JP2005099783A - 紫外光照射装置及び照射方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 この発明は基板に塗布されたシール剤の部分にだけ紫外光を照射することができるようにした紫外光照射装置を提供することにある。
【解決手段】 ２枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射装置において、
紫外光を所定の長さの直線状で出射し、上記基板を貼り合わせたシール剤の部分だけを上記紫外光によって照射可能とする照射手段２１，２２を備えている。
【選択図】 図１

Description

この発明は２枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射装置及び照射方法、基板製造装置及び基板製造方法に関する。

液晶ディスプレイパネルに代表されるフラットディスプレイパネルなどの製造工程では、２枚の基板を所定の間隔で対向させ、これら基板間に液晶を封入してシール剤によって貼り合わせる、貼り合わせ作業が行なわれる。

上記貼り合わせ作業は、２枚の基板のどちらかに上記シール剤を枠状に塗布し、その基板或いは他方の基板の上記シール剤の枠内に対応する部分に所定量の上記液晶を滴下供給する。

つぎに、上記２枚の基板を上部保持テーブルと下部保持テーブルとに保持し、上下方向に所定の間隔で離間させて対向させ、その状態でこれら基板の水平方向であるＸ、Ｙ及び回転方向であるθ方向の位置決めを行なってから、これら基板を貼り合わせる。２枚の基板を貼り合わせたならば、これら基板の位置決め精度が損なわれないよう、上記シール剤を硬化させて貼り合わせ、基板を製造する。

シール剤には紫外光硬化型のものがあり、このようなシール剤を用いて２枚の基板を貼り合わせたならば、基板全体に紫外光をほぼ均一に照射して上記シール剤を硬化させるようにしている。

すなわち、ランプハウス内に基板の幅寸法とほぼ同等程度の長さを有する複数の紫外光ランプを並列に収納し、これらランプの周囲に反射板や拡散板、さらには特定の波長の光を選択的に透過するフィルタなどを配置して紫外光を上記基板に均一の照度で照射できるようにしている。

しかしながら、通常、基板にはシール剤が矩形枠状に塗布されている。そのため、紫外光を基板の全面にわたって照射すると、紫外光の大半はシール剤以外の部分を照射する。

紫外光を基板の全面に照射すると、基板は紫外光の照射が必要でない部分までも照射されることになるから、上記紫外光ランプから出力された紫外光の有効利用効率が非常に低いということがある。つまり、紫外光ランプに入力されるエネルギに比べ、有効に使用されるエネルギが小さいから、エネルギの無駄が生じ、不要なランニングコストを招くことになる。さらに、２枚の基板間に液晶が設けられている場合、液晶が紫外光によって照射されると、性能劣化の原因になることがあり、好ましくないということもある。

この発明は、２枚の基板を貼り合わせたシール剤の部分だけに紫外光を照射することができるようにし、エネルギの無駄な消費を防止し、エネルギの使用効率を向上させることができる紫外光照射装置及び照射方法、基板製造装置及び基板製造方法を提供することにある。

この発明は、２枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射装置において、
紫外光を所定の長さの直線状で出射し、上記基板を貼り合わせたシール剤の部分だけを上記紫外光によって照射可能とする照射手段を備えていることを特徴とする紫外光照射装置にある。

この発明は、２枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射装置において、
紫外光を所定の長さの直線状で出射する照射手段と、
この照射手段と上記基板とを相対的に二次元方向に移動自在に支持するガイド手段と
を具備したことを特徴とする紫外光照射装置にある。

上記照射手段と上記基板とを上記ガイド手段に沿って相対的に移動させる駆動手段と、
この駆動手段を制御して上記シール剤の部分だけに上記紫外光を照射させるように上記照射手段と上記基板とを相対的に位置調整する制御手段とが設けられていることが好ましい。

上記制御手段は、上記基板における中央寄りに位置する上記シール剤の部分から端部寄りに位置する上記シール剤の部分の順で上記紫外光を照射させるように、上記照射手段と上記基板とを相対的に移動させることが好ましい。

ほぼ直交する状態で２つの照射手段が設けられていることが好ましい。

２つの照射手段が所定の間隔でほぼ平行に設けられていることが好ましい。

上記基板に設けられたシール剤の直線部分を照射する直線状の紫外光をそれぞれ出射する複数の照射手段が平行に設けられていて、
各照射手段は、上記シール剤の同じ方向に沿う複数の直線部分をそれぞれが出射する紫外光によって同時に照射するよう上記制御手段によって位置決め制御されることが好ましい。

上記照射手段と上記基板とは相対的に回転方向に移動可能に設けられていることが好ましい。

上記照射手段は、直線状に配置された複数の発光ダイオードを備えていることが好ましい。

上記照射手段は、所定のガスが封入されているとともに直線状に連設された複数のチューブと、各チューブに対応して設けられそれぞれのチューブに封入されたガスを励起して紫外光を出射させる複数の励起手段と、この励起手段に励起されて出射する紫外光の上記基板を照射するパターンを直線状に形成するパターン形成手段とによって構成されていることが好ましい。

この発明は、２枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射方法において、
紫外光を所定の長さの直線状に出射する工程と、
所定の長さの直線状の紫外光によって上記シール剤の部分だけを照射する工程と
を具備したことを特徴とする紫外光照射方法にある。

上記基板の位置ずれを求める工程と、
求めた上記基板の位置ずれに基づいて上記シール剤の直線部分のうち所定の直線部分を上記直線状の紫外光に沿わせるよう上記基板を位置合わせする工程と
をさらに具備したことが好ましい。

この発明は、少なくとも一方にシール剤が矩形枠状に塗布された２枚の基板を上記シール剤を介して貼り合わせた後、上記シール剤に紫外光を照射することにて硬化させ貼り合わせ基板を製造する基板製造方法において、
前記シール剤を介して貼り合わされた２枚の基板を支持台上に載置する載置工程と、
前記支持台上に載置された前記２枚の基板間に挟まれた前記シール剤の部分だけを所定の長さの直線状に出射された紫外光によって照射し前記シール剤を硬化させる工程と
を具備したことを特徴とする基板製造方法にある。

この発明によれば、基板に紫外光を照射する照射手段から紫外光を直線状に出射させるようにした。そのため、２枚の基板を貼り合わせたシール剤の部分だけに紫外光を照射することが可能となる。よって、エネルギの無駄な消費が防止でき、エネルギの使用効率を向上させることができる。

以下、図面を参照しながらこの発明の実施の形態を説明する。

図１乃至図７はこの発明の第１の実施の形態を示す。図１に示すこの発明の紫外光照射装置はベース板１を備えている。このベース板１上には平面形状が矩形状の基体２が設置されている。この基体２の上面にはθテーブル３が設けられている。θテーブル３は上記基体２に設けられたθ駆動源４（図６に示す）によって上記基体２の中心を支点として水平方向に回転されるようになっている。

上記θテーブル３の上面にはＹ方向に所定の間隔で離間した一対のＸガイド部材６がＸ方向に沿って設けられている。上記θテーブル３の上面にはＸテーブル７が設けられている。このＸテーブル７の下面には上記Ｘガイド部材６にスライド可能に係合したＸ受け部材８が設けられている。

上記θテーブル３の上面のＸ方向の端部には第１のＸ駆動源９が設けられている。この第１のＸ駆動源９は図示しないＸねじ軸を回転駆動する。このＸねじ軸は上記Ｘテーブル７の下面に設けられた図示しないナット体に螺合している。したがって、上記第１のＸ駆動源９が作動してＸねじ軸を回転駆動すれば、上記Ｘテーブル７がＸ方向に沿って駆動されるようになっている。

