JP2005108956A - Chip-type electronic component - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、各種電子機器に利用されるチップ状電子部品に関するもので、特に微小のチップ状電子部品に関するものである。 The present invention relates to a chip-shaped electronic component used in various electronic devices, and particularly to a minute chip-shaped electronic component.
近年の電子機器の軽薄短小化に対する要求がますます増大していく中、回路基板の配線密度を高めるため、電子部品には非常に小型のチップ状電子部品が多く用いられるようになってきた。特に近年では長さ1.0mm×幅0.5mm×厚み0.25mmという非常に小型のチップ状電子部品が主流となりつつある。 In recent years, the demand for lighter, thinner, and smaller electronic devices has been increasing, and in order to increase the wiring density of circuit boards, very small chip-shaped electronic components are often used as electronic components. Particularly in recent years, a very small chip-shaped electronic component having a length of 1.0 mm, a width of 0.5 mm, and a thickness of 0.25 mm is becoming mainstream.
次に、従来のチップ状電子部品について、角形チップ抵抗器を一例として説明する。 Next, a conventional chip-shaped electronic component will be described using a square chip resistor as an example.
図3は従来の角形チップ抵抗器の構造を示す斜視図、図4は同角形チップ抵抗器の断面図である。 FIG. 3 is a perspective view showing the structure of a conventional square chip resistor, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the square chip resistor.
図3、図4において、1は96アルミナ基板からなる基板、2は基板1の上面の両端部に形成された一対の上面電極層で、この一対の上面電極層2は銀系の厚膜電極により構成されている。3は前記一対の上面電極層2に電気的に接続されるように形成された抵抗体層で、この抵抗体層3はルテニウム系厚膜抵抗により構成されている。4は抵抗体層3を完全に覆うように形成された保護層で、この保護層4はエポキシ系樹脂により構成されている。5は前記基板1の両端面に一対の上面電極層2と電気的に接続するように設けられた一対の端面電極層で、この一対の端面電極層5は導電性粒子と樹脂の混合材料により構成されている。6は前記端面電極層5と上面電極層2の露出部を覆うように設けられたニッケルめっき層、7は前記ニッケルめっき層6を覆うように設けられたはんだまたは錫めっき層で、前記ニッケルめっき層6とにより外部電極を形成している。
3 and 4, 1 is a substrate made of a 96 alumina substrate, 2 is a pair of upper surface electrode layers formed on both ends of the upper surface of the substrate 1, and the pair of upper
なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。
上記した角形チップ抵抗器に代表されるチップ状電子部品をガラスエポキシ基板などに実装を行った場合、はんだを溶融させるためにチップ状電子部品は250℃程度の温度雰囲気下に数秒間さらされる。この場合、上記した角形チップ抵抗器に代表されるチップ状電子部品では、導電性粒子と樹脂の混合材料により構成された端面電極層5の上に形成されているニッケルめっき層6やはんだまたは錫めっき層7に穴が空いたり、はんだが飛び散るなどの不具合が生じた。特に、近年の高密度実装化に伴ってチップ状電子部品間の実装間隔が狭まるにつれ、上記問題により導通不良などが多く発生するようになった。
When a chip-shaped electronic component typified by the square chip resistor described above is mounted on a glass epoxy substrate or the like, the chip-shaped electronic component is exposed to a temperature atmosphere of about 250 ° C. for several seconds in order to melt the solder. In this case, in the chip-shaped electronic component typified by the above-described rectangular chip resistor, the
そこで、本発明者らは上記の課題を解決するために種々検討を重ねた。その結果、ニッケルめっき層6やはんだまたは錫めっき層7に穴が空いたり、はんだが飛び散るのは、端面電極層5から発生するガスが影響していることを見出した。この場合の発生ガスとしては残存水分や加熱分解ガスなどが原因として考えられるが、その特定は困難であり、複数の因子が混在していると考えられる。
Therefore, the present inventors have made various studies in order to solve the above problems. As a result, it was found that the holes generated in the
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、はんだ溶融時の加熱において、ニッケルめっき層やはんだまたは錫めっき層に穴が空いたり、はんだが飛び散るなどの不具合が生じることはなく、量産性に優れているチップ状電子部品を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and in the heating at the time of melting the solder, there is no problem such as a hole in the nickel plating layer, solder or tin plating layer, or the occurrence of solder scattering. An object of the present invention is to provide a chip-like electronic component that is excellent in performance.
上記目的を達成するために、本発明は以下の構成を有するものである。 In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.
本発明の請求項1に記載の発明は、基板と、この基板の端面に設けられた端面電極層とを備え、前記端面電極層を導電性粒子と非導電性無機フィラーと樹脂の混合材料により構成するとともに、前記導電性粒子として少なくともカーボンと表面を導電膜で被覆したウイスカ状無機フィラーを含有する混合粉末を用い、かつ前記樹脂としてエポキシ樹脂を用いたもので、この構成によれば、前記樹脂としてエポキシ樹脂を用いているため、200℃まで加熱した際に0.1%以上の重量減少を生じることはなく、その結果、このチップ状電子部品を実装基板に実装する際のはんだ溶融工程においても、ニッケルめっき層やはんだまたは錫めっき層に穴が空いたり、はんだが飛び散るなどの不具合が生じることはなくなり、またこの不具合が減少することにより、部品交換などの工程が不必要となるため、量産性を向上させることができる。また、混合材料中に表面を導電膜で被覆したウイスカ状無機フィラーと非導電性無機フィラーを添加することによって、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 1 of the present invention includes a substrate and an end surface electrode layer provided on an end surface of the substrate, and the end surface electrode layer is made of a mixed material of conductive particles, a nonconductive inorganic filler, and a resin. And using a mixed powder containing at least carbon and a whisker-like inorganic filler whose surface is covered with a conductive film as the conductive particles, and using an epoxy resin as the resin, Since an epoxy resin is used as the resin, there is no weight loss of 0.1% or more when heated to 200 ° C. As a result, the solder melting process when mounting this chip-shaped electronic component on the mounting board However, there are no problems such as holes in the nickel plating layer, solder or tin plating layer, or solder scattering. The Rukoto, since processes such as part replacement is unnecessary, thereby improving the mass productivity. In addition, by adding a whisker-like inorganic filler whose surface is covered with a conductive film and a non-conductive inorganic filler in the mixed material, the fracture toughness strength of the mixed material is improved, so that the strength of the end face electrode layer can be improved. The effect of being able to be obtained is obtained.
本発明の請求項2に記載の発明は、基板と、この基板の端面に設けられた端面電極層とを備え、前記端面電極層を導電性粒子と非導電性無機フィラーと樹脂の混合材料により構成するとともに、前記導電性粒子として少なくともカーボンと表面を導電膜で被覆したウイスカ状黒鉛を含有する混合粉末を用い、かつ前記樹脂としてエポキシ樹脂を用いたもので、この構成によれば、前記樹脂としてエポキシ樹脂を用いているため、200℃まで加熱した際に0.1%以上の重量減少を生じることはなく、その結果、このチップ状電子部品を実装基板に実装する際のはんだ溶融工程においても、ニッケルめっき層やはんだまたは錫めっき層に穴が空いたり、はんだが飛び散るなどの不具合が生じることはなくなり、またこの不具合が減少することにより、部品交換などの工程が不必要となるため、量産性を向上させることができる。また、混合材料中に表面を導電膜で被覆したウイスカ状黒鉛と非導電性無機フィラーを添加することによって、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。
The invention according to
本発明の請求項3に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとしてシリカを添加したもので、この構成によれば、シリカが添加されることにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 In the invention according to claim 3 of the present invention, in particular, silica is added as a whisker-like inorganic filler. According to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding silica. The effect that the intensity | strength of an end surface electrode layer can be improved is acquired.
本発明の請求項4に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとしてウォラストナイトを添加したもので、この構成によれば、ウォラストナイトが添加されることにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention described in claim 4 of the present invention is particularly one in which wollastonite is added as a whisker-like inorganic filler. According to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is obtained by adding wollastonite. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved can be obtained.
