO4、CH3COONa、Na227、NaBO3、NaH2PO2、(NaPO36、Na2MnO4、Na3SiO3等が挙げられる。
Next, as a polymerization step, an electrolytic polymerization film of a triazine dithiol derivative is formed on the surface of the pretreated aluminum metal plate (step 4).
The electrolytic solution is obtained by dissolving the triazine dithiol derivative and the supporting electrolyte in pure water.
The triazine dithiol derivative is preferably a mixed triazine dithiol derivative. For example, DBN and iso-DON are blended at a molar ratio of 1: 1. The mixed triazine dithiol derivative concentration in the aqueous solution is 0.001 to 5% by weight, preferably 0.01 to 1% by weight. When the mixed triazine dithiol derivative concentration is less than 0.001% by weight, it is difficult to form an electrolytic polymerized film. When the mixed triazine dithiol derivative concentration exceeds 5% by weight, the transfer rate of monomer ions is slowed and the polymerization degree is lowered.
As the supporting electrolyte, NaNO 2 , NaOH, LiOH, KOH, Na 2 CO 3 , Na 2 SO 4 , K 2 SO 3 , Na 2 SO 3 , K 2 CO 3 , KNO 2 , KNO 3 , NaClO 4 , CH 3 COONa, Na 2 B 2 O 7 , NaBO 3 , NaH 2 PO 2 , (NaPO 3 ) 6 , Na 2 MnO 4 , Na 3 SiO 3 and the like can be mentioned.

本発明においては、水酸化ナトリウム(NaOH)、亜硝酸ナトリウム(NaNO2)および炭酸ナトリウム(Na2CO3)の少なくとも一つの化合物を含む支持電解質を用いることが好ましい。特に、後述する実施例で示すように、亜硝酸ナトリウム(NaNO2)を必須成分とする支持電解質が好ましい。すなわち、亜硝酸ナトリウムと水酸化ナトリウムとの混合電解質、または亜硝酸ナトリウムと炭酸ナトリウムとの混合電解質が好ましい。 In the present invention, it is preferable to use a supporting electrolyte containing at least one compound of sodium hydroxide (NaOH), sodium nitrite (NaNO 2 ), and sodium carbonate (Na 2 CO 3 ). In particular, as shown in Examples described later, a supporting electrolyte containing sodium nitrite (NaNO 2 ) as an essential component is preferable. That is, a mixed electrolyte of sodium nitrite and sodium hydroxide or a mixed electrolyte of sodium nitrite and sodium carbonate is preferable.

アルミニウムを一方の電極とする場合、その電極上では、アルミニウムの酸化反応とトリアジンジチオール誘導体の酸化反応との2つの酸化反応が競合する。アルミニウムの標準電極電位(Al3++3e-=Al)は、-1.66 V (対飽和カロメル電極)であり、酸化により生成したAl3+は溶媒である水と結合して最終的にアルミナ(Al23)を生成する。一方トリアジンジチオールの酸化電位は、銅板上で 0.4 V、鉄板上で 0.7V であることから推定すると 1 V に満たない電位と考えられ、アルミニウム電極上ではアルミナ生成がトリアジンジチオール誘導体の電解重合よりも起こりやすいと考えられる。しかし、支持電解質として亜硝酸ナトリウム(NaNO2)を用いると、亜硝酸ナトリウムのラジカル重合促進作用によりアルミニウム電極上でトリアジンジチオール誘導体の電解重合が起こりやすくなる。トリアジンジチオール重合被膜の形成は、FT−IR測定により、トリアジン環に基づくC=C、C=N伸縮振動のピークの存在で確認でき、亜硝酸ナトリウムを必須成分とする支持電解質において顕著に上記ピークが出現した。 When aluminum is used as one electrode, two oxidation reactions of the aluminum oxidation reaction and the triazine dithiol derivative oxidation reaction compete on that electrode. The standard electrode potential of aluminum (Al 3+ + 3e = Al) is −1.66 V (vs. saturated calomel electrode), and Al 3+ produced by oxidation combines with water as a solvent to finally form alumina (Al 2 O 3 ). On the other hand, the oxidation potential of triazine dithiol is estimated to be 0.4 V on the copper plate and 0.7 V on the iron plate, which is considered to be less than 1 V. On the aluminum electrode, alumina formation is more likely than the electropolymerization of the triazine dithiol derivative. It is likely to occur. However, when sodium nitrite (NaNO 2 ) is used as the supporting electrolyte, the triazinedithiol derivative is easily electropolymerized on the aluminum electrode due to the radical polymerization promoting action of sodium nitrite. The formation of the triazine dithiol polymerized film can be confirmed by the presence of C = C and C = N stretching vibration peaks based on the triazine ring by FT-IR measurement. Appeared.