上記Ｘテーブル７の上面には、Ｘ方向に所定の間隔で離間した一対のＹガイド部材１１がＹ方向に沿って設けられている。上記Ｘテーブル７の上面には支持台として用いられるＹテーブル１２が設けられている。このＹテーブル１２の下面には上記Ｙガイド部材１１にスライド可能に係合したＹ受け部材１３が設けられている。

上記Ｘテーブル７の上面のＹ方向の端部には第１のＹ駆動源１４が設けられている。この第１のＹ駆動源１４は図示しないＹねじ軸を回転駆動する。このＹねじ軸は上記Ｙテーブル７の下面に設けられた図示しないナット体に螺合している。したがって、上記第１のＹ駆動源１４が作動してＹねじ軸を回転駆動すれば、上記Ｙテーブル１２がＹ方向に沿って駆動されるようになっている。つまり、Ｙテーブル１２はＸ、Ｙの水平方向及びθの回転方向に駆動可能となっている。

上記Ｙテーブル１２の上面には、図５に示すようにシール剤１６によって所定の間隔に貼り合わされた２枚の基板１７が供給載置される。貼り合わされた２枚の基板１７からは、たとえば４つの液晶ディスプレイパネルを形成することができるようになっており、その数に応じて２枚の基板１７は４つの矩形枠状に塗布された上記シール剤１６によって貼り合わされている。なお、一対の基板１７間のシール剤１６によって囲まれた空間部には液晶１８が充填されている。

ここで、このような基板１７は、以下のような製造工程を経て作成される。すなわち、まず、シール塗布装置にて、少なくとも一方の基板にシール剤が矩形枠状に塗布される。次いで、液晶滴下装置にて、シール剤が塗布された基板或いは他方の基板におけるシール剤の枠内に対応する部分に必要量の液晶が滴下される。そして、基板貼り合わせ装置における上部保持テーブルに一方の基板が保持され、また下部保持テーブルに他方の基板が保持されて、上下に所定の間隔で対向された状態でこれら２枚の基板の位置合わせが行なわれた後、シール剤を介して貼り合わされる。

シール剤１６によって貼り合わされた２枚の基板１７がＹテーブル１２上に供給載置されると、上記シール剤１６は後述するごとく紫外光によって照射されて硬化させられる。

シール剤１６は、第１の照射手段２１と第２の照射手段２２とから出射される紫外光によって照射される。上記第１、第２の照射手段２１，２２は図１と図４に示すように上記基板１７のＹ方向に沿う幅寸法と同等若しくはわずかに長尺な第１、第２のランプハウス２３ａ，２３ｂを有する。各ランプハウス２３ａ，２３ｂは下面が開放した角筒状をなしていて、この内部には長手方向と交差する方向の断面形状が円弧状に形成された反射体２４が長手方向全長にわたって設けられている。

上記反射体２４の焦点位置には第１、第２の紫外光ランプ２５ａ，２５ｂが長手方向に沿って設けられている。この紫外光ランプ２５ａ，２５ｂは内部にメタルハライドなどの励起されると紫外域の光を発光するガスが封入された、所定長さの複数のチューブ２６が軸方向の端面を接合して一列に並設されている。

上記ランプハウス２３ａ，２３ｂ内の上部には、各チューブ２６に対向して複数の電磁波発生部２７（図４に１つだけ図示）が配設されている。各電磁波発生部２７に電力が供給されると電磁波が発生し、その電磁波によって各チューブ２６内に充填されたガスが励起されて紫外光Ｕが発生する。つまり、電磁波発生部２７では励起手段として機能する。

チューブ２６から発生した紫外光Ｕは図４に示すように、反射体２４の反射面２４ａで反射し、下方に向かって直進する平行光になっている。なお、上記反射体２４の開放面には長手方向に沿ってスリット２８ａが形成されたスリット板２８が設けられている。それによって、反射体２４の反射面２４ａで反射した紫外光Ｕのうち、スリット２８ａをスリット板２８の板面に対してほぼ垂直に通過する紫外光Ｕの幅寸法が制限される。つまり、スリット２８ａを出射する紫外光Ｕは所定の幅寸法の直線状に成形される。

なお、この実施の形態では、上記反射体２４と上記スリット板２８とで紫外光Ｕを直線状に成形するパターン形成手段を構成している。
図１に示すように、上記第１の照射手段２１の第１のランプハウス２３ａは、上記基体２のＹ方向両側に設けられた一対の第１の支柱３１ａ，３１ｂの上端部に両端を連結固定してほぼ水平に設けられている。一方の第１の支柱３１ａの下端にはガイド溝３２が形成され、このガイド溝３２は上記ベースプレート１のＸ方向に沿って設けられたＸ支柱ガイド３３にスライド可能に係合している。

上記Ｘ支柱ガイド３３の両端に対応する部位にはそれぞれ支持プレート３４が立設されている。一対の支持プレート３４にはＸ駆動ねじ３５の両端部が回転可能に支持されている。一方の支持プレート３４には上記Ｘ駆動ねじ３５を回転駆動する第２のＸ駆動源３６が設けられている。

他方の第１の支柱３１ｂは図示しないガイドにガイドされたり、下端面に転がり軸受などを設けるなどのことによって上記ベースプレート１上をＸ方向に沿って移動できるようになっている。

したがって、上記第２のＸ駆動源３６が作動してＸ駆動ねじ３５が回転駆動されると、一方の第１の支柱３１ａがＸ支柱ガイド３３に沿ってＸ方向に駆動されるから、一方の第１の支柱３１ａに第１の照射手段２１のランプハウス２３ａを介して他方の第１の支柱３１ｂが連動する。

上記第１の照射手段２１のランプハウス２３ａはＹテーブル１２の上面よりも高い位置にある。したがって、第２のＸ駆動源３６が作動すれば、基板１７のＹ方向に沿って配設された上記第１のランプハウス２３ａが基板１７の上方をＸ方向に沿って駆動される。

それによって、第１のランプハウス２３ａからＹ方向（この方向を基板１７の幅方向とする）に沿って直線状に出射された紫外光Ｕを、基板１７の幅方向に交差する長手方向であるＸ方向に沿って移動させることができる。

上記第２の照射手段２２の第２のランプハウス２３ｂは、上記基体２のＸ方向両側に設けられた一対の第２の支柱４１ａ，４１ｂの上端部に両端を連結固定してほぼ水平に設けられている。一方の第２の支柱４１ａの下端にはガイド溝４２が形成され、このガイド溝４２は上記ベース板１にＹ方向に沿って設けられたＹ支柱ガイド４３にスライド可能に係合している。

上記Ｙ支柱ガイド４３の両端に対応する部位にはそれぞれ支持プレート４４が立設されている。一対の支持プレート４４にはＹ駆動ねじ４５の両端部が回転可能に支持されている。一方の支持プレート４４には上記Ｙ駆動ねじ４５を回転駆動する第２のＹ駆動源４６が設けられている。

他方の第２の支柱４１ｂは図示しないガイドにガイドされたり、下端面に転がり軸受を設けるなどのことによって上記ベースプレート１上をＹ方向に沿って移動できるようになっている。