本発明の請求項5に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとしてセピオライトを添加したもので、この構成によれば、セピオライトが添加されることにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。
The invention according to
本発明の請求項6に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとして酸化亜鉛を添加したもので、この構成によれば、酸化亜鉛が添加されることにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。
The invention described in
本発明の請求項7に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとして炭酸カルシウムを添加したもので、この構成によれば、炭酸カルシウムが添加されることにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。
The invention according to
本発明の請求項8に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとして酸化チタンを添加したもので、この構成によれば、酸化チタンが添加されることにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 8 of the present invention is the addition of titanium oxide as a whisker-like inorganic filler. According to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding titanium oxide. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved is obtained.
本発明の請求項9に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとして硫酸バリウムを添加したもので、この構成によれば、硫酸バリウムが添加されることにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 9 of the present invention is particularly one in which barium sulfate is added as a whisker-like inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding barium sulfate. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved is obtained.
本発明の請求項10に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとして水酸化アルミニウムを添加したもので、この構成によれば、水酸化アルミニウムが添加されることにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 In the invention according to claim 10 of the present invention, in particular, aluminum hydroxide is added as a whisker-like inorganic filler. According to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is obtained by adding aluminum hydroxide. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved can be obtained.
本発明の請求項11に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとして酸化アルミニウムを添加したもので、この構成によれば、酸化アルミニウムが添加されることにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。
The invention according to
本発明の請求項12に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとして水酸化マグネシウムを添加したもので、この構成によれば、水酸化マグネシウムが添加されることにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。
The invention according to
本発明の請求項13に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとしてゾノトライトを添加したもので、この構成によれば、ゾノトライトを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。
The invention according to
本発明の請求項14に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとしてチタン酸カリウムを添加したもので、この構成によれば、チタン酸カリウムを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。
In the invention according to
本発明の請求項15に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとしてホウ酸アルミニウムを添加したもので、この構成によれば、ホウ酸アルミニウムを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 In the invention according to claim 15 of the present invention, in particular, aluminum borate is added as a whisker-like inorganic filler. According to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material can be increased by adding aluminum borate. In order to improve, the effect that the intensity | strength of an end surface electrode layer can be improved is acquired.
本発明の請求項16に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとして硫酸マグネシウムを添加したもので、この構成によれば、硫酸マグネシウムを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。
In the invention described in
本発明の請求項17に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとしてケイ酸カルシウムを添加したもので、この構成によれば、ケイ酸カルシウムを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to the seventeenth aspect of the present invention is particularly one in which calcium silicate is added as a whisker-like inorganic filler. According to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material can be increased by adding calcium silicate. In order to improve, the effect that the intensity | strength of an end surface electrode layer can be improved is acquired.
本発明の請求項18に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとして窒化ケイ素を添加したもので、この構成によれば、窒化ケイ素を添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 In the invention described in claim 18 of the present invention, in particular, silicon nitride is added as a whisker-like inorganic filler. According to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding silicon nitride. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved is obtained.
本発明の請求項19に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーとして炭化ケイ素を添加したもので、この構成によれば、炭化ケイ素を添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 According to the nineteenth aspect of the present invention, in particular, silicon carbide is added as a whisker-like inorganic filler. According to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding silicon carbide. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved is obtained.
本発明の請求項20に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーまたはウイスカ状黒鉛の表面を被覆する導電膜として銀を用いたもので、この構成によれば、銀で表面を被覆したウイスカ状無機フィラー粉末またはウイスカ状黒鉛粉末が混合材料の導電性を向上させるため、端面電極層を形成した後に電気めっき工法により形成するニッケルめっき層を安定した均一な膜として形成できるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 20 of the present invention uses silver as a conductive film for covering the surface of whisker-like inorganic filler or whisker-like graphite, and according to this configuration, whisker whose surface is coated with silver. Since the inorganic filler powder or whisker-like graphite powder improves the conductivity of the mixed material, the nickel plating layer formed by the electroplating method after forming the end face electrode layer can be formed as a stable and uniform film. It is
本発明の請求項21に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーまたはウイスカ状黒鉛の表面を被覆する導電膜としてニッケルを用いたもので、この構成によれば、ニッケルで表面を被覆したウイスカ状無機フィラー粉末またはウイスカ状黒鉛粉末が混合材料の導電性を向上させるため、端面電極層を形成した後に電気めっき工法により形成するニッケルめっき層を安定した均一な膜として形成できるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 21 of the present invention uses nickel as the conductive film for covering the surface of the whisker-like inorganic filler or whisker-like graphite. According to this structure, the whisker whose surface is covered with nickel is used. Since the inorganic filler powder or whisker-like graphite powder improves the conductivity of the mixed material, the nickel plating layer formed by the electroplating method after forming the end face electrode layer can be formed as a stable and uniform film. It is
本発明の請求項22に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーまたはウイスカ状黒鉛の表面を被覆する導電膜として金を用いたもので、この構成によれば、金で表面を被覆したウイスカ状無機フィラー粉末またはウイスカ状黒鉛粉末が混合材料の導電性を向上させるため、端面電極層を形成した後に電気めっき工法により形成するニッケルめっき層を安定した均一な膜として形成できるという作用効果が得られるものである。 According to the twenty-second aspect of the present invention, in particular, gold is used as the conductive film for covering the surface of the whisker-like inorganic filler or whisker-like graphite. According to this structure, the whisker whose surface is covered with gold is used. Since the inorganic filler powder or whisker-like graphite powder improves the conductivity of the mixed material, the nickel plating layer formed by the electroplating method after forming the end face electrode layer can be formed as a stable and uniform film. It is
本発明の請求項23に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーまたはウイスカ状黒鉛の表面を被覆する導電膜として錫を用いたもので、この構成によれば、スズで表面を被覆したウイスカ状無機フィラー粉末またはウイスカ状黒鉛粉末が混合材料の導電性を向上させるため、端面電極層を形成した後に電気めっき工法により形成するニッケルめっき層を安定した均一な膜として形成できるという作用効果が得られるものである。 The invention described in claim 23 of the present invention uses tin as a conductive film for covering the surface of whisker-like inorganic filler or whisker-like graphite, and according to this configuration, whisker whose surface is coated with tin. Since the inorganic filler powder or whisker-like graphite powder improves the conductivity of the mixed material, the nickel plating layer formed by the electroplating method after forming the end face electrode layer can be formed as a stable and uniform film. It is
本発明の請求項24に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーまたはウイスカ状黒鉛の表面を被覆する導電膜として銅を用いたもので、この構成によれば、銅で表面を被覆したウイスカ状無機フィラー粉末またはウイスカ状黒鉛粉末が混合材料の導電性を向上させるため、端面電極層を形成した後に電気めっき工法により形成するニッケルめっき層を安定した均一な膜として形成できるという作用効果が得られるものである。 The invention described in claim 24 of the present invention uses copper as the conductive film for covering the surface of the whisker-like inorganic filler or whisker-like graphite. According to this configuration, the whisker whose surface is covered with copper is used. Since the inorganic filler powder or whisker-like graphite powder improves the conductivity of the mixed material, the nickel plating layer formed by the electroplating method after forming the end face electrode layer can be formed as a stable and uniform film. It is
本発明の請求項25に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーまたはウイスカ状黒鉛の表面を被覆する導電膜として白金を用いたもので、この構成によれば、白金で表面を被覆したウイスカ状無機フィラー粉末またはウイスカ状黒鉛粉末が混合材料の導電性を向上させるため、端面電極層を形成した後に電気めっき工法により形成するニッケルめっき層を安定した均一な膜として形成できるという作用効果が得られるものである。 The invention described in claim 25 of the present invention is one in which platinum is used as a conductive film that covers the surface of a whisker-like inorganic filler or whisker-like graphite. According to this configuration, the whisker whose surface is covered with platinum is used. Since the inorganic filler powder or whisker-like graphite powder improves the conductivity of the mixed material, the nickel plating layer formed by the electroplating method after forming the end face electrode layer can be formed as a stable and uniform film. It is
本発明の請求項26に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーまたはウイスカ状黒鉛の表面を被覆する導電膜としてはんだを用いたもので、この構成によれば、はんだで表面を被覆したウイスカ状無機フィラー粉末またはウイスカ状黒鉛粉末が混合材料の導電性を向上させるため、端面電極層を形成した後に電気めっき工法により形成するニッケルめっき層を安定した均一な膜として形成できるという作用効果が得られるものである。 The invention described in claim 26 of the present invention uses solder as the conductive film for covering the surface of the whisker-like inorganic filler or whisker-like graphite, and according to this configuration, the whisker whose surface is covered with solder. Since the inorganic filler powder or whisker-like graphite powder improves the conductivity of the mixed material, the nickel plating layer formed by the electroplating method after forming the end face electrode layer can be formed as a stable and uniform film. It is
本発明の請求項27に記載の発明は、特に、ウイスカ状無機フィラーの平均繊維径を0.01〜1μm、平均繊維長を1〜100μm、アスペクト比を10以上としたもので、この構成によれば、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 In the invention described in claim 27 of the present invention, in particular, the whisker-like inorganic filler has an average fiber diameter of 0.01 to 1 μm, an average fiber length of 1 to 100 μm, and an aspect ratio of 10 or more. According to this, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved is obtained.
