JP2005109178A - 荷電粒子線露光装置 - Google Patents
荷電粒子線露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005109178A JP2005109178A JP2003341136A JP2003341136A JP2005109178A JP 2005109178 A JP2005109178 A JP 2005109178A JP 2003341136 A JP2003341136 A JP 2003341136A JP 2003341136 A JP2003341136 A JP 2003341136A JP 2005109178 A JP2005109178 A JP 2005109178A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- charged particle
- exposure apparatus
- particle beam
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
【課題】 マスクの製造コストを増大させることなく、マスクの汚染検査を簡易に行う。
【解決手段】 第1及び第2マスク4,7を通過した電子ビーム3を対物絞り31を介してウェハ10上に照射する電子線露光装置であって、第2マスク7の上方に、第2マスク7上に堆積する汚染物質に接触する探針15と、汚染物質が堆積していない第2マスク7の表面に接触する探針16とを配置した。ワークステーション13により、探針15と探針16との間の電気抵抗値を測定し、その測定結果に基づいて第2マスク7の汚染を検査する。
【選択図】 図1
【解決手段】 第1及び第2マスク4,7を通過した電子ビーム3を対物絞り31を介してウェハ10上に照射する電子線露光装置であって、第2マスク7の上方に、第2マスク7上に堆積する汚染物質に接触する探針15と、汚染物質が堆積していない第2マスク7の表面に接触する探針16とを配置した。ワークステーション13により、探針15と探針16との間の電気抵抗値を測定し、その測定結果に基づいて第2マスク7の汚染を検査する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、荷電粒子線露光装置に係り、特に可変成形型電子線露光装置に関する。
図4は、従来の荷電粒子線露光装置としての可変成形型電子線露光装置を説明するための概略図である。
図4に示すように、真空保持されたカラム40内の電子源41から放出された円形断面の電子ビーム42が、矩形開口を有する第1マスク43及び第2マスク45を通過することにより矩形断面の電子ビーム42となる。この電子ビームは、対物絞り46を通り、試料室47内のステージ49上のウェハ48に対して所望の縮小率で投影される。試料室47内の反射電子検出器50は、ウェハ48上に設けられたチップマークや、ステージ49上に設けられた基準マークを検出するものである。反射電子検出器50により検出された画像信号は、ケーブルを介してワークステーション51に入力され、該ワークステーション51の表示部に表示される。
図4に示すように、真空保持されたカラム40内の電子源41から放出された円形断面の電子ビーム42が、矩形開口を有する第1マスク43及び第2マスク45を通過することにより矩形断面の電子ビーム42となる。この電子ビームは、対物絞り46を通り、試料室47内のステージ49上のウェハ48に対して所望の縮小率で投影される。試料室47内の反射電子検出器50は、ウェハ48上に設けられたチップマークや、ステージ49上に設けられた基準マークを検出するものである。反射電子検出器50により検出された画像信号は、ケーブルを介してワークステーション51に入力され、該ワークステーション51の表示部に表示される。
