JP2005101367A - High-frequency module and communication equipment - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、携帯電話等の移動体通信端末、無線LAN、WLL(Wireless Local Loop)等の通信機器に用いられる送信用の高周波モジュールに関し、特に組立工数の削減ならびに小型化を可能とした高周波モジュールに関するものである。 The present invention relates to a high-frequency module for transmission used in communication equipment such as a mobile communication terminal such as a mobile phone, wireless LAN, and WLL (Wireless Local Loop), and more particularly, a high-frequency module capable of reducing assembly man-hours and downsizing. It is about.
近年、アナログあるいはデジタル携帯電話等の移動体通信機などに使用される半導体デバイスや電子部品に対する小型化・軽量化の要望が強くなっている。中でも送信部に用いられる高周波用電力増幅器は、電力増幅用トランジスタの小型化、モジュール化が進んでおり、高周波用電力増幅器から発生する熱によって、その部品のみならず、周囲の部品の特性に影響を及ぼすために、大電力出力時に放熱性を高めることが望まれている。 In recent years, there is a strong demand for miniaturization and weight reduction of semiconductor devices and electronic components used in mobile communication devices such as analog or digital mobile phones. In particular, high-frequency power amplifiers used in transmitters are becoming smaller and more modular in power amplification transistors, and the heat generated from high-frequency power amplifiers affects not only the components but also the characteristics of surrounding components. Therefore, it is desired to improve heat dissipation at the time of high power output.
また、このような高周波用電力増幅器に対する放熱対策としては、絶縁基板上に搭載された発熱性素子の直下に、絶縁基板に形成した貫通穴内に放熱体を嵌め込んだり(特許文献1)、絶縁基板に放熱用のバイアホールを設ける(特許文献2,3)ことによって、発熱性素子から発生した熱を基板の裏面に放熱させることが提案されている。
高周波モジュールでは、小型化とともに低コスト化が求められており、その中で、高周波用電力増幅器とともに、弾性表面波素子、FBAR、アンテナスイッチ部品などの受動部品を実装搭載することも提案されているが、受動部品は、熱によって高周波特性が変化しやすいために、このような受動部品を搭載する場合には、熱の影響を最小化することが必要である。 High-frequency modules are required to be reduced in size and cost, and among them, it is also proposed to mount and mount passive components such as surface acoustic wave elements, FBARs, and antenna switch components together with high-frequency power amplifiers. However, since passive components easily change their high-frequency characteristics due to heat, it is necessary to minimize the influence of heat when mounting such passive components.
しかしながら、特許文献1のように、放熱用金属ブロックを基板内に嵌め込む構造では、気密性を損なうことなく金属ブロックを精度よくはめ込み、また接合工程も必要となる結果、工程が煩雑となり、コストの上昇は避けられなかった。
However, in the structure in which the metal block for heat dissipation is fitted into the substrate as in
また、特許文献2、3のように、放熱用ビアホールを設ける構造では、通常、絶縁層に形成した貫通穴に導体ペーストを充填することによって放熱用バイアホールを形成するが、貫通穴の大きさが絶縁層の厚みに対して、大きくなりすぎると、導体ペーストが貫通穴から流れ出るために、絶縁層の厚みを厚くしなければ、孔径の大きな放熱用バイアホールを形成することができないために絶縁層の厚みも大きくならざる得なかった。
In addition, as in
その結果、モジュールの小型と高密度配線化に対応するためには、絶縁層の層数も多くする必要があるために、モジュール自体の全体厚みが厚くなってしまうために、自ずと放熱用バイアホールの口径を大きくするにも限界があった。 As a result, in order to cope with the miniaturization and high-density wiring of the module, since it is necessary to increase the number of insulating layers, the entire thickness of the module itself is increased. There was a limit to increasing the diameter of the.
本発明は上記従来技術における問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、電力増幅器による発熱を抑え、充分な放熱性を有し、電力増幅器とともに弾性表面波素子などの受動部品の搭載可能で且つ低背化が可能な高周波モジュールおよびそれを用いた通信端末を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems in the prior art, and its purpose is to suppress heat generation by the power amplifier, to have sufficient heat dissipation, and to mount passive components such as surface acoustic wave elements together with the power amplifier. An object of the present invention is to provide a high-frequency module that can be reduced in height and a communication terminal using the same.
本発明の高周波モジュールは、誘電体層を積層してなる誘電体基板表面に、電力増幅素子と、受動部品とを実装、搭載してなるとともに、前記電力増幅素子実装部の直下の誘電体基板内に、基板表面側から基板裏面側に貫通する放熱体を設けてなり、前記誘電体層の厚みtに対して前記放熱体の断面における最小径が3倍以上であることを特徴とする。 The high-frequency module of the present invention has a power amplification element and a passive component mounted and mounted on a dielectric substrate surface formed by laminating dielectric layers, and a dielectric substrate directly below the power amplification element mounting portion. Inside, a heat radiating body penetrating from the substrate surface side to the substrate back surface side is provided, and the minimum diameter in the cross section of the heat radiating body is three times or more with respect to the thickness t of the dielectric layer.
