JP2005217051A - Complex sheet, laminated part, and manufacturing method - Google Patents

Complex sheet, laminated part, and manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2005217051A
JP2005217051A JP2004020274A JP2004020274A JP2005217051A JP 2005217051 A JP2005217051 A JP 2005217051A JP 2004020274 A JP2004020274 A JP 2004020274A JP 2004020274 A JP2004020274 A JP 2004020274A JP 2005217051 A JP2005217051 A JP 2005217051A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
composite sheet
conductor
thickness
ceramic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004020274A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Tateno
周一 立野
Norimitsu Fukamizu
則光 深水
Tetsuya Kimura
哲也 木村
Koji Yamamoto
浩司 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2004020274A priority Critical patent/JP2005217051A/en
Publication of JP2005217051A publication Critical patent/JP2005217051A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a complex sheet capable of satisfying needs for decreasing insulating layer thickness and for increasing wiring conductor layer thickness simultaneously, of simplifying and shortening the conductor layer process, and of suppressing the occurrence of dispersion of thickness due to difference in conductor layer dimensions and areas; to provide a method for manufacturing the same; and to provide a laminated part and its manufacturing method. <P>SOLUTION: The complex sheet A comprises a photosetting ceramic layer 1a comprising a complex material containing at least a ceramic powder and a photosetting resin, and a conductor pattern layer 3a containing at least a metal powder and an organic binder and formed penetrating through a part of the photosetting ceramic layer 1a. The conductor pattern layer 3a and the photosetting ceramic layer 1a are similar in thickness to each other. The dimension of the conductor pattern layer 3a is measured on one main surface and on the other main surface, where the quotient obtained by dividing the larger dimension 3a-L by the shorter dimension 3a-S is ≤1.25. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、移動体通信機等に使用されるセラミック積層部品、積層基板などに適した複合シートおよびそれを用いた積層部品、並びにその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a ceramic laminated part used in a mobile communication device or the like, a composite sheet suitable for a laminated substrate, a laminated part using the same, and a method for manufacturing the same.

近年、電子機器は小型軽量化、携帯化が進んでおり、それに用いられる回路ブロックも、小型化、複合モジュール化が押し進められており、セラミック多層基板などの積層部品の高密度化と小型化が進められている。   In recent years, electronic devices are becoming smaller and lighter and more portable, and circuit blocks used for such electronic devices are also becoming smaller and more complex, and the density and size of laminated parts such as ceramic multilayer substrates are increasing. It is being advanced.

従来のセラミック多層基板は、通常、グリーンシート法と呼ばれる製造方法により製造されるものである。このグリーンシート法は、絶縁層となるセラミック粉末を含有するスラリーを用いてドクターブレード法などによってグリーンシートを作製し、次に、このグリーンシートにビアホール導体となる位置にNCパンチや金型などで貫通穴を形成し、導体ペーストを用いて、内部や表面の配線のパターンを印刷するとともに、前記貫通穴に導体ペーストを充填してビアホール導体を形成した後、同様にして作製した複数のグリーンシートを積層し、この積層体を一括同時焼成する製造方法である。(特許文献1)
このグリーンシート法においても、高精度化、さらには高密度化への要求に対して、絶縁層である配線導体層間の絶縁層厚みの薄層化とともに、配線導体層については低損失、低抵抗値を実現するため、配線導体層の厚みを厚くすることが求められている。
Conventional ceramic multilayer substrates are usually manufactured by a manufacturing method called a green sheet method. In this green sheet method, a green sheet is prepared by a doctor blade method or the like using a slurry containing ceramic powder as an insulating layer, and then the NC sheet or NC die is placed on the green sheet at a position to be a via hole conductor. A plurality of green sheets produced in the same manner after forming a through hole, printing a wiring pattern on the inside and surface using a conductor paste, filling the through hole with a conductor paste to form a via-hole conductor Is a manufacturing method in which the laminate is simultaneously fired. (Patent Document 1)
Even in this green sheet method, in response to the demand for higher precision and higher density, the insulation layer thickness between the insulation layers of the insulation layer is reduced, and the loss and resistance of the interconnection conductor layer are reduced. In order to realize the value, it is required to increase the thickness of the wiring conductor layer.

加えて、従来のグリーンシート法などの製造方法においては、絶縁層厚みの薄層化と配線導体層の厚膜化という、2つの要求を同時に満たそうとすると、配線導体層が形成されている部分と形成されていない部分とで、配線導体層の厚み分の段差が必然的に発生してしまう。   In addition, in a conventional manufacturing method such as the green sheet method, a wiring conductor layer is formed when it is attempted to satisfy two requirements of the insulating layer thickness reduction and the wiring conductor layer thickness increase at the same time. A step corresponding to the thickness of the wiring conductor layer inevitably occurs between the portion and the portion not formed.

この段差によって、積層不良(デラミネーション)が発生したり、無理に加圧して段差を埋めたとしても絶縁層に部分的な密度差が生じて、焼成後に変形するといった問題があり、絶縁層厚みの薄層化と配線導体層の厚みの厚膜化を同時に満たすには、限界があった。   Due to this step, stacking faults (delamination) may occur, or even if the step is filled by forcibly pressing, there is a problem that a partial density difference occurs in the insulating layer, causing deformation after firing. However, there is a limit to satisfy both the reduction in thickness and the increase in thickness of the wiring conductor layer at the same time.

また、ビア導体などの垂直導体を形成するためには、グリーンシートに対してパンチングなどによって貫通穴を形成する穴あけ工程が不可欠であり、配線導体層を形成する印刷工程に対して付加的な工程となっていた。   In addition, in order to form a vertical conductor such as a via conductor, a drilling process for forming a through hole by punching the green sheet is indispensable, and an additional process for the printing process for forming the wiring conductor layer It was.

そこで、このような配線導体層の厚みによる段差を抑制するために、キャリアフィルム上に形成されたグリーンシート上にグラビア印刷法により回路パターンを導体ペーストによって形成する方法が特許文献2にて提案されている。また、凹版溝内に充填された導体ペーストをゴムローラーに転写後被印刷体へ転写する方法(特許文献3)や、凹版に形成された溝内へ導体ペーストを充填、乾燥し、乾燥により減少した体積分を補充する工程を数回繰り返した後、導体を転写する方法(特許文献4)が提案されている。
特開平11−066951号 特告平1−36996号 特許第2819770号 特許第3173439号
In order to suppress such a step due to the thickness of the wiring conductor layer, Patent Document 2 proposes a method of forming a circuit pattern with a conductor paste by a gravure printing method on a green sheet formed on a carrier film. ing. In addition, the conductor paste filled in the intaglio groove is transferred to a rubber roller after being transferred to a rubber roller (Patent Document 3), or the conductor paste is filled into the groove formed in the intaglio, dried, and reduced by drying. There has been proposed a method (Patent Document 4) in which a conductor is transferred after repeating the step of replenishing the volume which has been performed several times.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-066951 Special announcement 1-36996 Japanese Patent No. 2819770 Japanese Patent No. 3173439

しかしながら、上記の特許文献1に記載されている従来のグリーンシート法では、導体パターンの形成にスクリーン印刷を行なうため導体断面形状を矩形に形成できず、断面積が小さくなり、抵抗が増加する問題があった。また、スクリーン印刷では、グリーンシート上にスクリーン印刷法により配線導体を形成するため、配線パターンの面積、形状の違いにより、パターンを同一厚みに形成できない問題もあった。更に、導体の形成方法に関してスクリーン印刷法の場合、ライン/スペース=50μm/50μm以下の微細配線を形成する際、パターンのにじみによるショートや印刷時のカスレ等により断線が発生し、多層回路基板の電気特性に影響を与えるという問題があった。   However, in the conventional green sheet method described in the above-mentioned Patent Document 1, the conductor cross-sectional shape cannot be formed in a rectangle because screen printing is performed for the formation of the conductor pattern, so that the cross-sectional area becomes small and the resistance increases. was there. Further, in the screen printing, since the wiring conductor is formed on the green sheet by the screen printing method, there is a problem that the pattern cannot be formed with the same thickness due to the difference in the area and shape of the wiring pattern. Further, in the case of the screen printing method as a method for forming the conductor, when forming fine wiring of line / space = 50 μm / 50 μm or less, disconnection occurs due to short circuit due to pattern bleeding, shading during printing, etc. There was a problem of affecting the electrical characteristics.

また、上記の特許文献2記載の方法によれば、グラビア版を使用するため、導体パターンを厚く形成できない。その上、オフセットロールへ一度転写させるため、工程が増える等の問題がある。また、上記文献3記載の方法では、一度、別のフィルム等へ回路を形成した後もう一度回路形成を行なうため、工程が増える。一方、上記特許文献4記載の方法では、導体の充填、乾燥時に導体の体積が減少するため、何度も充填、乾燥をおこなわなければならず、工程が増えるのに加え、充填が完全に行なわれないため、転写不良等を引き起こす問題があった。   In addition, according to the method described in Patent Document 2, since a gravure plate is used, a conductive pattern cannot be formed thick. In addition, there is a problem that the number of processes increases because the transfer is once performed on the offset roll. Further, in the method described in the above-mentioned document 3, the number of steps is increased because the circuit is formed once again after another circuit is formed on another film or the like. On the other hand, in the method described in Patent Document 4, since the volume of the conductor is reduced during filling and drying of the conductor, filling and drying must be performed many times. Therefore, there is a problem that causes transfer failure and the like.