ところで、第1及び第2マスク43,45並びに対物絞り46には、電子ビーム42が長時間連続して照射される。その結果、電子ビーム42が通過するそれぞれの開口部周辺に、ハイドロカーボン等の汚染物質が堆積してしまう。この汚染物質の堆積量は、開口部周辺の真空度等に依存する。上記露光装置の場合、電子源41に近い第1マスク43周辺は第2マスク45周辺に比べて真空度が高いため、第1マスク43の開口部周辺は、第2マスク45や対物絞り46の開口部周辺に比べて汚染物質が付着しにくい。図5に示す第2マスク45においては、照射が長く局所集中した場合、第1マスク43の開口部に対応するエリア52、すなわち第2マスク45の開口部54の左下付近に、汚染物質53が堆積する。また、図6に示す対物絞り46においては、中央の開口部54から同心円状に汚染物質55が堆積する。更に、その周辺部にはブランキング制御された待機時の電子ビーム42も局所照射されるため、同様な汚染物質56が堆積する。これらの汚染物質は経時的に絶縁物化してしまい、電子ビーム42の散乱電子を蓄積してチャージアップしてしまうため、電子ビーム42の軌道を妨害する。これにより、電子ビーム42の電流変動や、ウェハ48上のパターン形状の変形が生じたりするため、露光精度が著しく低下してしまう。
上述したように、各マスク43,45及び対物絞り46は経時的な汚染物質の堆積を伴うが、それらの継続使用が可能であるか否かの判断は、カラム40内を大気開放して、内部を解体して調査する必要があった。このため、再度露光装置を使用するまでのダウンタイムが長くなってしまうという問題があった。
上述したように、各マスク43,45及び対物絞り46は経時的な汚染物質の堆積を伴うが、それらの継続使用が可能であるか否かの判断は、カラム40内を大気開放して、内部を解体して調査する必要があった。このため、再度露光装置を使用するまでのダウンタイムが長くなってしまうという問題があった。
この問題を解決するため、マスク上に形成された金属膜間の電気抵抗を測定し、汚染物質の堆積量を知る方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
しかしながら、上述した方法では、マスク上に金属膜を形成し、更にその金属膜をリソグラフィ技術及びエッチングによりパターニングする必要があるため、マスクの製造コストが高騰してしまうという問題があった。さらに、対物絞り上に金属膜を形成することができないため、上述した方法を用いて対物絞りの汚染検査をすることができなかった。
本発明は、上記従来の課題を解決するためになされたもので、マスクの製造コストを増大させることなく、マスクの汚染検査を簡易に行うことを目的とする。また、本発明は、対物絞りの汚染検査を簡易に行うことを目的とする。
本発明に係る荷電粒子線露光装置は、マスクを通過した荷電粒子線を対物絞りを介して基板上に照射する荷電粒子線露光装置であって、
前記マスクの上方に移動自在に配置され、前記マスク上に堆積する前記汚染物質に接触する第1接触子と、
前記マスクの上方に移動自在に配置され、前記汚染物質が堆積していない前記マスクの表面に接触する第2接触子と、
前記第1接触子と前記第2接触子との間の電気抵抗値を測定する第1測定部と、
第1測定部の測定結果に基づいて、前記マスクの汚染を検査する検査部と、
を備えたことを特徴とするものである。
前記マスクの上方に移動自在に配置され、前記マスク上に堆積する前記汚染物質に接触する第1接触子と、
前記マスクの上方に移動自在に配置され、前記汚染物質が堆積していない前記マスクの表面に接触する第2接触子と、
前記第1接触子と前記第2接触子との間の電気抵抗値を測定する第1測定部と、
第1測定部の測定結果に基づいて、前記マスクの汚染を検査する検査部と、
を備えたことを特徴とするものである。
本発明に係る荷電粒子線露光装置において、前記対物絞りの上方に移動自在に配置され、前記対物絞り上に堆積する前記汚染物質に接触する第3接触子と、
前記対物絞りの上方に移動自在に配置され、前記汚染物質が堆積していない前記対物絞りの表面に接触する第4接触子と、
前記第3接触子と前記第4接触子との間の電気抵抗値を測定する第2測定部とを更に備え、
前記第2測定部の測定結果に基づいて、前記検査部により前記対物絞りの汚染を検査することが好適である。
前記対物絞りの上方に移動自在に配置され、前記汚染物質が堆積していない前記対物絞りの表面に接触する第4接触子と、
前記第3接触子と前記第4接触子との間の電気抵抗値を測定する第2測定部とを更に備え、
前記第2測定部の測定結果に基づいて、前記検査部により前記対物絞りの汚染を検査することが好適である。
本発明に係る荷電粒子線露光装置において、前記荷電粒子線を前記マスクの開口部周辺に走査可能な偏向器と、
前記マスクからの反射電子を検出して、前記マスク上に堆積する汚染物質を観察する第1観察部と、
前記第1観察部の観察結果に基づいて前記第1及び第2接触子を移動させる第1駆動部とを更に備えることが好適である。
前記マスクからの反射電子を検出して、前記マスク上に堆積する汚染物質を観察する第1観察部と、