なお、かかる高周波モジュールにおいては、前記受動部品として、弾性表面波素子、FBAR、アンテナスイッチ部品の群から選ばれる少なくとも1種を搭載する場合に好適である。 In addition, in this high frequency module, it is suitable when mounting at least 1 sort (s) chosen from the group of a surface acoustic wave element, FBAR, and an antenna switch component as said passive component.
さらに、前記誘電体基板上にが、ショットキーダイオード、検波ダイオード、検波IC、APCICの群から選ばれる少なくとも1種の出力検知用部品が実装されていてもよい。 Furthermore, on the dielectric substrate, at least one kind of output detection component selected from the group of a Schottky diode, a detection diode, a detection IC, and an APCID may be mounted.
本発明の高周波モジュールによれば、前記誘電体層の厚みtが0.1mm以下であること、また、前記放熱体の断面の最小径が0.3mm以上であることが、モジュールの高密度配線化とともに、放熱性を高める上で好適である。 According to the high frequency module of the present invention, the thickness t of the dielectric layer is 0.1 mm or less, and the minimum diameter of the cross section of the radiator is 0.3 mm or more. It is suitable for improving heat dissipation as well.
さらに、放熱体は、導体相と、誘電体相との混合体からなること、具体的には放熱体が、導体相を20〜80面積%、誘電体相80〜20面積%の混合体からなることが望ましい。これによって、放熱体の口径が大きくなることによって誘電体基板との熱膨張差に起因する応力の発生を抑制することができる。 Further, the radiator is composed of a mixture of a conductor phase and a dielectric phase. Specifically, the radiator is composed of a mixture of 20 to 80 area% conductor phase and 80 to 20 area% dielectric phase. It is desirable to become. As a result, it is possible to suppress the generation of stress due to the difference in thermal expansion from the dielectric substrate by increasing the diameter of the radiator.
また、放熱体の形状としては、前記放熱体の断面が、内部が誘電体相、周囲が導体相のドーナツ型の形状からなる、前記放熱体が、中心が導体相、周辺が導体を含有する誘電体相からなるドーナツ型形状からなる、前記放熱体が、前記誘電体相が前記導体相中に点在してなる、前記誘電体相が、前記導体相に対して平面的に点在している、前記誘電体相が、前記導体相に対して立体的に点在していることが応力の抑制を図る上で望ましい。 Further, as a shape of the heat radiating body, the cross section of the heat radiating body has a donut shape having a dielectric phase inside and a conductor phase around, the heat radiating body contains a conductor phase at the center and a conductor at the periphery. The heat dissipating body having a donut shape made of a dielectric phase, the dielectric phase being scattered in the conductor phase, and the dielectric phase being scattered in a plane with respect to the conductor phase. In order to suppress stress, it is desirable that the dielectric phase is three-dimensionally scattered with respect to the conductor phase.
また、前記誘電体基板は、厚みが0.1mm以下の誘電体層中に、少なくとも導体層が同じ厚みで埋設された複合体の積層体から形成することが好適であって、同様に、前記放熱体も、厚みが0.1mm以下の放熱体層の積層体によって形成されてなることが望ましい。かかる構成によれば、このような複合体を積層することによって、あらゆる複雑な形態の回路も容易に形成することができ、製造工程の簡略化を図ることができる。 Further, the dielectric substrate is preferably formed from a composite laminate in which at least a conductor layer is embedded in the same thickness in a dielectric layer having a thickness of 0.1 mm or less. It is desirable that the radiator is also formed by a laminated body of radiator layers having a thickness of 0.1 mm or less. According to such a configuration, by laminating such composites, it is possible to easily form circuits of any complicated form, and to simplify the manufacturing process.
なお、上記の高周波モジュールを通信機器中に配置することによって、携帯端末等の小型化を図ることができる。 Note that by arranging the high-frequency module in a communication device, it is possible to reduce the size of a portable terminal or the like.
本発明の高周波モジュールによれば、電力増幅器から発生する熱をモジュール基板の背面に効率よく放散することができることから、従来よりも電力増幅器とともに、モジュール基板表面に、熱に対する特性劣化の大きい弾性表面波素子などの受動部品や出力制御回路素子を配置することが可能となる。その結果、小型で高性能な高周波モジュールを提供することができる。 According to the high frequency module of the present invention, the heat generated from the power amplifier can be efficiently dissipated to the back surface of the module substrate. Passive components such as wave elements and output control circuit elements can be arranged. As a result, a small and high-performance high-frequency module can be provided.
しかも、誘電体層の厚みを薄くすることによって、モジュールを高密度配線化することができるとともに、モジュールの低背化を図ることができる。 In addition, by reducing the thickness of the dielectric layer, the module can be formed with high-density wiring, and the height of the module can be reduced.