本発明は、例えば、ライン/スペース=50μm/50μm以下の微細配線を形成した場合でも、パターンのにじみによるショートや印刷時のカスレ等により断線が発生することがなく、絶縁層の薄層化と導体層の厚膜化を同時に満足できる複合シート、並びにデラミネーションがなく、接続信頼性の高い任意の3次元回路パターンを容易に形成できる積層部品の製造方法を提供することを目的とする。   In the present invention, for example, even when a fine wiring having a line / space = 50 μm / 50 μm or less is formed, a short circuit due to pattern bleeding or a disconnection due to shading at the time of printing does not occur, and the insulating layer is thinned. It is an object of the present invention to provide a composite sheet that can satisfy the increase in thickness of a conductor layer and a method for manufacturing a laminated part that can easily form an arbitrary three-dimensional circuit pattern having no connection and high connection reliability.

本発明の複合シートは、少なくともセラミック粉末と、光硬化された樹脂とを含有する複合材からなる光硬化セラミック層の一部に、少なくとも金属粉末と有機バインダとを含有する導体パターン層が該光硬化セラミック層を貫通して形成されている複合シートであって、前記前記導体パターン層と前記光硬化セラミック層とが略同一厚みであり、前記導体パターン層の一方の主面上の寸法と他方の主面の寸法の比率が、大きい方の寸法を小さい方の寸法で除した値が1.25以下であることを特徴とする。   In the composite sheet of the present invention, a conductor pattern layer containing at least a metal powder and an organic binder is formed on a part of a photocurable ceramic layer made of a composite material containing at least a ceramic powder and a photocured resin. A composite sheet formed through a cured ceramic layer, wherein the conductor pattern layer and the photo-cured ceramic layer have substantially the same thickness, and the dimension on one main surface of the conductor pattern layer and the other The ratio of the dimension of the main surface is obtained by dividing the larger dimension by the smaller dimension to 1.25 or less.

また、本発明の複合シートは、前記光硬化セラミック層および前記導体パターン層の厚みが10〜50μmであり、その厚み差が10μm以下であることが望ましい。   Moreover, as for the composite sheet of this invention, it is desirable that the thickness of the said photocurable ceramic layer and the said conductor pattern layer is 10-50 micrometers, and the thickness difference is 10 micrometers or less.

また、この複合シートは、光透過可能なキャリアフィルム上に設けられていることが望ましい。   The composite sheet is preferably provided on a light transmissive carrier film.

本発明の積層部品は、少なくともセラミック材料を含有してなる複数の絶縁層の一部に、配線層が前記絶縁層を貫通して形成されている積層部品であって、前記絶縁層と配線層が略同一厚みであり、前記配線層の主面の寸法と、他方の主面の寸法のうち、小さい方の寸法で、大きい方の寸法を除した値が、1.25以下であることを特徴とする。   The multilayer component of the present invention is a multilayer component in which a wiring layer is formed through a portion of a plurality of insulating layers containing at least a ceramic material, the insulating layer and the wiring layer Are substantially the same thickness, and the value obtained by dividing the dimension of the major surface of the wiring layer and the dimension of the other principal surface by the smaller dimension is 1.25 or less. Features.

また、本発明の積層部品は、配線層が厚み方向に積み上げられ、垂直導体が形成されてなることが望ましい。   In the laminated component of the present invention, it is desirable that the wiring layers are stacked in the thickness direction and a vertical conductor is formed.

また、本発明の複合シートの製造方法は、
(a)少なくとも導電性粉末と樹脂からなる導体ペーストを凹版に充填する工程と、
(b)光透過可能なキャリアフィルム表面に凹版に充填した導体ペーストを転写して、光非透過な導体パターンを形成する工程と、
(c)前記導体パターン層を形成したキャリアフィルム上に、少なくとも光硬化可能なモノマーおよびセラミック粉末を含有する光硬化スラリーを、前記導体パターン層の厚さ以上の厚さに塗布して光硬化セラミック層を形成する工程と、
(d)前記キャリアフィルムの裏面より、光を照射して、前記導体パターン層以外の領域の光硬化セラミック層を光硬化させる工程と、
(e)現像液を付与して、前記光硬化セラミック層の前記導体パターン層表面を含む非光硬化部を溶化、除去することによって、光硬化セラミック層と導体パターン層からなる複合シートを作製する工程と、
を具備することを特徴とする。
In addition, the method for producing the composite sheet of the present invention includes:
(A) filling the intaglio with a conductive paste comprising at least conductive powder and resin;
(B) transferring the conductive paste filled in the intaglio to the light transmissive carrier film surface to form a light non-transmissive conductive pattern;
(C) On the carrier film on which the conductor pattern layer is formed, a photocuring slurry containing at least a photocurable monomer and ceramic powder is applied to a thickness equal to or greater than the thickness of the conductor pattern layer, and photocuring ceramic. Forming a layer;
(D) irradiating light from the back surface of the carrier film and photocuring the photocurable ceramic layer in a region other than the conductor pattern layer;
(E) A composite sheet composed of a photocurable ceramic layer and a conductive pattern layer is prepared by applying a developer and solubilizing and removing the non-photocured portion including the surface of the conductive pattern layer of the photocurable ceramic layer. Process,
It is characterized by comprising.

また、本発明の複合シートの製造方法は、凹版へ導体を充填する時に凹版の溝内に導体ペーストを充填するとともに、前記凹版の溝部以外の部分上に前記導体ペーストが残るように導体を凹版上に塗布することが望ましい。   Further, the method for producing a composite sheet according to the present invention includes filling a conductor paste in the groove of the intaglio when filling the conductor with the intaglio, and indenting the conductor so that the conductor paste remains on a portion other than the groove portion of the intaglio. It is desirable to apply on top.

また、本発明の複合シートの製造方法は、凹版の溝部以外の部分上に塗布された導体ペーストを乾燥した後、除去することが望ましい。   In the method for producing a composite sheet of the present invention, it is desirable to remove the conductive paste applied on the portion other than the groove portion of the intaglio after drying.

また、本発明の複合シートの製造方法は、凹版が樹脂フィルムをレーザー加工にて溝加工したものであることが望ましい。   Moreover, as for the manufacturing method of the composite sheet of this invention, it is desirable that the intaglio is a thing which groove-processed the resin film by laser processing.

また、本発明の複合シートの製造方法は、凹版がフォトレジストフィルムをフォトリソ加工にて溝加工したものであることが望ましい。   In the method for producing a composite sheet of the present invention, it is desirable that the intaglio plate is obtained by grooving a photoresist film by photolithography.

また、本発明の複合シートの製造方法は、凹版のパターンを金属シート上にメッキ法にて形成したものであることが望ましい。   Moreover, it is desirable that the method for producing a composite sheet of the present invention is such that an intaglio pattern is formed on a metal sheet by a plating method.

また、本発明の複合シートの製造方法は、前記光硬化セラミック層および導体パターン層の厚みが50μm以下であることが望ましい。   Moreover, as for the manufacturing method of the composite sheet of this invention, it is desirable that the thickness of the said photocurable ceramic layer and a conductor pattern layer is 50 micrometers or less.

また、本発明の複合シートの製造方法は、前記した(e)工程後に、
(f)前記キャリアフィルムから、前記導体パターン層および光硬化セラミック層を剥離する工程を具備することが望ましい。
Moreover, the manufacturing method of the composite sheet of this invention is the above-mentioned (e) process,
(F) It is desirable to comprise the process of peeling the said conductor pattern layer and a photocurable ceramic layer from the said carrier film.

さらに、本発明の積層部品の製造方法は、(g)以上説明した本発明の複合シートの製造方法によって作製された複数の複合シートを積層して任意の層数の積層体を形成する工程と、
(h)前記積層体を焼成する工程と、を具備することを特徴とする。
Furthermore, the manufacturing method of the laminated component of the present invention includes (g) a step of laminating a plurality of composite sheets produced by the composite sheet manufacturing method of the present invention described above to form a laminate having an arbitrary number of layers. ,
And (h) firing the laminate.

本発明の複合シートによれば、導体パターン層と光硬化セラミック層とが実質的に同一厚みであるために、複合シートの段差を小さくすることができ、導体パターン層の厚膜化と光硬化セラミック層の薄層化とを達成することができるとともに、複合シートの一方の主面の導体パターン層の寸法と、他方の主面の導体パターン層の寸法のうち、寸法が大きい方の値で小さい方の値を除した比率を1.25以下とすることにより、導体パターン層の断面積が大きくなるため、導体パターン層を焼成して得られる配線層の低抵抗化が達成できる。   According to the composite sheet of the present invention, since the conductor pattern layer and the photocurable ceramic layer have substantially the same thickness, the step of the composite sheet can be reduced, and the conductor pattern layer is made thicker and photocured. The ceramic layer can be made thinner, and the larger of the dimensions of the conductor pattern layer on one main surface of the composite sheet and the conductor pattern layer on the other main surface can be achieved. By setting the ratio obtained by dividing the smaller value to 1.25 or less, the cross-sectional area of the conductor pattern layer is increased, so that the resistance of the wiring layer obtained by firing the conductor pattern layer can be reduced.

また、本発明の複合シートは、複合シートの光硬化セラミック層及び導体パターン層の厚みを10μm〜50μmにすることにより、光硬化セラミック層を露光した時に光硬化させる厚みを狙いどおりに制御できるため、光硬化セラミック層と導体パターン層との厚み差を小さくすることができ、特に、10μm以下とすることで、積層体作製時に誘電体膜と導体パターンの段差によるデラミネーションをなくすことができる。   Moreover, since the composite sheet of this invention can control the thickness photocured when exposing a photocurable ceramic layer by aiming at the thickness of the photocurable ceramic layer and conductor pattern layer of a composite sheet to 10 micrometers-50 micrometers as aimed. The difference in thickness between the photo-curing ceramic layer and the conductor pattern layer can be reduced. In particular, by setting the thickness to 10 μm or less, delamination due to a step between the dielectric film and the conductor pattern can be eliminated when the laminated body is manufactured.