前記第1観察部の観察結果に基づいて前記第1及び第2接触子を移動させる第1駆動部とを更に備えることが好適である。
本発明に係る荷電粒子線露光装置において、前記対物絞りからの反射電子を検出して、前記対物絞り上に堆積する汚染物質を観察する第2観察部と、
前記第2観察部の観察結果に基づいて前記第3及び第4接触子を移動させる第2駆動部とを更に備えることが好適である。
前記第2観察部の観察結果に基づいて前記第3及び第4接触子を移動させる第2駆動部とを更に備えることが好適である。
本発明に係る荷電粒子線露光装置において、前記第1及び第2接触子の移動範囲よりも広い範囲で前記マスクを移動させるマスク駆動部を更に備えることが好適である。
本発明によれば、以上説明したように、マスクの製造コストを増大させることなく、マスクの汚染検査を簡易に行うことができる。また、本発明によれば、対物絞りの汚染検査を簡易に行うことができる。
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1による荷電粒子線露光装置を説明するための概略図である。詳細には、図1は、可変成形型電子線露光装置を説明するための概略図である。
図1は、本発明の実施の形態1による荷電粒子線露光装置を説明するための概略図である。詳細には、図1は、可変成形型電子線露光装置を説明するための概略図である。
図1に示すように、真空保持されたカラム1内には、円形断面の電子ビーム3を放出する電子源2と、電子ビーム3の断面を矩形断面に成形する第1マスク4及び第2マスク7と、第2マスク7を基準として第1マスク4の投影位置を任意に変更する成形偏向器5と、第2マスク7を通過した矩形断面を有する電子ビーム3の散乱電子を遮蔽する対物絞り31とが設けられている。第1及び第2マスク4,7には、複数個の異なる或いは同一形状の開口部が形成されている。第2マスク7を通過した電子ビーム3は、所望の寸法を有する矩形ビームに制御されている。
また、図示しないが、第2マスク7の汚染検査(後述)を行う際に、第2マスク7の開口部周辺で電子ビーム3を走査する別偏光器が設けられている。すなわち、通常露光用の成形偏向器5の他に、汚染検査用の偏光器が設けられている。
また、詳細は後述するが、第2マスク7に対して、該第2マスク7の汚染を検査する汚染検査ユニット6が設けられている。
また、図示しないが、第2マスク7の汚染検査(後述)を行う際に、第2マスク7の開口部周辺で電子ビーム3を走査する別偏光器が設けられている。すなわち、通常露光用の成形偏向器5の他に、汚染検査用の偏光器が設けられている。
また、詳細は後述するが、第2マスク7に対して、該第2マスク7の汚染を検査する汚染検査ユニット6が設けられている。
カラム1に接続された試料室9内に設けられたステージ11上に、基板としてのウェハ10が支持されている。ウェハ10の上方には、ウェハ10上に設けられたチップマークや、ステージ11上に設けられた基準マークを検出する反射電子検出器8が設けられている。反射電子検出器8により検出された画像信号は、信号ケーブルを介して制御部としてのワークステーション13に入力され、該ワークステーション13の表示部13aに画像が表示される。
ワークステーション13は、2探針15,16間の電気的抵抗測定を実行する測定部であると共に、その測定結果の解析を行う検査部である。詳細には、ワークステーション13内の記憶部(図示せず)に記憶された閾値(交換基準値)と、測定された電気抵抗値を比較することにより、第2マスク7の交換が必要か否かを判別し、その判別結果を表示部13aに表示する。さらに、ワークステーション13は、第2マスク7の交換が必要と判断した場合には、図示しない警告灯を点灯させる等によりオペレータに知らせる。
図2は、図1に示した汚染検査ユニット6を説明するための概略図である。
図2に示すように、第2マスク7よりも上方位置に、第2マスク7の開口部14付近に堆積した汚染物質19に接触する第1接触子としての探針15が移動自在に配置され、この探針15を支持する支持棒17が設けられている。また、探針15と同様に第2マスク7よりも上方位置に、汚染物質19が堆積していない第2マスク7表面に接触するアース用の第2接触子としての探針16が移動自在に配置され、この探針16を支持する第2支持棒18が設けられている。探針15の針圧は、汚染物質19を貫通して第2マスク7表面に接触しないように、事前に調整手段(図示せず)により適度に調整されている。2つの探針15,16は、装置レイアウトの観点から、できるだけ近接して配置することが好適である。また、カラム1の外側には、支持棒17,18を介して2つの探針15,16を、図中の矢印のように水平方向及び垂直方向に移動させる駆動部20が設けられている。