以下、図面に基づいて本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1は本発明の高周波モジュールの一実施例を示す断面図である。同図に示した高周波モジュール1において、2は誘電体基板であり、3は誘電体基板2表面や内部に形成された高周波線路や電極、4は高周波線路3同士を垂直方向に接続するための垂直導体、5は基板2上に実装された電力増幅器、6は誘電体基板2上に実装された受動部品、7は誘電体基板2上に実装されたチップ抵抗やチップコンデンサ等のチップ部品、8は誘電体基板2上に実装された出力検知制御部品、9は電力増幅器5下部の誘電体基板2内に形成された放熱体、10は放熱体内に設けた誘電体相、11は放熱体内に設けた導体相、12はボンディングワイヤである。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of the high frequency module of the present invention. In the high-
かかる高周波モジュールにおいては、電力増幅器5の各電極(ソース・ゲート・ドレイン)と基板表面の高周波線路3とボンディングワイヤ11によって電気的に接続している。
In such a high-frequency module, each electrode (source, gate, drain) of the
一方、受動部品6、チップ部品7、出力検知制御部品8は、誘電体基板2上面に形成された高周波線路や電極3に半田等を用いて実装、搭載されている。
On the other hand, the
なお、誘電体基板2上面に実装、搭載された電力増幅器5や、受動部品6、チップ部品7、出力検知制御部品8は絶縁性樹脂13によって封止されている。また、高周波モジュール1は、最終的に通信機器におけるマザーボード等の外部電気回路基板14の表面に、モジュール1の裏面に形成された電極3を半田等によって実装、搭載されている。
The
本発明の配線基板2は、図1(b)に示すような少なくともセラミック誘電体材料を含有する誘電体層21aの一部に、金属層22aが該誘電体層21aを貫通して同じ厚みで形成されてなる複合体Aを基本成分とし、この複合体Aの積層体から構成されるものである。
In the
かかる構造の配線基板によれば、複合体Aの誘電体層21aおよび導体層22aのパターンを変化させることによって、誘電体層21aと導体層22aとが2次元、3次元に複雑に配置された構造を形成すれることができる。
According to the wiring board having such a structure, the
また、導体層22aは誘電体層22aを平面方向に伸びることによって平面回路となる配線導体層や電極3を形成している。また、部分的に導体層22aを厚み方向に積み上げることにより、配線導体層、電極3同士を電気的に接続する垂直導体4や、導体層22aが放熱体層としても機能できるために、これを垂直方向に積層することによって、誘電体基板2の表面から裏面まで貫通した放熱体9を形成することができる。
Further, the
本発明によれば、この複合体Aからなる誘電体層の厚みtに対して放熱体9の断面における最小径Dが3倍以上、特に4倍以上、さらには5倍以上であることが重要である。これによって、電力増幅素子5からの放熱性を向上させるとともに、高周波モジュールの小型化、低背化を同時に図ることができる。特に、D/tは、4以上、特に5以上であることが望ましい。
According to the present invention, it is important that the minimum diameter D in the cross section of the
より具体的には、誘電体層21aおよび導体層22aの焼成後の厚みは、いずれも0.1mm以下、特に10〜50μm、さらには15〜30μmの薄層によって形成されていることが望ましく、これより、複雑な導体パターンを具備する配線基板を基板厚みを薄くした状態で形成することが可能となる。また、放熱体5の直径Dは、0.3mm以上、特に0.5mm以上、さらには0.6mm以上であることが望ましい。
More specifically, the thickness of the
また、かかる構成によれば、電力増幅素子5と弾性表面波素子などの受動部品6との配置を2mm以下、特に1mm以下まで近づけることができる。
Further, according to this configuration, the arrangement of the power amplifying
本発明によれば、上記の大口径の放熱体5を形成するにあたり、複合体Aにおける誘電体層21aと導体層22aとの配置を制御することいよって、この複合体を積層した時に、誘電体相と導体相とを混在した組織によって形成することが望ましい。これによって、導体成分と誘電体基板2との熱膨張差に起因する応力の発生を低減することができる。
According to the present invention, when the large-
例えば、導体層22aのパターン形状等を変更することで、小径の放熱体、大口径の放熱体や、断面構造がドーナツ型形状となる放熱体や平面的に誘電体相を分散させた放熱体を形成することが出来る。さらに、各複合シートで導体層22aの位置を任意に変更することによって、放熱体5内の誘電体層を立体的に点在させることが出来る。
For example, by changing the pattern shape or the like of the
また導体層22aは、導体相のみで構成する必要はなく、導体相と、導体、誘電体を任意の割合で混合した相の複数相をスクリーン印刷等で形成しても差し支えなく、断面構造が内部に導体相、外周部に導体、誘電体を任意の割合で混合した相にすることで、放熱体で発生する応力を抑制する構造にすることが出来る。
The
その具体例を以下に説明すると、放熱体9は、図1(b)に示すように、略四角形状の導体相11の中心部に、誘電体相10が基板表面から裏面まで貫通して形成されたドーナツ型形状に形成されている。これによって、中心部に位置する誘電体相7が導体相6の熱膨張を抑制し、誘電体基板2との熱膨張差による応力を緩和させることができる。
A specific example will be described below. As shown in FIG. 1B, the
図2は、誘電体相10が導体相11中に複数形成されたものであり、平面的に誘電体相10が点在した構造となっている。これによって、誘電体相7が応力を緩和する機能をさらに増すことができる。
FIG. 2 shows a structure in which a plurality of