本発明の請求項28に記載の発明は、特に、ウイスカ状黒鉛の平均繊維径を0.01〜1μm、平均繊維長を1〜100μm、アスペクト比を10以上としたもので、この構成によれば、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 28 of the present invention has an average fiber diameter of 0.01 to 1 μm, an average fiber length of 1 to 100 μm, and an aspect ratio of 10 or more. For example, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved can be obtained.
本発明の請求項29に記載の発明は、特に、樹脂として、分子量1000〜30000のエポキシ樹脂を用いたもので、この構成によれば、チップ状電子部品を形成した際に、チップ状電子部品の基板エッジ部の被覆性が高くなるため、基板エッジ部での端面電極切れ等の不具合が発生しにくくなり、その結果、この不具合が減少することにより、部品交換などの工程が不必要となるため、量産性を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention described in claim 29 of the present invention uses an epoxy resin having a molecular weight of 1000 to 30000 as the resin. According to this configuration, when the chip-like electronic component is formed, the chip-like electronic component is used. Since the coverage of the board edge portion of the substrate becomes high, it becomes difficult to cause defects such as end face electrode breakage at the board edge portion. As a result, this defect is reduced, and a process such as component replacement becomes unnecessary. Therefore, the effect that mass productivity can be improved is obtained.
本発明の請求項30に記載の発明は、特に、樹脂として、沸点が200℃以上の溶剤により溶解するエポキシ樹脂を用いたもので、この構成によれば、導電性粒子と樹脂の混合材料中の溶剤の揮発が少なくなり、混合材料の粘性が安定するため、安定した形状で塗布することが可能となり、これにより、チップ状電子部品の寸法精度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention described in claim 30 of the present invention uses an epoxy resin that dissolves in a solvent having a boiling point of 200 ° C. or more as the resin, and according to this configuration, in the mixed material of conductive particles and resin. Since the volatilization of the solvent is reduced and the viscosity of the mixed material is stabilized, it is possible to apply in a stable shape, thereby obtaining the effect that the dimensional accuracy of the chip-like electronic component can be improved. Is.
本発明の請求項31に記載の発明は、特に、樹脂として、溶剤含有率が60%以上であるエポキシ樹脂を用いたもので、この構成によれば、導電性粒子と非導電性無機フィラーとエポキシ樹脂の混合材料を基板の端面に塗布して硬化させた場合、混合材料の体積が小さくなって、塗布時の形状バラツキを軽減できるため、チップ状電子部品の寸法精度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention described in claim 31 of the present invention uses an epoxy resin having a solvent content of 60% or more as the resin, and according to this configuration, the conductive particles, the non-conductive inorganic filler, When the epoxy resin mixed material is applied to the end face of the substrate and cured, the volume of the mixed material is reduced and the variation in shape at the time of application can be reduced, so that the dimensional accuracy of the chip-like electronic component can be improved. The following effects can be obtained.
本発明の請求項32に記載の発明は、特に、カーボンとして、1g当たりの表面積が1000平方メートル以上のカーボンを用いたもので、この構成によれば、端面電極層を構成する導電性粒子と非導電性無機フィラーと樹脂の混合材料に添加する溶剤量を多くしても、溶剤がカーボンの表面に濡れていることになり、これにより、混合材料の塗布・硬化時に発生する混合材料中の樹脂成分の基板上へのしみだし現象を抑制できるという作用効果が得られるものである。 The invention according to the thirty-second aspect of the present invention uses carbon having a surface area per gram of 1000 square meters or more as carbon, and according to this configuration, the conductive particles constituting the end face electrode layer and non-carbon are used. Even if the amount of solvent added to the mixed material of conductive inorganic filler and resin is increased, the solvent will be wetted on the surface of the carbon, and as a result, the resin in the mixed material generated when the mixed material is applied and cured. The effect of suppressing the bleeding phenomenon of the component onto the substrate can be obtained.
本発明の請求項33に記載の発明は、特に、導電性粒子と(非導電性無機フィラー+エポキシ樹脂)の配合比率(体積比)を10:90〜25:75とし、かつカーボンと表面を導電膜で被覆したウイスカ状無機フィラーの配合比率(体積比)を1:10〜10:1としたもので、この構成によれば、端面電極層の面積抵抗値を低くすることができるため、端面電極層を形成した後に電気めっき工法により形成されるニッケルめっき層を安定した均一な膜として形成できるという作用効果が得られるとともに、端面電極層の電極強度も高くできるという相反する作用効果が得られるものである。 In the invention according to claim 33 of the present invention, in particular, the blending ratio (volume ratio) of conductive particles and (nonconductive inorganic filler + epoxy resin) is 10:90 to 25:75, and the carbon and the surface are The compounding ratio (volume ratio) of the whisker-like inorganic filler coated with the conductive film is 1:10 to 10: 1, and according to this configuration, the area resistance value of the end face electrode layer can be lowered. The effect that the nickel plating layer formed by the electroplating method after forming the end face electrode layer can be formed as a stable and uniform film is obtained, and the opposite effect is obtained that the electrode strength of the end face electrode layer can be increased. It is
本発明の請求項34に記載の発明は、特に、導電性粒子と(非導電性無機フィラー+エポキシ樹脂)の配合比率(体積比)を10:90〜25:75とし、かつカーボンと表面を導電膜で被覆したウイスカ状黒鉛の配合比率(体積比)を1:10〜10:1としたもので、この構成によれば、端面電極層の面積抵抗値を低くすることができるため、端面電極層を形成した後に電気めっき工法により形成されるニッケルめっき層を安定した均一な膜として形成できるという作用効果が得られるとともに、端面電極層の電極強度も高くできるという相反する作用効果が得られるものである。 In the invention according to claim 34 of the present invention, in particular, the blending ratio (volume ratio) of the conductive particles and (non-conductive inorganic filler + epoxy resin) is 10:90 to 25:75, and the carbon and the surface are mixed. The blending ratio (volume ratio) of whisker-like graphite coated with the conductive film is 1:10 to 10: 1. According to this configuration, the area resistance value of the end face electrode layer can be lowered. The effect that the nickel plating layer formed by the electroplating method after forming the electrode layer can be formed as a stable and uniform film is obtained, and the opposite effect is obtained that the electrode strength of the end face electrode layer can be increased. Is.
本発明の請求項35に記載の発明は、特に、混合材料として、導電性粒子と非導電性無機フィラーと樹脂にカップリング剤を加えた混合材料を用いたもので、この構成によれば、基板と端面電極層の密着力を向上させることができるため、端面電極層の電極強度も高くできるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 35 of the present invention uses a mixed material obtained by adding a coupling agent to conductive particles, a non-conductive inorganic filler, and a resin, in particular, as a mixed material. Since the adhesion between the substrate and the end face electrode layer can be improved, the effect of increasing the electrode strength of the end face electrode layer can be obtained.
本発明の請求項36に記載の発明は、特に、端面電極層を、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が1000Pa・s以上となる混合材料を塗布し、かつ硬化させて形成したもので、この構成によれば、混合材料の塗布直後で、かつ硬化前における混合材料の基板上への流れを抑えることができるため、端面電極層の寸法精度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 In the invention according to claim 36 of the present invention, in particular, the end face electrode layer is formed by applying and curing a mixed material having a viscosity at a shear rate of 0.006 (l / s) of 1000 Pa · s or more. Thus, according to this configuration, since the flow of the mixed material onto the substrate immediately after application of the mixed material and before curing can be suppressed, the dimensional accuracy of the end face electrode layer can be improved. An effect is obtained.