したがって、上記第２のＹ駆動源４６が作動してＹ駆動ねじ４５が回転駆動されると、一方の第２の支柱４１ａがＹ支柱ガイド４３に沿ってＹ方向に駆動されるから、一方の第２の支柱４１ａに第２の照射手段２２のランプハウス２３ｂを介して他方の第２の支柱４１ｂが連動する。

上記第２の照射手段２２はＹテーブル１２の上面よりも高い位置で、上記第１の照射手段２１とほぼ同じ高さにある。したがって、第２のＹ駆動源４６が作動すれば、基板１７のＸ方向に沿って設けられた上記第２の照射手段２２の第２のランプハウス２３ｂは基板１７の上方をＹ方向に沿って駆動される。

それによって、第２のランプハウス２３ｂから基板１７の長手方向に沿うＸ方向に沿って直線状に出射された紫外光Ｕを、基板１７の幅方向である、Ｙ方向に沿って移動させることができる。

なお、第２の照射手段２２をＹ方向に沿って駆動する際、第１の照射手段２１は図２に鎖線で示すように第２の照射手段２２のＸ方向の範囲から外れた位置に退避している。それによって、第２の照射手段２２の走行駆動に、上記第１の照射手段２１が邪魔にならないようになっている。

また、上記第１の照射手段２１をＸ方向に沿って走行駆動する際には、図３に実線で示すように、第２の照射手段２２は第１の照射手段２１の移動の邪魔にならないようＹ方向に退避している。

図６は、上記紫外光照射装置のθ駆動源４、第１のＸ駆動源９、第１のＹ駆動源１４、第２のＸ駆動源３６及び第２のＹ駆動源４６を駆動するとともに、第１、第２の照射手段２１，２２の第１、第２の紫外光ランプ２５ａ，２５ｂを励起する電磁波発生部２７を駆動する第１の電源４７と第２の電源４８を駆動制御する制御回路図である。

上記制御回路は制御装置５１を有する。この制御装置５１は設定部５２、演算部５３及び出力部５４を備えている。上記設定部５２には基板１７に塗布されたシール剤１６の位置情報が記憶されている。この位置情報は上記演算部５３に入力される。

上記各駆動源及び電源は上記出力部５４からの駆動信号によって駆動される。各駆動源によるＹテーブル１２及び第１、第２の照射手段２１，２２のＸ、Ｙ方向の駆動量がそれぞれ第１のＸエンコーダ５６Ｘ、第１のＹエンコーダ５６Ｙ、θエンコーダ５６θ、第２のＸエンコーダ５７Ｘ、第２のＹエンコーダ５７Ｙによって上記演算部５３にフィードバックされる。

演算部５３では設定部５２からの位置情報と、各エンコーダからのフィードバック信号とを比較し、その比較値を上記出力部５４に出力する。出力部５４は演算部５３からの比較値に応じた駆動信号を各駆動源及び電源に出力する。

上記第１、第２の電源４７，４８は、第１、第２の照射手段２１，２２の複数の電磁波発生部２７を演算部５３からの信号に基いて選択的に駆動する。それによって、各照射手段２１，２２の紫外光ランプ２５ａ，２５ｂを構成する複数のチューブ２６のうち、電磁波発生部２７によって励起したランプ２５ａ，２５ｂだけから紫外光Ｕが発生するようになっている。

上記Ｙテーブル１２の上方には基板１７の位置決めマークを撮像する第１、第２のカメラ５８ａ，５８ｂ（図６にのみ図示）が配置されている。これらカメラ５８ａ，５８ｂからの撮像信号は図示しない画像処理部で処理されて上記演算部５３に入力される。それによって、Ｙテーブル１２上における基板１７の相対位置ずれ量が算出され、その位置ずれ量に応じて各駆動源によるＸ、Ｙ及びθ方向の位置が補正されるようになっている。

つぎに、上記構成の紫外光照射装置によって２枚の基板１７を貼り合わせたシール剤１６を紫外光Ｕによって照射する場合の作用を説明する。

まず、図２に鎖線で示すように、第１の照射手段２１をＸ方向に退避させ、図３に実線で示すように、第２の照射手段２２をＹ方向に退避させる。その状態で、Ｙテーブル１２上に４つの矩形枠状のパターンのシール剤１６によって貼り合わされた基板１７を供給し、これら基板１７に設けられた図示しない位置決めマークを一対のカメラ５８ａ，５８ｂを用いて撮像する。

一対のカメラ５８ａ，５８ｂの撮像信号は画像処理されて演算部５３に入力される。それによって、Ｙテーブル１２に対する基板１７のＸ、Ｙ及びθ方向のずれ量が求められ、そのずれ量に応じてＹテーブル１２のＸ方向、Ｙ方向及びθ方向の位置が補正され、基板１７の位置合わせが行なわれる。

Ｙテーブル１２の位置が補正されると、基板１７に矩形枠状に塗布されたシール剤１６のＸ方向に沿う辺と、Ｙ方向に沿う辺とがＹテーブル１２のＸ方向とＹ方向との移動方向に対して平行に位置決めされることになる。

つぎに、第１の照射手段２１がＸ方向に沿って駆動される。第１の照射手段２１の第１のランプハウス２３ａが図７（ａ）にＸ_１ で示す位置に到達すると、そのことが制御装置５１の設定部５２に予め記憶されたシール剤１６の位置情報によって認識される。それによって、演算部５３から第１の電源４７に駆動信号が出力され、この第１の電源４７によって複数の電磁波発生部２７に通電される。

電磁波発生部２７に通電されると、電磁波が出力され、その電磁波によって第１の紫外光ランプ２５ａを形成する複数のチューブ２６内のガスが励起される。それによって、第１の照射手段２１の第１のランプハウス２３ａから紫外光Ｕが直線状の照射パターンＰ_１ で出射されるから、その照射パターンＰ_１ によって上記シール剤１６の２つの塗布パターンのＹ方向に沿う２つの辺１６ａが照射されて硬化する。

第１の照射手段２１から出射された紫外光Ｕの照射パターンＰ_１ がＸ１の照射範囲から外れると、第１の電源４７への駆動信号が遮断され、第１の照射手段２１からの紫外光Ｕの出射が停止する。

つぎに、第１の照射手段２１の第１のランプハウス２３ａがＸ２で示す位置に到達すると、演算部５３からの駆動信号によって上記第１の電源４７が駆動される。それによって、第１の紫外光ランプ２５ａから出射される紫外光Ｕの照射パターンＰ_１ によってシール剤１６の２つの矩形枠状の塗布パターンの２つの辺１６ｂが照射されて硬化する。そして、紫外光Ｕの照射パターンＰ_１ がＸ_２ の照射範囲から外れると、第１の電源４７への駆動信号が遮断され、紫外光Ｕの出射も停止される。

同様に、第１の照射手段２１がＸ方向に駆動され、第１のランプハウス２３ａがＸ_３ で示す、シール剤１６の残りの２つの矩形状の塗布パターンのＹ方向に沿う２つの辺１６ｃの上方に到達すると、その辺１６ｃが照射パターンＰ_１ によって照射されて硬化する。ついで、紫外光Ｕの出力が停止され、第１のランプハウス２３ａがＸ_４ で示す位置に到達すると、そこに位置するシール剤１６の塗布パターンのＹ方向に沿う２つの辺１６ｄが紫外光Ｕによって照射されて硬化する。