図3は、複合体Aに形成した誘電体層11aの位置を各層毎に変更したものであり、これにより立体的に誘電体相10が点在した構造となっている。かかる構造によれば、誘電体相7が導体相6の熱膨張を平面方向および垂直方向に均一に緩和する機能をさらに増すことができる結果、さらに応力の発生を抑制できる。
FIG. 3 shows a structure in which the position of the dielectric layer 11a formed in the composite A is changed for each layer, and thus has a structure in which the dielectric phases 10 are three-dimensionally scattered. According to such a structure, the
図4は、放熱体9の中心部に導体相11を配置し、その周囲に誘電体相10aを配置したものである。特に、周囲の誘電体相10aには、導体を任意の割合で混合した混合相で形成されていることが望ましい。かかる導体と誘電体の混合相は導体相11と誘電体基板2との中間的な熱膨張特性を有し、これにより、導体相11と誘電体基板2との間で発生する応力をこの誘電体相10aが緩和する機能を有する。誘電体は導体が拡散しにくく、両者の間で急激な反応がない材料組成であることが望ましい。この場合の誘電体相10a中の導体の含有割合は10〜90体積%、望ましくは20〜80体積%である。
In FIG. 4, the
本発明によれば、上記のように放熱体を誘電体相と導体相との混合体によって形成するにあたり、放熱体9中における誘電体成分、導体成分の全体の比率として、導体成分を20〜80体積%、誘電体成分を80〜20体積%の混合体からなることが適当である。かかる比率とすることによって、熱膨張差による応力の発生を効果的に低減することができる。
According to the present invention, when the radiator is formed by the mixture of the dielectric phase and the conductor phase as described above, the conductor component is 20 to 20 as the overall ratio of the dielectric component and the conductor component in the
この放熱体9中の誘電体相は、誘電体基板2を形成する誘電体材料と同一材料からなることが望ましい。
The dielectric phase in the
本発明の高周波モジュール1における電力用増幅器5としては、例えばpn接合ゲート型電界効果型トランジスタやショットキー障壁ゲート型電界効果型トランジスタ、ヘテロ接合型電界効果型トランジスタ、pn接合ゲート型へテロ接合型電界効果型トランジスタ等が用いられる。
As the
電力用トランジスタ5は、Au/Sn、Au/Siや半田、熱硬化型Agペースト等のダイアタッチ材により固定されるとともに電気的にも接続されており、Au等から成る太さ0.03mm程度のボンディングワイヤ10により、基板2上面に導出された接続導体4あるいは接続導体4に延設された導体層等を介して高周波線路3と電気的に接続される。
The
本発明の高周波モジュール1における受動部品6としては、送信、受信を切り替えるアンテナスイッチや、周波数帯を分けるダイプレクサ、周波数で送信、受信を分離するSAWデュプレクサ、FBAR(Film Bulk Acoustic Resonator)、誘電体デュプレクサ、フィルタリングするSAWバンドバスフィルタ等が用いられる。
The
RFICとしては、送信用IC、受信用IC、中間のダイレクトコンバージョンIC等が用いられる。 As the RFIC, a transmission IC, a reception IC, an intermediate direct conversion IC, or the like is used.
本発明の高周波モジュール1におけるチップ部品7としては、電力増幅器の整合回路やバイアス回路として使用される、表面実装型のチップ抵抗やチップコンデンサ等が用いられる。
As the
本発明の高周波モジュール1における出力検知制御部品8としては、カプラ、検波ダイオード、温度補償回路が内蔵された自動出力制御ICやディテクタIC等が挙げられる。
Examples of the output
本発明の高周波モジュール1における封止用の絶縁性樹脂13には例えばエポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂などを用い、電力増幅器5のワイヤボンディング後に真空印刷や金型で絶縁性樹脂をモールドし、乾燥・硬化させることにより、電力増幅器5を封止する。
The insulating
これ以外別にこれにより電力増幅器5を外部環境から保護して電気的特性の安定および防水等の信頼性を確保することができるとともに、電力増幅器5をベアチップ状態で実装することにより高周波モジュールの小型化を図ることができる。
In addition to this, it is possible to protect the
上記のようなモジュールを製造するための基本的な方法について図5、図6をもとに説明する。まず、製造にあたり、光硬化性誘電体スラリーおよび導体ペーストを調製する。 A basic method for manufacturing the module as described above will be described with reference to FIGS. First, in manufacture, a photocurable dielectric slurry and a conductor paste are prepared.
光硬化性誘電体スラリーは、少なくとも光硬化可能なモノマーおよびセラミック誘電体材料を含有する。スラリー調製にあたっては、望ましくは、セラミック粉末に、光硬化可能なモノマーと、光重合開始剤と、有機バインダと、可塑剤とを、有機溶剤に混合し、ボールミルで混練して調製する。 The photocurable dielectric slurry contains at least a photocurable monomer and a ceramic dielectric material. In preparing the slurry, it is desirable that the ceramic powder is prepared by mixing a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, an organic binder, and a plasticizer in an organic solvent and kneading them with a ball mill.