支持電解質の濃度はモル濃度で 0.05 〜 0.3 M/l が好ましい。支持電解質の濃度がこの範囲外になると電解重合による膜厚さが十分でなくなる。
亜硝酸ナトリウムと水酸化ナトリウムとの混合電解質、または亜硝酸ナトリウムと炭酸ナトリウムとの混合電解質とする場合の混合比率は、それぞれ 1 : 1 程度が好ましい。
The concentration of the supporting electrolyte is preferably 0.05 to 0.3 M / l in terms of molar concentration. When the concentration of the supporting electrolyte is outside this range, the film thickness by electrolytic polymerization is not sufficient.
The mixing ratio in the case of using a mixed electrolyte of sodium nitrite and sodium hydroxide or a mixed electrolyte of sodium nitrite and sodium carbonate is preferably about 1: 1.

電解重合時の電解方法としては、作用極と対極との間の電流を一定とする定電流電解法、作用極と対極との間の電位を一定とする定電位電解法、任意の電位まで電位を掃引し電解を行なう走査電位電解法、電流をある一定時間通電するか、一定電圧を印加した後一定時間中断するパルス電解法のいずれの電解方法を採用できる。アルミニウム金属板上における混合トリアジンジチオール誘導体の電解重合においては、電極反応が一定に進行することで、良質な被膜が得られやすい定電流電解法、または電極上で起こる反応の種類を制御できる定電位電解法が好ましい。   Electrolysis at the time of electropolymerization includes constant current electrolysis with a constant current between the working electrode and the counter electrode, constant potential electrolysis with a constant potential between the working electrode and the counter electrode, and potential up to an arbitrary potential. Any one of a scanning potential electrolysis method in which electrolysis is performed by sweeping the current and a pulse electrolysis method in which a current is applied for a certain period of time or a certain period of time after applying a constant voltage can be employed. In the electropolymerization of mixed triazine dithiol derivatives on an aluminum metal plate, a constant-current electrolysis method in which a good-quality film is easily obtained because the electrode reaction proceeds constantly, or a constant potential that can control the type of reaction that occurs on the electrode The electrolytic method is preferred.

電解重合温度は 10 〜 40 ℃が好ましい。電解重合温度がこの範囲外になると電解重合による被膜厚さの生成が十分でなくなる。
重合時間は、望みとする被膜厚さにより調節できる。しかし、重合時間が長すぎると、被膜の剥離、アルミニウム金属板の腐食等が生じるので好ましくない。
また、電流密度は 0.09 mA / cm2以上であることが好ましい。これ以下であるとトリアジンジチオール誘導体の重合電位に達しない。また電流密度が高すぎると被膜表面が粗雑になりやすいため、1 mA / cm2以下であることが好ましい。
The electropolymerization temperature is preferably 10 to 40 ° C. When the electropolymerization temperature is out of this range, the film thickness is not sufficiently generated by the electropolymerization.
The polymerization time can be adjusted depending on the desired film thickness. However, if the polymerization time is too long, peeling of the film, corrosion of the aluminum metal plate, and the like are not preferable.
The current density is preferably 0.09 mA / cm 2 or more. If it is less than this, the polymerization potential of the triazine dithiol derivative will not be reached. Further, if the current density is too high, the surface of the coating tends to be rough, and therefore it is preferably 1 mA / cm 2 or less.