また、本発明の複合シートを、光透過可能なキャリアフィルム上に設けることで、光硬化セラミック層の形成にあたり、印刷された導体パターン層をマスクとして用い、光硬化セラミック層の全面塗布と、キャリアフィルムの裏面からの全面露光によって、光硬化セラミック層を形成することができるために、光硬化セラミック層を硬化させるためにマスクなどを別途、作製する必要がなく、安価に且つ容易に光硬化性セラミック層と導体パターン層とからなる複合シートを作製することができる。   Further, by providing the composite sheet of the present invention on a light transmissive carrier film, in forming the light curable ceramic layer, using the printed conductor pattern layer as a mask, coating the entire surface of the light curable ceramic layer, and the carrier Since the photo-curing ceramic layer can be formed by full exposure from the back side of the film, it is not necessary to separately prepare a mask or the like to cure the photo-curing ceramic layer. A composite sheet composed of a ceramic layer and a conductor pattern layer can be produced.

また、本発明の積層部品は、絶縁層と配線層とが略同一厚みであるために、絶縁層の薄膜化と配線層の厚膜化とを同時に達成することができる。また、複数の絶縁層の間でのデラミネーションも抑制することができる。また、配線層の一方の主面と、他方の主面のうち、小さい方の主面の寸法で大きい方の主面の寸法を除したときの値を1.25以下とすることで、配線層の断面積を大きくすることができるため、低抵抗の配線層を有する積層部品となる。   In the laminated component of the present invention, since the insulating layer and the wiring layer have substantially the same thickness, the insulating layer can be made thinner and the wiring layer can be made thicker at the same time. In addition, delamination between a plurality of insulating layers can be suppressed. In addition, the value obtained by dividing the dimension of the larger main surface by the dimension of the smaller main surface of one main surface and the other main surface of the wiring layer is set to 1.25 or less. Since the cross-sectional area of the layer can be increased, a laminated component having a low-resistance wiring layer is obtained.

また、本発明の積層部品においては、配線層を厚み方向に積み上げることにより垂直導体を形成することで、積層部品内に立体的な配線回路を形成することができ、高密度の配線回路を有する積層部品となる。   In the laminated component of the present invention, a three-dimensional wiring circuit can be formed in the laminated component by forming the vertical conductors by stacking the wiring layers in the thickness direction, and has a high-density wiring circuit. It becomes a laminated part.

本発明の複合シートの製造方法によれば、導体パターン層はすべて平面へ形成され、特に、従来は貫通穴へ導体ペーストを充填して形成されていたビア導体を本発明の複合シートの製造方法により作製することで、充填不良などの発生を防止することができる。   According to the method for producing a composite sheet of the present invention, the conductor pattern layers are all formed in a flat surface, and in particular, via conductors that are conventionally formed by filling a through hole with a conductor paste are used for producing the composite sheet of the present invention. Thus, it is possible to prevent the occurrence of defective filling.

しかも、絶縁層となる光硬化セラミック層の形成にあたり、印刷された導体パターン層自体をマスクとして用い、光硬化セラミック層の全面塗布と、キャリアフィルムの裏面からの全面露光によって、光硬化セラミック層を所定の形状に形成することができるために、光硬化セラミック層を硬化させるために別途、高価なマスクなどを作製する必要がなく、安価に且つ容易に光硬化セラミック層と導体パターン層とからなる複合シートを作製することができる。そして、導体ペーストの形成を凹版を用いて行うことで、溝の深さを自由にコントロールできるとともに、凹版の溝の形状を任意に制御できるため、特に、矩形の導体パターン層を容易に形成することができる。また、印刷法などによる導体パターン層の形成と比べると、溝の深さの制御も格段に高精度に行うことができるため、導体パターン層の厚みを高精度に制御でき、複合シートの導体パターン層と光硬化セラミック層との段差を格段に小さくすることができる。   Moreover, in forming the photo-curing ceramic layer to be the insulating layer, the photo-curing ceramic layer is formed by applying the entire surface of the photo-curing ceramic layer and exposing the entire surface of the carrier film using the printed conductor pattern layer itself as a mask. Since it can be formed into a predetermined shape, there is no need to separately prepare an expensive mask or the like for curing the photo-curing ceramic layer, and the photo-curing ceramic layer and the conductor pattern layer are easily and inexpensively formed. A composite sheet can be produced. In addition, by forming the conductor paste using the intaglio, the depth of the groove can be freely controlled and the shape of the intaglio groove can be arbitrarily controlled. In particular, the rectangular conductor pattern layer is easily formed. be able to. Compared to the formation of the conductor pattern layer by printing, etc., the depth of the groove can be controlled with extremely high accuracy, so the thickness of the conductor pattern layer can be controlled with high accuracy, and the conductor pattern of the composite sheet can be controlled. The step between the layer and the light-hardened ceramic layer can be remarkably reduced.

また、凹版の溝部への導体ペースト充填時に、導体ペーストを溝部以外の部分へも塗布することにより、導体を乾燥させた時に収縮が生じても導体粉末が完全に溝部を埋めているので、充填、乾燥が一度だけで良く、工程を少なくすることができる。   In addition, when the conductor paste is filled into the groove portion of the intaglio, the conductor paste is completely filled in the groove portion even if shrinkage occurs when the conductor is dried by applying the conductor paste to other portions than the groove portion. Drying only needs to be performed once, and the number of processes can be reduced.

また、凹版の溝部以外の部分に塗布された導体ペーストを除去する前に乾燥させると凹版の表面と導体の密着が悪くなり、導体を凹版から容易に除去できる。そして、凹状のパターンから配線層を転写形成する時、導体ペーストは乾燥しているため、容易に、凹板から転写することが可能で、例えば、ライン/スペース=50/50μmの微細なパターンを形成した場合でも、配線層のにじみ等が無い高精度な配線層を形成することができる。   Further, if the conductor paste applied to the portion other than the groove portion of the intaglio is dried before being removed, the adhesion between the surface of the intaglio and the conductor is deteriorated, and the conductor can be easily removed from the intaglio. When the wiring layer is transferred and formed from the concave pattern, the conductor paste is dry, so it can be easily transferred from the concave plate. For example, a fine pattern of line / space = 50/50 μm can be formed. Even when formed, it is possible to form a highly accurate wiring layer without bleeding of the wiring layer.

また、凹版の溝部をレーザーにより形成した場合には、任意のパターンを容易に形成することができる。また、凹版の溝形状を略矩形に形成できるので、形成される導体パターン層の断面形状を略矩形に形成することができ、導体パターン層を焼成して得られる配線層の断面積が大きくなり、導体抵抗を下げることができる。また、溝の深さを自由に、精度よく制御できるため、任意の導体パターン層の厚みを一定に保つことができ、複合シートの導体パターン層と光硬化セラミック層の段差をなくすことができる。   Moreover, when the groove part of an intaglio is formed with a laser, arbitrary patterns can be formed easily. Moreover, since the groove shape of the intaglio can be formed in a substantially rectangular shape, the cross-sectional shape of the formed conductor pattern layer can be formed in a substantially rectangular shape, and the cross-sectional area of the wiring layer obtained by firing the conductive pattern layer becomes large. The conductor resistance can be lowered. Further, since the depth of the groove can be freely and accurately controlled, the thickness of any conductor pattern layer can be kept constant, and the step between the conductor pattern layer of the composite sheet and the photo-curing ceramic layer can be eliminated.

また、凹版の溝をフォトリソで形成することもできる。フォトリソによる形成は、任意のパターンを短時間で形成できる。また、凹版の溝形状を略矩形に形成できるので、形成される導体パターン層の断面形状を略矩形に形成することができるので、導体パターン層を焼成して得られる配線層の断面積が大きくなり、導体抵抗を下げることができる。   Further, the intaglio groove can be formed by photolithography. Formation by photolithography can form an arbitrary pattern in a short time. Further, since the groove shape of the intaglio can be formed in a substantially rectangular shape, the cross-sectional shape of the formed conductor pattern layer can be formed in a substantially rectangular shape, so that the cross-sectional area of the wiring layer obtained by firing the conductor pattern layer is large. Thus, the conductor resistance can be lowered.

また、凹版の溝はメッキ法を用いても形成することができ、任意のパターンを短時間で形成できる。また、凹版の溝形状を略矩形にすることができるため、形成される配線層の断面形状は、略矩形となり、断面積が大きくなり、導体抵抗を下げることができる。また、上記方法で凹状の溝を形成することにより、溝の深さを自由にコントロールできるため、任意のパターンの厚みを一定に保つことができ、複合シートの導体パターン層と光硬化セラミック層の段差をなくすことができる。   Further, the intaglio groove can be formed by using a plating method, and an arbitrary pattern can be formed in a short time. Further, since the groove shape of the intaglio can be made substantially rectangular, the cross-sectional shape of the formed wiring layer becomes substantially rectangular, the cross-sectional area becomes large, and the conductor resistance can be lowered. Moreover, since the depth of the groove can be freely controlled by forming the concave groove by the above method, the thickness of an arbitrary pattern can be kept constant, and the conductive pattern layer and the photo-curing ceramic layer of the composite sheet can be kept constant. Steps can be eliminated.

また、本発明の複合シートの製造方法によれば、光硬化セラミック層と導体パターン層との厚みを50μm以下に形成することで、光硬化セラミック層と導体パターン層との厚みの差を小さくすることができる。   Moreover, according to the manufacturing method of the composite sheet of this invention, the difference of the thickness of a photocurable ceramic layer and a conductor pattern layer is made small by forming the thickness of a photocurable ceramic layer and a conductor pattern layer into 50 micrometers or less. be able to.