本発明の請求項37に記載の発明は、特に、混合材料中の溶剤の体積含有率を70%以上としたもので、この構成によれば、カーボンとウイスカ状無機フィラーと非導電性無機フィラーとエポキシ樹脂の混合材料を基板の端面に塗布して硬化させた場合、混合材料の体積が小さくなって、塗布時の形状バラツキを軽減できるため、チップ状電子部品の寸法精度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 In the invention according to claim 37 of the present invention, in particular, the volume content of the solvent in the mixed material is set to 70% or more. According to this configuration, carbon, whisker-like inorganic filler, and non-conductive inorganic filler are used. When the mixed material of epoxy resin and epoxy resin is applied to the end face of the substrate and cured, the volume of the mixed material is reduced and the variation in shape at the time of application can be reduced, so that the dimensional accuracy of the chip-like electronic component can be improved. The effect of being able to be obtained is obtained.
本発明の請求項38に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとしてシリカを用いたもので、この構成によれば、シリカを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention described in claim 38 of the present invention uses silica as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding silica. The effect that the intensity | strength of an end surface electrode layer can be improved is acquired.
本発明の請求項39に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとしてカオリンを用いたもので、この構成によれば、カオリンを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention described in claim 39 of the present invention uses kaolin as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding kaolin. The effect that the intensity | strength of an end surface electrode layer can be improved is acquired.
本発明の請求項40に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとしてタルクを用いたもので、この構成によれば、タルクを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 40 of the present invention uses talc as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding talc. The effect that the intensity | strength of an end surface electrode layer can be improved is acquired.
本発明の請求項41に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとして酸化亜鉛を用いたもので、この構成によれば、酸化亜鉛を添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 41 of the present invention uses zinc oxide as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding zinc oxide. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved is obtained.
本発明の請求項42に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとして炭酸カルシウムを用いたもので、この構成によれば、炭酸カルシウムを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 42 of the present invention uses calcium carbonate as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding calcium carbonate. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved is obtained.
本発明の請求項43に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとして酸化チタンを用いたもので、この構成によれば、酸化チタンを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 43 of the present invention uses titanium oxide as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding titanium oxide. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved is obtained.
本発明の請求項44に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとして硫酸バリウムを用いたもので、この構成によれば、硫酸バリウムを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 44 of the present invention uses barium sulfate as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding barium sulfate. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved is obtained.
本発明の請求項45に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとして水酸化アルミニウムを用いたもので、この構成によれば、水酸化アルミニウムを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 45 of the present invention uses aluminum hydroxide as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material can be increased by adding aluminum hydroxide. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved can be obtained.
本発明の請求項46に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとして酸化アルミニウムを用いたもので、この構成によれば、酸化アルミニウムを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 46 of the present invention uses aluminum oxide as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding aluminum oxide. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved is obtained.
本発明の請求項47に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとして水酸化マグネシウムを用いたもので、この構成によれば、水酸化マグネシウムを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 47 of the present invention uses magnesium hydroxide as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material can be increased by adding magnesium hydroxide. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved can be obtained.
本発明の請求項48に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとしてマイカを用いたもので、この構成によれば、マイカを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 48 of the present invention uses mica as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is improved by adding mica. The effect that the intensity | strength of an end surface electrode layer can be improved is acquired.
本発明の請求項49に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとしてチタン酸カリウムを用いたもので、この構成によれば、チタン酸カリウムを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 49 of the present invention uses potassium titanate as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is obtained by adding potassium titanate. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved can be obtained.
本発明の請求項50に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーとしてホウ酸アルミニウムを用いたもので、この構成によれば、ホウ酸アルミニウムを添加することにより、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 The invention according to claim 50 of the present invention uses aluminum borate as the non-conductive inorganic filler, and according to this configuration, the fracture toughness strength of the mixed material is obtained by adding aluminum borate. Therefore, the effect that the strength of the end face electrode layer can be improved can be obtained.
本発明の請求項51に記載の発明は、特に、非導電性無機フィラーの平均粒子径を1nm〜50μmの範囲に設定したもので、この構成によれば、非導電性無機フィラーの平均粒子径を1nm〜50μmの範囲に設定したことにより、端面電極層の強度を向上させることができるという作用効果が得られるものである。 In the invention according to claim 51 of the present invention, in particular, the average particle size of the non-conductive inorganic filler is set in the range of 1 nm to 50 μm. According to this configuration, the average particle size of the non-conductive inorganic filler is set. Is set in the range of 1 nm to 50 μm, the effect is obtained that the strength of the end face electrode layer can be improved.
本発明のチップ状電子部品は、基板と、この基板の端面に設けられた端面電極層とを備え、前記端面電極層を導電性粒子と非導電性無機フィラーと樹脂の混合材料により構成するとともに、前記導電性粒子として少なくともカーボンと表面を導電膜で被覆したウイスカ状無機フィラーを含有する混合粉末を用い、かつ前記樹脂としてエポキシ樹脂を用いているため、200℃まで加熱した際に0.1%以上の重量減少を生じることはなく、その結果、このチップ状電子部品を実装基板に実装する際のはんだ溶融工程においても、ニッケルめっき層やはんだまたは錫めっき層に穴が空いたり、はんだが飛び散るなどの不具合が生じることはなくなり、またこの不具合が減少することにより、部品交換などの工程が不必要となるため、量産性を向上させることができる。また、混合材料中に表面を導電膜で被覆したウイスカ状無機フィラーと非導電性無機フィラーを添加することによって、混合材料の破壊靭性強度が向上するため、端面電極層の強度を向上させることができるという効果を奏するものである。 The chip-shaped electronic component of the present invention includes a substrate and an end surface electrode layer provided on the end surface of the substrate, and the end surface electrode layer is composed of a mixed material of conductive particles, a nonconductive inorganic filler, and a resin. In addition, since a mixed powder containing at least carbon and a whisker-like inorganic filler whose surface is covered with a conductive film is used as the conductive particles, and an epoxy resin is used as the resin, 0.1% when heated to 200 ° C. As a result, even in the solder melting process when mounting this chip-shaped electronic component on a mounting board, a hole is formed in the nickel plating layer, solder or tin plating layer, and solder is not formed. Problems such as scattering will not occur, and this problem will be reduced, so parts replacement and other processes will be unnecessary, improving mass productivity. It can be. In addition, by adding a whisker-like inorganic filler whose surface is covered with a conductive film and a non-conductive inorganic filler in the mixed material, the fracture toughness strength of the mixed material is improved, so that the strength of the end face electrode layer can be improved. It has the effect of being able to do it.
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器について、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器の斜視図、図2は同角形チップ抵抗器の断面図である。 FIG. 1 is a perspective view of a square chip resistor according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the square chip resistor.
図1、図2において、11は96アルミナ基板からなる基板、12は基板11の上面の両端部に形成された一対の上面電極層で、この一対の上面電極層12は銀系の厚膜電極により構成されている。13は前記一対の上面電極層12に電気的に接続されるように形成された抵抗体層で、この抵抗体層13はルテニウム系厚膜抵抗により構成されている。14は抵抗体層13を完全に覆うように形成された保護層で、この保護層14はエポキシ系樹脂により構成されている。15は前記基板11の両端面に一対の上面電極層12と電気的に接続されるように設けられた一対の端面電極層で、この一対の端面電極層15は導電性粒子と樹脂の混合材料により構成されている。16は前記端面電極層15と上面電極層12の露出部を覆うように設けられたニッケルめっき層、17は前記ニッケルめっき層16を覆うように設けられたはんだまたは錫めっき層で、前記ニッケルめっき層16とにより外部電極を形成している。
1 and 2, 11 is a substrate made of a 96 alumina substrate, 12 is a pair of upper surface electrode layers formed on both ends of the upper surface of the
次に、上記構成における角形チップ抵抗器の製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing the rectangular chip resistor having the above configuration will be described.