次に熱処理工程として、上記重合工程で得られた重合膜に熱処理を施こす(工程5)。
熱処理は、トリアジンジチオール誘導体被膜の重合度を上げることにより、被膜強度を上げる処理である。熱処理条件としては、空気雰囲気中で温度が 60〜350℃、好ましくは 80〜200℃、処理時間が 5〜600分、好ましくは 5〜120分の条件である。熱処理と同時に紫外線処理などの放射線処理を併用できる。
なお、重合膜に電着むらなどがある場合には、電解重合後で熱処理前に水洗、アルコール溶液に浸漬処理を行なうことが好ましい。アルコール溶液はアルコール単独、あるいはアクリル酸誘導体、マレイン酸誘導体を溶解したアルコール溶液を使用できる。アルコール溶液の具体例としてはアクリル酸−n−ヘキシルを 10 重量%溶解したエタノール溶液、マレイン酸−n−ブチルを 10 重量%溶解したエタノール溶液などが挙げられる。
Next, as a heat treatment step, the polymer film obtained in the polymerization step is subjected to heat treatment (step 5).
The heat treatment is a process for increasing the film strength by increasing the degree of polymerization of the triazine dithiol derivative film. As heat treatment conditions, the temperature is 60 to 350 ° C., preferably 80 to 200 ° C., and the treatment time is 5 to 600 minutes, preferably 5 to 120 minutes in an air atmosphere. Simultaneously with the heat treatment, radiation treatment such as ultraviolet treatment can be used together.
If the polymerized film has uneven electrodeposition, it is preferable to carry out water washing and immersion treatment in an alcohol solution after electrolytic polymerization and before heat treatment. As the alcohol solution, alcohol alone or an alcohol solution in which an acrylic acid derivative or a maleic acid derivative is dissolved can be used. Specific examples of the alcohol solution include an ethanol solution in which 10% by weight of acrylic acid-n-hexyl is dissolved, an ethanol solution in which 10% by weight of maleic acid-n-butyl is dissolved, and the like.

本発明のアルミニウム板6は、表面粗さが 0.05μm(Ra)以下の表面に 100 〜 300 nm 厚さのトリアジンジチオール誘導体被膜が形成される。このアルミニウム板の表面接触角は 40 度〜 75 度の値を示し、10 KN/m 以上のピール強度を示すのでアルミニウム導体プリント配線板またはアルミニウムコアプリント配線板等のアルミニウム系プリント配線板に好適に使用できる。   In the aluminum plate 6 of the present invention, a triazine dithiol derivative film having a thickness of 100 to 300 nm is formed on the surface having a surface roughness of 0.05 μm (Ra) or less. The surface contact angle of this aluminum plate shows a value of 40 to 75 degrees and shows a peel strength of 10 KN / m or more, so it is suitable for aluminum printed wiring boards such as aluminum conductor printed wiring boards or aluminum core printed wiring boards. Can be used.

トリアジンジチオール誘導体被膜処理を施したアルミニウム板6を用いてアルミニウム導体プリント配線板を製造する工程について図2および図3を用いて説明する。図2はアルミニウム導体プリント配線板の工程図であり、図3は工程ごとの構造図である。
本発明の表面処理アルミニウム板6は、未処理アルミニウム金属板1の表面にトリアジンジチオール誘導体被膜61が形成されている(図3(a))。
アルミニウム板6と熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂等の絶縁性樹脂81とを積層させて積層プレス工程7を行なうことによりアルミニウム積層板8を形成する(図3(b))。
絶縁性樹脂81としては、熱硬化性樹脂が好ましく、特にプリプレグを用いることが好ましい。プリプレグは、基材に熱硬化性樹脂を含浸させたものであれば使用することができる。紙、ガラス布、ガラス不織布、ポリエステル不織布、芳香属ポリアミド紙、またはこれらの組み合わせ等などを挙げることができ、熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、イミド変性エポキシ樹脂、アラルキルエーテル樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等を挙げることができる。
積層プレス工程7は、絶縁性樹脂81の両側にアルミニウム板6を重ね合わせて離型アルミニウム板やクッション板などの積層用治具を用いてセットアップし、熱プレスの熱板間に挿入し積層接着プレスを行なう。
A process for producing an aluminum conductor printed wiring board using the aluminum plate 6 subjected to the triazine dithiol derivative coating treatment will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a process diagram of an aluminum conductor printed wiring board, and FIG. 3 is a structural diagram for each process.
In the surface-treated aluminum plate 6 of the present invention, a triazine dithiol derivative coating 61 is formed on the surface of the untreated aluminum metal plate 1 (FIG. 3A).
An aluminum laminated plate 8 is formed by laminating an aluminum plate 6 and an insulating resin 81 such as a thermosetting resin or a thermoplastic resin and performing a laminating press step 7 (FIG. 3B).
The insulating resin 81 is preferably a thermosetting resin, and particularly preferably a prepreg. The prepreg can be used as long as the base material is impregnated with a thermosetting resin. Paper, glass cloth, glass nonwoven fabric, polyester nonwoven fabric, aromatic polyamide paper, or combinations thereof can be used. Examples of thermosetting resins include epoxy resins, phenol resins, polyimide resins, imide-modified epoxy resins, and aralkyls. Examples include ether resins, polyvinylphenol resins, bismaleimide / triazine resins, and the like.
In the laminating press step 7, the aluminum plate 6 is overlapped on both sides of the insulating resin 81 and set up using a laminating jig such as a release aluminum plate or a cushion plate, and inserted between the hot press hot plates and laminated and bonded. Press.