光硬化成分としては、光硬化可能なモノマーや光重合開始剤などが挙げられる。光硬化可能なモノマーとしては、低温で短時間の焼成工程に対応するために、熱分解性に優れたものであることが望ましい。また、光硬化可能なモノマーは、スリップ材の塗布・乾燥後の露光によって光重合される必要があり、遊離ラジカルの形成、連鎖生長付加重合が可能で、2級もしくは3級炭素を有したモノマーが好ましく、例えば少なくとも1つの重合可能なエチレン系基を有するブチルアクリレート等のアルキルアクリレートおよびそれらに対応するアルキルメタクリレート等が挙げられる。また、テトラエチレングリコールジアクリレート等のポリエチレングリコールジアクリレートおよびそれらに対応するメタクリレートも有効である。また、光開始系材料としては、ベンゾフェノン類,アシロインエステル類化合物などが挙げられる。 Examples of the photocuring component include a photocurable monomer and a photopolymerization initiator. As the photocurable monomer, it is desirable that the monomer is excellent in thermal decomposability in order to cope with a low-temperature and short-time baking process. In addition, the photo-curable monomer needs to be photopolymerized by exposure after application and drying of the slip material, and can form free radicals and chain-growth addition polymerization, and has a secondary or tertiary carbon. Preferred examples include alkyl acrylates such as butyl acrylate having at least one polymerizable ethylene group, and alkyl methacrylates corresponding thereto. In addition, polyethylene glycol diacrylates such as tetraethylene glycol diacrylate and methacrylates corresponding thereto are also effective. Examples of the photoinitiating material include benzophenones and acyloin ester compounds.
また、有機バインダも、光硬化可能なモノマーと同様に熱分解性が良好であることが望まれ、同時にスリップの粘性を決めるものであるため、固形分との濡れ性も考慮することが必要である。本発明によれば、アクリル酸もしくはメタクリル酸系重合体のようなカルボキシル基、アルコール性水酸基を備えたエチレン性不飽和化合物が好ましい。 In addition, the organic binder is desired to have good thermal decomposability like the photo-curable monomer, and at the same time, it determines the viscosity of the slip, so it is necessary to consider the wettability with the solid content. is there. According to the present invention, an ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group and an alcoholic hydroxyl group such as an acrylic acid or methacrylic acid polymer is preferred.
有機溶剤としては、エチルカルビトールアセテート、ブチルセルソルブ、3メトキシブチルアセテートの群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。 Examples of the organic solvent include at least one selected from the group consisting of ethyl carbitol acetate, butyl cellosolve, and 3 methoxybutyl acetate.
各成分の含有量は、セラミック粉末100質量部あたり、光硬化モノマー及び光重合開始剤を5〜20質量部、有機バインダを10〜40質量部、可塑剤を1〜5質量部、有機溶剤を50〜100質量部の割合が適当である。 The content of each component is 5 to 20 parts by mass of a photocurable monomer and a photopolymerization initiator, 10 to 40 parts by mass of an organic binder, 1 to 5 parts by mass of a plasticizer, and an organic solvent per 100 parts by mass of the ceramic powder. A ratio of 50 to 100 parts by mass is appropriate.
一方、導体ペーストは、平均粒径が1〜3μm程度の前記導体材料の粉末に、必要に応じてセラミック材料を添加した無機成分に対して、エチルセルロース、アクリル樹脂などの有機バインダを加え、さらにジブチルフタレート、αテルピネオール、ブチルカルビトール、2・2・4−トリメチル−3・3−ペンタジオールモノイソブチレートなどの適当な溶剤を混合し、3本ローラ等により均質に混練して調製される。 On the other hand, the conductive paste has an organic binder such as ethyl cellulose and acrylic resin added to the inorganic component obtained by adding a ceramic material to the powder of the conductive material having an average particle size of about 1 to 3 μm as necessary. It is prepared by mixing a suitable solvent such as phthalate, α-terpineol, butyl carbitol, 2,2,4-trimethyl-3,3-pentadiol monoisobutyrate, and kneading homogeneously with a three-roller or the like.
次に、上記の光硬化誘電体スラリーおよび導体ペーストを用いて以下の工程によって、複合シートを形成する。 Next, a composite sheet is formed by the following steps using the above-mentioned photo-curing dielectric slurry and conductor paste.
まず、図5(a)に示すように、樹脂フィルムなどからなる光透過可能なキャリアフィルム20上に、前記導体ペーストをスクリーン印刷法などの一般的な印刷手法によって印刷、塗布して、光非透過性の所定の導体パターン層21を形成する。 First, as shown in FIG. 5A, the conductor paste is printed and applied on a light transmissive carrier film 20 made of a resin film or the like by a general printing method such as a screen printing method. A predetermined conductive pattern layer 21 having transparency is formed.