それによって、２枚の基板１７を貼り合わせたシール剤１６の４つの矩形枠状の塗布パターンのうち、Ｙ方向に沿う辺１６ａ〜１６ｄが紫外光Ｕによって照射され硬化する。

第１の照射手段２１により、Ｙ方向に沿う辺１６ａ〜１６ｄを硬化させたならば、第１の照射手段２１は図２に鎖線で示すように第２の照射手段２のＹ方向に沿う移動の邪魔にならないＸ方向の位置に退避する。

つぎに、第２の照射手段２２をＹ方向に沿って駆動する。第２の照射手段２２の第２のランプハウス２３ｂが図７（ｂ）にＹ_１ で示す、シール剤１６の２つの矩形枠状の塗布パターンの、Ｙ方向の端部に位置する２つの辺１６ｅの上方に到達すると、設定部５２からの位置情報に基いて第２の電源４８に駆動信号が出力される。それによって、第２の照射手段２２の複数の電磁波発生部２７に通電されるから、これら電磁波発生部２７から発生する電磁波によって第２の紫外光ランプ２５ｂの複数のチューブ２６に充填されたガスが励起され、各チューブ２６から紫外光Ｕが出力される。

チューブ２６から出力された紫外光Ｕは、反射体２４とスリット板２８とで図７（ｂ）に示すように直線状の照射パターンＰ_２ に成形され、このパターンＰ_２ によって上記２つの辺１６ｅを照射して硬化する。

２つの辺１６ｅから紫外光Ｕの照射パターンＰ_２ が外れると、第２の電源４８への駆動信号が遮断され、紫外光Ｕの出射が停止する。第２の照射手段２２の第２のランプハウス２３ｂがＹ_２ で示す、２つの辺１６ｆ上に到達すると、第２の電源４８に通電されて直線状の照射パターンＰ_２ にて紫外光Ｕが出力され、この照射パターンＰ_２ の紫外光Ｕによって上記辺１６ｆが照射されて硬化する。

シール剤１６の矩形状の塗布パターンの２つの辺１６ｆの照射が終了すると、紫外光Ｕの出射が停止される。第２のランプハウス２３ｂがＹ_３ で示すシール剤１６の次の２つの矩形状の塗布パターンの２つの辺１６ｇ上に到達すると、再び紫外光Ｕが直線状の照射パターンＰ_２ で出射され、上記辺１６ｇを照射し、硬化させる。

上記辺１６ｇの照射が終わると、第２の電源４８への通電が遮断され、紫外光Ｕの出射が停止される。そして、第２のランプハウス２３ｂがＹ_４ で示すシール剤１６の塗布パターンのつぎの２つの辺１６ｈ上に到達すると、再びランプハウス２３ｂからは紫外光Ｕが直線状の照射パターンＰ_２ で出射され、上記辺１６ｈを照射し、硬化させる。そして、辺１６ｈを照射すると、紫外光Ｕの出射が停止される。

このように、第１の照射手段２１をＸ方向に駆動してシール剤１６の矩形枠状の塗布パターンのうちの、Ｙ方向に沿う各辺１６ａ〜１６ｄを紫外光Ｕの直線状の照射パターンＰ_１ で照射して硬化させた後、第２の照射手段２２をＹ方向に沿って駆動してシール剤１６の矩形枠状の塗布パターンのうちの、Ｘ方向に沿う各辺１６ｅ〜１６ｈを照射パターンＰ_２ で照射して硬化させるようにした。

そのため、シール剤１６の矩形枠状の塗布パターンの各辺だけに紫外光Ｕを照射パターンＰ_１ 、Ｐ_２ で照射して硬化させることができ、基板１７のシール剤１６が設けられていない部分に紫外光Ｕを照射するのを防止できる。それによって、一対の基板１７間に設けられた液晶１８を紫外光Ｕによって照射して劣化させるのを防止することができる。

各照射手段２１，２２の紫外光ランプ２５ａ，２５ｂはガスが封入された複数のチューブ２６を一列に接続し、各チューブ２６内のガスを電磁波発生部２７によって励起して紫外光Ｕを出力する、いわゆる無電極放電ランプからなる。このような無電極放電式の紫外光ランプは、電極式紫外光ランプに比べて発光の応答性がよいという特性を有する。

そのため、紫外光Ｕの出射と停止とを短時間で切換えることが可能であるから、上述したように第１、第２の照射手段２１，２２をＸ方向及びＹ方向に駆動しながら必要な箇所、つまりシール剤１６が塗布された箇所だけに紫外光を照射することができる。

第１、第２の紫外光ランプ２５ａ，２５ｂを構成する複数のチューブ２６は、それぞれ電磁波発生部２７によって励起されて紫外光Ｕを出射する。そのため、Ｙテーブル１２上に供給される基板１７のサイズが変更になり、基板１７に塗布されたシール剤１６のＸ方向とＹ方向に沿う範囲がたとえば各紫外光ランプ２５ａ，２５ｂの長さに比べて小さくなった場合には、紫外光Ｕの照射時に設定部５２に入力された情報に基いてシール剤１６から外れたチューブ２６に対応する電磁波発生部２７への通電を行なわないようにする。

それによって、基板１７のサイズが変更になった場合などであっても、シール剤１６が塗布された部分以外を紫外光Ｕによって照射するのを防止することができるばかりか、不必要な電磁波発生部２７へ給電するのを防止できるから、使用電力を低減することができる。よって、電力の使用効率を向上させることができる。

また、シール剤１６の矩形枠状の塗布パターンにおける各辺を、第１、第２の照射手段２１から出射される紫外光Ｕの照射パターンＰ_１ 、Ｐ_２ によって照射可能な辺を単位として紫外光Ｕを照射するようにした。

そのため、一つの辺のシール剤１６がタイミングをほぼ同じくして硬化するので、一つの辺のシール剤１６に紫外光Ｕが照射される時間が短くてすむ。その結果、紫外光Ｕの照射に伴う基板１７の加熱が軽減されるので、その一つの辺の部分において２枚の基板１７間の熱膨張差に起因して生じる可能性のある歪の発生を極力防止することができる。

また、Ｙテーブル１２に対する基板１７のＸ、Ｙ方向及びθ方向の位置ずれがあったときに、そのずれ量に応じてＹテーブル１２のＸ方向、Ｙ方向及びθ方向の位置が補正され、基板１７の位置合わせが行われる。

そのため、基板１７がＹテーブル１２に対してθ方向に位置ずれを有する場合でも、シール剤１６の矩形枠状の塗布パターンにおける各辺を第１、第２の照射手段２１，２２からの紫外光Ｕの照射パターンＰ_１ 、Ｐ_２ に沿わせることができる。

これにより、より幅の狭い照射パターンＰ_１ 、Ｐ_２ でシール剤１６の辺に紫外光Ｕを照射することができ、基板１７におけるシール剤１６が設けられていない部分に紫外光Ｕが照射されることをより確実に防止することができる。

また、各照射手段２１，２２をＸ支柱ガイド３３、Ｙ支柱ガイド４３で支持し、第１の照射手段２１をＸ方向、第２の照射手段２２をＹ方向に沿って移動できるようにした。これにより、各照射手段２１，２２を基板１７上でＸ方向、或いはＹ方向に位置調整することができ、基板１７に設けられたシール剤１６の複数の辺（直線部分）に照射手段２１，２２から直線状に出射された紫外光Ｕを照射することができる。