アルミニウム積層板8を用いて、スルホール用の穴92の穴明けを行なった後に、表面研磨、脱脂、亜鉛置換処理等を行ない、最後に電気銅メッキ処理を行ない表面に電気銅メッキ層91を形成する(工程9、図3(c))。
次に導体パターンの形成を行なう(工程10、図3(d))。導体パターンの形成は、ドライフィルムを用いる方法やパターン印刷による方法など、いずれの方法であっても使用できる。例えば、ドライフィルム貼付け、露光・現像、ダイレクトプレーティング、電気銅メッキ処理等を行なうことにより、スルホール用の穴92の内面を含め電気銅メッキ101による導体パターンが形成される。102はメッキレジストである。
最後にメッキレジスト102の除去とアルミニウム板6のエッチング処理(工程11)とを行なうことにより、アルミニウム導体プリント配線板12が得られる(図3(e))。
本発明のアルミニウム導体プリント配線板12はトリアジンジチオール誘導体被膜処理を施したアルミニウム板6を用いているので、絶縁性樹脂81とアルミニウム板6との接着性に優れる。このため、高温時の剥離も少なく、熱サイクルにも耐えるなど、耐熱性に優れたアルミニウム導体プリント配線板が得られる。
After drilling holes 92 for through-holes using the aluminum laminated plate 8, surface polishing, degreasing, zinc replacement treatment, etc. are performed, and finally, copper electroplating is performed to form an electro copper plating layer 91 on the surface. (Step 9, FIG. 3C).
Next, a conductor pattern is formed (step 10, FIG. 3 (d)). The conductor pattern can be formed by any method such as a method using a dry film or a method using pattern printing. For example, by performing dry film sticking, exposure / development, direct plating, electrolytic copper plating, etc., a conductor pattern is formed by the electrolytic copper plating 101 including the inner surface of the through hole 92. Reference numeral 102 denotes a plating resist.
Finally, by removing the plating resist 102 and etching the aluminum plate 6 (step 11), the aluminum conductor printed wiring board 12 is obtained (FIG. 3E).
Since the aluminum conductor printed wiring board 12 of the present invention uses the aluminum plate 6 subjected to the triazine dithiol derivative coating treatment, the adhesiveness between the insulating resin 81 and the aluminum plate 6 is excellent. For this reason, the aluminum conductor printed wiring board excellent in heat resistance, such as few peeling at the time of high temperature and withstanding heat cycle, can be obtained.

トリアジンジチオール誘導体被膜処理を施した穴明けアルミニウム板6aを用いてアルミニウムコアプリント配線板を製造する工程について図4および図5を用いて説明する。図4はアルミニウムコアプリント配線板の工程図であり、図5は工程ごとの構造図である。
本発明のアルミニウム板6aは、穴明け処理がされた後に、未処理アルミニウム金属板1の表面にトリアジンジチオール誘導体被膜61が形成されている(図5(a))。
アルミニウム導体プリント配線板と同様にして積層プレス工程7aを行ない、アルミニウムコア銅張板13を形成する(工程13、図5(b))。
積層プレス工程7aは、アルミニウム板6aの両側に絶縁性樹脂81を、さらにその外側に銅箔131を重ね合わせて離型アルミニウム板やクッション板などの積層用治具を用いてセットアップし、熱プレスの熱板間に挿入し積層接着プレスを行なう。
A process for producing an aluminum core printed wiring board using the perforated aluminum plate 6a subjected to the triazine dithiol derivative coating treatment will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a process diagram of an aluminum core printed wiring board, and FIG. 5 is a structural diagram for each process.
In the aluminum plate 6a of the present invention, after the drilling treatment, the triazine dithiol derivative coating 61 is formed on the surface of the untreated aluminum metal plate 1 (FIG. 5A).
In the same manner as the aluminum conductor printed wiring board, the lamination press step 7a is performed to form the aluminum core copper-clad plate 13 (step 13, FIG. 5B).
In the laminating press step 7a, an insulating resin 81 is placed on both sides of the aluminum plate 6a, and a copper foil 131 is placed on the outer side of the aluminum plate 6a, and set up using a laminating jig such as a release aluminum plate or a cushion plate. Is inserted between the hot plates and laminated adhesive press is performed.