図2に示すように、第2マスク7よりも上方位置に、第2マスク7の開口部14付近に堆積した汚染物質19に接触する第1接触子としての探針15が移動自在に配置され、この探針15を支持する支持棒17が設けられている。また、探針15と同様に第2マスク7よりも上方位置に、汚染物質19が堆積していない第2マスク7表面に接触するアース用の第2接触子としての探針16が移動自在に配置され、この探針16を支持する第2支持棒18が設けられている。探針15の針圧は、汚染物質19を貫通して第2マスク7表面に接触しないように、事前に調整手段(図示せず)により適度に調整されている。2つの探針15,16は、装置レイアウトの観点から、できるだけ近接して配置することが好適である。また、カラム1の外側には、支持棒17,18を介して2つの探針15,16を、図中の矢印のように水平方向及び垂直方向に移動させる駆動部20が設けられている。
また、第2マスク7はマスク駆動部(図示せず)により保持され、該マスク駆動部により第2マスク7は2つの探針15,16の移動範囲よりも広範囲のXY方向(図中の矢印で示す。)に移動可能である。探針15,16が移動する前に第2マスク7が移動することにより、探針15,16の移動距離を短くすることができるため、第2マスク7の汚染検査時間を短縮可能である。なお、第2マスク7の移動は任意で行えばよく、探針15,16のみを移動させて汚染検査を行ってもよい。
また、第2マスク7の開口部14上方には、汚染検査部位すなわち汚染物質19の堆積位置を観察する観察部としての反射電子検出器21が設けられている。反射電子検出器21は、第2マスク7からの反射電子を検出し、その検出結果を駆動部20とワークステーション13に出力する。この反射電子検出器21から入力された検出結果に基づいて、上記駆動部20は、2つの探針15,16を移動させる。なお、反射電子検出器21の代わりに、観察部としてCCD素子を用いてもよい。
以下、上記荷電粒子線露光装置の動作について説明する。
先ず、通常行われるウェハへのパターン露光動作について説明する。
カラム1内の電子源2から円形断面の電子ビーム3が放出され、この電子ビーム3が第1マスク4の矩形開口部を通る。第1マスク4を通った電子ビーム3は、成形偏向器5により投影位置が変更され第2マスク7の矩形開口部を通る。第2マスク7を通った電子ビーム3は、対物絞り31の開口部を通ることにより、散乱電子が除かれる。対物絞り31を通った電子ビーム3は、試料室9内のステージ11上に保持されたウェハ10上に照射されることにより、パターン露光が行われる。
先ず、通常行われるウェハへのパターン露光動作について説明する。
カラム1内の電子源2から円形断面の電子ビーム3が放出され、この電子ビーム3が第1マスク4の矩形開口部を通る。第1マスク4を通った電子ビーム3は、成形偏向器5により投影位置が変更され第2マスク7の矩形開口部を通る。第2マスク7を通った電子ビーム3は、対物絞り31の開口部を通ることにより、散乱電子が除かれる。対物絞り31を通った電子ビーム3は、試料室9内のステージ11上に保持されたウェハ10上に照射されることにより、パターン露光が行われる。
次に、パターン露光前に毎回或いは定期的に行われるマスク汚染検査について説明する。
電子源2から放出され第1マスク4を通った電子ビーム3を、不図示の汚染検査用偏向器により第2マスク7の開口部周辺に走査する。第2マスク7から反射される電子を反射電子検出器21により検出することにより、第2マスク7上に堆積した汚染物質19の位置が観察される。この観察結果に基づいて、駆動部20が2つの探針15,16を移動させる。詳細には、駆動部20の駆動制御により、探針15が汚染物質19に接触し、探針16が汚染物質19未堆積の第2マスク7表面に接触する。また、汚染物質19の観察結果は、ワークステーション13の表示部13aに表示される。そして、探針15と探針16との間の電気抵抗値を測定する。測定された2探針間電気抵抗値は信号ケーブル12を介してワークステーション13に入力される。測定された電気抵抗値が、当該露光装置の運用経験から予め定められ記憶された閾値(交換基準値)に達した場合に、ワークステーション13は第2マスク7の交換が必要と判断し、表示部13aに表示するとともに警告を発してオペレータに知らせる。電気抵抗値が数MΩ(数メガオーム)オーダの場合、汚染物質19は完全な絶縁物であるため、それよりも小さい電気抵抗値を閾値に設定することが好適である。