また、導体パターン層と光硬化セラミック層とを光透過性のキャリアフィルム上に形成して複合シートを形成した後、複合シートからキャリアフィルムを剥離して除去することで、積層部品の製造に好適な複合シートを得ることができる。   Also, after forming a conductor pattern layer and a light-curing ceramic layer on a light-transmitting carrier film to form a composite sheet, the carrier film is peeled off from the composite sheet and removed, making it suitable for the production of laminated parts A composite sheet can be obtained.

また、本発明の積層部品の製造方法によれば、以上説明した複合シートを所定の枚数、形成し、それらを一括または、順次して積層後、焼成することによって、任意の3次元回路を積層部品中に容易に形成することができる。   In addition, according to the method for manufacturing a laminated part of the present invention, a predetermined number of the composite sheets described above are formed, and after laminating them in a batch or sequentially, an arbitrary three-dimensional circuit is laminated. It can be easily formed in a part.

この時、導体パターンが略矩形であるため、ビアホール同士、ビアホールと配線パターンとの接触面積が大きくなり、導体の低抵抗化及び接続信頼性が高くなる。   At this time, since the conductor pattern is substantially rectangular, the contact area between the via holes and between the via hole and the wiring pattern is increased, and the resistance of the conductor is reduced and the connection reliability is increased.

また、複合シートを積層する場合にも配線層の厚み分の段差が発生することがなく、また、配線層と絶縁体層の界面の凹みも小さく、デラミネーションの発生や、無理な加圧による変形などの問題も無く、容易に配線層間の絶縁層厚みの薄層化と、配線層の厚みの厚膜化を両立することができ、更にはライン/スペース=50μm/50μm以下の微細配線であっても、にじみや断線等なく精度良く形成することができる。   In addition, when a composite sheet is laminated, there is no level difference corresponding to the thickness of the wiring layer, and the dent at the interface between the wiring layer and the insulator layer is small, resulting in delamination and excessive pressure. There is no problem of deformation, etc., and it is possible to easily reduce the thickness of the insulating layer between the wiring layers and increase the thickness of the wiring layer. Furthermore, with fine wiring of line / space = 50 μm / 50 μm or less Even if it exists, it can be formed with high accuracy without bleeding or disconnection.

本発明の複合シートは、例えば、図1(a)に示すように、少なくともセラミック粉末と光硬化した樹脂とを含有する光硬化セラミック層1aの一部に、少なくとも金属粉末と有機バインダとを含有する導体パターン層3aが光硬化セラミック層1aを貫通して形成されてなるもので、導体パターン層3aと光硬化セラミック層1aとは、略同一厚みであり、複合シートAはあたかも、1枚のシートのようなものである。   For example, as shown in FIG. 1A, the composite sheet of the present invention contains at least a metal powder and an organic binder in a part of a photo-curing ceramic layer 1a containing at least a ceramic powder and a photo-cured resin. The conductive pattern layer 3a is formed so as to penetrate through the light-curing ceramic layer 1a. The conductor pattern layer 3a and the light-curing ceramic layer 1a have substantially the same thickness, and the composite sheet A is as if one sheet It's like a sheet.

そして、図1(b)に示すように導体パターン層3aの主面のうち、寸法の小さい方の主面の寸法3a−Sで、寸法の大きい方の主面の寸法3a−Lを除した寸法比L/Sを、1.25以下にすることが重要である。寸法比を1.25以下にすることで、導体パターン層3aの断面形状が略矩形となり、導体パターン層3aを焼成して得られる配線層の断面積が大きくなるため、抵抗の小さい配線層を有する積層基板を作製することができる。   And as shown in FIG.1 (b), the dimension 3a-S of the main surface of a larger dimension was remove | divided by the dimension 3a-S of the smaller main surface among the main surfaces of the conductor pattern layer 3a. It is important that the dimensional ratio L / S is 1.25 or less. By setting the dimensional ratio to 1.25 or less, the cross-sectional shape of the conductor pattern layer 3a becomes substantially rectangular, and the cross-sectional area of the wiring layer obtained by firing the conductor pattern layer 3a becomes large. A laminated substrate having the same can be manufactured.

また、寸法比を、さらに、1.15以下、特に、1.05以下とすることで、複合シート間において、導体パターン層3a同士の接触面積を大きくすることができるため、複合シートAを焼成して得られる積層部品の信頼性を向上させることができる。   Moreover, since the contact area between the conductor pattern layers 3a can be increased between the composite sheets by further reducing the dimensional ratio to 1.15 or less, particularly 1.05 or less, the composite sheet A is fired. Thus, the reliability of the laminated component obtained can be improved.

なお、このような複合シートAの寸法比は、焼成後においても、ほぼ、同じ値であり、同様の作用効果が、積層部品の寸法比においても成り立つのは言うまでもない。   It should be noted that the dimensional ratio of such a composite sheet A is substantially the same even after firing, and it goes without saying that the same effect can be achieved in the dimensional ratio of the laminated parts.

また、この複合シートAにおいては、光硬化セラミック層1a及び導体パターン層3aの厚みは、いずれも50μm以下、特に40μm以下、さらには30μm以下の薄層によって形成することが望ましく、また、光硬化セラミック層1a及び導体パターン層3aの厚み差を導体パターン層3aの厚みの10%以下、さらには、5%以下、または厚み差を5μm以下、さらには3μm以下とすることによって導体パターン層3a自体の厚みによるセラミック層1aとの段差を実質的に抑制することができる。   Further, in this composite sheet A, it is desirable that the thickness of each of the photo-curing ceramic layer 1a and the conductor pattern layer 3a is formed by a thin layer of 50 μm or less, particularly 40 μm or less, more preferably 30 μm or less. By setting the thickness difference between the ceramic layer 1a and the conductor pattern layer 3a to 10% or less of the thickness of the conductor pattern layer 3a, further 5% or less, or the thickness difference to 5 μm or less, further 3 μm or less, the conductor pattern layer 3a itself The step with the ceramic layer 1a due to the thickness can be substantially suppressed.

そして、この複合シートAを複数積層して、焼成することで、例えば、図2に示すような本発明の積層部品20を得ることができる。   Then, by laminating a plurality of the composite sheets A and firing them, for example, a laminated component 20 of the present invention as shown in FIG. 2 can be obtained.

積層部品20は、光硬化性セラミック層1aを焼成して得られた絶縁層1と、絶縁層1を貫通して形成された、導体パターン層3aを焼成して得られた配線層3とを具備している。   The laminated component 20 includes an insulating layer 1 obtained by firing the photocurable ceramic layer 1a, and a wiring layer 3 formed by firing the conductor pattern layer 3a formed through the insulating layer 1. It has.

この導体パターン層3aを焼成して得られた配線層3は、従来のビアホール導体と異なり、絶縁層1を平面方向に伸びることによって平面回路Bを形成している。また、例えば、配線層3を厚み方向に積み上げることにより、垂直回路Cを形成することもできる。   Unlike the conventional via-hole conductor, the wiring layer 3 obtained by firing the conductor pattern layer 3a forms the planar circuit B by extending the insulating layer 1 in the planar direction. Further, for example, the vertical circuit C can be formed by stacking the wiring layers 3 in the thickness direction.

本発明によれば、所望の回路形成のために上記の複合シートAを、10〜300層、特に30〜200層、さらには40〜100層程度積層して、焼成することによって積層部品20であるセラミック多層回路基板を形成することができるのである。   According to the present invention, in order to form a desired circuit, the composite sheet A is laminated by 10 to 300 layers, particularly 30 to 200 layers, more preferably about 40 to 100 layers, and fired. A ceramic multilayer circuit board can be formed.

以下に本発明の複合シートA並びに積層部品20の製造方法を説明する。   Below, the manufacturing method of the composite sheet A of this invention and the laminated component 20 is demonstrated.

複合シートAを作製するにあたり、まず、光硬化セラミック層1aを形成するために、少なくとも光硬化可能なモノマーおよびセラミック粉末を含有する光硬化スラリーを調製する。スラリー調製にあたっては、望ましくは、セラミック粉末に、光硬化可能なモノマーと、光重合開始剤と、有機バインダと、可塑剤と、有機溶剤とを、混合し、ボールミルで混練して調製する。   In producing the composite sheet A, first, in order to form the photo-curing ceramic layer 1a, a photo-curing slurry containing at least a photo-curable monomer and ceramic powder is prepared. In preparing the slurry, desirably, the ceramic powder is prepared by mixing a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, an organic binder, a plasticizer, and an organic solvent, and kneading them with a ball mill.

光硬化成分としては、光硬化可能なモノマーや光重合開始剤などが挙げられる。   Examples of the photocuring component include a photocurable monomer and a photopolymerization initiator.

光硬化可能なモノマーとしては、低温で短時間の焼成工程に対応するために、熱分解性に優れたものであることが望ましい。また、光硬化可能なモノマーは、スリップ材の塗布・乾燥後の露光によって光重合される必要があり、遊離ラジカルの形成、連鎖生長付加重合が可能で、2級もしくは3級炭素を有したモノマーが好ましく、例えば少なくとも1つの重合可能なエチレン系基を有するブチルアクリレート等のアルキルアクリレートおよびそれらに対応するアルキルメタクリレート等が挙げられる。また、テトラエチレングリコールジアクリレート等のポリエチレングリコールジアクリレートおよびそれらに対応するメタクリレートも有効である。また、光重合開始剤としては、ベンゾフェノン類,アシロインエステル類化合物などが挙げられる。   As the photocurable monomer, it is desirable that the monomer is excellent in thermal decomposability in order to cope with a low-temperature and short-time baking process. In addition, the photo-curable monomer needs to be photopolymerized by exposure after application and drying of the slip material, and can form free radicals and chain-growth addition polymerization, and has a secondary or tertiary carbon. Preferred examples include alkyl acrylates such as butyl acrylate having at least one polymerizable ethylene group, and alkyl methacrylates corresponding thereto. In addition, polyethylene glycol diacrylates such as tetraethylene glycol diacrylate and methacrylates corresponding thereto are also effective. Examples of the photopolymerization initiator include benzophenones and acyloin ester compounds.