まず、耐熱性および絶縁性に優れた96アルミナ基板からなるシート状の基板を受け入れる。このシート状の基板には、短冊状および個片状に分割するために、予め分割のための溝(グリーンシート時に金型成形)が形成されている。 First, a sheet-like substrate made of a 96 alumina substrate excellent in heat resistance and insulation is received. In order to divide the sheet-like substrate into strips and individual pieces, grooves for dividing (mold forming at the time of green sheets) are formed in advance.
次に、シート状の基板の上面に厚膜銀ペーストをスクリーン印刷して乾燥させ、そしてベルト式連続焼成炉により850℃の温度で、ピーク時間6分、IN−OUT時間45分のプロファイルによって焼成することにより、上面電極層12を形成する。
Next, a thick film silver paste is screen-printed on the upper surface of the sheet-like substrate, dried, and fired in a belt-type continuous firing furnace at a temperature of 850 ° C. with a peak time of 6 minutes and an IN-OUT time of 45 minutes. Thus, the upper
次に、上面電極層12に電気的に接続されるようにシート状の基板の上面に、酸化ルテニウムを主成分とする厚膜抵抗ペーストをスクリーン印刷して乾燥させ、そしてベルト式連続焼成炉により850℃の温度で、ピーク時間6分、IN−OUT時間45分のプロファイルによって焼成することにより、抵抗体層13を形成する。
Next, a thick film resistance paste mainly composed of ruthenium oxide is screen-printed and dried on the upper surface of the sheet-like substrate so as to be electrically connected to the
次に、上面電極層12間の抵抗体層13の抵抗値を揃えるために、レーザー光によって、抵抗体層13の一部を切除して抵抗値修正(Lカット、30mm/秒、12KHz、5W)を行う。
Next, in order to make the resistance value of the
次に、少なくとも抵抗体層13を完全に覆うように、エポキシ系樹脂ペーストをスクリーン印刷し、ベルト式連続硬化炉により200℃の温度で、ピーク時間30分、IN−OUT時間50分の硬化プロファイルによって硬化させることにより、保護層14を形成する。
Next, an epoxy resin paste is screen-printed so as to completely cover at least the
次に、端面電極層15を形成するための準備工程として、シート状の基板を短冊状に分割し、端面電極層15を形成する端面部を露出させる。
Next, as a preparation step for forming the end
次に、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定する。 Next, the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal.
次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が800平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量800のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約194℃のメチルカルビトールの含有率55%)を15:5:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が800Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率65%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
Next, a whisker-like carbon powder having a surface area of 800 square meters per gram so as to cover at least the
最後に、電気めっきの準備工程として、短冊状基板を個片状に分割し、そしてこの個片状基板上の露出した上面電極層12と端面電極層15の上にニッケルめっき層16とはんだまたは錫めっき層17をバレル方式の電気めっきで形成することにより、角形チップ抵抗器を製造した。
Finally, as a preparatory step for electroplating, the strip-shaped substrate is divided into individual pieces, and the
上記した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器の端面電極層15においては、200℃加熱時の重量減少率が0.08%となり、かつはんだ爆ぜ発生率も0%であった。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。
In the end
(実施の形態2)
次に、本発明の実施の形態2における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 2)
Next, a rectangular chip resistor according to
本発明の実施の形態2における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor in the second embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態2における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。
Hereafter, the manufacturing process of the square chip resistor in
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が800平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量800のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約194℃のメチルカルビトールの含有率55%)を11:3:5:81の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が800Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率65%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end surface electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per gram is 800 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態2においては、カーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる非導電性無機フィラーと、エポキシ樹脂(溶剤である沸点が約194℃のメチルカルビトールの含有率55%)を11:3:5:81の比率で混合しているため、本発明の実施の形態1と比較して、電極強度を向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。
In
(実施の形態3)
次に、本発明の実施の形態3における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 3)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 3 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態3における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the third embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end surface electrode paste used for the end
以下、本発明の実施の形態3における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in Embodiment 3 of this invention is demonstrated.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が800平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量1000のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約194℃のメチルカルビトールの含有率60%)を11:3:5:81の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が800Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率70%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end surface electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per gram is 800 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態3においては、端面電極層15を構成するエポキシ樹脂の分子量を1000(1000〜30000の範囲であれば良い)としているため、溶剤含有率を60%(60%以上であれば良い)にすることができ、これにより、本発明の実施の形態2と比較して、基板エッジ部の被覆性が向上するという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。
In the above-described third embodiment of the present invention, the molecular weight of the epoxy resin constituting the end
(実施の形態4)
次に、本発明の実施の形態4における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 4)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 4 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態4における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor according to the fourth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態4における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in Embodiment 4 of this invention is demonstrated.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が800平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約194℃のメチルカルビトールの含有率66%)を11:3:5:81の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が800Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率74%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end surface electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per gram is 800 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態4においては、端面電極層15を構成するエポキシ樹脂の分子量を12500(1000〜30000の範囲であれば良い)としているため、エポキシ樹脂中の溶剤含有率を66%(60%以上であれば良い)にすることができ、これにより、本発明の実施の形態2と比較して、基板エッジ部の被覆性が向上するという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。
In the above-described fourth embodiment of the present invention, the molecular weight of the epoxy resin constituting the end
(実施の形態5)
次に、本発明の実施の形態5における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 5)
Next, a rectangular chip resistor according to
本発明の実施の形態5における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor in the fifth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態5における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。
Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が800平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量30000のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約194℃のメチルカルビトールの含有率75%)を11:3:5:81の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が800Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率84%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end surface electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per gram is 800 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態5においては、端面電極層15を構成するエポキシ樹脂の分子量を30000(1000〜30000の範囲であれば良い)としているため、エポキシ樹脂中の溶剤含有率を75%(60%以上であれば良い)にすることができ、これにより、本発明の実施の形態2と比較して、基板エッジ部の被覆性が向上するという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。
In the above-described fifth embodiment of the present invention, since the molecular weight of the epoxy resin constituting the end
(実施の形態6)
次に、本発明の実施の形態6における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 6)
Next, a rectangular chip resistor according to the sixth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態6における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the sixth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態6における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。
Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が800平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量32000のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約194℃のメチルカルビトールの含有率80%)を11:3:5:81の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が800Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率89%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end surface electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per gram is 800 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態6においては、端面電極層15を構成するエポキシ樹脂の分子量を32000としているため、エポキシ樹脂中の溶剤含有率を80%(60%以上であれば良い)にすることができるが、エポキシ樹脂の分子量が32000という具合に大きすぎるため、膜厚が全体に薄くなるもので、これは、本発明の実施の形態2と同様、基板エッジ部の被覆性はあまり芳しくないものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。
In
(実施の形態7)
次に、本発明の実施の形態7における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 7)
Next, a rectangular chip resistor according to
本発明の実施の形態7における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the seventh embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end surface electrode paste used for the end
以下、本発明の実施の形態7における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。
Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が800平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約202℃のエチルカルビトールの含有率66%)を11:3:5:81の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が800Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率74%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end surface electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per gram is 800 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態7においては、端面電極層15を構成するエポキシ樹脂内の溶剤を沸点が約202℃のエチルカルビトール(沸点は200℃以上の溶剤であれば良い)としているため、端面電極中の溶剤の揮発が少なくなり、これにより、端面電極ペーストの作業中の粘性変化を小さくすることができるため、本発明の実施の形態3〜6と比較して、安定した形状で塗布が可能になるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。
In
(実施の形態8)
次に、本発明の実施の形態8における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 8)
Next, a rectangular chip resistor according to the eighth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態8における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor according to the eighth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態8における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the eighth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が800平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を11:3:5:81の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が800Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率74%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end surface electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per gram is 800 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態8においては、端面電極層15を構成するエポキシ樹脂内の溶剤を沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテート(沸点は200℃以上の溶剤であれば良い)としているため、端面電極中の溶剤の揮発が少なくなり、これにより、端面電極ペーストの作業中の粘性変化を小さくすることができるため、本発明の実施の形態1〜6と比較して、安定した形状で塗布が可能になるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。
In the above-described eighth embodiment of the present invention, the solvent in the epoxy resin constituting the end
(実施の形態9)
次に、本発明の実施の形態9における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 9)
Next, a rectangular chip resistor according to the ninth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態9における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the ninth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end surface electrode paste used for the end
以下、本発明の実施の形態9における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the ninth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が800平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を11:4:5:80の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が800Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率74%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の側面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end surface electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per gram is 800 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態9においては、カーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を11:4:5:80の比率で混合しているため、本発明の実施の形態7,8と比較して、面積抵抗値が低くなり、これにより、めっき付着性が向上するとともに、電極強度が向上するという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。 In Embodiment 9 of the present invention described above, whisker-like inorganic material comprising carbon powder and whisker-like potassium titanate (average fiber diameter 0.5 μm, average fiber length 30 μm, aspect ratio 60) coated with silver on the surface. 11: 4: 5: a filler, a non-conductive inorganic filler made of silica having an average particle size of 5 μm, and an epoxy resin having a molecular weight of 12500 (the content of butyl carbitol acetate having a boiling point of about 247 ° C. as a solvent is 66%). Since mixing is performed at a ratio of 80, the area resistance value is lower than in the seventh and eighth embodiments of the present invention, thereby improving the plating adhesion and the electrode strength. It is obtained. Other characteristics are summarized in (Table 1) described later.