電子源2から放出され第1マスク4を通った電子ビーム3を、不図示の汚染検査用偏向器により第2マスク7の開口部周辺に走査する。第2マスク7から反射される電子を反射電子検出器21により検出することにより、第2マスク7上に堆積した汚染物質19の位置が観察される。この観察結果に基づいて、駆動部20が2つの探針15,16を移動させる。詳細には、駆動部20の駆動制御により、探針15が汚染物質19に接触し、探針16が汚染物質19未堆積の第2マスク7表面に接触する。また、汚染物質19の観察結果は、ワークステーション13の表示部13aに表示される。そして、探針15と探針16との間の電気抵抗値を測定する。測定された2探針間電気抵抗値は信号ケーブル12を介してワークステーション13に入力される。測定された電気抵抗値が、当該露光装置の運用経験から予め定められ記憶された閾値(交換基準値)に達した場合に、ワークステーション13は第2マスク7の交換が必要と判断し、表示部13aに表示するとともに警告を発してオペレータに知らせる。電気抵抗値が数MΩ(数メガオーム)オーダの場合、汚染物質19は完全な絶縁物であるため、それよりも小さい電気抵抗値を閾値に設定することが好適である。
以上説明したように、本実施の形態1では、第2マスク7上方に2つの探針15,16を移動自在に設け、駆動部20の駆動制御により探針15をマスク7上に堆積した汚染物質19に接触させ、探針16を汚染物質未堆積の第2マスク7表面に接触させて、2探針間の電気抵抗値を測定するようにした。そして、測定した電気抵抗値を閾値と比較することにより、第2マスク7の交換時期を判断するようにした。
よって、カラム1内を大気開放して解体することなく、第2マスク7の汚染検査を行うことができるため、無用な解体作業を回避することができる。さらに、2探針15,16により汚染物質19とグランド間の電気抵抗値を測定することとしたため、従来の方法のようにマスクに金属膜を作り込む必要がない。従って、マスクの製造コストを増大させることなく、マスクの汚染検査を簡易に行うことができる。
また、反射電子検出器21により検出された汚染物質19堆積位置を基に、駆動部20により探針15,16を移動させるようにした。このため、探針15,16の移動時間を短縮することができ、また探針15,16を精度良く移動させることができるため、マスクの汚染検査を精度良く行うことができる。
よって、カラム1内を大気開放して解体することなく、第2マスク7の汚染検査を行うことができるため、無用な解体作業を回避することができる。さらに、2探針15,16により汚染物質19とグランド間の電気抵抗値を測定することとしたため、従来の方法のようにマスクに金属膜を作り込む必要がない。従って、マスクの製造コストを増大させることなく、マスクの汚染検査を簡易に行うことができる。
また、反射電子検出器21により検出された汚染物質19堆積位置を基に、駆動部20により探針15,16を移動させるようにした。このため、探針15,16の移動時間を短縮することができ、また探針15,16を精度良く移動させることができるため、マスクの汚染検査を精度良く行うことができる。
なお、本実施の形態1では、電子線露光装置について説明したが、イオンビームのような他の荷電粒子線を用いた露光装置にも適用することができる(後述する実施の形態2についても同様)。
また、本実施の形態1では、探針15が1本の場合について説明したが、探針15を複数本配置してもよい。この場合、微妙な(信憑性の低い)汚染検査結果に対して、探針を交換することにより再検査を容易に行うことができ、検査精度を向上させることができる。また、探針15を複数配置することは、一括セルプロジェクション型マスクのような複数の開口部を有するマスクの汚染を測定する場合に特に好適である。
また、本実施の形態1では、探針15が1本の場合について説明したが、探針15を複数本配置してもよい。この場合、微妙な(信憑性の低い)汚染検査結果に対して、探針を交換することにより再検査を容易に行うことができ、検査精度を向上させることができる。また、探針15を複数配置することは、一括セルプロジェクション型マスクのような複数の開口部を有するマスクの汚染を測定する場合に特に好適である。
実施の形態2.