また、有機バインダも、光硬化可能なモノマーと同様に熱分解性が良好であることが望まれ、同時にスリップの粘性を決めるものであるため、固形分との濡れ性も考慮することが必要である。本発明によれば、アクリル酸もしくはメタクリル酸系重合体のようなカルボキシル基、アルコール性水酸基を備えたエチレン性不飽和化合物が好ましい。   In addition, the organic binder is desired to have good thermal decomposability like the photo-curable monomer, and at the same time, it determines the viscosity of the slip, so it is necessary to consider the wettability with the solid content. is there. According to the present invention, an ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group and an alcoholic hydroxyl group such as an acrylic acid or methacrylic acid polymer is preferred.

有機溶剤としては、エチルカルビトールアセテート、ブチルセロソルブ、3メトキシブチルアセテートの群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。   Examples of the organic solvent include at least one selected from the group consisting of ethyl carbitol acetate, butyl cellosolve, and 3 methoxybutyl acetate.

各成分の含有量は、セラミック粉末100質量部あたり、光硬化モノマー及び光重合開始剤を5〜20質量部、有機バインダを10〜40質量部、可塑剤を1〜5質量部、有機溶剤を50〜100質量部の割合が適当である。   The content of each component is 5 to 20 parts by mass of a photocurable monomer and a photopolymerization initiator, 10 to 40 parts by mass of an organic binder, 1 to 5 parts by mass of a plasticizer, and an organic solvent per 100 parts by mass of the ceramic powder. A ratio of 50 to 100 parts by mass is appropriate.

また、本発明の積層部品においては、絶縁層1となるセラミック成分としては、(1)Al、AlN、Si、SiCを主成分とする焼成温度が1100℃以上のセラミック粉末、(2)少なくともSiOおよびBaO、CaO、SrO、MgOなどのアルカリ土類金属酸化物を含有する金属酸化物による混合物からなる1100℃以下、特に1050℃以下で焼成されるセラミック粉末、(3)ガラス粉末、あるいはガラス粉末とセラミックフィラー粉末との混合物からなる1100℃以下、特に1050℃以下で焼成される低温焼結性のセラミック材料の群から選ばれる少なくとも1種が好適に選択される。 In the multilayer component of the present invention, the ceramic component that becomes the insulating layer 1 includes (1) ceramic powder having a firing temperature of 1100 ° C. or higher, mainly composed of Al 2 O 3 , AlN, Si 3 N 4 , and SiC. (2) Ceramic powder fired at 1100 ° C. or less, particularly 1050 ° C. or less, comprising a mixture of metal oxides containing at least SiO 2 and an alkaline earth metal oxide such as BaO, CaO, SrO, MgO, (3 ) At least one selected from the group of low-temperature sinterable ceramic materials which are fired at 1100 ° C. or less, particularly 1050 ° C. or less, consisting of glass powder or a mixture of glass powder and ceramic filler powder is suitably selected.

用いられる(2)の混合物や、(3)のガラス組成物としては、SiO−BaO−Al系、SiO−B系、SiO−B−Al系、SiO−Al−アルカリ金属酸化物系、さらにはこれらの系にアルカリ金属酸化物、ZnO、PbO、Pb、ZrO、TiO等を配合した組成物が挙げられる。(3)におけるセラミックフィラーとしては、Al、SiO、フォルステライト、コージェライト、ムライト、AlN、Si、SiC、MgTiO、CaTiOの群から選ばれる少なくとも1種が挙げられ、ガラスに対して20〜80質量%の割合で混合されることが望ましい。 As the mixture of (2) and the glass composition of (3) used, SiO 2 —BaO—Al 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 —Al 2 O 3 systems, SiO 2 —Al 2 O 3 —alkali metal oxide systems, and compositions in which alkali metal oxides, ZnO, PbO, Pb, ZrO 2 , TiO 2, etc. are blended with these systems. Examples of the ceramic filler in (3) include at least one selected from the group consisting of Al 2 O 3 , SiO 2 , forsterite, cordierite, mullite, AlN, Si 3 N 4 , SiC, MgTiO 3 , and CaTiO 3. The glass is preferably mixed at a rate of 20 to 80% by mass with respect to the glass.

一方、導体パターン層は、セラミック材料の焼成温度に応じて種々組み合わせられ、例えば、セラミック材料が前記(1)の場合、タングステン、モリブデン、マンガンの群から選ばれる少なくとも1種を主成分とする導体材料が好適に用いられる。また、低抵抗化のために、銅などとの混合物としてもよい。   On the other hand, the conductor pattern layer is variously combined according to the firing temperature of the ceramic material. For example, when the ceramic material is (1), the conductor is mainly composed of at least one selected from the group consisting of tungsten, molybdenum, and manganese. Materials are preferably used. Moreover, it is good also as a mixture with copper etc. for resistance reduction.

セラミック材料が前記(2)の場合、銅、銀、金、アルミニウムの群から選ばれる少なくとも1種を主成分とする導体材料が好適に用いられる。   When the ceramic material is (2), a conductor material mainly composed of at least one selected from the group consisting of copper, silver, gold, and aluminum is preferably used.

上記の導体材料には、セラミック材料と同時焼成する上で、セラミック材料を構成する成分を含有することが望ましい。   The conductor material preferably contains a component constituting the ceramic material when co-firing with the ceramic material.

次に、上記の光硬化スラリーおよび導体ペーストを用いて以下の工程によって、複合シートAを形成する。   Next, the composite sheet A is formed by the following steps using the photocuring slurry and the conductive paste.

まず、図3(a)に示すように、例えば、ポリイミドのような樹脂フィルムに例えばレーザー光を用いて、所定のパターンを有する溝5を形成して、凹版7を作製する。   First, as shown in FIG. 3 (a), for example, a groove 5 having a predetermined pattern is formed on a resin film such as polyimide by using, for example, a laser beam, and the intaglio 7 is produced.

次に、図3(b)に示すように、導体ペースト9を溝5へ充填する。この時、導体ペースト9を溝5に充填するとともに、凹版7上をペーストが覆うように、スキージ等により導体ペースト9を塗布、乾燥する。   Next, as shown in FIG. 3 (b), the conductor paste 9 is filled into the grooves 5. At this time, the conductor paste 9 is filled in the grooves 5, and the conductor paste 9 is applied and dried by a squeegee or the like so as to cover the intaglio 7 with the paste.

次に、図3(c)に示すように、導体ペースト9を乾燥後、スキージ、金属板等で凹版上の余分な導体ペースト9をかきとることにより、溝5内だけに導体ペースト9を残す。   Next, as shown in FIG. 3C, after the conductor paste 9 is dried, the excess conductor paste 9 on the intaglio is scraped off with a squeegee, a metal plate, etc., thereby leaving the conductor paste 9 only in the groove 5. .

次に、図3(d)に示すように、この溝5側をキャリアフィルム10に接触させ、温度、圧力をかけ、溝5に充填された導体ペースト9をキャリアフィルム10に転写する。   Next, as shown in FIG. 3D, the groove 5 side is brought into contact with the carrier film 10, temperature and pressure are applied, and the conductor paste 9 filled in the groove 5 is transferred to the carrier film 10.

こうして、図4(e)に示すように、樹脂フィルムなどからなる光透過可能なキャリアフィルム10上に、少なくとも金属と樹脂からなる導体ペースト9からなる導体パターン層3aを形成する。   Thus, as shown in FIG. 4E, a conductive pattern layer 3a made of a conductive paste 9 made of at least a metal and a resin is formed on a light transmissive carrier film 10 made of a resin film or the like.

次に、図4(f)に示すように、光硬化スラリーを、例えばドクターブレード法にて導体パターン層3aの厚さ以上の厚さに塗布して所定の厚みで全面に塗布して光硬化セラミック層1aを形成する。さらに、光硬化セラミック層1aを乾燥させて、導体パターン層3aと重なる部分で凸状になる図4(g)に示すような状態にする。   Next, as shown in FIG. 4 (f), the photocuring slurry is applied to a thickness equal to or larger than the thickness of the conductor pattern layer 3a by, for example, a doctor blade method, and applied to the entire surface with a predetermined thickness, and photocured. The ceramic layer 1a is formed. Further, the photo-curing ceramic layer 1a is dried to be in a state as shown in FIG. 4 (g) where a convex shape is formed at a portion overlapping the conductor pattern layer 3a.

そして、キャリアフィルム10の裏面より、例えば超高圧水銀灯を光源として用いて露光を行う。この露光によって、導体パターン層3a形成以外の領域の光硬化セラミック層1aを光硬化させる。この露光工程においては、光硬化セラミック層1aは、導体パターン層3aの領域の光硬化セラミック層1aでは照射された光の量により裏面から一定の厚みまで光重合反応がおこり不溶化部を形成するが、導体パターン層3aは紫外線を透過しないために、導体パターン層3a上に形成されている光硬化セラミック層1aは、光硬化可能なモノマーの光重合反応がおこらない溶化部となる。また、このときの露光量は、実質的に不溶化部の厚みが、導体パターン層3aの厚みと同じになるように露光量が調整されることが望ましい。   And it exposes from the back surface of the carrier film 10, for example using an ultrahigh pressure mercury lamp as a light source. By this exposure, the photo-curing ceramic layer 1a in a region other than the formation of the conductor pattern layer 3a is photo-cured. In this exposure step, the photocuring ceramic layer 1a is subjected to a photopolymerization reaction from the back surface to a certain thickness depending on the amount of light irradiated on the photocuring ceramic layer 1a in the region of the conductor pattern layer 3a, thereby forming an insolubilized portion. Since the conductor pattern layer 3a does not transmit ultraviolet rays, the photo-curing ceramic layer 1a formed on the conductor pattern layer 3a becomes a solubilized portion where a photo-polymerization reaction of a photo-curable monomer does not occur. Further, the exposure amount at this time is desirably adjusted so that the thickness of the insolubilized portion is substantially the same as the thickness of the conductor pattern layer 3a.