次に、図5(b)に示すように、前記光硬化スラリーを、例えばドクターブレード法にて前記導体パターン層31の厚さ以上の厚さに塗布して所定の厚みで全面に塗布して光硬化セラミック層32を形成する。
Next, as shown in FIG. 5B, the photocuring slurry is applied to a thickness equal to or greater than the thickness of the
そして、図5(c)に示すように、キャリアフィルム30の裏面より例えば超高圧水銀灯を光源として用いて露光を行う。この露光によって、導体パターン層31形成以外の領域の光硬化セラミック層32を光硬化させる。この露光工程においては、光硬化セラミック層32は、導体パターン層31形成以外の領域の光硬化セラミック層32では照射された光の量により裏面から一定の厚みまで光重合反応がおこり不溶化部を形成するが、導体パターン層31は紫外線を通過しないために、導体パターン層31上に形成されている光硬化セラミック層32は、光硬化可能なモノマーの光重合反応がおこらない溶化部となる。また、このときの露光量は、実質的に不溶化部の厚みが、導体パターン層31の厚みと同じになるように露光量が調整されることが望ましい。
And as shown in FIG.5 (c), it exposes from the back surface of the
その後、この光硬化セラミック層32全体を現像処理する。現像処理は、光硬化セラミック層32の溶化部を現像液で除去するもので、具体的には、例えば、トリエタノールアミン水溶液などを現像液として用いてスプレー現像、洗浄、乾燥を行う。この処理により、図5(d)に示すように、キャリアフィルム30上には、導体パターン層31と光硬化セラミック層32とが実質的に同一厚みで一体化した複合シートAが形成される。
Thereafter, the entire photocurable
なお、この複合シートAは、キャリアフィルム30から複合シートAを剥離することによって、図5(e)に示すような複合シートA単体を得ることができる。
In addition, this composite sheet A can obtain the composite sheet A simple substance as shown in FIG.5 (e) by peeling the composite sheet A from the
次に、この複合シートAを用いて図1の配線基板を製造するにあたり、前記図5(a)〜(e)に従い、光硬化セラミック層32と所定のパターンの導体パターン層31が形成された複数の複合シートA1〜A14を作製する。
Next, in manufacturing the wiring board of FIG. 1 using the composite sheet A, the photo-curing
そして、図6(a)に示すように、これらの複合シートA1〜A14を位置あわせしながら、重ね合わせ一括して圧着することによって積層体33を形成する。また、複合シートの厚みが薄い場合には、キャリアフィルム30から剥離することなく、所定の基材表面にキャリアフィルム30が付いたまま重ね合わせ、キャリアフィルムを剥離する。その後、同じように複合シート表面に繰り返すことによって図6(b)と同様な積層体33を作製することができる。
And as shown to Fig.6 (a), while aligning these composite sheets A1-A14, the
なお、積層圧着時には、複合シートA中に含まれる有機バインダのガラス転移点以上の温度をかけながら行なうことが望ましい。また、複合シートA間に有機系接着剤を塗布して圧着してもよい。 In addition, it is desirable to perform the lamination pressure bonding while applying a temperature equal to or higher than the glass transition point of the organic binder contained in the composite sheet A. Further, an organic adhesive may be applied between the composite sheets A and pressure bonded.
そして、この積層体33を、所定の温度で焼成することによって、導体パターン層31によって3次元的な回路が形成された配線基板を作製することができる。なお、焼成にあたっては、作製された積層体33を脱バイ工程で、成形体中に含まれている有機バインダ、光硬化可能なモノマーを消失し、焼成工程にて窒素などの不活性雰囲気中で用いられたセラミック材料および導体材料が十分に焼成することのできる温度で焼成され、相対密度95%以上に緻密化される。
Then, by firing this
本発明における上記の配線基板において用いられるセラミック誘電体は、(1)Al2O3、AlN、Si3N4、SiCを主成分とする焼成温度が1100℃以上のセラミック材料、(2)少なくともSiO2およびBaO、CaO、SrO、MgOなどのアルカリ土類金属酸化物を含有する金属酸化物による混合物からなる1100℃以下、特に1050℃以下で焼成されるセラミック材料、(3)ガラス粉末、あるいはガラス粉末とセラミックフィラー粉末との混合物からなる1100℃以下、特に1050℃以下で焼成される低温焼結性のセラミック材料の群から選ばれる少なくとも1種が選択される。 The ceramic dielectric used in the above wiring board according to the present invention includes (1) a ceramic material whose main component is Al 2 O 3 , AlN, Si 3 N 4 , SiC and having a firing temperature of 1100 ° C. or higher, (2) at least Ceramic material fired at 1100 ° C. or lower, particularly 1050 ° C. or lower, comprising a mixture of metal oxides containing SiO 2 and alkaline earth metal oxides such as BaO, CaO, SrO, MgO, (3) glass powder, or At least one selected from the group of low-temperature sinterable ceramic materials fired at 1100 ° C. or less, particularly 1050 ° C. or less, comprising a mixture of glass powder and ceramic filler powder is selected.