また、Ｘガイド支柱３３、Ｙガイド支柱４３に第２のＸ駆動源３６、第２のＹ駆動源４６を設け、これら駆動源３６，４６を制御装置５１で制御するようにした。このため、各照射手段２１，２２のＸ方向、或いはＹ方向における位置調整が自動化され、基板１７に設けられたシール剤１６への紫外光Ｕの照射を容易かつ迅速に行うことができる。

なお、この第１の実施の形態において、第１の照射手段２１と第２の照射手段２２とをほぼ同じ高さに設けた例で説明したが、異なる高さに設けてもよい。この場合、それぞれのランプハウス２３ａ，２３ｂから出射される紫外光Ｕは、平行光とすることが好ましい。

図８はこの発明の第２の実施の形態を示す紫外光照射装置の変形例である。この実施の形態では、上記第１の実施の形態に示された第２の照射手段２２を除去し、第１の照射手段２１だけを設けるようにした。この第１の照射手段２１の第１のランプハウス２３ａの長さ、つまり一対の第１の支柱３１ａ，３１ｂの間隔は、Ｙテーブル１２の長手方向の寸法よりも大きく設定されている。つまり、Ｙテーブル１２を９０度回転させても、このＹテーブル１２に支柱３１ａ，３１ｂがぶつかることがない間隔に設定されている。

第１の工程では、第１の照射手段２１をＸ方向に駆動してシール剤１６の矩形状の塗布パターンのうちの、Ｙ方向に沿う各辺（図７（ａ）に１６ａ〜１６ｄで示す）を紫外光Ｕの照射パターンで照射して硬化する。

第２の工程では、θテーブル３を９０度回転し、第１の工程時にＸ方向に沿って位置していた残りの各辺（図７（ｂ）に１６ｅ〜１６ｈで示す）をＹ方向に沿うよう位置決めする。そして、上記第１の照射手段２１をＸ方向に沿って駆動すれば、第１の工程で照射されなかった残りの各辺１６ｅ〜１６ｈをそれぞれ紫外光Ｕで照射して硬化することができる。

すなわち、この第２の実施の形態においても、基板１７に塗布されたシール剤１６の部分だけを紫外光Ｕによって照射し、それ以外の部分が紫外光Ｕによって照射されるのを防止することができる。

また、単一の照射手段２１を用い、θテーブル３を９０度回転させることで、基板１７に設けられたシール剤１６におけるＸ方向に沿う辺とＹ方向に沿う辺に紫外光Ｕを照射するようにしたので、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれに沿う照射手段２１，２２を設けた第１の実施の形態による効果に加え、装置構成を簡素化することができるという効果を有する。

上記第２の実施の形態では、基板１７（Ｙテーブル１２を支持するθテーブル３）を９０°回転させることで、紫外光Ｕの照射パターンを基板１７の短辺或いは長辺に沿わせる例で説明したが、ランプハウス２３ａを９０°旋回させることで行なうようにしてもよい。この場合、ランプハウス２３ａを単一の支柱上に回転機構を介して旋回自在に支持するように構成すればよい。

また、照射手段２１，２２を移動させながらシール剤１６の矩形枠状のパターンにおける各辺に紫外光を照射する例で説明したが、照射手段２１，２２を移動させることなく、θテーブル３、Ｘテーブル７、Ｙテーブル１２を用いて基板１７を移動させるようにしてもよい。

図９はこの発明の第３の実施の形態を示す。この実施の形態は図８に示す第２の実施の形態と同様、第２の照射手段２２を除去し、第１の照射手段だけを設けるようにしたという点で同じであるが、２つの第１の照射手段２１Ａ，２１Ｂが設けられているという点で相違している。

すなわち、２つの第１の照射手段２１Ａ，２１Ｂの一方の支柱３１ａはそれぞれＸ支柱ガイド３３に下端のガイド溝３２をスライド自在に係合させて設けられている。各照射手段２１Ａ，２１Ｂの一方の支柱３１ａにはそれぞれＸ駆動ねじ３５が螺合している。各Ｘ駆動ねじ３５の両端部は、上記Ｘ支柱ガイド３３の中途部及び両端部に立設された支持プレート３４に回転可能に支持されている。Ｘ支柱ガイド３３の両端に立設された一対の支持プレート３４には、各Ｘ駆動ねじ３５を回転駆動する第２のＸ駆動源３６がそれぞれ設けられている。

各Ｘ駆動源３６を作動させることで、図９にＤで示す、一対の第１の照射手段２１Ａ，２１Ｂの第１のランプハウス２３ａの間隔を設定することができる。一対のランプハウス２３の間隔Ｄは、基板１７に矩形枠状に塗布されたシール剤１６の矩形枠状のパターンの対向する一対の辺の間隔とほぼ同じに設定される。

一対の第１のランプハウス２３ａの間隔を、図７（ａ）に示すシール剤１６の矩形枠状の塗布パターンの一対の辺１６ａ，１６ｂ及び１６ｃ、１６ｄの間隔とほぼ同じに設定し、Ｙテーブル１２をＸ方向に移動させて一対の辺１６ａ，１６ｂが一対の第１のランプハウス２３ａの下方に位置したときに、紫外光Ｕを直線状の照射パターンＰ_１ で出力する。それによって、上記一対の辺１６ａ，１６ｂを照射して硬化させることができる。

つぎに、一対の第１のランプハウス２３ａの下方に一対の辺１６ｃ、１６ｄが位置したときに、紫外線Ｕを出力する。それによって、照射パターンＰ_１ で一対の辺１６ｃ、１６ｄを照射して硬化させることができる。

つぎに、Ｙテーブル１２を９０度回転し、シール剤１６の紫外光Ｕによって照射されていない、図７（ｂ）に１６ｅ〜１６ｈで示す辺の向きをＸ方向からＹ方向に変える。それととともに、一対の第１の照射手段２１Ａ，２１Ｂのランプハウス２３の間隔Ｄを、対向する一対の辺１６ｅ，１６ｆ及び１６ｇ、１６ｈの間隔とほぼ同じになるよう調整する。

そして、Ｙテーブル１２をＸ方向に移動させて一対の第１のランプハウス２３ａの下方に、シール剤１６の矩形枠状のパターンの、対向する一対の辺１６ｅ，１６ｆを位置させたならば、紫外光Ｕを直線状のパターンで出力し、上記一対の辺１６ｅ，１６ｆを照射して硬化させる。

ついで、Ｙテーブル１２がＸ方向に移動され、残りの一対の辺１６ｇ、１６ｈが一対の第１のランプハウス２３ａの下方に位置したならば、紫外光Ｕを直線状のパターンで照射し、上記辺１６ｇ、１６ｈを硬化させる。それによって、シール剤１６の４つの矩形枠状のパターン全体を紫外光Ｕで照射して硬化させることができる。

このように第３の実施の形態によれば、２つの第１の照射手段２１Ａ，２１Ｂを個別にＸ方向に移動自在に設け、シール剤１６における２つの辺に同時に紫外光Ｕを照射するようにしたので、第１の実施の形態の効果に加え、シール剤１６の硬化を効率よく行うことができるという効果を有する。

上記各実施の形態では、照射手段または基板を所定方向に移動させながら所定のパターンに形成された紫外光をシール剤に照射するようにしたが、照射手段の照射位置にシール剤が位置したときに、照射手段または基板の所定方向に沿う駆動を所定時間停止して紫外光を照射するようにしてもよい。

基板にシール剤が４つの矩形枠状のパターンで塗布されている場合について説明したが、基板に形成される塗布パターンの数はなんら限定されるものでなく、４つ以下や４つ以上であってもなんら差し支えない。