その後、この光硬化セラミック層1a全体を現像処理する。現像処理は、光硬化セラミック層1aの溶化部を現像液で除去するもので、具体的には、例えば、トリエタノールアミン水溶液などを現像液として用いてスプレー現像、洗浄、乾燥を行う。この処理により、図4(h)に示すように、キャリアフィルム10上には、導体パターン層3aと光硬化セラミック層1aとが実質的に同一厚みで一体化した複合シートAが形成される。   Thereafter, the entire photocurable ceramic layer 1a is developed. The development treatment is to remove the solubilized portion of the photo-curing ceramic layer 1a with a developer. Specifically, for example, spray development, washing, and drying are performed using a triethanolamine aqueous solution as the developer. By this treatment, as shown in FIG. 4 (h), a composite sheet A in which the conductor pattern layer 3a and the photo-curing ceramic layer 1a are integrated with substantially the same thickness is formed on the carrier film 10.

なお、キャリアフィルム10から複合シートAを剥離することによって、図4(i)に示すような複合シートA単体を得ることができる。   In addition, the composite sheet A simple substance as shown in FIG.4 (i) can be obtained by peeling the composite sheet A from the carrier film 10. FIG.

次に、この複合シートAを用いて図1のセラミック多層回路基板のような積層部品を製造する方法について以下に説明すると、まず、前記図2(a)〜図4(i)に従い、光硬化セラミック層1aと所定のパターンの導体パターン層3aが形成された複数の複合シートA1〜A14を作製する。   Next, a method for manufacturing a laminated component such as the ceramic multilayer circuit board of FIG. 1 using this composite sheet A will be described. First, according to FIGS. 2 (a) to 4 (i), photocuring is performed. A plurality of composite sheets A1 to A14 on which the ceramic layer 1a and the conductor pattern layer 3a having a predetermined pattern are formed are produced.

そして、図5(j)に示すように、これらの複合シートA1〜A14を位置あわせしながら、重ね合わせ一括して圧着することによって、図5(k)に示すような積層体13を作製する。なお、圧着時には、複合シートA中の有機バインダのガラス転移点以上の温度をかけながら行なうことが望ましい。また、複合シートA間に有機系接着剤を塗布して圧着してもよい。   Then, as shown in FIG. 5 (j), a laminated body 13 as shown in FIG. 5 (k) is produced by aligning and pressing these composite sheets A1 to A14 together while aligning them. . In addition, it is desirable to perform the pressure bonding while applying a temperature higher than the glass transition point of the organic binder in the composite sheet A. Further, an organic adhesive may be applied between the composite sheets A and pressure bonded.

なお、一括して積層する場合、すべてキャリアフィルム10を剥がして積層してもよいが、圧着時の最下面と最上面の取り扱いを考慮すれば、最下面と最上面のみは、キャリアフィルム10から剥がすことなく、図5(j)に示すように、積層、圧着した後に、キャリアフィルム10を剥がすことによって、図5(k)のような積層体13を形成することができる。   In addition, when laminating all at once, the carrier film 10 may be peeled off and laminated, but considering the handling of the lowermost surface and the uppermost surface during crimping, only the lowermost surface and the uppermost surface are removed from the carrier film 10. Without peeling, as shown in FIG. 5 (j), the laminated body 13 as shown in FIG. 5 (k) can be formed by peeling the carrier film 10 after laminating and press-bonding.

そして、この積層体13を、所定の温度で焼成することによって、図2に示すような配線層3によって3次元的な配線回路が形成された積層部品を形成することができる。なお、焼成にあたっては、脱バイ工程で、積層体13中に含まれている有機バインダ、光硬化可能なモノマーを消失させ、焼成工程にて窒素などの不活性雰囲気中で用いられたセラミック粉末および導体材料が十分に焼成することのできる温度で焼成され、相対密度95%以上に緻密化することが望ましい。   Then, by firing this laminated body 13 at a predetermined temperature, a laminated component in which a three-dimensional wiring circuit is formed by the wiring layer 3 as shown in FIG. 2 can be formed. In the firing, the organic binder and the photocurable monomer contained in the laminate 13 are eliminated in the debuying process, and the ceramic powder used in an inert atmosphere such as nitrogen in the firing process and It is desirable that the conductor material be fired at a temperature at which it can be sufficiently fired to be densified to a relative density of 95% or more.

また、積層部品を製造する他の方法としては、図6(a)に示すように、キャリアフィルム10が付着したままの他の複合シートA21、A22を作製する。そして、図6(b))に示すように、キャリアフィルム10の表面に形成された複合シートA21の表面に、キャリアフィルム10の表面に形成された他の複合シートA22を反転させて積層圧着し、図6(c)に示すように複合シートA22側のキャリアフィルム10を剥離する。   Further, as another method for manufacturing the laminated component, as shown in FIG. 6A, other composite sheets A21 and A22 with the carrier film 10 attached thereto are produced. Then, as shown in FIG. 6B, the other composite sheet A22 formed on the surface of the carrier film 10 is inverted and laminated and bonded to the surface of the composite sheet A21 formed on the surface of the carrier film 10. 6C, the carrier film 10 on the composite sheet A22 side is peeled off.

次に、図6(d)に示すように、この複合シートA22の表面に、同様にしてキャリアフィルム10の表面に形成された複合シートA23を反転させて積層圧着し、複合シートA23側のキャリアフィルム10を剥離する。この工程を必要に応じて、順次を繰り返すことによって、図6(e)に示すように、所望の層数の複合シートA積層体13を形成することができる。その後、この積層体13を前記と同様にして焼成することによって、積層部品を作製することができる。   Next, as shown in FIG. 6D, the composite sheet A23 similarly formed on the surface of the carrier film 10 is reversed and laminated and pressure-bonded to the surface of the composite sheet A22, so that the carrier on the composite sheet A23 side is obtained. The film 10 is peeled off. By repeating this step as necessary, the composite sheet A laminate 13 having a desired number of layers can be formed as shown in FIG. Thereafter, this laminated body 13 is fired in the same manner as described above to produce a laminated component.

このようにして作製された多層基板に対しては、必要に応じて、表面処理として、さらに、基板表面に厚膜抵抗膜や厚膜保護膜の印刷・焼きつけ、メッキ処理、さらにICチップを含む電子部品4の接合を行うことによってセラミック回路基板を作製することができる。   For the multi-layered substrate thus manufactured, if necessary, surface treatment includes further printing / baking of a thick film resistance film or a thick film protective film on the substrate surface, a plating process, and further an IC chip. A ceramic circuit board can be manufactured by bonding the electronic component 4.

また、表面の配線導体層3は、焼成された積層体の表面に、印刷・乾燥し、所定雰囲気で焼きつけを行っても良い。   Further, the wiring conductor layer 3 on the surface may be printed and dried on the surface of the fired laminated body and baked in a predetermined atmosphere.

さらに、セラミック多層回路基板1の表面に形成される表面配線導体層3、端子電極の表面には、半田との濡れ性を改善するために、ニッケル、金などのメッキ層が1〜3μmの厚みで形成される。   Furthermore, the surface wiring conductor layer 3 formed on the surface of the ceramic multilayer circuit board 1 and the surface of the terminal electrode are plated with a plating layer of nickel, gold or the like with a thickness of 1 to 3 μm in order to improve wettability with solder. Formed with.

先ず、ポリイミドフィルム(厚み150μm)にエキシマレーザーを使用して、溝加工を行ない、凹版を作製した。このとき、加工条件を変え、溝の深さと溝のテーパーを変化させた。これらの凹版の溝に、予め作製しておいたAg:100質量部に対して、バインダーを5質量部添加した導体ペーストを充填した後、溝部以外の導体ペーストをスキー時を用いて除去し、PETフィルムに対して、40℃に加熱しながら凹版転写して厚み5〜60μm、最小線幅が25μmの平面回路Bと、直径が100μmの垂直回路Cとなる導体パターン層を形成した。   First, an excimer laser was used for a polyimide film (thickness 150 μm), and groove processing was performed to produce an intaglio. At this time, the processing conditions were changed to change the groove depth and groove taper. After filling a conductor paste in which 5 parts by mass of a binder is added to 100 parts by mass of Ag prepared in advance in these intaglio grooves, the conductor paste other than the grooves is removed using skiing, An intaglio was transferred to a PET film while heating at 40 ° C. to form a conductor pattern layer that was a planar circuit B having a thickness of 5 to 60 μm, a minimum line width of 25 μm, and a vertical circuit C having a diameter of 100 μm.

この上に、光硬化スラリーをドクターブレード法により塗布乾燥し、導体パターン層の存在しない場所での乾燥後の厚みが10〜80μmとなる様、光硬化セラミック層を形成した。   On this, the photocuring slurry was applied and dried by a doctor blade method, and a photocuring ceramic layer was formed so that the thickness after drying in a place where no conductor pattern layer was present was 10 to 80 μm.