用いられる(2)の混合物や、(3)のガラス組成物としては、SiO2−BaO−Al2O3系、SiO2−B2O3系、SiO2−B2O3−Al2O3系、SiO2−Al2O3−アルカリ金属酸化物系、さらにはこれらの系にアルカリ金属酸化物、ZnO、PbO、Pb、ZrO2、TiO2等を配合した組成物が挙げられる。(3)におけるセラミックフィラーとしては、Al2O3、SiO2、フォルステライト、コージェライト、ムライト、AlN、Si3N4、SiC、MgTiO3、CaTiO3の群から選ばれる少なくとも1種が挙げられ、ガラスに対して20〜80質量%の割合で混合されることが望ましい。 As the mixture of (2) and the glass composition of (3) used, SiO 2 —BaO—Al 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 —Al 2 O 3 systems, SiO 2 —Al 2 O 3 —alkali metal oxide systems, and compositions in which alkali metal oxides, ZnO, PbO, Pb, ZrO 2 , TiO 2, etc. are blended with these systems. Examples of the ceramic filler in (3) include at least one selected from the group consisting of Al 2 O 3 , SiO 2 , forsterite, cordierite, mullite, AlN, Si 3 N 4 , SiC, MgTiO 3 , and CaTiO 3. The glass is preferably mixed at a rate of 20 to 80% by mass with respect to the glass.
一方、導体パターン層は、セラミック材料の焼成温度に応じて種々組み合わせられ、例えば、セラミック材料が前記(1)の場合、タングステン、モリブデン、マンガンの群から選ばれる少なくとも1種を主成分とする導体材料が好適に用いられる。また、低抵抗化のために、銅などとの混合物としてもよい。 On the other hand, the conductor pattern layer is variously combined according to the firing temperature of the ceramic material. For example, when the ceramic material is (1), the conductor is mainly composed of at least one selected from the group consisting of tungsten, molybdenum, and manganese. Materials are preferably used. Moreover, it is good also as a mixture with copper etc. for resistance reduction.
セラミック材料が前記(2)の場合、銅、銀、金、アルミニウムの群から選ばれる少なくとも1種を主成分とする導体材料が好適に用いられる。 When the ceramic material is (2), a conductor material mainly composed of at least one selected from the group consisting of copper, silver, gold, and aluminum is preferably used.
上記の導体材料には、セラミック材料と同時焼成する上で、セラミック材料を構成する成分を含有することが望ましい。 The conductor material preferably contains a component constituting the ceramic material when co-firing with the ceramic material.
本発明によれば、かかる製造方法によって、図5(a)におけるキャリアフィルム30の表面に形成される導体層31と誘電体32とを図1乃至図4に示した様々なパターンに形成するだけで図1乃至図4に示した複雑な放熱体構造を形成することができる。
According to the present invention, the
また、図4のように、誘電体と導体との混合体を使用する場合には、予め、誘電体と導体との混合物からなるスラリーを調製した後、図5(a)の導体層31と同様に印刷塗布すればよく、その後、導体ペーストを印刷塗布した後に、光硬化性誘電体スラリー32を塗布すればよい。
As shown in FIG. 4, when using a mixture of a dielectric and a conductor, a slurry made of a mixture of a dielectric and a conductor is prepared in advance, and then the
厚さ100μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)からなる光透過可能なキャリアフィルム上に、導体ペーストをスクリーン印刷法により印刷して、厚さ20μmの電極層となる導体パターン層を形成した。尚、導体ペーストは、Ag粉末にバリウムホウ珪酸ガラス粉末と、エチルセルロース、有機溶剤として2・2・4−トリメチル−3・3−ペンタジオールモノイソブチレートを加え3本ロールミルで混合したものを使用した。 A conductive paste was printed on a light transmissive carrier film made of PET (polyethylene terephthalate) having a thickness of 100 μm by a screen printing method to form a conductive pattern layer serving as an electrode layer having a thickness of 20 μm. In addition, the conductor paste used what mixed barium borosilicate glass powder, ethyl cellulose, 2,2,4-trimethyl-3,3-pentadiol monoisobutyrate as an organic solvent, and mixed with a three roll mill to Ag powder. .
次に、上記導体パターン層の上に、感光性スラリーをドクターブレード法により塗布乾燥し、導体パターンの存在しない場所での乾燥後の厚みが28μmとなるように光硬化セラミック層を形成した。 Next, a photosensitive slurry was applied and dried on the conductor pattern layer by a doctor blade method to form a photo-cured ceramic layer so that the thickness after drying in a place where no conductor pattern was present was 28 μm.
感光性スラリーは、セラミック原料粉末100質量部と、光硬化可能なモノマー(ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート)8質量部と、有機バインダ(アルキルメタクリレート)35質量部と、可塑剤を3質量部、有機溶剤(エチルカルビトールアセテート)に混合し、ボールミルで混練して作製した。 The photosensitive slurry is 100 parts by mass of ceramic raw material powder, 8 parts by mass of photocurable monomer (polyoxyethylated trimethylolpropane triacrylate), 35 parts by mass of organic binder (alkyl methacrylate), and 3 parts by mass of plasticizer. Parts were mixed with an organic solvent (ethyl carbitol acetate) and kneaded with a ball mill.
セラミック原料粉末は、0.95モルMgTiO3−0.05モルCaTiO3で表される主成分100質量部に対して、BをB2O3換算で10質量部、LiをLiCO3換算で5質量部添加したものを用いた。 The ceramic raw material powder is 10 parts by mass in terms of B 2 O 3 and 5 parts in terms of LiCO 3 with respect to 100 parts by mass of the main component represented by 0.95 mol MgTiO 3 -0.05 mol CaTiO 3. What added the mass part was used.