図3は、本発明の実施の形態2による荷電粒子線露光装置を説明するための概略図である。
前述した実施の形態1では第2マスク7に対してのみ汚染検査ユニット6を設けたが、本実施の形態2では、図3に示すように、更に対物絞り31に対しても汚染測定ユニット30を設けたことを特徴とする。
図3は、本発明の実施の形態2による荷電粒子線露光装置を説明するための概略図である。
前述した実施の形態1では第2マスク7に対してのみ汚染検査ユニット6を設けたが、本実施の形態2では、図3に示すように、更に対物絞り31に対しても汚染測定ユニット30を設けたことを特徴とする。
汚染検査ユニット30以外は実施の形態1と同様の構成であるので詳述はしないが、対物絞り31よりも上方位置に、対物絞り31の開口部付近に堆積した汚染物質に接触する第3接触子としての探針33が移動自在に配置され、汚染物質未堆積の対物絞り31表面に接触するアース用の第4接触子としての探針34が移動自在に配置されている。カラム1の外側には、これら2つの探針33,34を支持棒を介して水平方向及び垂直方向に移動させる駆動部32が設けられている。
また、対物絞り31の開口部上方には、対物絞り31からの反射電子を検出することにより汚染物質の堆積位置を観察する観察部としての反射電子検出器35が設けられている。この反射電子検出器35の検出結果に基づいて、上記駆動部32は、2つの探針33,34を移動させる。
次に、第2マスク7の汚染検査と同様に、パターン露光前に毎回或いは定期的に行われる対物絞り汚染検査について簡単に説明する。
電子源2から放出され、第1及び第2マスク4,7を通った電子ビーム3の、対物絞り31付近で得られた反射電子を反射電子検出器35により検出することにより、対物絞り31上に堆積した汚染物質の位置が観察される。この観察結果に基づいて、駆動部32が2つの探針33,34を移動させる。詳細には、駆動部32の駆動制御により、探針33が対物絞り31上に堆積した汚染物質に接触し、探針34が汚染物質未堆積の対物絞り31表面に接触する。また、汚染物質の観察結果は、ワークステーション13の表示部13aに表示される。そして、探針33と探針34との間の電気抵抗値を測定する。測定された2探針間電気抵抗値は信号ケーブルを介してワークステーション13に入力される。測定された電気抵抗値が、当該露光装置の運用経験から予め定められ記憶された閾値(交換基準値)に達した場合に、ワークステーション13は対物絞り31の交換が必要と判断し、表示部13aに表示するとともに警告を発してオペレータに知らせる、
電子源2から放出され、第1及び第2マスク4,7を通った電子ビーム3の、対物絞り31付近で得られた反射電子を反射電子検出器35により検出することにより、対物絞り31上に堆積した汚染物質の位置が観察される。この観察結果に基づいて、駆動部32が2つの探針33,34を移動させる。詳細には、駆動部32の駆動制御により、探針33が対物絞り31上に堆積した汚染物質に接触し、探針34が汚染物質未堆積の対物絞り31表面に接触する。また、汚染物質の観察結果は、ワークステーション13の表示部13aに表示される。そして、探針33と探針34との間の電気抵抗値を測定する。測定された2探針間電気抵抗値は信号ケーブルを介してワークステーション13に入力される。測定された電気抵抗値が、当該露光装置の運用経験から予め定められ記憶された閾値(交換基準値)に達した場合に、ワークステーション13は対物絞り31の交換が必要と判断し、表示部13aに表示するとともに警告を発してオペレータに知らせる、
以上説明したように、本実施の形態2では、汚染検査ユニットを、第2マスク7に対してだけでなく、対物絞り31に対しても設けた。すなわち、実施の形態1の構成に加えて、対物絞り31上方に2つの探針33,34を移動自在に設け、駆動部32の駆動制御により探針33を対物絞り31上に堆積した汚染物質に接触させ、探針34を汚染物質未堆積の対物絞り31表面に接触させて、2探針間の電気抵抗値を測定するようにした。そして、測定した電気抵抗値を閾値と比較することにより、対物絞り31の交換時期を判断するようにした。
従って、実施の形態1で得られる効果に加えて、対物絞り31の汚染検査を簡易に行うことができるという効果が得られる。
また、反射電子検出器35により検出された汚染物質の堆積位置を基に、駆動部32により探針33,34を移動させるようにした。このため、探針33,34の移動時間を短縮することができ、また探針33,34を精度良く移動させることができるため、マスクの汚染検査を精度良く行うことができる。