なお、光硬化スラリーは、セラミック原料粉末100質量部と、光硬化可能なモノマー(ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート)8質量部と、有機バインダ(アルキルメタクリレート)35質量部と、可塑剤を3質量部、有機溶剤(エチルカルビトールアセテート)に混合し、ボールミルで混練して作製した。   The photocuring slurry contains 100 parts by mass of ceramic raw material powder, 8 parts by mass of photocurable monomer (polyoxyethylated trimethylolpropane triacrylate), 35 parts by mass of an organic binder (alkyl methacrylate), and a plasticizer. It was prepared by mixing 3 parts by mass with an organic solvent (ethyl carbitol acetate) and kneading with a ball mill.

セラミック原料粉末は、0.95モルMgTiO−0.05モルCaTiOで表される主成分100質量部に対して、BをB換算で10質量部、LiをLiCO換算で5質量部添加したものを用いた。 The ceramic raw material powder is 10 parts by mass in terms of B 2 O 3 and 5 parts in terms of LiCO 3 with respect to 100 parts by mass of the main component represented by 0.95 mol MgTiO 3 -0.05 mol CaTiO 3. What added the mass part was used.

次に、キャリアフィルムの裏面側より光硬化セラミック層の裏面に、超高圧水銀灯(照度30mW/cm)を光源として2秒間全面露光した。そして希釈濃度2.5%のトリエタノールアミン水溶液を現像液として用いて30秒間スプレー現像を行った。この後、純水にて洗浄した後、乾燥を行った。 Next, the entire surface was exposed from the back surface side of the carrier film to the back surface of the photocurable ceramic layer for 2 seconds using an ultrahigh pressure mercury lamp (illuminance 30 mW / cm 2 ) as a light source. Then, spray development was performed for 30 seconds using a triethanolamine aqueous solution having a dilution concentration of 2.5% as a developer. Thereafter, the substrate was washed with pure water and then dried.

こうして、出来上がった光硬化セラミック層は、電極層上の溶化部が現像により除去され導体パターン層が露出して、その結果、厚みが5〜60μmの導体パターン層と、厚みが5〜60μmの光硬化セラミック層とが一体化した複合シートを作製することができた。   Thus, in the completed photo-cured ceramic layer, the solubilized portion on the electrode layer is removed by development to expose the conductor pattern layer. As a result, the conductor pattern layer having a thickness of 5 to 60 μm and the light having a thickness of 5 to 60 μm are exposed. A composite sheet integrated with the hardened ceramic layer could be produced.

上記のようにして作製した複合シートより、キャリアフィルムを剥離し、順番に位置合わせを行いながら、積層を行った。   The carrier film was peeled off from the composite sheet produced as described above, and lamination was performed while aligning in order.

積層においては、一括して50層を積層した試料と、逐次、70層を積層した試料を作製した。   In the lamination, a sample in which 50 layers were laminated together and a sample in which 70 layers were successively laminated were prepared.

また、平均粒径2μmのアルミナを主成分とするセラミック粉末90質量%と平均粒径5μmのガラス粉末10質量%の組成物からなる厚さ250μmの拘束シートを作製した。そして、この拘束シートを前記積層体の最上面と最下面に配置し、プレス機を用いて、プレス圧1トン、温度60℃にて5分間プレスを行い、積層体を圧着した。   A constraining sheet having a thickness of 250 μm made of a composition of 90% by mass of ceramic powder mainly composed of alumina having an average particle size of 2 μm and 10% by mass of glass powder having an average particle size of 5 μm was prepared. And this restraint sheet | seat was arrange | positioned on the uppermost surface and the lowermost surface of the said laminated body, and it pressed for 5 minutes with the press pressure of 1 ton and the temperature of 60 degreeC using the press, and crimped | bonded the laminated body.

その後、大気中で300℃で4時間で脱バインダ処理した後、900℃大気中で6時間焼成を行った。その後、拘束シートをAl砥粒を空気と共に0.2MPaの圧力で吹き付けることで除去し、積層部品を作製した。 Thereafter, the binder removal treatment was performed in the atmosphere at 300 ° C. for 4 hours, followed by baking in the atmosphere at 900 ° C. for 6 hours. Thereafter, the restraint sheet was removed by spraying Al 2 O 3 abrasive grains together with air at a pressure of 0.2 MPa to produce a laminated part.

そして、作製した積層部品を切断し、測定顕微鏡で配線層の断面形状を150倍に拡大して、配線層の両主面の寸法を測定し、小さい方の寸法で大きい方の寸法を除して、寸法比を測定した。なお、測定した配線層の大きい方の主面の幅は100μmとなるように試料を形成した。

Figure 2005217051
Then, cut the produced laminated part, enlarge the cross-sectional shape of the wiring layer 150 times with a measuring microscope, measure the dimensions of both main surfaces of the wiring layer, and remove the larger dimension with the smaller dimension. The dimensional ratio was measured. The sample was formed so that the width of the major surface of the measured wiring layer was 100 μm.
Figure 2005217051

本発明の範囲外である寸法比が1.25を越えた試料No.5、14では、配線層の形状が略台形となり、抵抗が大きくなるとともに、導通不良が発生した。   Sample No. with a dimensional ratio exceeding 1.25 outside the scope of the present invention. In Nos. 5 and 14, the shape of the wiring layer was substantially trapezoidal, resulting in increased resistance and poor conduction.

一方、本発明の積層部品においては、抵抗の劣化も、導通不良も発生せず、信頼性に優れた積層部品となった。   On the other hand, in the multilayer component of the present invention, neither resistance deterioration nor conduction failure occurred, and the multilayer component was excellent in reliability.

本発明の一例である。(a)複合シートの断面図と、(b)複合シートの要部拡大図である。It is an example of the present invention. (A) It is sectional drawing of a composite sheet, (b) The principal part enlarged view of a composite sheet. 本発明の積層部品の断面図である。It is sectional drawing of the laminated component of this invention. 本発明の複合シートの製造方法を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of the composite sheet of this invention. 本発明の複合シートの製造方法を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of the composite sheet of this invention. 本発明の積層部品を製造する方法を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating the method to manufacture the laminated component of this invention. 本発明の積層部品を製造する他の方法を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating the other method of manufacturing the laminated component of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

A・・・複合シート
1・・・絶縁層
1a・・・光硬化セラミック層
3・・・配線層
3a・・・導体パターン層
3a−L・・・導体パターン層の大きい方の寸法
3a−S・・・導体パターン層の小さい方の寸法
7・・・凹版
9・・・導体ペースト
10・・・樹脂フィルム、キャリアフィルム
13・・・積層体
20・・・積層部品
A ... Composite sheet 1 ... Insulating layer 1a ... Photo-curing ceramic layer 3 ... Wiring layer 3a ... Conductor pattern layer 3a-L ... The larger dimension 3a-S of the conductor pattern layer ... Small dimension 7 of conductor pattern layer ... Intaglio 9 ... Conductor paste 10 ... Resin film, carrier film 13 ... Laminated body 20 ... Laminated component

Claims (14)