紫外光ランプとしてチューブにガスが封入された無電極式紫外光ランプを挙げたが、無電極ランプに代わり、チューブの両端に電極が設けられ、これら電極間の放電によってチューブ内のガスを励起して紫外光を出力する、いわゆる電極式紫外光ランプを用いるようにしてもよい。電極式紫外光ランプを用いる場合、ランプへの通電を遮断すると、無電極式紫外光ランプに比べ、立ち上がるまでに時間が掛かるから、基板に対する紫外光の照射や遮断を通電によって制御することが難しくなる。したがって、そのような場合には、電極式紫外光ランプへは通電したままとし、紫外光の光路にシャッタを設け、このシャッタを開閉して紫外光の照射や遮断を制御すればよい。なお、無電極式紫外光ランプであっても、シャッタの開閉により紫外光の照射遮断を制御するようにしてもよい。

紫外光ランプから出力された紫外光を直線状に成形するパターン形成手段として反射体及びスリット板を用いたが、それに代わって紫外光ランプから出力された紫外光が基板上で直線状に集束するよう、反射体の反射面の形状を設定するようにしてもよい。なお、紫外光の光路上にシリンドリカルレンズなどのレンズを用いて紫外光を直線状の平行光に形成してもよい。

上記第３の実施の形態において、２つの照射手段２１Ａ，２１Ｂのランプハウス２３ａの間隔をシール剤１６の矩形枠状のパターンにおける対向する辺の間隔と略同じに設定し、Ｙテーブル１２をＸ方向に移動させてシール剤１６の矩形枠状のパターンにおける対向する辺１６ａと１６ｂ、辺１６ｃと１６ｄ、辺１６ｅと１６ｆ、辺１６ｇと１６ｈの順で照射手段２１Ａ，２１Ｂを対向させる例で説明したが，照射手段２１Ａ，２１ＢをＸ方向に移動させながら行なうようにしてもよい。この場合，図９に示す２つのＸ駆動ねじ３５を、並列に配置してその長さは図８に示すＸ駆動ねじ３５とほぼ同じにする構成とするとよい。

第１乃至第３の実施の形態において、照射手段２１，２２を基板１７（Ｙテーブル１２）の上側に配置した例で説明したが、Ｙテーブル１２の下側に配置しても、或いはＹテーブル１２の上下両側に配置するようにしてもよい。なお、照射手段２１，２２をＹテーブル１２の下側に配置する場合には、Ｙテーブル１２は紫外線を透過させる材料にて形成し、Ｙテーブル１２の下側には照射手段２１，２２を移動を許容できるだけのスペースを確保する必要がある。

基体２上にθテーブル３、Ｘテーブル７、Ｙテーブル１２の順で搭載し、Ｙテーブル１２上に基板１７を載置する例で説明したが、各テーブル３，７，１２の搭載順序はこれに限られるものでなく、入れ替えてもよい。

基板１７上に塗布されたシール剤の塗布パターンに対応する位置で紫外光ランプを発光させ、基板１７上に紫外光Ｕを直接照射する例で説明したが、塗布パターンに対応する位置に紫外光Ｕを透過させる透光部を有するマスクを基板１７上に配置し、このマスクを介して基板１７上に紫外光Ｕを照射するようにしてもよい。

シール剤の各辺を基板１７における一方の端から他方の端に向けて順番に硬化させる例で説明したが、これに限られるものでなく、他の順序で行なってもよい。例えば、図７（ａ）に示す基板１７の中央寄りに位置する辺１６ｂ，１６ｃのシール剤１６を硬化させた後、図７（ｂ）に示す基板１７の中央寄りに位置する辺１６ｆ、１６ｇのシール剤１６を硬化させ、端部側に位置する辺１６ａ，１６ｄ，１６ｅ，１６ｈのシール剤１６を硬化させる。

このように、中央寄りに位置する辺１６ｂ，１６ｃ，１６ｆ，１６ｇのシール剤１６から先に硬化させることで、紫外光Ｕの照射に伴い基板１７に熱膨張が生じたとしても、この熱膨張に起因する２枚の基板間の位置ずれを極力抑えることができる。

つまり、基板１７に紫外光Ｕを照射する場合、光源であるチューブ２６が発熱することから、チューブ２６に近い側に位置する基板（図１の例では上側に位置する基板）の方が遠い側に位置する基板（図１の例では下側に位置する基板）より発熱による熱影響が大きく熱膨張量が大きくなる傾向がある。そのため、この２枚の基板の熱膨張量の差が２枚の基板の位置ずれとなって現れる。

ここで、図７（ａ）に示す辺１６ｂ，辺１６ｃ，辺１６ａ，辺１６ｄの順で硬化させる場合について考える。この場合、辺１６ｂ部分、辺１６ｃ部分のシール剤を硬化させた後は、辺１６ｂ，辺１６ｃの部分で２枚の基板間が固着されているので、その後の辺１６ａ部分、辺１６ｄ部分のシール剤の硬化時に基板に熱膨張が生じたとしても、この熱膨張に起因する２枚の基板間の位置ずれが抑制されるのである。

また、図９に示す２つの照射手段２１Ａ，２１Ｂを有する紫外線照射装置を用いてシール剤１６を２つの辺ずつ同時に硬化させるようにしてもよい。

つまり、まず、中央寄りに位置する２つの辺１６ｂ，１６ｃ（図７（ａ））を同時に硬化させ、つぎにＹテーブル１２を９０度回転させて辺１６ｆ，１６ｇ（図７（ｂ））のシール剤１６を同時に硬化させる。その後、照射手段２１Ａ，２１Ｂの間隔を広げて両端部に位置する２つの辺１６ｅ，１６ｈ（図７（ｂ））を同時に硬化させ、つぎにＹテーブル１２を上述と逆方向に９０度回転させて辺１６ａ，１６ｄ（図７（ａ））のシール剤１６を同時に硬化させる。このようにした場合にも、上述と同様に熱膨張に起因する２枚の基板間の位置ずれを抑制することができる。

ランプハウスから出射される紫外光Ｕの照射パターンＰ_１ がシール剤１６の塗布パターンに対する照射範囲から外れたら、電源４７，４８への駆動信号を遮断し紫外光Ｕの出射を停止する例で説明したが、停止させることなく、電源４７，４８による供給電力を低減させ、紫外光Ｕの光量を減少させるようにしてもよい。この場合、低減させる紫外光Ｕの光量は、紫外光Ｕが液晶ディスプレイパネルの表示面に照射されたとしても、その紫外光Ｕによって液晶が性能劣化（変質等）を生じない程度の光量に設定するとよい。このようにした場合でも、シール剤１６の塗布パターンに対する照射範囲から外れたところでは、照射範囲内に比べて電源４７，４８による供給電力が低減されるので、不要な使用電力を低減させることができる。

励起手段として電磁波発生部を用いた例で説明したが、電磁波発生部として、高周波発生装置やマイクロ波発生装置などを用いることができる。

基板上に液晶を滴下して２枚の基板の貼り合せと同時に基板間に液晶を封入する滴下方式の例で説明したが、注入口を設けて塗布したシール剤を介して２枚の基板を貼り合わせ、貼り合わせ基板とした後、液晶を上記注入口より注入する注入方式においても適用することが可能である。