(実施の形態10)
次に、本発明の実施の形態10における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 10)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 10 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態10における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the tenth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態10における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the tenth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が800平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が800Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率74%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の側面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end surface electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per gram is 800 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態10においては、カーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合しているため、本発明の実施の形態7,8と比較して、面積抵抗値が低くなり、これにより、めっき付着性が向上するとともに、電極強度が向上するという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。 In Embodiment 10 of the present invention described above, whisker-like inorganic material comprising carbon powder and potassium titanate in the form of whisker (average fiber diameter 0.5 μm, average fiber length 30 μm, aspect ratio 60) coated with silver on the surface. 5: 15: 5: a filler, a nonconductive inorganic filler made of silica having an average particle diameter of 5 μm, and an epoxy resin having a molecular weight of 12500 (the content of butyl carbitol acetate having a boiling point of about 247 ° C. as a solvent is 66%). Since the mixing is performed at a ratio of 75, the sheet resistance value is reduced as compared with the seventh and eighth embodiments of the present invention, thereby improving the plating adhesion and the electrode strength. It is obtained. Other characteristics are summarized in (Table 1) described later.
(実施の形態11)
次に、本発明の実施の形態11における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 11)
Next, a rectangular chip resistor according to
本発明の実施の形態11における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the eleventh embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態11における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the eleventh embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が800平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を7:18:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が800Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率74%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の側面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end surface electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per gram is 800 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態11においては、カーボン粉末と、銀を被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を7:18:5:75の比率で混合しているため、本発明の実施の形態7,8と比較して、面積抵抗値が低くなり、これにより、めっき付着性が向上するとともに、電極強度が向上するという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。
In
(実施の形態12)
次に、本発明の実施の形態12における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 12)
Next, a rectangular chip resistor according to
本発明の実施の形態12における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the twelfth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態12における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the twelfth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が1000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が1000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率77%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end surface electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 1000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態12においては、カーボン1g当たりの表面積を1000平方メートル(1000平方メートル以上であれば良い)としているため、0.006(l/s)のズリ速度での粘度が1000Pa・s(1000Pa・s以上であれば良い)となり、これにより、本発明の実施の形態9〜11と比較して、基板上への流れを小さく抑えることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。
In
(実施の形態13)
次に、本発明の実施の形態13における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 13)
Next, a rectangular chip resistor according to the thirteenth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態13における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the thirteenth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態13における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor according to the thirteenth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態13においては、カーボン1g当たりの表面積を2000平方メートル(1000平方メートル以上であれば良い)としているため、0.006(l/s)のズリ速度での粘度が2000Pa・s(1000Pa・s以上であれば良い)となり、これにより、本発明の実施の形態9〜11と比較して、基板上への流れを小さく抑えることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、後述する(表1)にまとめている。 In the thirteenth embodiment of the present invention, since the surface area per 1 g of carbon is 2000 square meters (or more than 1000 square meters), the viscosity at a shear rate of 0.006 (l / s) is 2000 Pa · s (1000 Pa · s or more is sufficient), and as a result, an effect that the flow onto the substrate can be suppressed as compared with the ninth to eleventh embodiments of the present invention can be obtained. Other characteristics are summarized in (Table 1) described later.
(実施の形態14)
次に、本発明の実施の形態14における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 14)
Next, a rectangular chip resistor according to the fourteenth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態14における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the fourteenth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態14における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。
Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態14においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described fourteenth embodiment of the present invention, as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is further added, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態15)
次に、本発明の実施の形態15における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 15)
Next, a rectangular chip resistor according to the fifteenth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態15における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the fifteenth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態15における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor according to the fifteenth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のシリカからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態15においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the fifteenth embodiment of the present invention described above, since 1% of the silane coupling agent is further added compared to the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態16)
次に、本発明の実施の形態16における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 16)
Next, a rectangular chip resistor according to the sixteenth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態16における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the sixteenth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態16における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the sixteenth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のウォラストナイトからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態16においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described sixteenth embodiment of the present invention, as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is added, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態17)
次に、本発明の実施の形態17における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 17)
Next, a rectangular chip resistor according to
本発明の実施の形態17における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor in the seventeenth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態17における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。
Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のセピオライトからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態17においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described seventeenth embodiment of the present invention, as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is further added, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態18)
次に、本発明の実施の形態18における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 18)
Next, a rectangular chip resistor according to the eighteenth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態18における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the eighteenth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態18における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor according to the eighteenth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)の酸化亜鉛からなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態18においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described eighteenth embodiment of the present invention, as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is further added, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態19)
次に、本発明の実施の形態19における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 19)
Next, a rectangular chip resistor according to the nineteenth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態19における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the nineteenth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態19における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor according to the nineteenth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)の炭酸カルシウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態19においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the nineteenth embodiment of the present invention described above, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態20)
次に、本発明の実施の形態20における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 20)
Next, a rectangular chip resistor according to the twentieth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態20における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor in the twentieth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態20における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the twentieth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)の酸化チタンからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態20においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the twentieth embodiment of the present invention described above, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態21)
次に、本発明の実施の形態21における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 21)
Next, a rectangular chip resistor according to the twenty-first embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態21における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the twenty-first embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態21における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the twenty-first embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)の硫酸バリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態21においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described twenty-first embodiment of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態22)
次に、本発明の実施の形態22における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 22)
Next, a rectangular chip resistor according to the twenty-second embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態22における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor in the twenty-second embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIGS. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態22における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the twenty-second embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)の水酸化アルミニウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態22においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described twenty-second embodiment of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態23)
次に、本発明の実施の形態23における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 23)
Next, a rectangular chip resistor according to the twenty-third embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態23における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the twenty-third embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態23における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the twenty-third embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)の酸化アルミニウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態23においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described twenty-third embodiment of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態24)
次に、本発明の実施の形態24における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 24)
Next, a rectangular chip resistor according to the twenty-fourth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態24における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor in the twenty-fourth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIGS. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態24における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the twenty-fourth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)の水酸化マグネシウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態24においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described twenty-fourth embodiment of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態25)
次に、本発明の実施の形態25における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 25)
Next, a rectangular chip resistor according to a twenty-fifth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態25における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor in the twenty-fifth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態25における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor in the twenty-fifth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のゾノトライトからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態25においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described twenty-fifth embodiment of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態26)
次に、本発明の実施の形態26における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 26)
Next, a rectangular chip resistor according to the twenty-sixth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態26における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the twenty-sixth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態26における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the twenty-sixth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のホウ酸アルミニウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態26においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described twenty-sixth embodiment of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態27)
次に、本発明の実施の形態27における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 27)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 27 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態27における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the twenty-seventh embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態27における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor according to the twenty-seventh embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)の硫酸マグネシウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率82%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態27においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described twenty-seventh embodiment of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態28)
次に、本発明の実施の形態28における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 28)
Next, a rectangular chip resistor according to the twenty-eighth embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態28における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the twenty-eighth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態28における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor according to the twenty-eighth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のケイ酸カルシウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率78%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態28においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described twenty-eighth embodiment of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態29)
次に、本発明の実施の形態29における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 29)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 29 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態29における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the twenty-ninth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態29における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor according to the twenty-ninth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)の窒化ケイ素からなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態29においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。
In the above-described Embodiment 29 of the present invention, as compared with
(実施の形態30)
次に、本発明の実施の形態30における角形チップ抵抗器について説明する。
Embodiment 30
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 30 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態30における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the thirtieth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態30における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in Embodiment 30 of this invention is demonstrated.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)の炭化ケイ素からなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態30においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described thirty-third embodiment of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth-embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態31)
次に、本発明の実施の形態31における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 31)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 31 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態31における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor in the embodiment 31 of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the embodiment 1 of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態31における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor according to the thirty-first embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面をニッケルで被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態31においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。
In Embodiment 31 of the present invention described above, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with
(実施の形態32)
次に、本発明の実施の形態32における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 32)
Next, a rectangular chip resistor according to the thirty-second embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態32における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the thirty-second embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end surface electrode paste used for the end
以下、本発明の実施の形態32における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the thirty-second embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を金で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態32においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described thirty-second embodiment of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態33)
次に、本発明の実施の形態33における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 33)
Next, a rectangular chip resistor according to the thirty-third embodiment of the present invention will be described.