アルミニウムコア銅張板13を用いて、スルホール用の穴141の穴明けを行なった後に、化学銅メッキ処理、電気銅メッキ処理をそれぞれ行ない表面に電気銅メッキ層142を形成する(工程14、図5(c))。
次に導体パターンの形成を行なう(工程15、図5(d))。導体パターンの形成は、ドライフィルム151を用いる方法が好ましい。
最後にエッチング・ドライフィルム除去処理(工程16)を行ない、アルミニウムコアプリント配線板17が得られる(図5(e))。
本発明のアルミニウムコアプリント配線板17はトリアジンジチオール誘導体被膜処理を施したアルミニウム板6aを用いているので、絶縁性樹脂81とアルミニウム板6aとの接着性に優れる。このため、高温時の剥離も少なく、熱サイクルにも耐えるなど、耐熱性に優れたアルミニウムコアプリント配線板が得られる。
After drilling the through hole 141 using the aluminum core copper-clad plate 13, a chemical copper plating process and an electrolytic copper plating process are performed to form an electrolytic copper plating layer 142 on the surface (step 14, FIG. 5 (c)).
Next, a conductor pattern is formed (step 15, FIG. 5 (d)). For the formation of the conductor pattern, a method using a dry film 151 is preferable.
Finally, an etching / dry film removal process (step 16) is performed to obtain an aluminum core printed wiring board 17 (FIG. 5E).
Since the aluminum core printed wiring board 17 of the present invention uses the aluminum plate 6a subjected to the triazine dithiol derivative coating treatment, the adhesiveness between the insulating resin 81 and the aluminum plate 6a is excellent. For this reason, the aluminum core printed wiring board excellent in heat resistance, such as few peeling at high temperature and withstanding heat cycle, can be obtained.

実施例1〜実施例9
厚さ 0.1mm で表面粗さが 50nm (Ra)以下のアルミニウム金属板を準備する。このアルミニウム金属板の表面をアセトン中で 30 分間超音波下に脱脂し、室温で乾燥した。この脱脂処理したアルミニウム金属板を用いて表1に示す電解液、電解重合条件および熱処理条件で表面処理を行ない表面処理アルミニウム板を得た。トリアジンジチオール誘導体被膜の厚さは約 200 nm であった。
Examples 1 to 9
An aluminum metal plate having a thickness of 0.1 mm and a surface roughness of 50 nm (Ra) or less is prepared. The surface of this aluminum metal plate was degreased in acetone for 30 minutes under ultrasound and dried at room temperature. Using this degreased aluminum metal plate, surface treatment was performed under the electrolytic solution, electrolytic polymerization conditions and heat treatment conditions shown in Table 1 to obtain a surface-treated aluminum plate. The thickness of the triazine dithiol derivative coating was about 200 nm.

得られた表面処理アルミニウム板の純水に対する接触角とピール強度を測定した。ピール強度は引張り試験機(島津製作所製、AGS−500A)を用いて測定した。結果を表1に示す。処理表面状態は目視で判断して電着むらが見られない場合を良好とした。また、接触角、処理表面状態およびピール強度を考慮して総合的に最も優れている場合を◎とし、次に優れているものを○とし、最も劣っている場合を×として総合評価した。なお、比較例1は表面処理なしのアルミニウム板の特性である。   The contact angle and peel strength with respect to pure water of the obtained surface-treated aluminum plate were measured. The peel strength was measured using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, AGS-500A). The results are shown in Table 1. The treated surface state was judged visually, and the case where no uneven electrodeposition was observed was considered good. In addition, when the contact angle, the treated surface state and the peel strength were taken into consideration, the overall best case was evaluated as 、, the next best case as ○, and the worst case as ×. In addition, the comparative example 1 is the characteristic of the aluminum plate without surface treatment.