図１０は第１の実施の形態の変形例である第４の実施の形態を示す。第１の実施の形態では、第１のランプハウス２３ａを移動させるためのＸ支柱ガイド３３やＸ駆動ねじ３５、及び第２のランプハウス２３ｂを移動させるためのＹ支柱ガイド４３やＹ駆動ねじ４５をベース板１上に設置した例で説明したが、図１０（図１と同一部分には同一符号を付す）に示すように、第１のランプハウス２３ａを移動させるためのＸ支柱ガイド３３やＸ駆動ねじ３５をベース板１上に設置する一方で、第２のランプハウス２３ｂを移動させるためのＹ支柱ガイド４３やＹ駆動ねじ４５を、ランプハウス２３ａ，２３ｂの上方に配置して不図示の支持プレートに支持させて配置し、第２のランプハウス２３ｂをそこから垂下して設けるようにしてもよい。

この場合、第１のランプハウス２３ａのＸ支柱ガイド３３及びＸ駆動ねじ３５と、第２のランプハウス２３ｂのＹ支柱ガイド４３及びＹ駆動ねじ４５とが異なるプレート上に配置されてなるので、一方の支柱ガイド及び駆動ねじの配置が他方の支柱ガイド及び駆動ねじの配置の制約を受けることがない。

そのため、図１０に示すように、Ｘ支柱ガイド３３及びＸ駆動ねじ３５とＹ支柱ガイド４３及びＹ駆動ねじ４５とを、上下に間隔を隔てて交差して配置することができるので、他方のランプハウスの移動の邪魔にならないように退避するための退避ポジションを、基体２を挟んだ両側、つまり第１のランプハウス２３ａに関しては基体２のＸ方向における両側、第２のランプハウス２３ｂに関しては基体２のＹ方向における両側に、設けることが可能になる。この結果、シール剤１６を硬化させるために基板１７上を通過してきたランプハウス２３ａ，２３ｂが、退避のために再び基板上を移動して元の位置に戻らなくてすむので、１枚の基板１７のシール剤１６を硬化させるに要する時間を短縮することができる。

図１１はこの発明の第５の実施の形態を示す。この実施の形態は図９に示す第３の実施の形態の変形例であって、ベース板１のＹ方向の両端部にはそれぞれＸ方向に沿って一対のＸ支柱ガイド３３が設けられている。この実施の形態では、Ｘ支柱ガイド３３は駆動手段としてのリニアモータを構成する永久磁石によって形成されている。

一対のＸ支柱ガイド３３には、第１乃至第４の４つの照射手段２１Ａ〜２１Ｄがランプハウス２３ａの両端に設けられた一対の支柱３１ａの下端部のガイド溝３２をスライド可能に係合させて設けられている。

各支柱３１ａの下端部には、永久磁石で形成された上記Ｘ支柱ガイド３３とでリニアモータを構成する電磁コイル（図示せず）が設けられている。したがって、４つの照射手段２１Ａ〜２１Ｄはそれぞれ独立して上記Ｘ支柱ガイド３３に沿って駆動し、位置決めすることができるようになっている。

各照射手段２１Ａ〜２１Ｄのランプハウス２３ａには、複数の発光ダイオード６０がランプハウス２３ａの長手方向に沿って一列に収納配置されている。各発光ダイオード６０は紫外光を出射するとともに、第４の実施の形態の紫外光ランプ２５ａと同様、反射体２４（図１１には示されていない）の焦点位置に配置されている。したがって、各照射手段２１Ａ〜２１Ｄの発光ダイオード６０に通電すれば、それぞれのランプハウス２３ａから出射される紫外光は直線状に集束されて基板１７を照射するようになっている。

図１１は、各照射手段２１Ａ〜２１Ｄのランプハウス２３ａが、Ｙテーブル１２上の２枚の基板１７を貼り合わせた４つの矩形状のシール剤１６の所定方向である、Ｙ方向に沿う各辺の上部に位置決めされた状態を示している。

この状態で、各照射手段２１Ａ〜２１Ｄのランプハウス２３ａに設けられた発光ダイオード６０に通電すれば、シール剤１６の４つの矩形パターンのＹ方向に沿う辺を紫外光によって一括して照射することができる。

図１１の状態において、シール剤１６のＹ方向に沿う各辺を紫外光によって照射したならば、４つの照射手段２１Ａ〜２１Ｄのうち、第１、第２の照射手段２１Ａ，２１Ｂをベース板１のＸ方向一端部に移動させ、第３、第４の照射手段２１Ｃ、２１Ｄを他端部に移動させる。その状態でθテーブル３を９０度回転させ、各シール剤１６の紫外光によって照射されていない辺をＸ方向からＹ方向に沿わせる。

θテーブル３を９０度回転したならば、ベース板１の一端部に位置する第１、第２の照射手段２１Ａ，２１Ｂと、他端部に位置する第３、第４の照射手段２１Ｃ、２１Ｄのランプハウス２３ａを、紫外光が照射されていないシール剤１６の、Ｙ方向に沿う各辺の上方に位置決めする。そして、各ランプハウス２３ａの発光ダイオード５１に通電すれば、矩形枠状のシール剤１６の紫外光が照射されていない残りの辺を同時に、つまり一括して照射することができる。

このように、第１乃至第４の４つの照射手段２１Ａ〜２１Ｄを設けたことで、基板１７にシール剤１６が４つの矩形状のパターンで設けられている場合、各シール剤１６のＹ方向に沿う辺を紫外光によって同時に照射した後、基板１７を９０度回転させることで、残りの辺を紫外光によって同時に照射することができる。つまり、シール剤１６の所定方向に沿う辺を一括して紫外光で照射することができるから、紫外光によるシール剤１６の照射を能率よく行うことが可能となる。

なお、この第５の実施の形態では４つの照射手段を設けるようにしたが、照射手段の数は４つに限定されず、たとえば基板に２列３行で６つの矩形枠状のシール剤が設けられている場合には図１１に示すＸ支柱ガイド３３上で６つの照射手段を設ければ、シール剤の所定方向に沿う辺を一括して紫外光で照射することができる。

すなわち、行方向に沿うシール剤の辺に紫外光を照射するときには、６つの照射手段全てを用いて行う。他方、列方向に沿うシール剤の辺に紫外光を照射するときには、６つの照射手段のうち、両端に位置する２つの照射手段を、たとえば図４に示すＸ支柱ガイド３３のそれぞれの端部位置で待機させておき、他の４つの照射手段を用いて行う。このように、一括して紫外光を照射するシール剤の辺が、照射手段の数よりも少ないときには、シール剤の辺の数に応じた数の照射手段を用い、余分な照射手段を待機させておけばよい。

同様に、矩形枠状のシール剤が２列４行で設けられている場合には８つの照射手段を設ければよく、要は２列Ｎ行で設けられるシール剤の矩形パターンのＮ行の数に応じて照射手段を設けるようにすればよい。列は２列に限られず、３列以上であってもよく、要はランプハウスの長さの範囲内に収まる列数であればよい。

また、基板の周辺部には、矩形枠状に塗布されたシール剤を囲む、同じく矩形状のダミーシール剤が設けられることがある。その場合、矩形枠状のシール剤の所定方向に沿う辺と同時に、ダミーシール剤の所定方向に沿う辺上にも同時に照射手段を位置決めして紫外光によって照射すれば、ダミーシール剤の紫外光による照射を同時に行うことができる。