本発明の実施の形態33における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the thirty-third embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態33における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in the thirty-third embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を錫で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態33においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described thirty-third embodiment of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態34)
次に、本発明の実施の形態34における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 34)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 34 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態34における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the thirty-fourth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end surface electrode paste used for the end
以下、本発明の実施の形態34における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the thirty-fourth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銅で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態34においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described thirty-fourth embodiment of the present invention, as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態35)
次に、本発明の実施の形態35における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 35)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 35 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態35における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor in the thirty-fifth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態35における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 A manufacturing process for the rectangular chip resistor according to the thirty-fifth embodiment of the present invention will be described below.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を白金で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態35においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the 35th embodiment of the present invention described above, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the 12th and 13th embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態36)
次に、本発明の実施の形態36における角形チップ抵抗器について説明する。
Embodiment 36
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 36 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態36における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the thirty-sixth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態36における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the thirty-sixth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面をはんだで被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態36においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described thirty-sixth embodiment of the present invention, as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is further added, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態37)
次に、本発明の実施の形態37における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 37)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 37 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態37における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor according to the thirty-seventh embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態37における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor according to the thirty-seventh embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.01μm、平均繊維長1μm、アスペクト比100)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態37においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In Embodiment 37 of the present invention described above, since 1% of a silane coupling agent is further added compared to Embodiments 12 and 13 of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態38)
次に、本発明の実施の形態38における角形チップ抵抗器について説明する。
(Thirty-eighth embodiment)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 38 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態38における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor according to the thirty-eighth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態38における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in the thirty-eighth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径1μm、平均繊維長100μm、アスペクト比100)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態38においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described thirty-eighth embodiment of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the twelfth and thirteenth embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態39)
次に、本発明の実施の形態39における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 39)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 39 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態39における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor according to the 39th embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態39における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the thirty-ninth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径1μm、平均繊維長10μm、アスペクト比10)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態39においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the 39th embodiment of the present invention described above, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the 12th and 13th embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態40)
次に、本発明の実施の形態40における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 40)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 40 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態40における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor in the fortieth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態40における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the fortieth embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)の黒鉛からなるウイスカ状黒鉛と、シリカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態40においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the 40th embodiment of the present invention described above, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the 12th and 13th embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態41)
次に、本発明の実施の形態41における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 41)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 41 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態41における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor in the forty-first embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態41における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor in the embodiment 41 of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、カオリンからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態41においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。
In the above-described Embodiment 41 of the present invention, as compared with
(実施の形態42)
次に、本発明の実施の形態42における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 42)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 42 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態42における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor in the embodiment 42 of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the embodiment 1 of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態42における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in the embodiment 42 of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、タルクからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態42においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。
In the above-described Embodiment 42 of the present invention, as compared with
(実施の形態43)
次に、本発明の実施の形態43における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 43)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 43 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態43における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor in the forty-third embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態43における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor in the embodiment 43 of the invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、酸化亜鉛からなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態43においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。
In the above-described Embodiment 43 of the present invention, as compared with
(実施の形態44)
次に、本発明の実施の形態44における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 44)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 44 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態44における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor according to the 44th embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態44における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor in the embodiment 44 of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、炭酸カルシウムからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態44においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。
In the above-described Embodiment 44 of the present invention, as compared with
(実施の形態45)
次に、本発明の実施の形態45における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 45)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 45 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態45における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor in the forty-fifth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態45における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor in the embodiment 45 of the invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、酸化チタンからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態45においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In Embodiment 45 of the present invention described above, since 1% of a silane coupling agent is further added as compared to Embodiments 12 and 13 of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態46)
次に、本発明の実施の形態46における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 46)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 46 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態46における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor in the embodiment 46 of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the embodiment 1 of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態46における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor in the embodiment 46 of the invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、硫酸バリウムからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態46においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。
In the above-described Embodiment 46 of the present invention, as compared with
(実施の形態47)
次に、本発明の実施の形態47における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 47)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 47 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態47における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor according to the 47th embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態47における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in the embodiment 47 of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、水酸化アルミニウムからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態47においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described 47th embodiment of the present invention, as compared with the 12th and 13th embodiments of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態48)
次に、本発明の実施の形態48における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 48)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 48 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態48における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor in the 48th embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the 1st embodiment of the present invention shown in FIGS. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態48における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor in the 48th embodiment of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、酸化アルミニウムからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態48においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described 48th embodiment of the present invention, as compared with the 12th and 13th embodiments of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is further added, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態49)
次に、本発明の実施の形態49における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 49)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 49 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態49における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor in the forty-ninth embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end electrode paste used for the
以下、本発明の実施の形態49における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the embodiment 49 of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、水酸化マグネシウムからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態49においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described 49th embodiment of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with the 12th and 13th embodiments of the present invention, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態50)
次に、本発明の実施の形態50における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 50)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 50 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態50における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor according to the 50th embodiment of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態50における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor in the embodiment 50 of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、マイカからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態50においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。 In the above-described 50th embodiment of the present invention, as compared with the 12th and 13th embodiments of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is further added, the adhesion between the substrate and the mixed material is increased. As a result, the electrode strength can be improved to 350N. The other characteristics are summarized in the following (Table 1).
(実施の形態51)
次に、本発明の実施の形態51における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 51)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 51 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態51における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。 The structure of the rectangular chip resistor in the embodiment 51 of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the embodiment 1 of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. Are different in composition and production method.
以下、本発明の実施の形態51における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor in the embodiment 51 of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、チタン酸カリウムからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態51においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。
In the above-described Embodiment 51 of the present invention, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with
(実施の形態52)
次に、本発明の実施の形態52における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 52)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 52 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態52における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor in the embodiment 52 of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the embodiment 1 of the present invention shown in FIG. 1 and FIG. 2, but the end surface electrode paste used for the end
以下、本発明の実施の形態52における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor in the embodiment 52 of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、ホウ酸アルミニウムからなる平均粒子径5μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率80%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態52においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。
In the above-described Embodiment 52 of the present invention, since 1% of a silane coupling agent is further added as compared with
(実施の形態53)
次に、本発明の実施の形態53における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 53)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 53 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態53における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor in the embodiment 53 of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the embodiment 1 of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end surface electrode paste used for the end
以下、本発明の実施の形態53における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, a manufacturing process of the rectangular chip resistor according to the embodiment 53 of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径1nmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率85%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態53においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。
In Embodiment 53 of the present invention described above, since 1% of the silane coupling agent is further added as compared with
(実施の形態54)
次に、本発明の実施の形態54における角形チップ抵抗器について説明する。
(Embodiment 54)
Next, a rectangular chip resistor according to Embodiment 54 of the present invention will be described.
本発明の実施の形態54における角形チップ抵抗器の構造は図1および図2に示した本発明の実施の形態1における角形チップ抵抗器と同じであるが、端面電極層15に用いる端面電極ペーストの配合および製造方法が異なっているものである。
The structure of the rectangular chip resistor in the embodiment 54 of the present invention is the same as that of the rectangular chip resistor in the embodiment 1 of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, but the end surface electrode paste used for the end
以下、本発明の実施の形態54における角形チップ抵抗器の製造工程について説明する。 Hereinafter, the manufacturing process of the square chip resistor according to the embodiment 54 of the present invention will be described.