Figure 2005109363
表1に示すように、各実施例は接触角が 40 度〜 75 度の範囲内であり、比較例1よりも優れたピール強度を有している。
Figure 2005109363
As shown in Table 1, each example has a contact angle in the range of 40 degrees to 75 degrees, and has a peel strength superior to that of Comparative Example 1.

実施例10〜実施例12
実施例4で得られた表面処理アルミニウム板と、3種類のガラスエポキシプリプレグとを表2に示す条件で積層させて、表2に示す加熱条件で加熱後のピール強度を測定した。用いたガラスエポキシプリプレグは、実施例10が利昌工業社製プリプレグES−3305であり、実施例11がニッカン工業社製プリプレグP−6514であり、実施例12がニッカン工業社製プリプレグP−6524である。結果を表2に示す。
Examples 10 to 12
The surface-treated aluminum plate obtained in Example 4 and three types of glass epoxy prepregs were laminated under the conditions shown in Table 2, and the peel strength after heating was measured under the heating conditions shown in Table 2. As for the used glass epoxy prepreg, Example 10 is a prepreg ES-3305 manufactured by Risho Kogyo Co., Ltd., Example 11 is a prepreg P-6514 manufactured by Nikkan Kogyo, and Example 12 is a prepreg P-6524 manufactured by Nikkan Kogyo. is there. The results are shown in Table 2.

Figure 2005109363
表2に示すように、各実施例はいずれも 150℃、96 時間加熱後であってもピール強度の低下は少なかった。
Figure 2005109363
As shown in Table 2, in each example, the peel strength decreased little even after heating at 150 ° C. for 96 hours.

実施例13〜実施例15
実施例10〜実施例12における 180℃、25kgf/cm2、100min.の条件で積層させた試料を用いてハンダ耐熱試験を行なった。ハンダ耐熱試験は 260℃の静止ハンダ上にフローさせることにより行なった。結果を表3に示す。なお膨れや剥がれが発生しない場合をOKで示した。
Example 13 to Example 15
A solder heat resistance test was performed using the samples laminated in the conditions of 180 ° C., 25 kgf / cm 2 , and 100 min. The solder heat resistance test was conducted by flowing on a static solder at 260 ° C. The results are shown in Table 3. The case where no swelling or peeling occurs is indicated by OK.

Figure 2005109363
表3に示すように、各実施例はいずれもハンダ耐熱試験に優れていた。
Figure 2005109363
As shown in Table 3, each example was excellent in the solder heat resistance test.

本発明のアルミニウム板は、樹脂基材との接着性に優れているとともに、接着後の耐熱性に優れているので、優れた耐熱性および高精度パターンを必要とされるアルミニウム導体プリント配線板およびアルミニウムコアプリント配線板などのアルミニウム系プリント配線板に適用できる。   Since the aluminum plate of the present invention is excellent in adhesion to a resin base material and excellent in heat resistance after bonding, an aluminum conductor printed wiring board that requires excellent heat resistance and a high-precision pattern and It can be applied to aluminum-based printed wiring boards such as aluminum core printed wiring boards.

表面処理されたアルミニウム板の製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of the surface-treated aluminum plate. アルミニウム導体プリント配線板の工程図である。It is process drawing of an aluminum conductor printed wiring board. 図2の工程ごとの構造図である。FIG. 3 is a structural diagram for each step of FIG. 2. アルミニウムコアプリント配線板の工程図である。It is process drawing of an aluminum core printed wiring board. 図4の工程ごとの構造図である。FIG. 5 is a structural diagram for each step of FIG. 4. アルミニウム銅張板の製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of an aluminum copper clad board.