また、１つのランプハウスに対して発光ダイオードを一列に収納配置した例で説明したが、１つのランプハウスに対して発光ダイオードを複数列配置するようにしてもよい。このような構成とすることで、１つのランプハウスから照射される紫外光の光度を増加させることができる。なお、発光ダイオードを複数列収納配置することで、紫外光の幅寸法が増大した場合でも、図４に示すようなスリット２８ａが形成されたスリット板２８を設けることで、紫外光の幅寸法を制限することができる。

また、ランプハウス内に収納配置した発光ダイオードは、全てを一括して通電してもよく、シール剤に対向して位置する発光ダイオードのみを選択的に通電するようにしてもよい。図１１の例で説明すれば、ランプハウス２３ａはシール剤の辺のうち、１つの辺の上部に位置決めされているが、ランプハウス２３ａの発光ダイオード６０の中には、シール剤に対向するものあれば、対向しないものもある。

シール剤に対向しない発光ダイオード６０は、通電したとしてもシール剤に効果的に紫外光を照射できるとは限らないので、このような発光ダイオード６０には通電せず、シール剤に対向する発光ダイオード６０のみに通電するようにする。このようにすることで、消費電力を低減できる。

また、第２、第３及び第５の実施の形態において、θテーブルを９０度回転させることによって１台の紫外光照射装置で基板上に塗布されたシール剤におけるＸ方向に沿う辺とＹ方向に沿う辺の双方に紫外光を照射させる例で説明したが、基板上に塗布されたシール剤におけるＸ方向に沿う辺に紫外光を照射するための紫外光照射装置と、基板上に塗布されたシール剤におけるＹ方向に沿う辺に紫外光を照射するための紫外光照射装置とを設け、これら紫外光照射装置間で基板の受け渡しを行う途中で基板を９０度回転させるようにしてもよい。

また、第１〜４の実施の形態において、照射手段のランプハウス内に紫外光ランプを複数列配置してもよい。

また、各実施の形態において、ガイド手段としてのＸ支柱ガイド、Ｙ支柱ガイドに駆動手段（第２のＸ駆動源、第２のＹ駆動源、リニアモータ）を設けた例で説明したが、駆動手段は必ずしも必要なく、要は基板と照射手段との相対的な移動が許容されればよく、手動にて位置調整するようにしてもよい。

なお、上述した第１乃至第４の実施の形態の紫外光ランプを、第５の実施の形態で用いた発光ダイオードに換えても差し支えない。

この発明の第１の実施の形態を示す紫外光照射装置の概略的構成を示す斜視図。 図１に示す紫外光照射装置の正面図。 図１に示す紫外光照射装置の側面図。 ランプハウスの断面図。 シール剤で貼り合わされた２枚の基板の一部分を示す拡大断面図。 紫外光照射装置の制御のブロック図。 基板に紫外光を照射するときの説明図。 この発明の第２の実施の形態の紫外光照射装置の概略的構成を示す斜視図。 この発明の第３の実施の形態の紫外光照射装置の概略的構成を示す斜視図。 第１の実施の形態の変形例である第４の実施の形態を示す紫外光照射装置の概略的構成の斜視図。 この発明の第５の実施の形態を示す紫外線照射装置の斜視図。

符号の説明

３…θテーブル、７…Ｘテーブル、１２…Ｙテーブル、１６…シール剤、１７…基板、２１…第１の照射手段、２２…第２の照射手段、２３…ランプハウス、２４…反射体（パターン成形手段）、２５…紫外光ランプ、２６…チューブ、２８…スリット板（パターン成形手段）、３３…Ｘ支柱ガイド（ガイド手段）、３６…第２のＸ駆動源（駆動手段）、４３…Ｙ支柱ガイド（ガイド手段）、４６…第２のＹ駆動源（駆動手段）。

Claims (14)

1. ２枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射装置において、
   紫外光を所定の長さの直線状で出射し、上記基板を貼り合わせたシール剤の部分だけを上記紫外光によって照射可能とする照射手段を備えていることを特徴とする紫外光照射装置。
2. ２枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射装置において、
   紫外光を所定の長さの直線状で出射する照射手段と、
   この照射手段と上記基板とを相対的に二次元方向に移動自在に支持するガイド手段と
   を具備したことを特徴とする紫外光照射装置。
3. 上記照射手段と上記基板とを上記ガイド手段に沿って相対的に移動させる駆動手段と、
   この駆動手段を制御して上記シール剤の部分だけに上記紫外光を照射させるように上記照射手段と上記基板とを相対的に位置調整する制御手段とが設けられていることを特徴とする請求項２記載の紫外光照射装置。
4. 上記制御手段は、上記基板における中央寄りに位置する上記シール剤の部分から端部寄りに位置する上記シール剤の部分の順で上記紫外光を照射させるように、上記照射手段と上記基板とを相対的に移動させることを特徴とする請求項３記載の紫外光照射装置。
5. ほぼ直交する状態で２つの照射手段が設けられていることを特徴とする請求項２乃至請求項４のいずれかに記載の紫外光照射装置。
6. ２つの照射手段が所定の間隔でほぼ平行に設けられていることを特徴とする請求項２乃至請求項４のいずれかに記載の紫外光照射装置。
7. 上記基板に設けられたシール剤の直線部分を照射する直線状の紫外光をそれぞれ出射する複数の照射手段が平行に設けられていて、
   各照射手段は、上記シール剤の同じ方向に沿う複数の直線部分をそれぞれが出射する紫外光によって同時に照射するよう上記制御手段によって位置決め制御されることを特徴とする請求項３記載の紫外光照射装置。
8. 上記照射手段と上記基板とは相対的に回転方向に移動可能に設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の紫外光照射装置。
9. 上記照射手段は、直線状に配置された複数の発光ダイオードを備えていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の紫外光照射装置。
10. 上記照射手段は、所定のガスが封入されているとともに直線状に連設された複数のチューブと、各チューブに対応して設けられそれぞれのチューブに封入されたガスを励起して紫外光を出射させる複数の励起手段と、この励起手段に励起されて出射する紫外光の上記基板を照射するパターンを直線状に形成するパターン形成手段とによって構成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の紫外光照射装置。
11. ２枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射方法において、
    紫外光を所定の長さの直線状に出射する工程と、
    所定の長さの直線状の紫外光によって上記シール剤の部分だけを照射する工程と
    を具備したことを特徴とする紫外光照射方法。
12. 上記基板の位置ずれを求める工程と、
    求めた上記基板の位置ずれに基づいて上記シール剤の直線部分のうち所定の直線部分を上記直線状の紫外光に沿わせるよう上記基板を位置合わせする工程と
    をさらに具備したことを特徴とする請求項１１記載の紫外光照射方法。
13. 少なくとも一方にシール剤が矩形枠状に塗布された２枚の基板を上記シール剤を介して貼り合わせた後、上記シール剤に紫外光を照射することにて硬化させ貼り合わせ基板を製造する基板製造装置において、
    請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載の紫外光照射装置を具備したことを特徴とする基板製造装置。
14. 少なくとも一方にシール剤が矩形枠状に塗布された２枚の基板を上記シール剤を介して貼り合わせた後、上記シール剤に紫外光を照射することにて硬化させ貼り合わせ基板を製造する基板製造方法において、
    前記シール剤を介して貼り合わされた２枚の基板を支持台上に載置する載置工程と、
    前記支持台上に載置された前記２枚の基板間に挟まれた前記シール剤の部分だけを所定の長さの直線状に出射された紫外光によって照射し前記シール剤を硬化させる工程と
    を具備したことを特徴とする基板製造方法。

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