次に、キャリアフィルムの裏面側より光硬化セラミック層の裏面に、超高圧水銀灯(照度30mW/cm2)を光源として2秒間全面露光した。そして希釈濃度2.5%のトリエタノールアミン水溶液を現像液として用いて30秒間スプレー現像を行った。この後、現像後の純水洗浄の後、乾燥を行った。
Next, the entire surface was exposed from the back surface side of the carrier film to the back surface of the photocurable ceramic layer for 2 seconds using an ultrahigh pressure mercury lamp (
こうして、出来上がった光硬化セラミック層は、電極層上の溶化部が現像により除去され電極層が露出して、その結果、導体層と、光硬化セラミック層とが一体化した、焼成後の厚みが50μmの複合シートを作製することができた。 In this way, the completed photo-cured ceramic layer has a solubilized portion on the electrode layer removed by development to expose the electrode layer. As a result, the conductor layer and the photo-cured ceramic layer are integrated, and the thickness after firing is A 50 μm composite sheet could be produced.
同様に、内部配線導体層用、表面配線導体層用、ビア導体用および放熱体用の導体パターン層を具備した、焼成後の厚みが50μmの延べ14層の複合シートを作製した。 Similarly, a composite sheet having a total of 14 layers with a thickness of 50 μm after firing, comprising conductor pattern layers for the internal wiring conductor layer, the surface wiring conductor layer, the via conductor, and the radiator was prepared.
上記のようにして作製した複合シートより、それぞれキャリアフィルムを剥離し、順番に位置合わせを行いながら、または、積層後にキャリアフィルムを剥離して、順次積層処理をおこなった。この後、プレス機を用いて、プレス圧1トン、温度60℃にて5分間プレスを行い、積層体を圧着した。その後、大気中で300℃、4時間脱バインダ処理をした後、900℃大気中で6時間焼成を行い、モジュール基板を作製した。 From the composite sheet produced as described above, the carrier film was peeled off, and the carrier film was peeled off after the lamination while sequentially aligning or after lamination. Thereafter, using a press machine, pressing was performed for 5 minutes at a pressing pressure of 1 ton and a temperature of 60 ° C., and the laminate was pressure bonded. Thereafter, the binder removal treatment was performed in the atmosphere at 300 ° C. for 4 hours, and then the substrate was baked in the atmosphere at 900 ° C. for 6 hours to produce a module substrate.
次に、このモジュール基板の表面に、半田を印刷後、チップ部品と弾性表面波素子をリフロー炉にて半田実装した後、銀ペーストを塗布し電力増幅素子を実装し、電力増幅素子に対して金ワイアでボンディングを行った。その後、エポキシ系樹脂を用いて樹脂封止を行った。なお、弾性表面波素子と電力増幅素子とは、最小距離Lが1mmとなるように離間させた。 Next, after solder is printed on the surface of the module substrate, the chip component and the surface acoustic wave element are solder mounted in a reflow furnace, and then the silver paste is applied and the power amplifying element is mounted. Bonding was done with gold wire. Thereafter, resin sealing was performed using an epoxy resin. The surface acoustic wave element and the power amplifying element were separated so that the minimum distance L was 1 mm.
なお、放熱体の構造として、断面における形状が最小径が0.1〜1mmの放熱体の構造を変えた配線基板を用意した。図1乃至図3において、誘電体相は、直径が0.03mmの大きさで点在させた。また図4の放熱体においては、直径が0.05〜0.2mmの導体を中心におき、その周囲に直径が0.1〜0.8mmの誘電体と導体との混合体からなる誘電体相を設けた。これにバイアス電圧3.4V、リファレンス電圧を2.85V印加し、電力増幅素子からの出力が28dBmとなるように入力電力を加えた。この条件で、配線基板の裏面温度および弾性表面波素子表面の温度を熱電対で計測した。さらに、この配線基板を−40℃から+125℃の温度サイクル試験にて1000サイクルを行い、試験後の放熱体やその周辺のクラックの有無、気密性の不良がないか検査し、不良の発生数を表1に示した。
表1より、放熱体の最小径が誘電体層の厚みの3倍以上とすることによって、良好な放熱性とともに、モジュールの低背化を図ることができた。また、放熱体を誘電体相と導体相との混合相によって形成することによって、モジュールの信頼性を高めることができた。 From Table 1, it was possible to reduce the height of the module with good heat dissipation by setting the minimum diameter of the radiator to three times or more the thickness of the dielectric layer. In addition, the reliability of the module could be improved by forming the heat radiator with a mixed phase of a dielectric phase and a conductor phase.
1・・・高周波モジュール
2・・・誘電体基板
3・・・高周波線路
4・・・垂直導体
5・・・電力増幅素子
6・・・受動部品
7・・・チップ部品
8・・・出力検知制御部品
9・・・放熱体
10・・誘電体相
11・・金属相
12・・ボンディングワイヤ
13・・絶縁性樹脂
14・・外部回路基板
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