少なくともセラミック粉末と、光硬化された樹脂とを含有する複合材からなる光硬化セラミック層の一部に、少なくとも金属粉末と有機バインダとを含有する導体パターン層が該光硬化セラミック層を貫通して形成されている複合シートであって、前記前記導体パターン層と前記光硬化セラミック層とが略同一厚みであり、前記導体パターン層の一方の主面の寸法と、他方の主面の寸法のうち、小さい方の寸法で、大きい方の寸法を除した値が、1.25以下であることを特徴とする複合シート。 A conductor pattern layer containing at least a metal powder and an organic binder passes through the photocurable ceramic layer in a part of a photocurable ceramic layer made of a composite material containing at least a ceramic powder and a photocured resin. In the composite sheet formed, the conductor pattern layer and the photo-curing ceramic layer have substantially the same thickness, and the dimension of one principal surface of the conductor pattern layer and the dimension of the other principal surface A composite sheet characterized in that a value obtained by dividing the smaller dimension by the smaller dimension is 1.25 or less. 前記光硬化セラミック層および前記導体パターン層の厚みが10〜50μmであり、その厚み差が10μm以下であることを特徴とする請求項1記載の複合シート。 2. The composite sheet according to claim 1, wherein the thickness of the light-curing ceramic layer and the conductive pattern layer is 10 to 50 μm, and the difference in thickness is 10 μm or less. 光透過可能なキャリアフィルム上に設けられていることを特徴とする請求項1又は2記載の複合シート。 3. The composite sheet according to claim 1, wherein the composite sheet is provided on a carrier film capable of transmitting light. 少なくともセラミック材料を含有してなる複数の絶縁層の一部に、配線層が前記絶縁層を貫通して形成されている積層部品であって、前記絶縁層と配線層が略同一厚みであり、前記配線層の主面の寸法と、他方の主面の寸法のうち、小さい方の寸法で、大きい方の寸法を除した値が、1.25以下であることを特徴とする積層部品。 At least part of the plurality of insulating layers containing a ceramic material is a laminated part in which a wiring layer is formed through the insulating layer, and the insulating layer and the wiring layer have substantially the same thickness, A laminated part characterized in that a value obtained by dividing the dimension of the main surface of the wiring layer and the dimension of the other main surface by the smaller one and the larger one is 1.25 or less. 前記配線層を厚み方向に積み上げることにより、垂直導体が形成されてなることを特徴とする請求項4記載の積層部品。 The laminated component according to claim 4, wherein a vertical conductor is formed by stacking the wiring layers in a thickness direction. (a)少なくとも導電性粉末と樹脂からなる導体ペーストを凹版に充填する工程と、
(b)光透過可能なキャリアフィルム表面に凹版に充填した導体ペーストを転写して、光非透過な導体パターンを形成する工程と、
(c)前記導体パターン層を形成したキャリアフィルム上に、少なくとも光硬化可能なモノマーおよびセラミック粉末を含有する光硬化スラリーを、前記導体パターン層の厚さ以上の厚さに塗布して光硬化セラミック層を形成する工程と、
(d)前記キャリアフィルムの裏面より、光を照射して、前記導体パターン層以外の領域の光硬化セラミック層を光硬化させる工程と、
(e)現像液を付与して、前記光硬化セラミック層の前記導体パターン層表面を含む非光硬化部を溶化、除去することによって、光硬化セラミック層と導体パターン層からなる複合シートを作製する工程と、
を具備することを特徴とする複合シートの製造方法。
(A) filling the intaglio with a conductive paste comprising at least conductive powder and resin;
(B) transferring the conductive paste filled in the intaglio to the light transmissive carrier film surface to form a light non-transmissive conductive pattern;
(C) On the carrier film on which the conductor pattern layer is formed, a photocuring slurry containing at least a photocurable monomer and ceramic powder is applied to a thickness equal to or greater than the thickness of the conductor pattern layer, and photocuring ceramic. Forming a layer;
(D) irradiating light from the back surface of the carrier film and photocuring the photocurable ceramic layer in a region other than the conductor pattern layer;
(E) A composite sheet composed of a photocurable ceramic layer and a conductive pattern layer is prepared by applying a developer and solubilizing and removing the non-photocured portion including the surface of the conductive pattern layer of the photocurable ceramic layer. Process,
A method for producing a composite sheet, comprising:
前記(a)の工程において、凹版の溝内に導体ペーストを充填するとともに、前記凹版の溝部以外の部分上に前記導体ペーストが残るように導体ペーストを凹版上に塗布することを特徴とする請求項6記載の複合シートの製造方法。 In the step (a), the conductor paste is filled on the intaglio so that the conductor paste is filled in the grooves of the intaglio and the conductor paste remains on portions other than the grooves of the intaglio. Item 7. A method for producing a composite sheet according to Item 6. 凹版の溝部以外の部分上に塗布された導体ペーストを乾燥した後、除去することを特徴とする請求項7記載の複合シートの製造方法。 8. The method for producing a composite sheet according to claim 7, wherein the conductor paste applied on a portion other than the groove portion of the intaglio is dried and then removed. 前記(a)工程の凹版が樹脂フィルムをレーザー加工にて溝加工したものである請求項6乃至8のうちいずれかに記載の複合シートの製造方法。 The method for producing a composite sheet according to any one of claims 6 to 8, wherein the intaglio in the step (a) is obtained by grooving a resin film by laser processing. 前記(a)工程の凹版がフォトレジストフィルムをフォトリソ加工にて溝加工したものである請求項6乃至9のうちいずれかに記載の複合シートの製造方法。 The method for producing a composite sheet according to any one of claims 6 to 9, wherein the intaglio in the step (a) is obtained by groove-growing a photoresist film by photolithography. 前記(a)工程の凹版のパターンを金属シート上にメッキ法にて形成したものである請求項6乃至10のうちいずれかに記載の複合シートの製造方法。 The method for producing a composite sheet according to any one of claims 6 to 10, wherein the intaglio pattern in the step (a) is formed on a metal sheet by a plating method. 前記光硬化セラミック層および導体パターン層の厚みが50μm以下であることを特徴とする請求項6乃至11のうちいずれかに記載の複合シートの製造方法。 The method for producing a composite sheet according to any one of claims 6 to 11, wherein the thickness of the photo-curing ceramic layer and the conductive pattern layer is 50 µm or less. 前記(e)工程後に、
(f)前記キャリアフィルムから、前記導体パターン層および光硬化セラミック層を剥離する工程を具備する請求項6乃至12のうちいずれかに記載の複合シートの製造方法。
After the step (e),
(F) The manufacturing method of the composite sheet in any one of Claims 6 thru | or 12 which comprises the process of peeling the said conductor pattern layer and a photocurable ceramic layer from the said carrier film.
(g)請求項6乃至13のうちいずれかに記載の複合シートの製造方法によって作製した複数の複合シートを積層して任意の層数の積層体を形成する工程と、
(h)前記積層体を焼成する工程と、
を具備することを特徴とする積層部品の製造方法。
(G) a step of laminating a plurality of composite sheets produced by the method for producing a composite sheet according to any one of claims 6 to 13 to form a laminate having an arbitrary number of layers;
(H) firing the laminate;
A method for producing a laminated part, comprising:
JP2004020274A 2004-01-28 2004-01-28 Complex sheet, laminated part, and manufacturing method Pending JP2005217051A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004020274A JP2005217051A (en) 2004-01-28 2004-01-28 Complex sheet, laminated part, and manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004020274A JP2005217051A (en) 2004-01-28 2004-01-28 Complex sheet, laminated part, and manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005217051A true JP2005217051A (en) 2005-08-11

Family

ID=34904233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004020274A Pending JP2005217051A (en) 2004-01-28 2004-01-28 Complex sheet, laminated part, and manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005217051A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007318039A (en) * 2006-05-29 2007-12-06 Univ Nihon Ceramic electronic component, and method of manufacturing same
JP2008211156A (en) * 2006-11-28 2008-09-11 Kyocera Corp Multilayer film, grooved multilayer film, wired multilayer film, method for manufacturing wired multilayer film, method for manufacturing wiring sheet, and method for manufacturing wiring board
JP2013033935A (en) * 2011-07-29 2013-02-14 Ngk Insulators Ltd Laminated sintered ceramic wiring substrate and semiconductor package including the same
WO2013030931A1 (en) * 2011-08-29 2013-03-07 日本碍子株式会社 Laminated sintered ceramic wiring substrate, and semiconductor package containing wiring substrate
JP2013520686A (en) * 2010-02-19 2013-06-06 ローリング オプティクス エービー Method for printing product features on a substrate sheet
CN106304645A (en) * 2016-08-30 2017-01-04 无锡奥利芯电子科技有限公司 A kind of manufacture method of IPM module substrate

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007318039A (en) * 2006-05-29 2007-12-06 Univ Nihon Ceramic electronic component, and method of manufacturing same
JP2008211156A (en) * 2006-11-28 2008-09-11 Kyocera Corp Multilayer film, grooved multilayer film, wired multilayer film, method for manufacturing wired multilayer film, method for manufacturing wiring sheet, and method for manufacturing wiring board
JP2013520686A (en) * 2010-02-19 2013-06-06 ローリング オプティクス エービー Method for printing product features on a substrate sheet
US9256006B2 (en) 2010-02-19 2016-02-09 Rolling Optics Ab Method for printing product features on a substrate sheet
JP2013033935A (en) * 2011-07-29 2013-02-14 Ngk Insulators Ltd Laminated sintered ceramic wiring substrate and semiconductor package including the same
WO2013030931A1 (en) * 2011-08-29 2013-03-07 日本碍子株式会社 Laminated sintered ceramic wiring substrate, and semiconductor package containing wiring substrate
JP2013048211A (en) * 2011-08-29 2013-03-07 Ngk Insulators Ltd Laminated sintered ceramic wiring board and semiconductor package including the same
US8421215B2 (en) 2011-08-29 2013-04-16 Ngk Insulators, Ltd. Laminated and sintered ceramic circuit board, and semiconductor package including the circuit board
CN106304645A (en) * 2016-08-30 2017-01-04 无锡奥利芯电子科技有限公司 A kind of manufacture method of IPM module substrate
CN106304645B (en) * 2016-08-30 2019-01-15 无锡奥利芯电子科技有限公司 A kind of production method of IPM module substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111954847B (en) Photosensitive conductive paste and method for producing patterned green sheet using same
JP2004253432A (en) Method of manufacturing printed wiring board
JP2001216839A (en) Conductive paste and manufacturing method for multilayer substrate
JP4044830B2 (en) Composite sheet manufacturing method and laminated part manufacturing method
JP2005217051A (en) Complex sheet, laminated part, and manufacturing method
US20040134875A1 (en) Circuit-parts sheet and method of producing a multi-layer circuit board
JP4493399B2 (en) Composite sheet and laminated part manufacturing method
JP4360608B2 (en) Composite sheet manufacturing method and laminated part manufacturing method
JP4061188B2 (en) Composite sheet manufacturing method and laminate manufacturing method
JP4922616B2 (en) Wiring board and manufacturing method thereof
JP4072046B2 (en) Composite sheet manufacturing method and laminated part manufacturing method
JP2004296543A (en) Method for manufacturing composite sheet and method for manufacturing lamination component
JP2005216999A (en) Multilayer wiring board, high frequency module and portable terminal apparatus
JP4737958B2 (en) Manufacturing method of ceramic circuit board
JP4072045B2 (en) Composite sheet manufacturing method and laminated part manufacturing method
JP2005136007A (en) Composite sheet and manufacturing method for laminated part
JPH10107439A (en) Manufacturing method of laminated ceramic board
JP4550560B2 (en) Photosensitive material, photosensitive sheet, and method for producing multilayer circuit board using the same
JP4666950B2 (en) Composite, composite manufacturing method, and laminated part manufacturing method
JP2005340305A (en) Composite body and its manufacturing method, and method of manufacturing multilayered component
JPH0818236A (en) Method for manufacturing layered ceramic circuit board
JP2005072500A (en) Composite sheet, laminate, method for manufacturing them, and laminated part
JP2005217053A (en) Composite sheet and composite part, laminated part, and method for manufacturing the same
JP4069744B2 (en) Composite sheet manufacturing method and laminate manufacturing method
JP2005205875A (en) Composite sheet and laminated component, and their manufacturing method