従って、実施の形態1で得られる効果に加えて、対物絞り31の汚染検査を簡易に行うことができるという効果が得られる。
また、反射電子検出器35により検出された汚染物質の堆積位置を基に、駆動部32により探針33,34を移動させるようにした。このため、探針33,34の移動時間を短縮することができ、また探針33,34を精度良く移動させることができるため、マスクの汚染検査を精度良く行うことができる。
1 カラム
2 電子源
3 電子ビーム
4 第1マスク
5 成形偏向器
6 汚染検査ユニット
7 第2マスク
10 基板(ウェハ)
11 ステージ
12 信号ケーブル
13 制御部(ワークステーション)
13a 表示部
15,16,33,34 探針
17,18 支持棒
19 汚染物質
20,32 駆動部
21,35 観察部(反射電子検出器)
2 電子源
3 電子ビーム
4 第1マスク
5 成形偏向器
6 汚染検査ユニット
7 第2マスク
10 基板(ウェハ)
11 ステージ
12 信号ケーブル
13 制御部(ワークステーション)
13a 表示部
15,16,33,34 探針
17,18 支持棒
19 汚染物質
20,32 駆動部
21,35 観察部(反射電子検出器)
Claims (5)
- マスクを通過した荷電粒子線を対物絞りを介して基板上に照射する荷電粒子線露光装置であって、
前記マスクの上方に移動自在に配置され、前記マスク上に堆積する前記汚染物質に接触する第1接触子と、
前記マスクの上方に移動自在に配置され、前記汚染物質が堆積していない前記マスクの表面に接触する第2接触子と、
前記第1接触子と前記第2接触子との間の電気抵抗値を測定する第1測定部と、
第1測定部の測定結果に基づいて、前記マスクの汚染を検査する検査部と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線露光装置において、
前記対物絞りの上方に移動自在に配置され、前記対物絞り上に堆積する前記汚染物質に接触する第3接触子と、
前記対物絞りの上方に移動自在に配置され、前記汚染物質が堆積していない前記対物絞りの表面に接触する第4接触子と、
前記第3接触子と前記第4接触子との間の電気抵抗値を測定する第2測定部とを更に備え、
前記第2測定部の測定結果に基づいて、前記検査部により前記対物絞りの汚染を検査することを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 請求項1又は2に記載の荷電粒子線露光装置において、
前記荷電粒子線を前記マスクの開口部周辺に走査可能な偏向器と、
前記マスクからの反射電子を検出して、前記マスク上に堆積する汚染物質を観察する第1観察部と、
前記第1観察部の観察結果に基づいて前記第1及び第2接触子を移動させる第1駆動部とを更に備えたことを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 請求項2又は3に記載の荷電粒子線露光装置において、
前記対物絞りからの反射電子を検出して、前記対物絞り上に堆積する汚染物質を観察する第2観察部と、
前記第2観察部の観察結果に基づいて前記第3及び第4接触子を移動させる第2駆動部とを更に備えたことを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 請求項1から4の何れかに記載の荷電粒子線露光装置において、
前記第1及び第2接触子の移動範囲よりも広い範囲で前記マスクを移動させるマスク駆動部を更に備えたことを特徴とする荷電粒子露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003341136A JP2005109178A (ja) | 2003-09-30 | 2003-09-30 | 荷電粒子線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003341136A JP2005109178A (ja) | 2003-09-30 | 2003-09-30 | 荷電粒子線露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005109178A true JP2005109178A (ja) | 2005-04-21 |
Family
ID=34535838