符号の説明Explanation of symbols

1 アルミニウム金属板
2 工程2
3 工程3
4 工程4
5 工程5
6 表面処理アルミニウム板
12 アルミニウム導体プリント配線板
17 アルミニウムコアプリント配線板
1 Aluminum metal plate 2 Process 2
3 Step 3
4 Process 4
5 Process 5
6 Surface-treated aluminum plate 12 Aluminum conductor printed wiring board 17 Aluminum core printed wiring board

Claims (8)

アルミニウム系プリント配線板に用いるためのトリアジンジチオール誘導体層で表面処理されたアルミニウム板であって、
前記表面処理されたアルミニウム板の接触角が 40 度〜75 度であることを特徴とするアルミニウム板。
An aluminum plate surface-treated with a triazine dithiol derivative layer for use in an aluminum-based printed wiring board,
The aluminum plate, wherein the surface-treated aluminum plate has a contact angle of 40 degrees to 75 degrees.
前記トリアジンジチオール誘導体層は下記式(1)で表されるトリアジンジチオール誘導体の電解重合体であることを特徴とする請求項1記載のアルミニウム板。
Figure 2005109363
(Rは、−NR12で表され、R1およびR2は、アルキル基または不飽和アルキル基を表し、Mは水素原子またはアルカリ金属を表す)
The aluminum plate according to claim 1, wherein the triazine dithiol derivative layer is an electrolytic polymer of a triazine dithiol derivative represented by the following formula (1).
Figure 2005109363
(R is represented by —NR 1 R 2 , R 1 and R 2 represent an alkyl group or an unsaturated alkyl group, and M represents a hydrogen atom or an alkali metal)
前記トリアジンジチオール誘導体は、Rが異なるトリアジンジチオール誘導体の混合物であることを特徴とする請求項2記載のアルミニウム板。   The aluminum plate according to claim 2, wherein the triazine dithiol derivative is a mixture of triazine dithiol derivatives having different Rs. 前記トリアジンジチオール誘導体の混合物が2−ジブチルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオールモノソジウムと2−ジイソオクチルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオールモノソジウムとの混合物であることを特徴とする請求項3記載のアルミニウム板。   The mixture of the triazine dithiol derivatives is 2-dibutylamino-1,3,5-triazine-2,4-dithiolmonosodium and 2-diisooctylamino-1,3,5-triazine-2,4-dithiolmono The aluminum plate according to claim 3, which is a mixture with sodium. 前記電解重合体が熱処理されてなることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項記載のアルミニウム板。   The aluminum plate according to any one of claims 1 to 4, wherein the electrolytic polymer is heat-treated. 下記式(1)で表されるトリアジンジチオール誘導体の電解重合によりアルミニウム金属板表面に重合膜を形成する重合工程と、該重合膜に熱処理を施こす熱処理工程とを備えてなるアルミニウム系プリント配線板に用いられるトリアジンジチオール誘導体で表面処理されたアルミニウム板の製造方法において、
前記重合工程の前処理として、トリアジンジチオール誘導体とアルミニウム金属板との密着性向上処理工程を有することを特徴とするアルミニウム板の製造方法。
Figure 2005109363
(Rは、−NR12で表され、R1およびR2は、アルキル基または不飽和アルキル基を表し、Mは水素原子またはアルカリ金属を表す)
An aluminum-based printed wiring board comprising: a polymerization step of forming a polymer film on the surface of an aluminum metal plate by electrolytic polymerization of a triazine dithiol derivative represented by the following formula (1); and a heat treatment step of subjecting the polymer film to a heat treatment In the manufacturing method of the aluminum plate surface-treated with the triazine dithiol derivative used for
A method for producing an aluminum plate, comprising a step of improving the adhesion between a triazine dithiol derivative and an aluminum metal plate as a pretreatment for the polymerization step.
Figure 2005109363
(R is represented by —NR 1 R 2 , R 1 and R 2 represent an alkyl group or an unsaturated alkyl group, and M represents a hydrogen atom or an alkali metal)
前記重合工程は、水酸化ナトリウム、亜硝酸ナトリウムおよび炭酸ナトリウムの少なくとも一つの化合物を含む支持電解質を用いることを特徴とする請求項6記載のアルミニウム板の製造方法。   7. The method for producing an aluminum plate according to claim 6, wherein the polymerization step uses a supporting electrolyte containing at least one compound of sodium hydroxide, sodium nitrite and sodium carbonate. プリプレグ、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂にアルミニウム板を積層接着して得られるアルミニウム系プリント配線板において、
前記アルミニウム板が請求項1ないし請求項5のいずれか1項記載のアルミニウム板であることを特徴とするアルミニウム系プリント配線板。
In an aluminum-based printed wiring board obtained by laminating and bonding an aluminum plate to a prepreg, a thermosetting resin or a thermoplastic resin,
An aluminum-based printed wiring board, wherein the aluminum plate is the aluminum plate according to any one of claims 1 to 5.
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