短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定するまでの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The process until the strip-shaped substrate is fixed using an uneven holding jig so that the end surface electrode forming surface is horizontal is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
すなわち、短冊状基板を凹凸状の保持治具を用いて端面電極形成面が水平になるように固定した後、次に、少なくとも上面電極層12を覆うように、1g当たりの表面積が2000平方メートルのカーボン粉末と、表面を銀で被覆したウイスカ状(平均繊維径0.5μm、平均繊維長30μm、アスペクト比60)のチタン酸カリウムからなるウイスカ状無機フィラーと、シリカからなる平均粒子径50μmの非導電性無機フィラーと、分子量12500のエポキシ樹脂(溶剤である沸点が約247℃のブチルカルビトールアセテートの含有率66%)を5:15:5:75の比率で混合するとともに、0.006(l/s)のズリ速度の粘度が2000Pa・sとなるように適量のブチルカルビトールアセテートを添加し、さらにシラン系カップリング剤を1%添加した混合材料(溶剤の体積含有率76%)を3本ロールミルで混練した端面電極ペーストをあらかじめ約50μmの膜厚で均一にステンレスローラー上に形成し、そしてこのステンレスローラーを回転させるとともに凹凸状の保持治具を移動させることにより、ステンレスローラー上の端面電極ペーストを短冊状基板の端面電極形成面に接触させて塗布し、画像認識装置を用いて、塗布状態を確認する。そして短冊状基板の端面電極形成面全体にくまなく端面電極ペーストが塗布されていることが確認できたものは、ベルト式連続遠赤外線硬化炉により、ピーク時間160℃−30分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行うことにより、端面部の厚みが約5〜10μmの端面電極層15を形成した。
That is, after fixing the strip-shaped substrate so that the end face electrode forming surface is horizontal using an uneven holding jig, the surface area per 1 g is 2000 square meters so as to cover at least the upper
最後の電気めっきの工程は、本発明の実施の形態1と全く同じである。 The final electroplating process is exactly the same as in the first embodiment of the present invention.
上記した本発明の実施の形態54においては、本発明の実施の形態12,13と比較して、さらに、シラン系カップリング剤を1%添加しているため、基板と混合材料との密着力が向上し、これにより、電極強度を350Nに向上させることができるという効果が得られるものである。また、その他の特性に関しては、下記の(表1)にまとめている。
In Embodiment 54 of the present invention described above, since 1% of a silane coupling agent is further added as compared with
(表1)から明らかなように、本発明の実施の形態1〜54においては、本発明の主目的である200℃まで加熱した際の重量減少はいずれも0.1%以下であり、はんだ爆ぜ不具合はいずれもn=1000個中0個であった。また、表面を導電物で被覆したウイスカ状の無機フィラーあるいは黒鉛を添加することにより、230N〜350Nという非常に強い強度が得られていることも確認できた。 As apparent from (Table 1), in Embodiments 1 to 54 of the present invention, the weight loss when heated to 200 ° C., which is the main object of the present invention, is 0.1% or less. The number of explosion failures was 0 out of n = 1000. It was also confirmed that a very strong strength of 230N to 350N was obtained by adding a whisker-like inorganic filler whose surface was coated with a conductive material or graphite.
比較例1として、本発明の実施の形態1におけるエポキシ樹脂をエポキシ変性フェノール樹脂に置き換えて角形チップ抵抗器を作製した。この比較例1においては、200℃まで加熱した際の重量減少率が約0.3%となり、またはんだ爆ぜ不具合はn=1000個中12個であった。 As Comparative Example 1, a square chip resistor was manufactured by replacing the epoxy resin in Embodiment 1 of the present invention with an epoxy-modified phenol resin. In Comparative Example 1, the weight reduction rate when heated to 200 ° C. was about 0.3%, or the number of defects of nudging was 12 out of 1000.
比較例2として、本発明の実施の形態14における表面を導電物で被覆したウイスカ状の無機フィラーをフレーク銀に置き換えて配合した混合材料(カーボン5:フレーク銀15:エポキシ樹脂80)を用いた角形チップ抵抗器を作製した。この比較例2においては、表面を導電物で被覆したウイスカ状の無機フィラーあるいは黒鉛を配合していないため、電極強度は200Nとなり、電極強度の低下が認められた。
As Comparative Example 2, a mixed material (carbon 5: flake silver 15: epoxy resin 80) in which the whisker-like inorganic filler whose surface was coated with a conductive material in
なお、上記本発明の実施の形態1〜54においては、チップ状電子部品の一例として、角形チップ抵抗器により説明したが、これに限定されるものではなく、これ以外の端面電極を有するチップ状電子部品に適用した場合でも、上記本発明の実施の形態1〜54と同様の効果が得られるものである。 In Embodiments 1 to 54 of the present invention, a square chip resistor has been described as an example of a chip-shaped electronic component. However, the present invention is not limited to this, and a chip-shaped chip having other end face electrodes. Even when applied to an electronic component, the same effects as those of Embodiments 1 to 54 of the present invention can be obtained.
また、上記本発明の実施の形態1〜54においては、導電性粒子の混合粉末として、カーボンと表面を導電膜で被覆したウイスカ状無機フィラーの混合粉末あるいはカーボンとウイスカ状黒鉛の混合粉末を用いたが、さらにこの混合粉末に銀、銅、ニッケル、金、白金、錫、はんだ等の単一粉末あるいは混合粉末を適量添加するようにしても良く、この場合は、端面電極層の導体抵抗値をさらに下げることができるものである。 In Embodiments 1 to 54 of the present invention, a mixed powder of whisker-like inorganic filler whose carbon and the surface are coated with a conductive film or a mixed powder of carbon and whisker-like graphite is used as the mixed powder of conductive particles. However, a suitable amount of single powder or mixed powder of silver, copper, nickel, gold, platinum, tin, solder, etc. may be added to this mixed powder. In this case, the conductor resistance value of the end face electrode layer Can be further lowered.
そしてまた、上記本発明の実施の形態1〜54においては、樹脂としてエポキシ樹脂を用いたが、これはフェノール変性エポキシ樹脂、イミド変性エポキシ樹脂、他の樹脂で変性したエポキシ樹脂でも良い。 In Embodiments 1 to 54 of the present invention, an epoxy resin is used as the resin, but this may be a phenol-modified epoxy resin, an imide-modified epoxy resin, or an epoxy resin modified with another resin.
本発明にかかるチップ状電子部品は、端面電極層を構成する樹脂としてエポキシ樹脂を用いているため、200℃まで加熱した際に0.1%以上の重量減少を生じることはなく、その結果、このチップ状電子部品を実装基板に実装する際のはんだ溶融工程においても、ニッケルめっき層やはんだめっき層に穴が空いたり、はんだが飛び散るなどの不具合が生じることはなくなり、またこの不具合が減少することにより、部品交換などの工程が不要となるため、量産性を向上させることができるという効果を有し、また、混合材料中に表面を導電膜で被覆したウイスカ状無機フィラーあるいはウイスカ状黒鉛を含有させるとともに、さらに非導電性無機フィラーを添加しているため、混合材料の破壊靭性強度が向上して、端面電極層の強度を向上させることができるものである。 Since the chip-shaped electronic component according to the present invention uses an epoxy resin as a resin constituting the end face electrode layer, it does not cause a weight loss of 0.1% or more when heated to 200 ° C., Even in the solder melting process when mounting this chip-shaped electronic component on the mounting board, there will be no defects such as holes in the nickel plating layer or solder plating layer, or solder scattering, and this defect will be reduced. This eliminates the need for parts replacement and the like, and thus has the effect of improving mass productivity. Also, whisker-like inorganic filler or whisker-like graphite whose surface is coated with a conductive film in a mixed material is provided. In addition to the inclusion of a non-conductive inorganic filler, the fracture toughness strength of the mixed material is improved and the strength of the end face electrode layer is improved. Those that can be.
11 基板
12 上面電極層
13 抵抗体層
14 保護層
15 端面電極層
16 ニッケルめっき層
17 はんだまたは錫めっき層
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