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003341136A Pending JP2005109178A (ja) | 2003-09-30 | 2003-09-30 | 荷電粒子線露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005109178A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007258536A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子線応用装置 |
-
2003
- 2003-09-30 JP JP2003341136A patent/JP2005109178A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007258536A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子線応用装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6668408B2 (ja) | Semオーバーレイ計測のシステムおよび方法 | |
US7276693B2 (en) | Inspection method and apparatus using charged particle beam | |
JP5497980B2 (ja) | 荷電粒子線応用装置、及び試料検査方法 | |
JP4895569B2 (ja) | 帯電制御装置及び帯電制御装置を備えた計測装置 | |
KR101484454B1 (ko) | 홀 검사 장치 및 상기 장치를 이용한 홀 검사 방법 | |
JP4828162B2 (ja) | 電子顕微鏡応用装置および試料検査方法 | |
JP6966255B2 (ja) | 画像取得装置の光学系調整方法 | |
JP4769828B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
KR102380061B1 (ko) | 포토리소그라픽 마스크 상의 요소의 위치를 결정하기 위한 장치 및 방법 | |
JP2018078251A (ja) | マルチ荷電粒子ビーム描画装置 | |
JP5174844B2 (ja) | 回路パターン検査装置およびその検査方法 | |
JP2018181407A (ja) | マルチ荷電粒子ビーム検査装置及びマルチ荷電粒子ビーム検査方法 | |
JP6309221B2 (ja) | 超高速レビュー装置および超高速レビュー方法 | |
JP2016189335A (ja) | 試料観察方法及び試料観察装置 | |
JP2010074039A (ja) | 描画エラーの検出方法及び描画方法 | |
KR20170048486A (ko) | 복수의 이동가능한 빔 칼럼을 갖는 이미징 장치 및 실질적으로 일치하도록 의도된 기판의 복수의 영역을 검사하는 방법 | |
US8309922B2 (en) | Semiconductor inspection method and device that consider the effects of electron beams | |
CN115427798A (zh) | 检测样品的方法以及多电子束检测系统 | |
JP2005109178A (ja) | 荷電粒子線露光装置 | |
JP3911407B2 (ja) | 荷電粒子線走査式装置 | |
JP2002170767A (ja) | ビーム評価方法、荷電粒子線投影露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2007220317A (ja) | 電子ビーム検査方法および装置 | |
JP2009224233A (ja) | 荷電粒子線検査装置、およびデータ表示方法 | |
JP2023180856A (ja) | マルチ荷電粒子ビームの評価方法、マルチ荷電粒子ビーム描画方法、及びマルチ荷電粒子ビーム照射装置用アパーチャアレイ基板の検査方法 | |
KR20240076692A (ko) | 검사 장치 및 검사 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050331 |